JP2015133239A - Manufacturing method of electrode pattern sheet - Google Patents
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Description
本発明は、抵抗膜式タッチパネルや静電容量方式タッチパネル等に好適に用いられる電極パターンシートの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an electrode pattern sheet that is suitably used for a resistive touch panel, a capacitive touch panel, and the like.
パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。 In electronic devices such as personal digital assistants (PDAs), notebook PCs, OA devices, medical devices, and car navigation systems, touch panels are widely used as input means for these displays.
タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性導電材料と光透過性導電層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し光透過性導電層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、光透過性支持体上に透明導電体層を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、例えば車載用途等において適用されている。 The touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like depending on a position detection method. In a resistive touch panel, a light-transmitting conductive material and a glass with a light-transmitting conductive layer are arranged to face each other via a spacer. It is structured to measure the voltage to be applied. On the other hand, a capacitive touch panel is basically composed of a transparent conductive layer on a light transmissive support, has no moving parts, and has high durability and high transmittance. For example, it is applied to in-vehicle use.
タッチパネル用途の透明電極（光透過性導電材料）としては、一般にＩＴＯからなる光透過性導電膜が光透過性支持体上に形成されたものが使用されてきた。しかしながらＩＴＯ導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にＩＴＯ導電膜に亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。 As a transparent electrode (light transmissive conductive material) for use in a touch panel, a light transmissive conductive film made of ITO is generally formed on a light transmissive support. However, since the ITO conductive film has a large refractive index and a large surface reflection of light, there is a problem that the total light transmittance is lowered, and since the flexibility is low, the ITO conductive film cracks when bent and the electric resistance value is low. There was a problem of getting higher.
ＩＴＯに代わる光透過性導電膜を有する光透過性導電材料として、基板上に薄い触媒層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層およびレジスト層で保護された下地金属を除去することにより、導電性パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば特開２００７−２８７９９４号公報、特開２００７−２８７９５３号公報などに開示されている。 As a light transmissive conductive material having a light transmissive conductive film in place of ITO, after forming a thin catalyst layer on the substrate and forming a resist pattern thereon, a metal layer is laminated on the resist opening by plating, Finally, a semi-additive method for forming a conductive pattern by removing the resist layer and the base metal protected by the resist layer is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2007-287994 and 2007-287953. ing.
また近年、銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法も提案されている。例えば特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報および特開２００７−１８８６５５号公報等では、光透過性支持体上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電性材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させて金属銀パターンを形成させる、銀錯塩拡散転写法を利用した技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より細い線幅で高い導電性を得ることができるので、全光線透過率が高く、かつ低抵抗な光透過性導電材料を得ることができる。また、さらにこの方法で得られた光透過性導電材料はＩＴＯ導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。 In recent years, a method using a silver salt photographic light-sensitive material as a conductive material precursor has also been proposed. For example, in JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, and JP-A-2007-188655, etc., a conductive material having a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer at least in this order on a light-transmitting support. A technique using a silver complex diffusion transfer method in which a metallic silver pattern is formed by allowing a soluble silver salt forming agent and a reducing agent to act on an alkaline material precursor in an alkaline solution is disclosed. Patterning by this method can reproduce a uniform line width, and since silver has the highest conductivity among metals, higher conductivity can be obtained with a narrower line width than other methods. A light-transmitting conductive material having a high total light transmittance and a low resistance can be obtained. Further, the light-transmitting conductive material obtained by this method has an advantage that it is more flexible and resistant to bending than the ITO conductive film.
抵抗膜式タッチパネルや静電容量方式タッチパネルにおいて使用される光透過性導電材料は、ディスプレイ上にて手で操作される光透過性導電部（導通パターン部）と、該光透過性導電部で感知された電気信号を外部に取り出す周辺配線部を有する。該導通パターンとしてＩＴＯ導電膜を用いる場合、一般的にはＩＴＯ導電膜を形成した後、更に銀ペーストなどを用いて周辺配線部を作製するなど、ＩＴＯ導電膜を作製するのとは別の工程が必要となり、製造効率があまり良くなかった。 The light-transmitting conductive material used in resistive touch panels and capacitive touch panels is detected by the light-transmitting conductive portion (conduction pattern portion) that is manually operated on the display and the light-transmitting conductive portion. And a peripheral wiring portion for taking out the electrical signal. When using an ITO conductive film as the conductive pattern, in general, after forming the ITO conductive film, further manufacturing a peripheral wiring portion using a silver paste or the like, a process different from that for preparing the ITO conductive film The manufacturing efficiency was not so good.
