JP2015165874A - X線管球装置及びx線ct装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】高速(数kHz)にパルス状に2つのエネルギーのX線を切り替えることにある。
【解決手段】本実施形態に係るX線管球装置は、2つの陰極フィラメント15,16と、ターゲット11と、フィラメント15,16とターゲット11との間に縦列に配置された、電場又は磁場により電子ビームを偏向するソース選択用偏向電極13及び軌道補正用偏向電極14、X線照射窓17とを具備し、前記第1電子ビーム偏向部は、前記第1又は第2電子ビームを選択するために設けられ、軌道補正用偏向電極14は選択された第1又は第2電子ビームをターゲット上の特定位置に特定角度で照射させるために設けられる。
【選択図】 図3

Description

本発明の実施形態は、X線管球装置及びX線CT装置に関する。
X線画像発生装置、例えばX線CT装置(X線コンピュータ断層撮影装置)のデュアルエネルギー技術においては、2種のエネルギーのX線をパルス状にばく射/照射できるX線管球装置が用いられる。パルスX線を高速にばく射/照射させる手段として以下の技術が提案されている。
(1)X線管球装置の電流を直接オン/オフする。
(2)直流的にばく射されるX線を機械的シャッターでパルス状にオン/オフする。
(3)X線管球装置内電子ビームを高速偏向スイッチングすることにより、X線としての出力をパルス状にする。
また、2種のエネルギーのX線を同時に照射する手段として以下の技術が提案、実現されている。
(4)2つのX線管球装置/GeneratorをX線CTスキャナに実装し、異なるエネルギーで照射する。
(5)1つのX線管球装置/Generatorで、発生X線のエネルギーを高/低で切り替えて照射する。
2つのエネルギーX線で同一軌道、同時収集でスキャンするために、1管球でエネルギーをスイッチングする方法では、管電圧スイッチング時間が高速応答性に欠ける。すなわち2つのX線エネルギーによる同一軌道・同時収集性能が保たれない。スイッチングが遅いと言うことは、収集時の角度分解能も劣ると言うことになる。また、1管球による管電圧切換えでは、矩形波的に切り替えることは困難であり、実際には切換え中に中途半端なエネルギーでX線が照射されるため、エネルギー分解能が悪くなる。
特開2013−31645号公報
目的は、高速(数kHz)にパルス状に2つのエネルギーのX線を切り替えることにある。
本実施形態に係るX線管球装置は、第1電子ビームを発生する第1電子発生部と、前記第1電子ビームとはエネルギーの異なる第2電子ビームを発生する第2電子発生部と、前記第1又は前記第2電子ビームの照射により第1又は第2X線を発生するターゲットと、前記第1及び第2電子発生部と前記ターゲットとの間に縦列に配置された、電場又は磁場により前記第1及び第2電子ビームを偏向する第1、第2電子ビーム偏向部と、前記第1電子発生部、前記第2電子発生部、前記ターゲット、前記第1電子ビーム偏向部及び前記第2電子ビーム偏向部を封入するX線管球装置と、前記第1又は第2X線を前記X線管球装置から出力するために前記X線管球装置に形成されたX線照射窓とを具備し、前記第1電子ビーム偏向部は、前記第1又は第2電子ビームを選択するために設けられ、前記第2電子ビーム偏向部は、前記選択された第1又は第2電子ビームを前記ターゲット上の特定位置に特定角度で照射させるために設けられる。
本実施形態に係るX線コンピュータ断層撮影装置のスキャナ本体の回転部の主要部構成を示す図である。 本実施形態に係る高/低エネルギーX線の切り替えのためのコントローラを示す図である。 本実施形態に係るX線管球装置内部のフィラメント、偏向部、ターゲットの配置及び偏向オフ時の電子ビームの軌道を示す図である。 本実施形態に係るX線管球装置内部のフィラメント、偏向部、ターゲットの配置及び偏向オン時の電子ビームの軌道を示す図である。 本実施形態において、高/低エネルギーX線のプロファイルを、軌道補正しない電子ビームによる高エネルギーX線のプロファイルと比較して示す図である。 図2のコントローラによる高/低エネルギーX線の切り替えのための制御を示す図である。
以下、図面を参照して本発明に係るX線管球装置及びX線CT装置(X線コンピュータ断層撮影装置)の実施形態を説明する。X線管球装置を備える装置には、X線診断装置及びX線コンピュータ断層撮影装置その他の医療用X線画像を発生するための装置が含まれる。ここではX線コンピュータ断層撮影装置を例に説明する。
