JP2015173252A - 撮像素子及び電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】
光電変換部の受光面積を広く確保し、画質の劣化を抑制するのに有利な撮像素子を提供すること。
【解決手段】
第1の半導体チップと第2の半導体チップと、前記半導体チップを接続する接続部とを備え、前記第1の半導体チップは、光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を保持する蓄積容量と、前記光電変換部及び前記蓄積容量の電荷のリセットを制御するリセットトランジスタと、前記蓄積容量の信号電荷を増幅して信号電圧に変換するソースフォロアとを含み、前記第2の半導体チップは、前記光電変換部で生成された電荷の前記蓄積容量への転送を制御する転送トランジスタと、列出力線との接続を制御する行選択トランジスタとを含み、前記接続部は、前記光電変換部と前記転送トランジスタ、前記転送トランジスタと前記蓄積容量、および前記ソースフォロアと前記行選択トランジスタとをそれぞれ接続する。
【選択図】 図2

Description

本発明は、撮像素子及びそれを用いた電子機器に関するものである。
一般的にCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の撮像素子は、画素の光電変換部の面積が大きければ受光量も多くなりS/N比が向上する。しかしながら、画素の光電変換部周辺には制御用のトランジスタが複数形成されているため、単位画素あたりの受光面積を大きくすることができなかった。さらに、デジタルカメラやデジタルビデオカメラ等の撮像装置において、撮影画像の高精細化による撮像素子の画素数の増加に伴い、単位画素あたりの受光面積はより小さくなり、そのためにS/N比が低下することによる画質の劣化が懸念される。
一方で、近年CMOSイメージセンサチップと信号処理チップの2つの半導体チップを1つのパッケージに統合した積層型の撮像素子が提案されている。例えば、特許文献1では、第1の半導体チップにフォトダイオードと制御用の複数のトランジスタを形成した画素を形成し、第2の半導体チップに画素を駆動するため駆動回路を形成した撮像素子が提案されている。
特開2010−225927号公報
しかしながら、従来の一般的なCMOSイメージセンサも特許文献1に記載のイメージセンサも、制御用のトランジスタが、画素が配置されている半導体チップに配置されている。このために、単位画素あたりの光電変換部の受光面積を広げることが難しく、画質が低下する可能性があった。本発明は、光電変換部の受光面積を広く確保し、画質の低下を抑制するのに有利な撮像素子を提供することを目的とする。
本発明の撮像素子は、第1の半導体チップと、第2の半導体チップと、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとを接続する接続部とを備え、前記第1の半導体チップは、光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を保持する蓄積容量と、前記光電変換部及び前記蓄積容量の電荷のリセットを制御するリセットトランジスタと、前記蓄積容量の信号電荷を増幅して信号電圧に変換するソースフォロアとを含み、前記第2の半導体チップは、前記光電変換部で生成された電荷の前記蓄積容量への転送を制御する転送トランジスタと、列出力線との接続を制御する行選択トランジスタとを含み、前記接続部は、前記光電変換部と前記転送トランジスタ、前記転送トランジスタと前記蓄積容量、および前記ソースフォロアと前記行選択トランジスタとをそれぞれ接続することを特徴とする。
また、本発明の撮像素子は、第1の半導体チップと、第2の半導体チップと、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとを接続する接続部とを備え、前記第1の半導体チップは、光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を保持する蓄積容量と、前記光電変換部で生成された電荷の蓄積容量への転送を制御する転送トランジスタと、前記蓄積容量の信号電荷を増幅して信号電圧に変換するソースフォロアとを含み、前記第2の半導体チップは、前記光電変換部及び前記蓄積容量の電荷のリセットを制御するリセットトランジスタと、列出力線との接続を制御する行選択トランジスタとを含み、前記接続部は、前記転送トランジスタ、前記蓄積容量、および前記ソースフォロアの接続点と前記リセットトランジスタ、前記リセットトランジスタと電源電圧、前記ソースフォロアと前記行選択トランジスタとをそれぞれ接続することを特徴とする。
また、本発明の電子機器は、上記の撮像素子を備えた撮像部と、撮像部からの信号を処理する画像処理部とを備えることを特徴とする。