前述の銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法は、例えば特開２０１２−４０４２号公報（特許文献１）に記載されているように、導通パターンと周辺配線部を同時に作製することが可能であり、非常に効率の良い方式である。また、特開２００７−２２５８８４号公報（特許文献２）に記載された連続露光装置や、特開２００６−１９０５３５号公報（特許文献３）に記載された処理装置を使用することにより、ロール状に巻き取られた長尺の支持体上に、導通パターンと周辺配線部を有する画像単位を数多く形成し、その後、ロール状に巻き取るという、所謂ロール・ツー・ロールの製造方法にて電極パターンシートを製造することができるため、生産性に優れる製造方法である。また特開２００６−３５２０７３号公報（特許文献４）には、銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法であって、前記した銀錯塩拡散転写法とは異なる化学現像法によって導電性パターンが形成可能な製造装置が記載される。該製造装置は、長尺状の銀塩写真感光材料ロール体から銀塩写真感光材料を巻きだした感光ウエブに、露光工程、現像工程・定着工程、水洗工程、およびめっき工程において各処理を施し、再度ロール状に巻き取ることが可能である。 A method of using the above-mentioned silver salt photographic light-sensitive material as a conductive material precursor is to simultaneously produce a conductive pattern and a peripheral wiring portion as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-4042 (Patent Document 1). Is possible and is a very efficient method. Further, by using a continuous exposure apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-225884 (Patent Document 2) and a processing apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-190535 (Patent Document 3), a roll shape is obtained. An electrode pattern sheet is formed by a so-called roll-to-roll manufacturing method in which a large number of image units having a conductive pattern and a peripheral wiring portion are formed on a wound long support and then wound into a roll. This is a production method with excellent productivity. Japanese Patent Laid-Open No. 2006-352073 (Patent Document 4) discloses a method of using a silver salt photographic light-sensitive material as a conductive material precursor, which is conductive by a chemical development method different from the silver complex diffusion transfer method described above. A manufacturing apparatus capable of forming a pattern is described. The manufacturing apparatus performs various processes in the exposure process, development process / fixing process, washing process, and plating process on a photosensitive web obtained by winding a silver salt photographic photosensitive material from a long silver salt photographic photosensitive material roll. It is possible to take up the roll again.
しかしながら、長尺の支持体上に導通パターンと周辺配線部を有する画像単位を大量に製造する際、断線などに起因する歩留まりの低下が生じる場合があり、改善が求められていた。 However, when manufacturing a large number of image units having a conductive pattern and a peripheral wiring portion on a long support, the yield may be reduced due to disconnection or the like, and improvement has been demanded.
一方、特開２００１−０８４８４２号公報（特許文献５）、および特開２００１−２０８４４７号公報（特許文献６）等には、プリント回路基板とリードレスチップキャリアー、液晶パネルなどとの相互間の電気的な接続を達成するためのコネクターとして利用される異方導電性エラストマーシート（厚み方向に導電性を有し、面方向では絶縁性を有するシート）が帯電した際、除電ブラシなどを用いて該シートの除電作業を行うことが記載される。しかしながら除電ブラシによっては、電極パターンシートの表面に傷が生じる場合があり、歩留まりが低下する場合があった。 On the other hand, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-084842 (Patent Document 5) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-208447 (Patent Document 6), etc., there is an electrical connection between a printed circuit board and a leadless chip carrier, a liquid crystal panel, When an anisotropic conductive elastomer sheet (a sheet having conductivity in the thickness direction and insulation in the surface direction) used as a connector for achieving a general connection is charged, it is It is described that the sheet is neutralized. However, depending on the static elimination brush, the surface of the electrode pattern sheet may be damaged, and the yield may be reduced.
本発明の目的は、歩留まりの低下が改善された電極パターンシートの製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an electrode pattern sheet manufacturing method with improved yield reduction.