図1には本実施形態に係るX線コンピュータ断層撮影装置のスキャナ本体の回転部の主要部構成を示す図である。X線コンピュータ断層撮影装置はX線管球装置1を有する。X線管球装置1の照射窓17から被検体の体軸(回転フレーム5の回転軸)の方向に広がりを有するコーンビーム形でX線が放射される。X線管球装置1は、コーンビーム形X線に対応するマルチスライス型又は二次元アレイ型のDAS/X線検出器4とともに回転フレーム5に搭載される。DAS/X線検出器4は、X線管球装置1に対向する。スキャンに際しては、被検体はX線管球装置1とDAS/X線検出器4との間に配置される。回転フレーム5にはジェネレータ2及びコントローラ3が搭載される。ジェネレータ2は、コントローラ3の制御のもとで、X線管球装置1の両極間に印加される管電圧、X線管球装置1の陰極フィラメントに供給されるフィラメント電流、偏向部に供給される偏向電圧を発生する。コントローラ3は、図示しないスキャン動作全体を制御するためのスキャンコントローラの制御にしたがってジェネレータ2を制御してX線を発生させ、またX線の発生に同期してDAS/X線検出器4による検出処理及びアナログ/ディジタル変換処理を実行させる。DAS/X線検出器4の出力は前処理部でチャンネル間感度不均一等の補正を受けて投影データとして再構成プロセッサに供給される。再構成プロセッサは投影データに基づいて断層像データ又はボリュームデータを再構成する。断層像はディスプレイに表示される。
図3、図4には図1のX線管球装置1の管球内部の主要部の構成を示している。X線管球装置1はその管球内部に傘形状を有する回転陽極(陽極ターゲット、以下単にターゲットという)11と、そのターゲット11に対向配置される複数、ここでは2種類の陰極フィラメント(電子発生部)15,16を有する。2種類の陰極フィラメント15、16は、ターゲット11の半径方向に沿って並列される。ジェネレータ2は、陰極フィラメント15とターゲット11との間に第1の電位差(第1の管電圧)を発生させる。ジェネレータ2は、陰極フィラメント16とターゲット11との間に第2の電位差(第2の管電圧)を発生させる。ジェネレータ2により、第1の電位差は、第2の電位差よりも低値に設定される。陰極フィラメント15を以下、ローフィラメントと称する。陰極フィラメント16を以下、ハイフィラメントと称する。ローフィラメント15で発生された低エネルギーの電子ビーム(L)がターゲット11に照射することにより発生されるX線は、ハイフィラメント16で発生された高エネルギーの電子ビーム(H)がターゲット11に照射することにより発生されるX線よりも、エネルギーが低い。
フィラメント15、16と、ターゲット11との間には電子ビーム偏向部12が配置される。電子ビーム偏向部12は電場又は磁場により電子ビームを偏向する。ここでは対向電極による電場による偏向を例に説明するが、対向コイルによる磁場による偏向を採用してもよい。電子ビーム偏向部12は、複数、ここでは2つの偏向電極13,14を有する。各偏向電極13,14は、電子ビーム軌道を挟んで対向配置される一対の電極からなる。偏向電極13,14は、フィラメント15、16とターゲット11との間に電子ビームの軌道に沿って縦列に配置される。フィラメント15側の偏向電極13は照射窓17を介して外部に出されるX線のソースとなる電子ビームを発生するフィラメント15、16のいずれかを選択するためのソース選択用として機能する。偏向電極13はそのオン/オフにより、フィラメント15、16のいずれか一方に由来する電子ビームがターゲット11に照射することにより発生するX線が直接的に照射窓17を介して被検体に照射され、フィラメント15、16の他方に由来する電子ビームがターゲット11に照射することにより発生するX線は直接的には照射窓17を介して外部に出されない。
軌道補正用偏向電極14は、ソース選択用偏向電極13とターゲット11との間に配置される。ソース選択用偏向電極13及び軌道補正用偏向電極14がともにオフのとき(図3参照)、ローフィラメント15で発生した電子ビームは直線的に飛翔してターゲット11にその表面上の特定位置において特定角度で照射する。ここでいう角度とはターゲット11の回転軸に垂直な面に対する電子ビームのターゲット11への入射角度として規定される。ソース選択用偏向電極13及び軌道補正用偏向電極14がともにオフの状態で、ローフィラメント15で発生した電子ビームがターゲット11の特定位置に特定角度でローフィラメント15から直線的に飛翔する経路の中心線をここでは軌道センタ軸と称する。当該特定位置で発生した低エネルギーのX線(L)は照射窓17を介して管球から放射される。ハイフィラメント16で発生した電子ビームはターゲット11に特定位置以外の他の位置において他の角度で照射する。当該位置で発生した高エネルギーのX線(H)は照射窓17以外の方向に発生される。
