JP2015151674A - シールドトンネルの拡幅部形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】シールドトンネルの拡幅部を形成する際、その断面の大きさが変化しても、ルーフシールド間の間隔の変動を抑制する。
【解決手段】本発明に係るシールドトンネルにおける拡幅部の形成方法は、各小径シールドトンネルを、拡幅予定領域3の横断面積が最大となる基準断面位置でそれらが拡幅予定領域3の横断面輪郭線11に沿って全て配置されるように、基準断面位置よりも横断面積が小さな断面位置では、基準断面位置での配置間隔とほぼ同等になるために必要な本数だけ横断面輪郭線11に沿って配置され、残りがその背後に配置されるように配置してあり、小径シールドトンネル5−1〜5−18は、横断面輪郭線11に沿った状態への配置変更がなされる角度位置を0゜に保ちながら、基準断面位置まで延設される。
【選択図】 図3
Description
前記拡幅予定領域の横断面積が最大となる断面位置を基準断面位置とし、該基準断面位置では、前記複数本からなる小径シールドトンネルが前記拡幅予定領域の横断面輪郭線に沿ってすべて配置され、前記基準断面位置よりも横断面積が小さな断面位置では、前記複数本からなる小径シールドトンネルのうち、前記基準断面位置での配置間隔とほぼ同等になるために必要な本数だけが前記横断面輪郭線に沿って配置され、残りがその背後に配置されるように該複数本からなる小径シールドトンネルを延設することで前記先受け構造体を構築するとともに、前記拡幅予定領域の横断面積が単調増加する区間においては、前記横断面輪郭線から離間した状態の小径シールドトンネルを、前記横断面輪郭線に沿って配置された小径シールドトンネルの間に形成されたスペースに進入させて前記横断面輪郭線に沿った状態へと配置変更するとともに、前記進入による配置変更が行われる前記横断面輪郭線上の角度位置を前記区間にわたってほぼ一定にしたものである。
2 ランプトンネル
3 拡幅予定領域
4−1〜4−18 小径シールドトンネル(第1のトンネル群)
5−1〜5−18 小径シールドトンネル(第2のトンネル群)
6a,6b 発進エリア
11 横断面輪郭線
71 外殻
80 シールドトンネル1の内部空間
81 シールドトンネル1に設けられる開口
83 小径シールドトンネル5−1〜5−18に設けられる開口
84 小径シールドトンネル5−1〜5−18の内部空間
Claims (3)
- シールドトンネルに拡幅部を形成する際、その拡幅予定領域を取り囲むように前記シールドトンネルのトンネル軸線方向に沿って複数本からなる小径シールドトンネルを延設し、該複数本の小径シールドトンネルを先受け構造体として拡幅部の外殻を構築した後、該外殻で囲まれた内側領域を掘削するシールドトンネルの拡幅部形成方法において、
前記拡幅予定領域の横断面積が最大となる断面位置を基準断面位置とし、該基準断面位置では、前記複数本からなる小径シールドトンネルが前記拡幅予定領域の横断面輪郭線に沿ってすべて配置され、前記基準断面位置よりも横断面積が小さな断面位置では、前記複数本からなる小径シールドトンネルのうち、前記基準断面位置での配置間隔とほぼ同等になるために必要な本数だけが前記横断面輪郭線に沿って配置され、残りがその背後に配置されるように該複数本からなる小径シールドトンネルを延設することで前記先受け構造体を構築するとともに、前記拡幅予定領域の横断面積が単調増加する区間においては、前記横断面輪郭線から離間した状態の小径シールドトンネルを、前記横断面輪郭線に沿って配置された小径シールドトンネルの間に形成されたスペースに進入させて前記横断面輪郭線に沿った状態へと配置変更するとともに、前記進入による配置変更が行われる前記横断面輪郭線上の角度位置を前記区間にわたってほぼ一定にしたことを特徴とするシールドトンネルの拡幅部形成方法。 - 前記角度位置を、前記シールドトンネルに近接した角度位置とする請求項1記載のシールドトンネルにおける拡幅部の形成方法。
- 前記小径シールドトンネルと前記シールドトンネルとが近接する角度位置にて該小径シールドトンネル及び該シールドトンネルにそれぞれ開口を設けることにより、該各開口を介して前記小径シールドトンネルの内部空間と前記シールドトンネルの内部空間とを相互に連通させる請求項2記載のシールドトンネルの拡幅部形成方法。
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2014
- 2014-02-10 JP JP2014023334A patent/JP6268522B2/ja not_active Expired - Fee Related
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