本発明の上記課題は以下の発明によって達成される。
（１）長尺の支持体上に、銀を主体とする金属からなる導通パターンと該導通パターンと接続した周辺配線部を有する画像単位と、隣り合う画像単位を接続不能とする非導電部からなる繰り返し単位を、支持体の長尺方向に対して複数個有する電極パターンシートの製造方法であって、該画像単位の厚みが５００ｎｍ以下であり、支持体上に画像単位が形成された後に乾燥状態で搬送される際、直径が１５０μｍ以下の繊維状金属を有する除電ブラシを該画像単位を有さない側の支持体表面に接触させることを特徴とする電極パターンシートの製造方法。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
(1) From an image unit having a conductive pattern mainly composed of silver and a peripheral wiring portion connected to the conductive pattern on a long support, and a non-conductive portion that makes it impossible to connect adjacent image units. The electrode pattern sheet having a plurality of repeating units in the longitudinal direction of the support, wherein the image unit has a thickness of 500 nm or less and is dried after the image unit is formed on the support. A method for producing an electrode pattern sheet, comprising: bringing a neutralizing brush having a fibrous metal having a diameter of 150 μm or less into contact with a support surface on the side not having the image unit when conveyed in a state.
本発明により、歩留まりの低下が改善された電極パターンシートの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing an electrode pattern sheet with improved yield reduction.
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の電極パターンシートは、銀を主体とする金属からなる導通パターンと該導通パターンと接続した周辺配線部を有する画像単位と、隣り合う画像単位を接続不能とする非導電部からなる繰り返し単位を、支持体の長尺方向に対して複数個有する。このような画像単位は、長尺の電極パターンシートから必要部分のみが打ち抜かれ、例えば、抵抗膜式タッチパネルや静電容量方式タッチパネルで使用される透明電極パターンとして使用される。図１は複数の導通パターンと、それに接続した複数の周辺配線部を有する画像単位の一例である。図１において画像単位ｆは、導通パターンａを複数個（図中では７個）有し、隣接する導通パターン間には導通はない。個々の導通パターンａは周辺配線部ｂに接続されており、隣接する周辺配線部間に導通はない。
The present invention is described in detail below.
The electrode pattern sheet of the present invention is a repeating unit comprising a conductive pattern made of a metal mainly composed of silver and an image unit having a peripheral wiring portion connected to the conductive pattern, and a non-conductive portion that makes it impossible to connect adjacent image units. Are provided in a plurality in the longitudinal direction of the support. In such an image unit, only a necessary portion is punched from a long electrode pattern sheet, and is used as a transparent electrode pattern used in, for example, a resistive touch panel or a capacitive touch panel. FIG. 1 is an example of an image unit having a plurality of conductive patterns and a plurality of peripheral wiring portions connected thereto. In FIG. 1, the image unit f has a plurality of conductive patterns a (seven in the drawing), and there is no electrical connection between adjacent conductive patterns. Each conduction pattern a is connected to the peripheral wiring part b, and there is no conduction between adjacent peripheral wiring parts.
本発明において導通パターンａは、銀を主体とする金属からなる。ここで主体とは、導通パターンを構成する金属に占める銀の割合が、５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上である。銀は金属の中で最も導電性が高いため、上記範囲とすることで良好な導電性が得られる。 In the present invention, the conductive pattern a is made of a metal mainly composed of silver. Here, the main component means that the proportion of silver in the metal constituting the conductive pattern is 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more. Since silver has the highest conductivity among metals, good conductivity can be obtained by setting the above range.
導通パターンａは金属メッシュパターンを有する導通パターンであることが好ましく、該金属メッシュパターンの形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形等の（正）ｎ角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも正方形もしくは菱形であることが好ましい。また導通パターンは、線幅が２０μｍ以下の金属メッシュパターンを有することが好ましく、より好ましくは１０μｍ以下である。金属メッシュパターンの線幅は、得られる電極パターンシートの光透過性の観点からより狭いことが望ましい。 The conductive pattern a is preferably a conductive pattern having a metal mesh pattern. Examples of the shape of the metal mesh pattern include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, Examples include trapezoidal squares, (positive) hexagons, (positive) octagons, (positive) dodecagons, (positive) dodecagons, (positive) n-gons, and combinations of stars, etc. A single repetition of these shapes, or a combination of two or more shapes. Of these, a square or rhombus is preferable. Moreover, it is preferable that a conduction | electrical_connection pattern has a metal mesh pattern whose line | wire width is 20 micrometers or less, More preferably, it is 10 micrometers or less. The line width of the metal mesh pattern is desirably narrower from the viewpoint of light transmittance of the obtained electrode pattern sheet.