本発明によれば、光電変換部の受光面積を広く確保し、画質の劣化を抑制するのに有利な撮像素子及びそれを用いた電子機器を提供することができる。
本発明の実施形態1に係る撮像素子の構成の一例を示す図。 本発明の実施形態1に係る撮像素子の画素の一例を示す図。 本発明の実施形態1に係る撮像素子の列回路の構成の一例を示す図。 本発明の実施形態1に係る1水平期間における駆動タイミングを示すタイミングチャート。 本発明の実施形態2に係る撮像素子の構成の一例を示す図。 本発明の実施形態2に係る撮像素子の列回路の構成の一例を示す図。 本発明の実施形態3に係る撮像素子の画素の一例を示す図。 本発明の実施形態4に係る撮像素子の画素の一例を示す図。 本発明の実施形態5に係る撮像素子の画素の一例を示す図。 本発明の実施形態6に係る電子機器の一例を示す図。
以下に、本発明の例示的な実施形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る撮像素子の構成例を示した図である。撮像素子100は、第1の半導体チップ101と第2の半導体チップ102及び後述する接続部207で構成される。また、第1の半導体チップ101と第2の半導体チップ102とをお互いに積層した構成により形成される。第1の半導体チップ101には、画素103が行列状に配置される。ここでは、便宜上、撮像素子を4×4の画素103で構成されているものとする。画素の例を図2に示す。画素103は、光電変換部201、フローティングデフュージョンとして機能する蓄積容量202、転送トランジスタ203、リセットトランジスタ204を有する。画素はさらに、ソースフォロア205、行選択トランジスタ206を有する。光電変換部201は、入射光に応じた信号電荷を生成して蓄積する。転送トランジスタ203は、光電変換部201で生成された信号電荷の蓄積容量202への転送を制御する。リセットトランジスタ204は、光電変換部201で生成されて蓄積容量202に蓄積された信号電荷のリセットを行う。ソースフォロア205は、蓄積容量202に蓄積された信号電荷を増幅し、信号電圧に変換する。行選択トランジスタ206は、ソースフォロア205の出力と列出力線105の接続を制御する。
本実施形態では、画素103の回路の一部が第1の半導体チップ101に形成され、残りの回路や周辺回路が第2の半導体チップ102に形成される。第1の半導体チップ101の回路と第2の半導体チップ102の回路は接続部207によって接続されている。本実施形態では、光電変換部201、蓄積容量202、転送トランジスタ203、リセットトランジスタ204、ソースフォロア205は第1の半導体チップに配置される。行選択トランジスタ206は第2の半導体チップに配置される。ソースフォロア205の出力は、接続部207を介して、第2の半導体チップの行選択トランジスタ206に出力される。
撮像素子の構成例を示す図1及び駆動タイミングを示す図4により撮像素子100の動作について説明する。垂直走査回路104は、信号φTX(n)、φRES(n)、φSEL(n)を供給し、画素の所定の行を選択することにより光電変換部の信号電荷の読み出しを制御する。列出力線105には、列に沿って配置された複数の画素103が接続されている。列出力線105は、列毎に用意された列回路107に接続される。負荷電流源106は、行選択トランジスタ206で選択された行のソースフォロア205を、列出力線105を介して駆動する。
図3に列回路107の回路構成を例示する。列出力線105は、列回路107内に設けられたクランプ容量301を介して反転増幅器302の反転入力端子に接続される。反転増幅器302における増幅率は、クランプ容量301と帰還容量303との比によって決定される。さらに、反転増幅器302の反転入力端子及び出力端子には、不図示のCPUから与えられる信号φCLAMPによりON/OFFが制御されるクランプトランジスタ304が接続されている。反転増幅器302の非反転入力端子には、基準電源VREFが入力される。反転増幅器302により所定のゲインで増幅された撮像信号は、転送トランジスタ305及び306を介して記憶容量307及び308に記憶される。なお、転送トランジスタ305及び転送トランジスタ306は、不図示のタイミングジェネレータ(TG)から与えられるφTS及びφTNによりそれぞれON/OFFが制御される。
