JP2015161600A - 湿度センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】小型化を図ることができると共に、部品点数の削減を図ることのできる湿度センサを提供する。【解決手段】センサチップ10に、感湿膜60のうちの検出電極41、42を覆う部分を囲むキャップ90を直接配置する。そして、キャップ90に、センサチップ10とキャップ90との間の空間と外部空間とを連通し、水蒸気を透過しつつ、液体を遮断する大きさとされた貫通孔103を形成する。【選択図】図1
Description
本発明は、湿度に応じたセンサ信号を出力するセンサチップを備える湿度センサに関するものである。
従来より、例えば、特許文献1には、湿度に応じたセンサ信号を出力するセンサチップがケースに収容された湿度センサが提案されている。具体的には、センサチップは、基板上に一対の検出電極が形成され、この検出電極を覆うように吸湿性の感湿膜が形成されている。また、ケースは、貫通孔が形成されていると共に、この貫通孔に、水蒸気(気体)を透過させつつ、液体(水滴)を透過させないフィルタが配置されている。
これによれば、センサチップ(感湿膜)に埃や水滴が付着することを抑制でき、検出精度が低下することを抑制できる。
しかしながら、このような湿度センサでは、センサチップを収容するケースを用意しなければならず、体格が大きくなってしまう。また、ケースに貫通孔を形成すると共にこの貫通孔にフィルタを配置しなければならないため、部品点数も増加する。
本発明は上記点に鑑みて、小型化を図ることができると共に、部品点数の削減を図ることができる湿度センサを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、一面(20a)を有する基板(20)と、基板の一面側に形成され、湿度に応じたセンサ信号を出力する検出電極(41、42)と、検出電極を覆う感湿膜(60)と、を有するセンサチップ(10)を備え、以下の点を特徴としている。
すなわち、センサチップには、感湿膜のうちの検出電極を覆う部分を囲むキャップ(90)が直接配置されており、キャップには、センサチップとキャップとの間の空間と外部空間とを連通する貫通孔103が形成され、貫通孔は、水蒸気を透過しつつ、液体を遮断する大きさとされていることを特徴としている。
これによれば、センサチップには、キャップが直接配置されているため、小型化を図ることができる。また、キャップには、水蒸気を透過しつつ、液体を遮断する大きさの貫通孔が形成されているため、別部材としてのフィルタを備える必要がない。このため、部品点数の削減を図ることができる。
なお、この欄および特許請求の範囲で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態について図面を参照しつつ説明する。本実施形態の湿度センサは、例えば、車室内のルームミラー近傍に取り付けられ、車室内の湿度を検出するものとして用いられると好適である。
本発明の第1実施形態について図面を参照しつつ説明する。本実施形態の湿度センサは、例えば、車室内のルームミラー近傍に取り付けられ、車室内の湿度を検出するものとして用いられると好適である。
図1に示されるように、湿度センサは、センサチップ10にキャップ90が直接配置された構成とされている。まず、センサチップ10の構成について説明する。
センサチップ10は、周知の湿度を検出する検出部が形成されたものである。本実施形態では、シリコン等で構成される基板20を備えている。そして、基板20の一面20a側に、酸化膜等で構成される第1絶縁膜30を介して一対の検出電極41、42が形成されている。
一対の検出電極41、42は、それぞれ複数本形成されており、互いに噛み合うように対向して形成された櫛歯状とされている。なお、この一対の検出電極41、42は、Al、Ti、Au、Cu等の導電性材料を用いて構成されている。
そして、この検出電極41、42を覆うようにシリコン窒化膜等で構成される第2絶縁膜50が形成され、第2絶縁膜50上には、ポリイミドや酪酸酢酸セルロース等の吸湿性を有する高分子有機材料で構成された感湿膜60が形成されている。
また、第1絶縁膜30上には、図1とは別断面において、検出電極41、42と電気的に接続されるパッド70が形成されている。このパッド70は、第2絶縁膜50に形成されたコンタクトホール50aを介して露出しており、ボンディングワイヤ80を介して外部回路との電気的な接続が図れるようになっている。なお、感湿膜60は、第2絶縁膜50のうちのコンタクトホール50aの周辺には配置されていない。
以上が本実施形態におけるセンサチップ10の構成である。このようなセンサチップ10では、感湿膜60が水分(水蒸気)を吸脱着するため、湿度に応じて検出電極41、42間の静電容量が変化する。このため、検出電極41、42間の容量変化(センサ信号)に基づいて湿度が検出される。
そして、このようなセンサチップ10にキャップ90が直接配置されている。キャップ90は、シリコン等で構成される基板100を備えており、基板100のうちのセンサチップ10側の一面100aに第1凹部101が形成されることで構成される薄肉部102を有している。本実施形態では、薄肉部102は、第1凹部101の底面と当該底面と対向する基板100の他面100bとの間の部分で構成され、厚さが100μm以下とされている。