周辺配線部ｂは複数の導通パターンａにおいて感知された電気信号を外部に取り出すための配線であり、通常このような配線はディスプレイ上にて目立たなくすることを目的に、また表示装置に対するディスプレイ部の割合を高めるため、可能な限りディスプレイの枠部分に集中するように配置される。周辺配線部のラインアンドスペースとしては、１００μｍ／１００μｍ以下が好ましく、７５μｍ／７５μｍ以下がより好ましく、更には５０μｍ／５０μｍ以下がより好ましい。また本発明において上記の通り規定した周辺配線部のラインアンドスペースは、前記した画像単位が有する周辺配線部において、該配線が最も密に存在している箇所（例えば図１でマルで囲った箇所など）におけるラインアンドスペースである。なお上述の通り、表示装置に対するディスプレイ部の割合を高める観点から、周辺配線部のラインアンドスペースを狭くすることが好ましい。 The peripheral wiring part b is a wiring for taking out an electrical signal sensed in the plurality of conductive patterns a. Usually, such a wiring is made inconspicuous on the display, and the display part for the display device. In order to increase the ratio of the display, it is arranged so as to concentrate on the frame portion of the display as much as possible. The line and space of the peripheral wiring part is preferably 100 μm / 100 μm or less, more preferably 75 μm / 75 μm or less, and even more preferably 50 μm / 50 μm or less. Further, the line and space of the peripheral wiring portion defined as described above in the present invention is a portion where the wiring is present most densely in the peripheral wiring portion included in the image unit (for example, a portion surrounded by a circle in FIG. 1). Etc.). As described above, it is preferable to narrow the line and space of the peripheral wiring portion from the viewpoint of increasing the ratio of the display portion to the display device.
本発明において、画像単位部の厚みは５００ｎｍ以下であり、好ましくは３５０ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。支持体上に、このような厚みの画像単位を設けた場合、該画像単位を有する電極パターンシートを他の基材と貼合する際、電極パターンシートと粘着層との間に空気が入りにくく、より優れた密着性が得られる。しかしその一方で長尺の支持体上に該画像単位を大量に有する電極パターンを製造する際に、断線などに起因する歩留まりの低下が生じやすくなる。従って本発明はこのような課題を、直径が１５０μｍ以下の繊維金属を有する除電ブラシを該画像単位を有さない側の支持体表面に接触させることで改善出来ることを見出したものである。 In the present invention, the thickness of the image unit is 500 nm or less, preferably 350 nm or less, more preferably 200 nm or less. When an image unit having such a thickness is provided on the support, when the electrode pattern sheet having the image unit is bonded to another substrate, it is difficult for air to enter between the electrode pattern sheet and the adhesive layer. More excellent adhesion can be obtained. However, on the other hand, when an electrode pattern having a large amount of the image unit is produced on a long support, the yield is likely to decrease due to disconnection or the like. Accordingly, the present invention has found that such a problem can be improved by bringing a neutralizing brush having a fiber metal having a diameter of 150 μm or less into contact with the support surface on the side having no image unit.
本発明の電極パターンシートは、前記した長尺の支持体上に導通パターンと周辺配線部を有する画像単位を有し、また該画像単位間には、画像単位間で導通を生じさせず、かつ該画像単位の必要部分のみが打ち抜かれるために必要なスペースとして作用する、非導電部が設けられる。そして本発明ではこの画像単位と非導電部を合わせたものを、繰り返し単位と呼称し、本発明の電極パターンシートは、この繰り返し単位を、支持体の長尺方向に対して複数個有する。 The electrode pattern sheet of the present invention has an image unit having a conductive pattern and a peripheral wiring portion on the long support described above, and does not cause conduction between the image units between the image units, and A non-conductive portion is provided which acts as a space necessary for punching out only a necessary portion of the image unit. And in this invention, what united this image unit and the nonelectroconductive part is called a repeating unit, and the electrode pattern sheet | seat of this invention has multiple this repeating unit with respect to the elongate direction of a support body.