水平走査回路115に供給される不図示のタイミングジェネレータ(TG)から与えられる信号φHSTで列回路107は順次選択されて走査される。走査が開始されると、信号φHによりON/OFFが制御される列選択トランジスタ108を介して、記憶容量307に記憶された撮像信号が水平出力線110に順次出力される。同様に、水平走査回路115により供給される信号φHにより列回路107が走査される。信号φHによりON/OFFが制御される列選択トランジスタ109を介して、記憶容量308に記憶された撮像信号は、水平出力線111に順次出力される。なお、水平出力線110及び111は、信号φCHRによりON/OFFが制御されるリセットトランジスタ113及び114により、信号φHの1クロック毎に、電圧VCHRでリセットされる。差動増幅器112は、水平出力線110及び111に出力された信号電圧の差分を所定の増幅率で増幅して出力する。列回路107から水平走査回路115により信号を順次読み出すことにより、1行分の画像信号が得られる。
図4は、図1の構成において画素103から電荷を読み出す場合の、1水平走査期間における駆動タイミングの一例を示す図である。図中の各信号は、High状態(“H”とする)及びLow状態(“L”とする)のいずれかの状態をとることを示している。信号HDは、1水平走査期間を示す。信号φHSTは、水平走査期間の読み出しの開始、すなわち水平走査回路115によって制御される水平出力線111及び112への列毎の出力信号の読み出し開始を示す。信号HDが“L”になる時刻t1から信号φHSTが“H”になる時刻t10までの期間は、1行分の画素103の信号を読み出し、読み出した1行分の信号を列回路107の記憶容量307及び309へ転送して記憶するまでの期間である。
以下、行列状に配置された画素103のうち、n行目に配置された画素に対する読み出し動作について説明する。便宜上、「n行目の信号φSEL」を「信号φSEL(n)」と呼び、その他の駆動信号に対しても(n)はn行目の信号であることを示す。時刻t2で信号φSEL(n)が“H”になる。これより、行選択トランジスタ206がONにされ、n行目の画素103が列出力線105に出力される。また、同時刻に信号φRES(n)が“H”になり、リセットトランジスタ204がONにされ、蓄積容量202に蓄積された電荷がリセットされる。時刻t3で信号φRES(n)が“L”になると、リセットトランジスタ204がOFFにされて、蓄積容量202の電荷のリセットが終了する。同時刻に、信号φCLAMPが“H”となり、クランプトランジスタ304がONにされる。これにより、現在の列出力線105の信号レベルはクランプ容量301にクランプされる。時刻t4で、信号φCLAMPが“L”になり、クランプトランジスタ304がOFFにされて、列出力線105の信号レベルのクランプ容量301へのクランプを終了する。時刻t4でのクランプ容量301へのクランプ終了後は、時刻t3から時刻t4の間にクランプされた列出力線105の信号レベルと現在の列出力線105との差分信号が所定の増幅率で増幅されて出力される。時刻t4で信号φTNが“H”にされて転送トランジスタ306をONにし、反転増幅器302からノイズ信号の成分が出力され記憶容量308に転送され記憶される。
時刻t5で信号φTNが“L”になると、転送トランジスタ306がOFFにされて記憶容量308における記憶を終了する。時刻t6で信号φTXが“H”にされ転送トランジスタ203がONになり、光電変換部201に蓄積された信号電荷が、蓄積容量202に転送される。時刻t7で信号φTXが“L”になり、転送トランジスタ203がOFFになり、蓄積容量202への信号電荷の蓄積が終了する。また、同時刻に信号φTSが“H”になり、転送トランジスタ305がONになっている。このとき、画素103における蓄積容量202の信号電荷がソースフォロア205により増幅され、且つ電圧に変換されて列出力線105に出力される。出力された信号は、クランプ容量301及び反転増幅器302を介して、記憶容量307に転送され記憶される。時刻t8で信号φTSが“L”になると、転送トランジスタ305はOFFにされて、記憶容量307への記憶を終了する。更に、時刻t9で信号φSEL(n)を“L”にして、行選択トランジスタ206をOFFして、n行目の画素103からの読出しを終了する。
時刻t10から、記憶容量307、308に記憶されたn行目の信号に対する読み出しを行う、水平走査期間が開始される。水平走査回路115に信号φHの入力が開始され、信号φHに応じて各列回路107に接続する列選択トランジスタ108及び109を順次ONにしていく。記憶容量307及び308に記憶された信号が、それぞれ水平出力線110及び111に出力される。差動増幅器112において水平出力線110からの撮像信号から、水平出力線111からのノイズ成分が減ぜられた後、差動増幅器112は所定の増幅率で信号を増幅する。そして、差動増幅器112は1行分の画像信号を順次、出力する。