なお、本実施形態では、基板100の一面100aが本発明のキャップの一面に相当し、基板100の他面100bが本発明の他面に相当している。
そして、キャップ90は、感湿膜60のうちの検出電極41、42を覆う部分を囲むように、センサチップ10に直接配置されている。なお、感湿膜60のうちの検出電極41、42を覆う部分とは、言い換えると、感湿膜60のうちの検出電極41、42の直上に位置する部分およびその周囲の部分のことである。
また、薄肉部102には、第1凹部101内の空間と外部空間とを連通させる貫通孔103が形成されている。言い換えると、薄肉部102には、センサチップ10とキャップ90との間の空間と外部空間とを連通させる貫通孔103が形成されている。本実施形態では、この貫通孔103は、複数形成されており、それぞれが水蒸気(気体)を透過させつつ、液体(水滴)を遮断する大きさ(形状)とされている。言い換えると、貫通孔103は、防滴透湿機能を有する大きさ(形状)とされている。本実施形態では、貫通孔103は、基板100の他面100bに対する法線方向に沿って形成された円筒状とされている。そして、直径が0.01〜10μmとされている。また、貫通孔103は、当該貫通孔103の壁面と基板100の他面100bとの境界が角張るように形成されている。言い換えると、貫通孔103の開口部は、丸みを帯びておらず、尖っている。
以上が本実施形態における湿度センサの構成である。次に、上記湿度センサの製造方法について図2および図3を参照しつつ説明する。なお、図2および図3では、1チップ分の領域を示している。
まず、図2(a)に示されるように、チップ単位に分割されることで上記キャップ90を構成すると共に一面200aおよび他面200bを有するキャップウェハ200を用意し、キャップウェハ200のうちの一面200aにマスク210を形成する。そして、マスク210を所定形状にパターニングする。
次に、マスク210を用いた反応性イオンエッチングや溶融KOHを用いたエッチング等を行い、キャップウェハ200の各チップ形成領域に上記第1凹部101を形成することによって薄肉部102を形成すると共に、窪み部104を形成する。
なお、窪み部104は、後述の図3(a)の工程において、キャップウェハ200とセンサウェハ300とを貼り合わせたとき、キャップウェハ200のうちのパッド70と対向する部分に形成されるものである。そして、窪み部104の底部にて隣接するチップ形成領域を連結する連結部104aが構成されている。
次に、図2(b)に示されるように、キャップウェハ200のうちの一面200a側に酸化膜等の保護膜220を形成すると共に、キャップウェハ200のうちの他面200bに酸化膜等のマスク230を形成する。なお、保護膜220は、第1凹部101の壁面(側面および底面)にも形成されている。
そして、マスク230を所定形状にパターニングする。続いて、マスク230を用いた反応性イオンエッチングや溶融KOHを用いたエッチング等を行い、各薄肉部102に上記貫通孔103を形成する。このとき、第1凹部101の底面に形成した保護膜220をエッチングストッパとすることにより、貫通孔103を形成した後にエッチング装置にダメージが入ることを抑制できる。
続いて、図3(a)に示されるように、チップ単位に分割されることで上記センサチップ10を構成するセンサウェハ300を用意する。そして、一般的な製造プロセスを行い、センサウェハ300における各チップ形成領域に、第1絶縁膜30、検出電極41、42、第2絶縁膜50、パッド70を形成する。次に、第2絶縁膜50のうちの検出電極41、42上に位置する部分を覆うように、吸湿性を有する高分子有機材料を溶剤に溶かした溶液をスクリーン印刷法やスピンコート法等によって塗布する。
続いて、溶液中の溶剤を蒸発させないまま、溶液のうちの検出電極41、42を覆う部分が囲まれるように、キャップウェハ200の一面200aがセンサウェハ300と対向するように、キャップウェハ200をセンサウェハ300上に配置する。その後、溶液中の溶剤を蒸発させることで感湿膜60を形成する。これにより、感湿膜60(センサウェハ300)とキャップウェハ200とが接合される。
続いて、図3(b)に示されるように、連結部104aをハーフダイシングする。なお、図3(b)中の連結部104aは、ハーフダイシングされた後は、図3(b)に示したチップ形成領域と隣接するチップ形成領域と繋がっている。
その後、図3(c)に示されるように、キャップウェハ200およびセンサウェハ300をフルダイシングしてチップ単位に分割する。その後は、パッド70にボンディングワイヤ80を接続等することにより、上記湿度センサが製造される。
なお、ここでは、キャップウェハ200とセンサウェハ300とを接合した後にダイシングして湿度センサを製造する方法について説明した。しかしながら、キャップウェハ200とセンサウェハ300とをそれぞれダイシングし、実装工程にてキャップ90をセンサチップ10に1つずつ接着して湿度センサを製造するようにしてもよい。