上記した導通パターンａおよび周辺配線部ｂの形成方法としては、印刷方式、フォトリソグラフィー方式、銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法などを用いることができる。印刷方式としては、特開２００８−１１７６５６号公報に開示されたような、主に銀微粒子を含有するインクを用い、インクジェット方式等の手段によって印刷した後、導電性を付与するために焼成する方法や、国際公開第０４／３９１３８号パンフレットに開示されたような、無電解めっき触媒を含有する樹脂塗料等を印刷した後、無電解銀めっきを施して導通パターンを付与する方法等を用いることができる。 As a method for forming the conductive pattern a and the peripheral wiring portion b, a printing method, a photolithography method, a method using a silver salt photographic photosensitive material as a conductive material precursor, or the like can be used. As a printing method, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-117656, a method mainly using ink containing silver fine particles, printing by means such as an ink jet method, and then baking to impart conductivity. Or a method of printing a resin paint containing an electroless plating catalyst, etc., as disclosed in International Publication No. 04/39138, and then applying electroless silver plating to give a conductive pattern. it can.
フォトリソグラフィー方式には、均一な金属銀層を有する支持体上にフォトレジストを塗布し、露光、現像後、レジストが剥離された金属銀層をエッチング除去し導電性パターンを得るサブトラクティブ方式をとるものを用いることができる。 The photolithographic method is a subtractive method in which a photoresist is coated on a support having a uniform metal silver layer, and after exposure and development, the metal silver layer from which the resist has been peeled is removed by etching to obtain a conductive pattern. Things can be used.
銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法としては、国際公開第０４／００７８１０号パンフレット、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報や特開２００７−１８８６５５号公報に開示されたような銀塩拡散転写方式を用いたものおよび国際公開第２００１／５１２７６号パンフレットや特開２００４−２２１５６４号公報に開示されたような化学現像銀を利用するものを用いることができる。 As a method of using a silver salt photographic light-sensitive material as a conductive material precursor, International Publication No. 04/007810, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-77350, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-250169, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-188655. Those using a silver salt diffusion transfer system as disclosed, and those utilizing chemically developed silver as disclosed in International Publication No. 2001/512276 pamphlet and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221564 can be used.
化学現像銀を用いる方式は、露光された部位のハロゲン化銀が現像液中に存在する現像主薬によって還元されてできる化学現像銀を触媒核として、無電解めっきを施すことによって導通パターンを作製するものである。 In the method using chemically developed silver, a conductive pattern is produced by performing electroless plating using chemically developed silver, which is formed by reducing silver halide in the exposed portion by a developing agent present in the developer, as a catalyst nucleus. Is.
上記した中でも銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法は、より高精細な導通パターンおよび周辺配線部が形成可能であり、好ましい。 Among the methods described above, the method using a silver salt photographic light-sensitive material as a conductive material precursor is preferable because a higher-definition conductive pattern and a peripheral wiring portion can be formed.
本発明では、支持体上に画像単位が形成された後に乾燥状態で搬送される際、直径が１５０μｍ以下の繊維状金属を有する除電ブラシを、該画像単位を有さない側の支持体表面に接触させる。以下に、銀塩拡散転写方式を利用した製造方法を例に挙げ、除電ブラシを接触させる時期について説明する。 In the present invention, when the image unit is formed on the support and then conveyed in a dry state, the neutralizing brush having a fibrous metal having a diameter of 150 μm or less is applied to the surface of the support that does not have the image unit. Make contact. Hereinafter, the manufacturing method using the silver salt diffusion transfer method will be described as an example, and the timing for contacting the static eliminating brush will be described.
図２は、本発明の除電ブラシを、銀塩拡散転写方式を利用した電極パターンシートの製造方法に適用した例を示す概略図である。 FIG. 2 is a schematic view showing an example in which the static elimination brush of the present invention is applied to an electrode pattern sheet manufacturing method using a silver salt diffusion transfer system.