以上の構成によれば、行選択トランジスタ206を第2の半導体チップ102に配置するので、第1の半導体チップ101上のスペースに余裕ができ、光電変換部201の受光面積を大きく占めることができる。つまり、同じ画素数なら単位画素あたりの入射光量を上げて信号振幅を稼ぐことにより、良好なS/Nの画像を得ることが可能になる。また、スペースを詰めることにより、撮像素子の面積を減少させることも可能である。さらに、本実施形態によれば、ソースフォロア205の出力に接続部207を設けることにより、接続部207を介して増幅された撮像信号が第2の半導体チップ102へ入力されるので、撮像信号へのノイズによる影響を少なくできる。また、蓄積容量202への配線に伴う寄生容量の付加がないので、光電変換部201から得られる信号電荷への寄生容量による影響が少ない。さらに第2の半導体チップに周辺回路を配置することにより、光電変換部の面積を確保できる。
(実施形態2)
図1に示した撮像素子の構成のみならず、図5に示す所謂カラムAD変換器を用いた構成においても同様の効果を得ることが可能である。以下、図5を参照して、詳細な説明を行う。上述した図1と共通部分には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
図5の撮像素子500は、上述の撮像素子100とは異なり、第2の半導体チップ102にアナログデジタル(AD)変換器を設け、撮像素子の内部で列毎にAD変換を行う所謂カラムAD変換器を備える構成である。図6に図5の列回路507の構成を示す。上述した図3と共通部分には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。反転増幅器302により所定のゲインで増幅された撮像信号は、比較回路605に入力される。比較回路605に入力された撮像信号と、参照信号発生器508から入力される漸次増加する参照信号とが比較される。参照信号発生器508は全ての列回路507に対して共通の参照信号を供給する。列メモリ510にはカウンタ回路509からカウント値が供給されている。列メモリ510は、比較回路605の比較結果に応じて、比較回路605の出力が変化したタイミングにおけるカウンタ回路509のカウント値を、撮像信号のデジタル値として保持する。列メモリ510に保持されたデジタル値は、水平走査回路511によって選択されて列毎に順次読み出され、1行分の画像信号が得られる。
(実施形態3)
光電変換部の受光面積を広く確保できる別の構成を図7により説明する。図7は、第1の半導体チップ101と第2の半導体チップ102に形成される画素103の回路構成を示し、第1の半導体チップ101と第2の半導体チップ102との境界部を点線で示す。本実施形態では、撮像素子100もしくは撮像素子500は、第1の半導体チップ101と第2の半導体チップ102と接続部207、208及び209で構成される。図7では、第1の半導体チップ101に光電変換部201、蓄積容量202、リセットトランジスタ204及びソースフォロア205が形成され、第2の半導体チップ102に転送トランジスタ203及び行選択トランジスタ206が形成される。
光電変換部201は、入射光に応じた信号電荷を生成して蓄積する。転送トランジスタ203は、光電変換部201で蓄積された信号電荷の蓄積容量202への転送を制御する。光電変換部201で得られた信号電荷は、接続部208を介して第2の半導体チップ102に入力されて、第2の半導体チップの転送トランジスタ203から再度接続部209を介して第1の半導体チップ101の蓄積容量202に入力されて保持される。リセットトランジスタ204は、光電変換部201及び蓄積容量202に蓄積された信号電荷のリセットを制御する。ソースフォロア205は、蓄積容量202に蓄積された信号電荷を増幅し、信号電圧に変換する。ソースフォロア205の出力は、接続部207を介して、第2の半導体チップの行選択トランジスタ206へ出力される。行選択トランジスタ206は、ソースフォロア205の出力と列出力線105の接続を制御する。以降、画素103から列出力線105に出力された信号を撮像素子外部に出力するまでの手順は実施形態1と同様であるため、詳細な説明は省略する。
以上の構成によれば、第1の半導体チップ101の光電変換部201の受光面積を広く確保することができる。同じ画素数なら単位画素あたりの入射光量を上げてより大きな信号振幅を得ることができるので、良好なS/N比の画像を得ることが可能になる。一方で、第2の半導体チップ102に転送トランジスタを配置するため、蓄積容量202に対する寄生容量が増える。しかし、本実施形態の構成は、光電変換部201の受光面積を広げることにより得られる信号電荷量の増加が必要な場合には有利である。
(実施形態4)