以上説明したように、本実施形態では、センサチップ10には、感湿膜60のうちの検出電極41、42を覆う部分を囲むキャップ90を直接配置している。このため、小型化を図ることができる。
また、キャップ90には、第1凹部101の内部と外部空間とを連通し、水蒸気を透過しつつ、液体を遮断する貫通孔103が形成されている。このため、従来の湿度センサと比較してフィルタを備える必要がなく、部品点数の削減を図ることができる。
さらに、センサチップ10にキャップ90が備えられているため、モールド樹脂等の保護部材を備えずにベアチップ実装をすることも可能となる。
そして、薄肉部102は、基板100の他面100bに形成されているため、基板100の他面100bが平坦化されている。このため、水滴が基板100の他面100bのうちの貫通孔103の近傍に滞留することを抑制できる。すなわち、薄肉部102が基板100の他面100bから窪んだ位置に形成されている場合には、水滴が当該窪んだ部分に滞留することで貫通孔103の近傍に滞留し易い。これに対し、本実施形態では、基板100の他面100bが平坦化されているため、水滴が基板100の他面100bに付着した場合には、薄肉部102以外の基板100の他面100bにも濡れ広がる。このため、水滴が基板100の他面100bのうちの貫通孔103の近傍に滞留することを抑制できる。
また、貫通孔103は、当該貫通孔103の壁面と基板100の他面100bとの境界が角張るように形成されている。このため、貫通孔103の壁面と基板100の他面100bとの境界が丸まっている場合と比較して、当該境界に水滴が付着した際にこの水滴との接触面積が小さくなり、水滴が貫通孔103内に導入されることを抑制できる。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して基板100の他面100bに疎水性膜を形成したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して基板100の他面100bに疎水性膜を形成したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図4に示されるように、キャップ90は、基板100の他面100bにSiF4系の膜で構成される疎水性膜110が配置された構成とされている。なお、本実施形態では、この疎水性膜110が本発明の撥水手段に相当している。また、基板100の他面100bが本発明の外部空間に曝される外壁面のうちの貫通孔が形成される面に相当している。
これによれば、基板100(キャップ90)の他面100bに水滴が付着した場合、疎水性膜110によって当該水滴の表面張力が大きくなり、水滴の直径が大きくなり易い。このため、水滴が貫通孔103を通過することをさらに抑制できる。
また、このように、疎水性膜110を配置することによって水滴の直径が大きくなり易いため、上記第1実施形態より貫通孔103の直径を大きくしても同等の効果を得ることができる。
なお、疎水性膜110は、例えば、上記図2(b)の工程において、貫通孔103を形成する際のマスク230をSiF4系の膜で構成し、当該マスク230をそのまま残存させることによって形成できる。つまり、この場合は、マスク230が疎水性膜110となる。このように疎水性膜110(保護膜)を形成することにより、疎水性膜110を形成する工程のみを必要とせず、製造工程が増加することを抑制できる。
(第2実施形態の変形例)
上記第2実施形態において、図5に示されるように、貫通孔103の壁面にも疎水性膜110を配置するようにしてもよい。このような湿度センサとしても、水滴が貫通孔103を通過することをさらに抑制できる。
上記第2実施形態において、図5に示されるように、貫通孔103の壁面にも疎水性膜110を配置するようにしてもよい。このような湿度センサとしても、水滴が貫通孔103を通過することをさらに抑制できる。
なお、貫通孔103の壁面に形成される疎水性膜110は、上記図2(b)の工程において、貫通孔103を形成する際、壁面に保護膜を形成する工程とエッチングを行う工程とを交互に行うエッチング方法を採用すればよい。そして、保護膜を形成する工程を最終工程とし、保護膜としてSiF4系の膜を形成して当該保護膜をそのまま残存させればよい。このように疎水性膜110(保護膜)を形成することにより、疎水性膜110を形成する工程のみを必要とせず、製造工程が増加することを抑制できる。
また、図5では、基板100の他面100bおよび貫通孔103の壁面に疎水性膜110が配置されているものを図示しているが、貫通孔103の壁面のみに疎水性膜110を配置するようにしてもよい。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して貫通孔103を形成する場所を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して貫通孔103を形成する場所を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図6および図7に示されるように、第1凹部101の側面と当該側面と対向する基板100の側面100cとの間の部分が薄肉部102とされている。そして、この薄肉部102に複数の貫通孔103が形成されている。