図２において、銀塩拡散転写方式にて利用される導電性材料前駆体を、例えば特開２００７−２２５８８４号公報に記載された連続露光装置にて露光して巻き取った露光済み前駆体ロール２１は、巻き出し軸１に装着され、矢印の方向に連続的に搬送される。露光済み前駆体ロール２１は、内巻き（乳剤層側面を内側にして巻き取られている）になっている。露光済み前駆体ロール２１の搬送は、主に巻き取り軸１１の駆動回転によって行われ、巻き出し軸１は図示しない回転制御手段（例えば、パウダーブレーキ）で回転が制御されている。露光済み前駆体ロール２１の最上巻きと最下巻きには、処理装置の搬送経路の全長に相当する長さのリードフィルムが設けられており、前駆体の製品部分は常に搬送速度及びテンションが制御された状態で搬送されるようになっている。
In FIG. 2, an exposed precursor roll 21 in which a conductive material precursor used in the silver salt diffusion transfer system is exposed and wound by a continuous exposure apparatus described in, for example, JP-A-2007-225884. Is mounted on the unwinding shaft 1 and continuously conveyed in the direction of the arrow. The exposed precursor roll 21 is internally wound (wound with the emulsion layer side face inside). The exposed precursor roll 21 is conveyed mainly by driving rotation of the winding
露光済みの前駆体が搬送されて現像槽３に入る前に、該前駆体は反転ローラ２で搬送方向が反転される。この反転ローラ２と後述の反転ローラ４によって、現像槽中で乳剤層側面は非接触の状態で搬送される。現像槽３は、図に示すように縦長で薄型の槽が好ましく、槽内の下部に設けられている反転ローラ４で前駆体の裏面を支持しながら搬送方向を反転させることによって、小さい設置スペースで現像時間（現像液に浸漬している時間）を稼ぐことができる。
Before the exposed precursor is transported and enters the developing
現像槽３の容量は、３０〜５０リットル程度が適当である。現像槽３には現像液１２がほぼ満杯に貯留されており、現像処理によって消費された現像液は、図示しない補充装置で補充されるようになっている。本発明において、現像開始時点とは、現像槽３の現像液１２に前駆体が浸入した時点である。従って、反転ローラ２が現像開始前に接触する最後の固体物（ローラ）であり、後述する絞りローラ対７までは、露光済み前駆体の乳剤層側面は非接触で搬送される。
The capacity of the developing
現像槽３から搬出された前駆体は、空中現像部１４で引き続き現像され、水洗処理部５に搬送される。ここで、物理現像核層の上の層（ハロゲン化銀乳剤層及び必要に応じて設けられる中間層や保護層等）は水洗除去されて、物理現像核上に析出した金属銀が露出する。水洗処理は、シャワーノズル６から噴出された温水で行われる。導電性材料前駆体の裏面側にもシャワーノズル６が設けられており、裏塗り層を水洗除去するようになっている。
The precursor carried out from the developing
水洗処理部５から搬出された前駆体（この段階で、前駆体は支持体上に画像単位が形成された形態になっているが、説明するための便宜上、これ以降も前駆体と称す）はリンス部８に搬送され、ここでは前工程で完全に除去しきれなかった現像液成分や乳剤層成分が除去される。リンス部８には、シャワーノズル９が設けられており、水を噴出させて前駆体の両面がリンスされる。ここで用いられる水は、イオン交換処理された純水が好ましい。 The precursor carried out from the water-washing treatment unit 5 (at this stage, the precursor is in a form in which an image unit is formed on the support, but for the sake of convenience, it will be referred to as a precursor hereinafter). The developer components and emulsion layer components that have been transported to the rinsing unit 8 and could not be completely removed in the previous step are removed here. The rinsing section 8 is provided with a shower nozzle 9, and both surfaces of the precursor are rinsed by ejecting water. The water used here is preferably ion-exchanged pure water.
