JP2015134692A - ガラス基板群及びガラス基板製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
K=t2/L4 (2)
[基本原理]
図1は、本発明の実施形態1におけるガラス基板群1を模式的に示す斜視図である。ガラス基板群1は複数のガラス基板3を含む。複数のガラス基板3には、基準姿勢で配置された状態で処理が施される。基準姿勢に基づいて傾かせた傾斜姿勢における複数のガラス基板3の撓みのばらつきが、所定範囲内にある。基準姿勢は、複数のガラス基板3に例えば成膜等の処理を施す際のガラス基板3の姿勢である。傾斜姿勢は、ガラス基板3を基準姿勢に基づいて傾かせた姿勢である。
図2(a)及び図2(b)は、それぞれ、撓み計測装置8を模式的に示した斜視図及び側面図である。撓み計測装置8は、ガラス基板3の撓みを計測する。ガラス基板3の長辺LSの長さ及び短辺SSの長さは、それぞれ、長さL及び長さWである。ガラス基板3の厚さは厚さtである。
K=t2/L4 (2)
[撓み特性の評価]
上述した正規化標準偏差Nσは、複数のガラス基板の撓み特性の評価に適用できる。製造された複数のガラス基板は梱包体(図示せず)に収納される。梱包体ごとに、収納された複数のガラス基板の撓みを計測して正規化標準偏差Nσを算出する。そして、梱包体ごとに撓み特性を評価する。ある梱包体に収納された複数のガラス基板の正規化標準偏差Nσが0.2×10-12以下である場合、その梱包体のガラス基板は良好な撓み特性を有すると評価され、例えば出荷される。一方、ある梱包体に収納された複数のガラス基板の正規化標準偏差Nσが0.2×10-12を超える場合、その梱包体のガラス基板は良好な撓み特性を有さないと評価され、例えば廃棄される。
[ガラス基板群製造装置及びガラス基板群製造方法]
図4(a)は、本発明の実施形態3におけるガラス基板群1の製造装置10の概略構成を示す縦断側面図である。図4(b)は、図4(a)のガラスリボン9及びヒータ群19(19a)を模式的に示す平面図である。以下、図4を参照して、製造装置10を説明する。
(PLPL2+PRPR2)/PRPL>0.2 (4)
TR-R2>TR2-L2 (5)
TL-L2>TR2-L2 (6)
TR-R1>TR-R2 (9)
TL-L1>TL-L2 (10)
3 ガラス基板
5 支持部材
7 レーザ測位計
8 撓み計測装置
9 ガラスリボン
10 製造装置
11 フロートバス
12 搬送方向
13 溶融錫
14 幅方向
15 リフトアウト部
17 ローラ
19(19a) ヒータ群
20(20a) 搬送経路
21 徐冷炉(レア)
23R 外側右端部
23L 外側左端部
25R 内側右端部
25L 内側左端部
27 中央部
29R 右端部
29L 左端部
31 側面
LS 長辺
SS 短辺
L 長辺の長さ
W 短辺の長さ
t 厚さ
θ 所定角度
a 距離(撓みの量)
F1 第1主面
F2 第2主面
V 区間
Claims (12)
- 基準姿勢で配置された状態で処理が施される複数のガラス基板を含むガラス基板群であって、
前記基準姿勢に基づいて傾かせた傾斜姿勢における前記複数のガラス基板の撓みのばらつきが、所定範囲内にあることを特徴とする、ガラス基板群。 - 前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきは、前記傾斜姿勢における前記複数のガラス基板の撓みの標準偏差を正規化して得た数値であることを特徴とする、請求項1に記載のガラス基板群。
- 前記ガラス基板は矩形状であり、
前記標準偏差は、式(1)及び式(2)により正規化されることを特徴とする、請求項2に記載のガラス基板群。
Nσ=σ×K (1)
K=t2/L4 (2)
Nσは、正規化された標準偏差である。
σは、前記複数のガラス基板の撓みの大きさの前記標準偏差である。
tは、前記ガラス基板の厚さである。
Lは、前記ガラス基板の1辺の長さである。 - 前記正規化された標準偏差Nσが0.2×10-12以下であることを特徴とする、請求項3に記載のガラス基板群。
- 前記傾斜姿勢は、前記ガラス基板の主面と鉛直線とが成す角度が0度より大きく10度以下となる姿勢であることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれかに記載のガラス基板群。
- 前記ガラス基板の前記主面は、互いに対向する第1主面及び第2主面を含み、
前記第1主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきが前記所定範囲内であり、
前記複数のガラス基板は、前記ガラス基板の前記第1主面と当該ガラス基板の隣に配置される前記ガラス基板の前記第2主面とが対向するように、配置又は積層されることを特徴とする、請求項5に記載のガラス基板群。 - 前記処理において前記ガラス基板に作用する外力の作用方向と前記第1主面とが対向するよう前記複数のガラス基板が配置又は積層されることを特徴とする、請求項6に記載のガラス基板群。
- 前記ガラス基板の前記主面は、互いに対向する第1主面及び第2主面を含み、
前記第1主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつき、及び前記第2主面が斜め上方向を向く姿勢での前記複数のガラス基板の撓みの前記ばらつきの各々が、前記所定範囲内であることを特徴とする、請求項5に記載のガラス基板群。 - 前記基準姿勢は、前記複数のガラス基板が鉛直面に略平行で互いに等間隔になるように配置された姿勢であることを特徴とする、請求項1から請求項8のいずれかに記載のガラス基板群。
- ガラスリボンからガラス基板を製造する方法であって、
フロートバスにて溶融ガラスを前記ガラスリボンに成形する工程と、
前記フロートバスよりも下流側から徐冷炉内までの間で、前記ガラスリボンの両側面に垂直な方向に沿って前記ガラスリボンの中央部から前記両側面に向かって温度が高くなるように、前記ガラスリボンの温度を制御する制御工程と
を含むことを特徴とする、ガラス基板製造方法。 - 前記制御工程は、
前記フロートバスの出口よりも下流側から前記徐冷炉内までの間で、前記ガラスリボンの前記中央部の平均温度が、前記ガラスリボンの前記中央部を挟む両端部のうち一方端部の平均温度及び他方端部の平均温度の各々より低くなるように、前記ガラスリボンの前記中央部、前記一方端部、及び前記他方端部の温度を制御する工程を含むことを特徴とする、請求項10に記載のガラス基板製造方法。 - 前記ガラスリボンの前記一方端部は、第1端部及び前記第1端部より前記中央部から離れた第2端部を含み、
前記ガラスリボンの前記他方端部は、第3端部及び前記第3端部より前記中央部から離れた第4端部を含み、
前記制御工程は、
前記フロートバスの出口よりも下流側から前記徐冷炉内までの間で、前記第2端部の平均温度が、前記第1端部及び前記第2端部の平均温度より高くなるように、前記第1端部及び前記第2端部の温度を制御する工程と、
前記フロートバスの出口よりも下流側から前記徐冷炉内までの間で、前記第4端部の平均温度が、前記第3端部及び前記第4端部の平均温度より高くなるように、前記第3端部及び前記第4端部の温度を制御する工程と
を含むことを特徴とする、請求項11に記載のガラス基板製造方法。
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