なお、本実施形態の貫通孔103は、基板100の側面100cに対する法線方向(基板100の一面100aに対する平面方向)に沿って形成され、断面が四角筒状とされている。また、図6は、図7中のVI−VI線に沿った断面に相当し、図7ではボンディングワイヤ80を省略して示してある。
このように貫通孔103を形成する場所を変更した湿度センサとしても、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。次に、このような湿度センサの製造方法について図8および図9を参照しつつ説明する。
まず、図8(a)に示されるように、第1キャップウェハ201を用意する。そして、第1キャップウェハ201の一面201aに図示しないマスクを形成し、当該マスクを所定形状にパターニングする。次に、マスク210を用いた反応性イオンエッチングや溶融KOHを用いたエッチング等を行い、貫通孔103を構成する溝部103aを形成する。なお、溝部103aは、一端部(図8中では、紙面左側の端部)がチップ形成領域から突出するように形成される。
続いて、図8(b)に示されるように、第1キャップウェハ201の一面201aに第2キャップウェハ202を接合することによってキャップウェハ200を構成する。第1キャップウェハ201と第2キャップウェハ202との接合は、例えば、第1、第2キャップウェハ201、202の各接合面を活性化させて接合させるいわゆる直接接合を採用できる。
そして、図8(c)に示されるように、図2(a)と同様の工程を行い、キャップウェハ200(第1キャップウェハ201)に第1凹部101および窪み部104を形成する。なお、第1凹部101は、溝部103aの他端部(図8(c)中の紙面右側の端部)と連通するように形成される。
その後、図9(a)に示されるように、図3(a)と同様の工程を行い、センサウェハ300にキャップウェハ200を接合する。
次に、図9(b)に示されるように、図3(b)および図3(c)の工程を行うことによってチップ単位に分割する。このとき、溝部103aのうちの一端部がチップ形成領域から突出するように形成されているため、分割したときに第1凹部101内の空間と外部空間とを連通する貫通孔103が形成される。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態は、第3実施形態に対して貫通孔103の形状を変更したものであり、その他に関しては第3実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態は、第3実施形態に対して貫通孔103の形状を変更したものであり、その他に関しては第3実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図10に示されるように、貫通孔103は、第1凹部101側の開口端から基板100の側面100c側の開口端に至る経路において、この経路を屈曲させる角部103bが形成されている。本実施形態では、貫通孔103は、平面形状において、略V字とされている。
これによれば、角部103bによって埃等の異物が第1凹部101内に導入されることを抑制できる。
なお、このような貫通孔103は、上記図8(a)の工程において、第1キャップウェハ201に形成する溝部103a(マスク)の形状を適宜調整すればよい。
(第4実施形態の変形例)
上記第4実施形態において、図11に示されるように、貫通孔103の形状を変更してもよい。すなわち、基板100の側面100cと、第1凹部101の側面のうちの側面100cと対向する側面と異なる側面とを連通する折れ線状であり、複数の角部103bを有する貫通孔103を形成してもよい。
上記第4実施形態において、図11に示されるように、貫通孔103の形状を変更してもよい。すなわち、基板100の側面100cと、第1凹部101の側面のうちの側面100cと対向する側面と異なる側面とを連通する折れ線状であり、複数の角部103bを有する貫通孔103を形成してもよい。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してモールド樹脂を備えるものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本発明の第5実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してモールド樹脂を備えるものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図12に示されるように、センサチップ10のうちのキャップ90側と反対側の一面にリードフレーム120が配置されている。そして、パッド70とリードフレーム120とがボンディングワイヤ80を介して接続されている。
また、キャップ90は、基板100の一面100aから第1凹部101が形成されていると共に他面100bから第2凹部105が形成されている。そして、第1凹部101の底面と第2凹部105の底面との間の部分にて薄肉部102が構成され、当該薄肉部102に貫通孔103が形成されている。つまり、本実施形態では、薄肉部102は、基板100の一面100aと他面100bとの間の部分に形成されている。