本実施形態では、図8に示すように、第2の半導体チップ102にリセットトランジスタ204と行選択トランジスタ206を配置している。リセットトランジスタ204は、電源電圧VDDと、転送トランジスタ203、蓄積容量202及びソースフォロア205のゲート電極との接続点に接続される。ソースフォロア205の出力と行選択トランジスタ206が接続部207で接続される。この実施形態も、ソースフォロア205の出力側に接続部207を設けているので、接続部207による撮像信号への影響は少ない。
(実施形態5)
本実施形態では、図9に示すようにソースフォロア205と行選択トランジスタ206とを第2の半導体チップ102に配置する。ソースフォロア205のゲート電極は、転送トランジスタ203、蓄積容量202及びリセットトランジスタ204の接続点に接続される。ソースフォロア205を第2の半導体チップに配置するので、画素103から熱源となるトランジスタを離すことができるため、発熱による撮像信号への影響を軽減できる点で有利である。
(実施形態6)
次に携帯電話を例に電子機器に上記した撮像素子のいずれかを適用した実施形態について説明する。図10は、本実施形態の携帯電話機700の構成を示すブロック図である。本実施形態の携帯電話機700は、音声通話機能の他、電子メール機能や、インターネット接続機能、画像の撮影、再生機能等を有する。図10において、通信部701は、ユーザが契約した通信キャリアに従う通信方式により他の電話機との間で音声データや画像データを通信する。音声処理部702は、音声通話時において、マイクロフォン703からの音声データを発信に適した形式に変換して通信部701に送る。また、音声処理部702は、通信部701から送られた通話相手からの音声データを復号し、スピーカ704に送る。撮像部705の撮像素子として本発明の撮像素子を用いる。すなわち、撮像部705は、実施形態1乃至5で説明した撮像素子のいずれかを備えており、被写体の画像を撮影し、画像データを出力する。画像処理部706は、画像の撮影時においては、撮像部705により撮影された画像データを処理し、記録に適した形式に変換して出力する。また、画像処理部706は、記録された画像の再生時には、再生された画像を処理して表示部707に送る。表示部707は、数インチ程度の液晶表示パネルを備え、制御部709からの指示に応じて各種の画面を表示する。不揮発メモリ708は、アドレス帳の情報や、電子メールのデータ、撮像部705により撮影された画像データ等のデータを記憶する。
制御部709はCPUやメモリ等を有し、不図示のメモリに記憶された制御プログラムに従って携帯電話機700の各部を制御する。操作部710は、電源ボタンや番号キー、その他ユーザがデータを入力するための各種の操作キーを備える。カードインターフェイス(IF)711は、メモリカード712に対して各種のデータを記録再生する。外部インターフェイスIF713は、不揮発メモリ708やメモリカード712に記憶されたデータを外部機器に送信し、また、外部機器から送信されたデータを受信する。外部IF713は、USB等の有線の通信方式や、無線通信など、公知の通信方式により通信を行う。
次に、携帯電話機700における音声通話機能を説明する。通話相手に対して電話をかける場合、ユーザが操作部710の番号キーを操作して通話相手の番号を入力するか、不揮発メモリ708に記憶されたアドレス帳を表示部707に表示し、通話相手を選択し、発信を指示する。発信が指示されると、制御部709は通信部701に対し、通話相手に発信する。通話相手に着信すると、通信部701は音声処理部702に対して相手の音声データを出力すると共に、ユーザの音声データを相手に送信する。
また、電子メールを送信する場合、ユーザは、操作部710を用いて、メール作成を指示する。メール作成が指示されると、制御部709はメール作成用の画面を表示部707に表示する。ユーザは操作部710を用いて送信先アドレスや本文を入力し、送信を指示する。制御部709はメール送信が指示されると、通信部701に対しアドレスの情報とメール本文のデータを送る。通信部701は、メールのデータを通信に適した形式に変換し、送信先に送る。また、通信部701は、電子メールを受信すると、受信したメールのデータを表示に適した形式に変換し、表示部707に表示する。
次に、携帯電話機700における撮影機能について説明する。ユーザが操作部710を操作して撮影モードを設定した後、静止画或いは動画の撮影を指示すると、撮像部705は静止画データ或いは動画データを撮影して画像処理部706に送る。画像処理部706は撮影された静止画データや動画データを処理し、不揮発メモリ708に記憶する。また、画像処理部706は、撮影された静止画データや動画データをカードIF711に送る。カードIF711は静止画や動画データをメモリカード712に記憶する。
また、携帯電話機700は、この様に撮影された静止画や動画データを含むファイルを、電子メールの添付ファイルとして送信することができる。具体的には、電子メールを送信する際に、不揮発メモリ708やメモリカード712に記憶された画像ファイルを選択し、添付ファイルとして送信を指示する。