ソース選択用偏向電極13及び軌道補正用偏向電極14がともにオンのとき(図4参照)、ハイフィラメント16で発生した電子ビームはソース選択用偏向電極13で軌道センタ軸に交差する向きに偏向される。偏向された電子ビームは軌道補正用偏向電極14によりソース選択用偏向電極13によるものとは逆方向に変更される。軌道補正用偏向電極14に印加される電圧は、ハイフィラメント16で発生され、ソース選択用偏向電極13で軌道センタ軸に交差する向きに偏向された電子ビームが、軌道補正用偏向電極14により逆向きに偏向されて軌道センタ軸に沿ってターゲット11に向かって飛翔するよう調整されている。ソース選択用偏向電極13と軌道補正用偏向電極14とにより偏向されたハイフィラメント16からの電子ビーム(H)は、偏向部12がオフの状態でローフィラメント15からの電子ビーム(L)と同じターゲット11上の特定位置において特定角度でターゲット11に照射する。
当該特定位置で発生した高エネルギーのX線(H)は照射窓17を介して管球から放射される。ローフィラメント15で発生した電子ビーム(L)はターゲット11に特定位置以外の他の位置において他の角度で照射する。当該位置で発生した低エネルギーのX線(L)は照射窓17以外の方向に発生される。
このようにローフィラメント15で発生した電子ビーム(L)もハイフィラメント16で発生した電子ビーム(H)も、ターゲット11の表面上の同じ位置に同じ角度で照射する。それにより低エネルギーのX線(L)のX線プロファイルと高エネルギーのX線(H)のX線プロファイルとは図5に示すようにする。なお、X線プロファイルとは照射窓から出されるX線束の中心軸に対する角度の変化に対する強度分布をいう。
電子ビームの軌道補正をしないとき、電子ビーム(H)がターゲット11に照射する角度及び位置は、電子ビーム(L)がターゲット11に照射する角度及び位置と相違する。したがって電子ビームの軌道補正をしないときには、低エネルギーのX線(L)のX線プロファイルに対して高エネルギーのX線(H)のX線プロファイルは図5に破線で示すように変形する。
周知のとおりデュアルエネルギー技術は、物質の減弱係数がX線エネルギーによって異なることを利用して異なる管電圧のX線を照射して得られたデータから骨や軟部組織などを分離した画像化を可能とする技術である。したがって低エネルギーのX線(L)のX線プロファイルに対する高エネルギーのX線(H)のX線プロファイルの変形はデュアルエネルギー技術の実現を阻害してしまう。本実施形態では、電子ビームの軌道補正をすることで、高エネルギーの電子ビーム(H)がターゲット11に照射する角度及び位置が低エネルギーの電子ビーム(L)がターゲット11に照射する角度及び位置が同じになるので、X線プロファイルの変形は原理的に解消され、それにより単独のX線管球装置によるデュアルエネルギー技術の実現性を大きく向上させることができる。
図6には図2のコントローラ3による高/低エネルギーX線の切り替えのための制御を示している。コントローラ3には図示しないスキャンコントローラからデータ収集/ばく射同期用のトリガ信号が供給される。ジェネレータ2からローフィラメント15とハイフィラメント16との両方に対するフィラメント電流の供給は検査期間中常に継続される。
ローフィラメント15とハイフィラメント16との両方にフィラメント電流が常時供給されている検査期間中に、トリガ信号の立ち上がりに同期してジェネレータ2から偏向部12のソース選択用偏向電極13及び軌道補正用偏向電極14に対する偏向電圧の印加のオン/オフが交互に切り替えられる。それによりX線管球の照射窓から高/低エネルギーX線が交互に出力される。
複数のフィラメントへのフィラメント電流の継続的供給のもと偏向部への電圧印加を一定時間ごとにオン/オフを切り替えることにより1つのX線管球装置からエネルギーの異なるX線を交互に高速にパルス状に照射することが可能になる。パルスは高速スイッチング制御されるため、2エネルギー収集データの同時性・角度分解能は向上する。エネルギー分解能も向上する。1つの偏向部により換え時間に誤差がない。1つの偏向部への電気的なオンオフにより高/低エネルギーX線の切り替えを制御できるため、データ収集系との同期性が確保し易い。
さらに電子ビームの軌道補正により、高/低の電子ビームをターゲットに対して同一角度でかつターゲット上の同一焦点位置に照射させ、高/低エネルギーX線のX線プロファイルを適当にしてデュアルエネルギー技術の精度を向上させることができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1…X線管球装置、2…ジェネレータ、3…コントローラ、11…回転陽極、12…電子ビーム偏向部、13…ソース選択用偏向電極、14…軌道補正用偏向電極、15,16…陰極フィラメント(電子発生部)、17…照射窓。