そして、センサチップ10およびキャップ90を封止するモールド樹脂130が形成されている。具体的には、モールド樹脂130は、基板100の他面100b、薄肉部102、およびリードフレーム120のうちのセンサチップ10側と反対側の面が露出するように形成されている。なお、このモールド樹脂130は、後述するように、金型400を用いたトランスファーモールド法により成形されるもので、エポキシ樹脂等の典型的なモールド材料にて構成される。
以上が本実施形態における湿度センサの構成である。次に、このような湿度センサの製造方法について説明する。
まず、図2(a)の工程において、第1凹部101および第2凹部105を形成することにより、第1凹部101の底面と第2凹部105の底面との間の部分に薄肉部102を構成する。そして、図2(b)の工程において、この薄肉部102に貫通孔103を形成した後、図3(a)〜図3(c)と同様の工程を行う。
次に、センサチップ10のうちのキャップ90側と反対側にリードフレーム120を配置すると共に、パッド70とリードフレーム120とをボンディングワイヤ80を介して接続する。
そして、図13に示されるように、このものを、上型401と下型402とを合致させることで内部にキャビディを構成する金型400内に配置する。本実施形態では、リードフレーム120を下型402に当接させる共に、緩衝材410を介してキャップ90を上型401に当接させる。そして、この金型400内にモールド樹脂130を注入して成形することにより、図12に示す湿度センサが製造される。
なお、緩衝材410は、基板100の他面100bと上型401との間に隙間が形成されることを抑制するものである。
以上説明したように、センサチップ10およびキャップ90を保護するモールド樹脂130を備える湿度センサに本発明を適用することもできる。また、薄肉部102は、基板100の一面100aと他面100bとの間の部分に構成されている。このため、図13に示されるように、キャップ90を金型400内に設置したとき、薄肉部102は上型401と当接しない。つまり、モールド樹脂130を成形する際、薄肉部102に上型401からの応力が直接印加されることを抑制でき、薄肉部102が破壊されることを抑制できる。
さらに、薄肉部102が基板100の一面100aと他面100bとの間に形成されているため、実装時等においても薄肉部102が治具と接触することを抑制できる。
(第6実施形態)
本発明の第6実施形態について説明する。本実施形態は、第5実施形態に対して薄肉部102の形成場所を変更したものであり、その他に関しては第5実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本発明の第6実施形態について説明する。本実施形態は、第5実施形態に対して薄肉部102の形成場所を変更したものであり、その他に関しては第5実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図14に示されるように、キャップ90は、基板100の他面100bに第2凹部105が形成され、第2凹部105の底面と当該底面と対向する基板100の一面100aとの間の部分で薄肉部102が形成されている。すなわち、キャップ90は、上記第1実施形態のキャップ90が上下反転されて配置されているとも言える。
そして、キャップ90は、薄肉部102とセンサチップ10(感湿膜60)との間に空間が形成されるように、接着剤140を介してセンサチップ10における感湿膜60と接合されている。
このような湿度センサは、上記図3の工程を行う際、溶液中の溶剤を蒸発させて感湿膜60を形成した後、キャップウェハ200の他面200bがセンサウェハ300と対向するように、接着剤140を介してキャップウェハ200をセンサウェハ300上に配置することで製造される。つまり、本実施形態では、基板100の一面100aが第1実施形態の基板100の他面100bに相当し、基板100の他面100bが第1実施形態の基板100の一面100aに相当し、第2凹部105が第1実施形態の第1凹部101に相当しているともいえる。
このように薄肉部102を形成した湿度センサとしても、モールド樹脂130を成形する際、薄肉部102に上型401からの応力が直接印加されることを抑制でき、薄肉部102が破壊されることを抑制できる。また、このような湿度センサでは、キャップ90には、第1凹部101を形成する必要がないため、上記第5実施形態に対して製造工程の簡略化を図ることもできる。
なお、ここでは、接着剤140によってセンサチップ10とキャップ90(薄肉部102)との間に空間を形成する例について説明した。しかしながら、センサチップ10とキャップ90(薄肉部102)との間に空間が形成されるのであれば、接着剤140を用いなくてもよい。例えば、第1絶縁膜30のうちの検出電極41、42下の部分を薄くすることにより、感湿膜60のうちの外縁部が検出電極41、42を覆う部分より基板20の一面20aからの高さが高くなるようにしてもよい。この場合は、上記第1実施形態と同様に、センサチップ10(感湿膜60)とキャップ90とを直接接合するようにしても、センサチップ10とキャップ90(薄肉部102)との間に空間を形成することができる。