また、携帯電話機700は、撮影された静止画や動画データを含むファイルを、外部IF713によりPCや他の電話機等の外部機器に送信することもできる。ユーザは、操作部710を操作して、不揮発メモリ708やメモリカード712に記憶された画像ファイルを選択し、送信を指示する。制御部709は、選択された画像ファイルを不揮発メモリ708或いはメモリカード712から読み出し、外部機器に送信するよう、外部IF713を制御する。以上、携帯電話を例に説明したが、本発明の撮像素子は半導体チップの面積に対する光電変換部の面積を広くできるために特に撮像素子の小型化が要求される携帯電話などの携帯型電子機器に用いて有利である。携帯型電子機器の他にもデジタルカメラ、スマートフォン、ノートパソコン、タブレット端末などの撮像素子として用いることができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
101:第1の半導体チップ、102:第2の半導体チップ、201:光電変換部、202:蓄積容量、203:転送トランジスタ、204:リセットトランジスタ、205:ソースフォロア、206:行選択トランジスタ、207:接続部

Claims (7)

  1. 第1の半導体チップと、
    第2の半導体チップと、
    前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとを接続する接続部とを備え、
    前記第1の半導体チップは、光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を保持する蓄積容量と、前記光電変換部及び前記蓄積容量の電荷のリセットを制御するリセットトランジスタと、前記蓄積容量の信号電荷を増幅して信号電圧に変換するソースフォロアとを含み、
    前記第2の半導体チップは、前記光電変換部で生成された電荷の前記蓄積容量への転送を制御する転送トランジスタと、列出力線との接続を制御する行選択トランジスタとを含み、
    前記接続部は、前記光電変換部と前記転送トランジスタ、前記転送トランジスタと前記蓄積容量、および前記ソースフォロアと前記行選択トランジスタとをそれぞれ接続する
    ことを特徴とする撮像素子。
  2. 第1の半導体チップと、
    第2の半導体チップと、
    前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとを接続する接続部とを備え、
    前記第1の半導体チップは、光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を保持する蓄積容量と、前記光電変換部で生成された電荷の蓄積容量への転送を制御する転送トランジスタと、前記蓄積容量の信号電荷を増幅して信号電圧に変換するソースフォロアとを含み、
    前記第2の半導体チップは、前記光電変換部及び前記蓄積容量の電荷のリセットを制御するリセットトランジスタと、列出力線との接続を制御する行選択トランジスタとを含み、
    前記接続部は、前記転送トランジスタ、前記蓄積容量、および前記ソースフォロアの接続点と前記リセットトランジスタ、前記リセットトランジスタと電源電圧、前記ソースフォロアと前記行選択トランジスタとをそれぞれ接続する
    ことを特徴とする撮像素子。
  3. 前記第2の半導体チップに前記列出力線と接続される列回路を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の撮像素子。
  4. 前記列回路は、
    参照信号を発生する参照信号発生器と、
    前記参照信号と前記列出力線からの信号を比較し、比較結果に応じて出力を反転する比較回路と、
    カウント値を出力するカウンタ回路と、
    前記比較回路の出力が反転したときのカウント値を保持する列毎に設けられた列メモリと、
    を備える請求項3に記載の撮像素子。
  5. 前記第2の半導体チップに前記列回路の出力を列毎に順次選択して出力する水平走査回路を備えることを特徴とする請求項3又は4に記載の撮像素子。
  6. 前記第2の半導体チップに画素を駆動する垂直走査回路を備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の撮像素子。
  7. 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像素子を備えた撮像部と、撮像部からの信号を処理する画像処理部とを備えたことを特徴とする電子機器。
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