Claims (14)

  1. 第1電子ビームを発生する第1電子発生部と、
    前記第1電子ビームとはエネルギーの異なる第2電子ビームを発生する第2電子発生部と、
    前記第1又は前記第2電子ビームの照射により第1又は第2X線を発生するターゲットと、
    前記第1及び第2電子発生部と前記ターゲットとの間に縦列に配置された、電場又は磁場により前記第1及び第2電子ビームを偏向する第1、第2電子ビーム偏向部と、
    前記第1電子発生部、前記第2電子発生部、前記ターゲット、前記第1電子ビーム偏向部及び前記第2電子ビーム偏向部を封入するX線管球装置と、
    前記第1又は第2X線を前記X線管球装置から出力するために前記X線管球装置に形成されたX線照射窓とを具備し、
    前記第1電子ビーム偏向部は、前記第1又は第2電子ビームを選択するために設けられる、
    前記第2電子ビーム偏向部は、前記選択された第1又は第2電子ビームを前記ターゲット上の特定位置に特定角度で照射させるために設けられる、
    ことを特徴とするX線管球装置。
  2. 前記第1、第2電子ビームは前記第1、第2電子発生部から撮影期間中常時発生されることを特徴とする請求項1記載のX線管球装置。
  3. 前記第1、第2電子ビーム偏向部がオフ状態のとき前記第1X線が前記X線照射窓を介して出力され、
    前記第1、第2電子ビーム偏向部がオン状態のとき前記第2X線が前記X線照射窓を介して出力されることを特徴とする請求項2記載のX線管球装置。
  4. 前記第1、第2電子ビーム偏向部はオフ状態とオン状態とが逆相で切り替えられることを特徴とする請求項3記載のX線管球装置。
  5. 前記第2X線は前記第1X線よりも高エネルギーであることを特徴とする請求項4記載のX線管球装置。
  6. 前記第1、第2電子発生部は前記ターゲットの半径方向に並列されることを特徴とする請求項5記載のX線管球装置。
  7. 前記ターゲットは多面体形状を有することを特徴とする請求項6記載のX線管球装置。
  8. X線管球装置と、
    前記X線管球装置に対して被検体を挟んで配置されるX線検出器と、
    前記X線検出器の出力に基づいて画像を再構成する画像再構成部とを具備するX線CT装置において、
    前記X線管球装置は、
    第1電子ビームを発生する第1電子発生部と、
    前記第1電子ビームとはエネルギーの異なる第2電子ビームを発生する第2電子発生部と、
    前記第1又は前記第2電子ビームの照射により第1又は第2X線を発生するターゲットと、
    前記第1及び第2電子発生部と前記ターゲットとの間に縦列に配置された、電場又は磁場により前記第1及び第2電子ビームを偏向する第1、第2電子ビーム偏向部と、
    前記第1電子発生部、前記第2電子発生部、前記ターゲット、前記第1電子ビーム偏向部及び前記第2電子ビーム偏向部を封入するX線管球装置と、
    前記第1又は第2X線を前記X線管球装置から出力するために前記X線管球装置に形成されたX線照射窓とを有し、
    前記第1電子ビーム偏向部は、前記第1又は第2電子ビームを選択するために設けられる、
    前記第2電子ビーム偏向部は、前記選択された第1又は第2電子ビームを前記ターゲット上の特定位置に特定角度で照射させるために設けられる、
    ことを特徴とするX線CT装置。
  9. 前記第1、第2電子ビームを撮影期間中常時発生するために前記第1、第2電子発生部を制御する制御部をさらに備えることを特徴とする請求項8記載のX線CT装置。
  10. 前記第1、第2電子ビーム偏向部がオフ状態のとき前記第1X線が前記X線照射窓を介して出力され、
    前記第1、第2電子ビーム偏向部がオン状態のとき前記第2X線が前記X線照射窓を介して出力されることを特徴とする請求項9記載のX線CT装置。
  11. 前記制御部は、前記第1、第2電子ビーム偏向部のオフ状態とオン状態とを逆相で切り替えるために前記第1、第2電子ビーム偏向部を制御することを特徴とする請求項10記載のX線CT装置。
  12. 前記第2X線は前記第1X線よりも高エネルギーであることを特徴とする請求項11記載のX線CT装置。
  13. 前記第1、第2電子発生部は前記ターゲットの半径方向に並列されることを特徴とする請求項12記載のX線CT装置。
  14. 前記ターゲットは多面体形状を有することを特徴とする請求項13記載のX線CT装置。
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