(他の実施形態)
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
上記各実施形態において、キャップ90を構成する基板100は特に限定されるものではなく、例えば、炭化シリコン(SiC)基板やガラス基板等を用いてもよい。
また、上記各実施形態において、キャップ90とセンサチップ10とを接着剤等の接合部材を介して接合するようにしてもよい。
そして、上記第1、第2、第5、第6実施形態において、貫通孔103は、円筒状ではなく、センサチップ10側に向かって径が短くなる円錐状とされていてもよい。また、貫通孔103は、角筒状であってもよいし、角錐状であってもよい。さらに、上記第1、第2、第5、第6形態において、貫通孔103は、基板100の他面100bに対する法線方向に対して傾いていてもよい。同様に、上記第3実施形態において、貫通孔103は、基板100の側面100cに対する法線方向に対して傾いていてもよい。
そして、上記第2実施形態において、基板100の他面100bを荒らすことによって当該他面100bに微細な凹凸を複数形成し、複数の凹凸によって撥水手段を形成するようにしてもよい。
また、上記各実施形態を組み合わせることもできる。例えば、上記第2実施形態を上記第3、第4実施形態に組み合わせ、基板100の側面100cに疎水性膜110を形成してもよい。そして、上記第2実施形態を上記5、第6実施形態に組み合わせ、疎水性膜110およびモールド樹脂130を有する湿度センサとしてもよい。また、上記第1実施形態において、上記第5実施形態のように、薄肉部102を基板100の一面100aと他面100bとの間に形成してもよいし、上記第6実施形態のように、薄肉部102を基板の一面100aに形成してもよい。
10 センサチップ
20 基板
20a 一面
41、42 検出電極
60 感湿膜
90 キャップ
103 貫通孔
20 基板
20a 一面
41、42 検出電極
60 感湿膜
90 キャップ
103 貫通孔
Claims (6)
- 一面(20a)を有する基板(20)と、
前記基板の一面側に形成され、湿度に応じたセンサ信号を出力する検出電極(41、42)と、
前記検出電極を覆う感湿膜(60)と、を有するセンサチップ(10)を備え、
前記センサチップには、前記感湿膜のうちの前記検出電極を覆う部分を囲むキャップ(90)が直接配置されており、
前記キャップには、前記センサチップと前記キャップとの間の空間と外部空間とを連通する貫通孔(103)が形成され、
前記貫通孔は、水蒸気を透過しつつ、液体を遮断する大きさとされていることを特徴とする湿度センサ。 - 前記キャップは、前記外部空間に曝される外壁面のうちの前記貫通孔が形成される面(100b、100c)に撥水手段(110)が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の湿度センサ。
- 前記キャップは、前記貫通孔の壁面に撥水手段(110)が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の湿度センサ。
- 前記キャップには、前記センサチップ側の一面(100a)に第1凹部(101)が形成され、
前記貫通孔は、前記第1凹部の側面と前記キャップの側面(100c)との間に形成され、前記第1凹部側の一方の開口端から当該開口端と反対側の開口端に至る経路において、前記経路を屈曲させる角部(103b)が形成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の湿度センサ。 - 前記キャップには、前記センサチップ側の一面(100a)に第1凹部(101)が形成されていると共に前記センサチップ側の一面と反対側の他面(100b)に第2凹部(105)が形成されることにより、前記第1、第2凹部の底面の間の部分にて薄肉部(102)が構成されており、
前記貫通孔は、前記薄肉部に形成され、
前記キャップの他面を露出させつつ、前記センサチップおよび前記キャップを封止するモールド樹脂(130)を備えていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の湿度センサ。 - 前記キャップには、前記センサチップ側の一面(100a)と反対側の他面(100b)に第2凹部(105)が形成されることにより、前記第2凹部の底面と前記センサチップ側の一面との間の部分にて薄肉部(102)が構成されており、
前記貫通孔は、前記薄肉部に形成され、
前記キャップの他面を露出させつつ、前記センサチップおよび前記キャップを封止するモールド樹脂(130)を備えていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の湿度センサ。
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-
2014
- 2014-02-27 JP JP2014037227A patent/JP2015161600A/ja active Pending
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