水洗処理部５からリンス部８へ搬送される過程に、絞りローラ対７が設けられている。この絞りローラ対７は、リンス効果を高めるためのものであり、水洗処理部で除去しきれなかった残留物を物理的に除去する役目を有する。絞りローラ対７は、現像処理を開始してから初めて乳剤層側面に接触する固体物（ローラ）である。水洗処理を更に充実させてリンス部へ持ち込まれる残留物がほとんどない場合は、水洗処理で使用された水がリンス部に混入しないようにする手段（例えば、水洗処理部とリンス部との間にエアーナイフを設置するなど）を、絞りローラ対７に代えて用いてもよい。
A pair of squeezing rollers 7 is provided in the process of being conveyed from the water
リンス部８の絞りローラ対１３を経て搬出された該前駆体は、乾燥部（ドライヤー）１０で乾燥され、巻き取り軸１１でロール状に巻き取られる。よってこの乾燥部１０以降が、支持体上に画像単位が形成された後であって、乾燥状態で搬送される時期となる。図２では、前駆体がこの乾燥部１０を出た後であって、巻き取り軸１１に該前駆体が巻き取られるまでの間に、該前駆体の画像単位を有さない側の面に、除電ブラシｇを接触させている。なお図示していないが、巻き取り軸１１には、該軸を駆動回転するための手段（例えば、モータ）が取り付けられており、本処理装置では唯一駆動回転するように設計されている。符号２２は、画像単位が形成された電極パターンシートがロール状に巻き取られたものである。
The precursor carried out through the squeezing
本発明の電極パターンシートが有する長尺の支持体とは、好ましくは支持体の長さ方向が少なくとも５ｍ以上、より好ましくは１０ｍ以上であることが好ましい。また長尺の支持体の幅としては、３００ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５００ｍｍ以上である。またこれら支持体は全光線透過率が６０％以上であるものが好ましい。長尺の支持体はフレキシブル性を有する樹脂フィルムであることが好ましく、該支持体は取扱い性が優れている点で好適に用いられる。本発明において長尺の支持体として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等が例示され、厚さ５０〜３００μｍの樹脂フィルムが好ましい。 The long support provided in the electrode pattern sheet of the present invention preferably has a length direction of the support of at least 5 m or more, more preferably 10 m or more. In addition, the width of the long support is preferably 300 mm or more, and more preferably 500 mm or more. These supports preferably have a total light transmittance of 60% or more. The long support is preferably a flexible resin film, and the support is preferably used because it is excellent in handleability. Specific examples of the resin film used as a long support in the present invention include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluororesins, silicone resins, and polycarbonates. Resin, diacetate resin, triacetate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, etc., and a resin having a thickness of 50 to 300 μm A film is preferred.
本発明の電極パターンシートには、各画像単位における導電性のフレを解消する目的で、例えば特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体にて処理を施しても良い。また経時による導電性の低下を改善する目的で、例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような、銀パターンのＸ線回折法での２θ＝３８．２°のピークの半値幅が０．４１以下とする後処理（以下、後処理と称する）を施しても良い。またこれら処理を施す前、あるいは施した後であって、乾燥状態で電極パターンシートが搬送される時期であれば、本発明の除電ブラシは有効に作用する。 The electrode pattern sheet of the present invention has a triazine having two or more mercapto groups in the molecule as described in, for example, JP-A-2013-196679, for the purpose of eliminating conductive fluctuation in each image unit. Or you may process with the derivative (s). For the purpose of improving the decrease in conductivity over time, the half width of the peak at 2θ = 38.2 ° in the X-ray diffraction method of a silver pattern as described in, for example, JP-A-2008-34366 is You may perform the post-processing (henceforth post-processing) made into 0.41 or less. Further, before or after performing these treatments, the neutralizing brush of the present invention works effectively when the electrode pattern sheet is conveyed in a dry state.
次に本発明に用いる除電ブラシについて説明する。
本発明に用いる除電ブラシのブラシ部は、直径が１５０μｍ以下の繊維状金属を有する。かかる繊維状金属の材質としては、ステンレス鋼，鉄，銅，アルミニウム，タングステン，クロム，ニッケル，ニッケルクロム鋼，銀，鉛，錫，亜鉛及びこれらを含有する合金又はアモルファス金属等から選ばれ、特にステンレス鋼が適当な強度を有し非磁性体であることから好ましい。直径は接触面に傷を付けないと言う観点から１５０μｍ以下であることが必要であり、下限はブラシの耐摩耗性や接触圧力の観点から１０μｍであることが好ましい。このような繊維状金属を有する除電ブラシは、例えばアキレス（株）製のアキレスノンスパークＳタイプ（線径０．１ｍｍ）として市販されており、これを入手して使用することもできる。
Next, the static elimination brush used for this invention is demonstrated.
The brush part of the static elimination brush used for this invention has a fibrous metal whose diameter is 150 micrometers or less. The material of the fibrous metal is selected from stainless steel, iron, copper, aluminum, tungsten, chromium, nickel, nickel-chromium steel, silver, lead, tin, zinc, alloys containing these, or amorphous metals. Stainless steel is preferable because it has a suitable strength and is a non-magnetic material. The diameter needs to be 150 μm or less from the viewpoint of not scratching the contact surface, and the lower limit is preferably 10 μm from the viewpoint of brush wear resistance and contact pressure. Such a neutralizing brush having a fibrous metal is commercially available, for example, as an Achilles Non Spark S type (wire diameter: 0.1 mm) manufactured by Achilles Co., Ltd., and can be obtained and used.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、無論この記述により本発明が制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but it is needless to say that the present invention is not limited by this description.
（実施例１）
長尺の支持体として、幅が５００ｍｍ、長さが７０ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（塩化ビニリデンを含有する層により易接着加工が施された、厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、全光線透過率は９０％）を用いた。物理現像核層を塗布する前に、このフィルムにゼラチンを５００ｍｇ／ｍ２含有する下引き層を塗布、乾燥し、一旦ロール状に巻き取った。
Example 1
As a long support, a polyethylene terephthalate film having a width of 500 mm and a length of 70 m (a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm that has been subjected to an easy-adhesion process using a layer containing vinylidene chloride, and has a total light transmittance of 90%. ) Was used. Before the physical development nucleus layer was applied, an undercoat layer containing 500 mg / m 2 of gelatin was applied to the film, dried, and once wound into a roll.
次に、硫化パラジウムゾル液を下記のようにして作製し、得られたゾルを用いて物理現像核液を作製した。 Next, a palladium sulfide sol solution was prepared as follows, and a physical development nucleus solution was prepared using the obtained sol.
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液 塩化パラジウム ５ｇ
塩酸 ４０ｍＬ
蒸留水 １０００ｍＬ
Ｂ液 硫化ソーダ ８．６ｇ
蒸留水 １０００ｍＬ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Liquid A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40mL
Distilled water 1000mL
B liquid sodium sulfide 8.6g
Distilled water 1000mL
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and 30 minutes later, the solution was passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain palladium sulfide sol.
＜物理現像核液組成／１ｍ２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル ０．４ｍｇ
２質量％のグルタルアルデヒド溶液 ０．０８ｍＬ
１０質量％ＳＰ−２００水溶液 ０．５ｍｇ
（日本触媒（株）製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００）
<Physical development nuclei solution composition / 1 m 2 per>
The palladium sulfide sol 0.4mg
0.08 mL of 2% glutaraldehyde solution
10 mass% SP-200 aqueous solution 0.5 mg
(Nippon Shokubai Co., Ltd. polyethyleneimine; average molecular weight 10,000)
この物理現像核液を硫化パラジウムが固形分で０．４ｍｇ／ｍ２になるように、下引き層の上に塗布した。 This physical development nucleus solution was applied onto the undercoat layer so that palladium sulfide was 0.4 mg / m 2 in terms of solid content.
続いて、上記物理現像核層を塗布した側と反対側の面に下記組成の裏塗り層を塗布した。
＜裏塗り層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン ２ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径５μｍ） ２０ｍｇ
染料１ ２００ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ４００ｍｇ
Subsequently, a backing layer having the following composition was applied to the surface opposite to the side on which the physical development nucleus layer was applied.
<Undercoat layer composition / per 1 m 2 >
2g of gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 5μm) 20mg
Dye 1 200mg
Surfactant (S-1) 400mg
続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、及び最外層を上記物理現像核層の上に塗布し、ロール状に巻き取った。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。 Subsequently, an intermediate layer, a silver halide emulsion layer, and an outermost layer having the following composition were coated on the physical development nucleus layer in order from the side closer to the support and wound into a roll. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide, and an average grain size of 0.15 μm. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.
＜中間層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ５ｍｇ
<Intermediate layer composition / per 1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Surfactant (S-1) 5mg
＜ハロゲン化銀乳剤層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン １．０ｇ
ハロゲン化銀乳剤 ６．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ３．０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ２０ｍｇ
<Silver halide emulsion layer composition / 1m 2 per>
Gelatin 1.0g
Silver halide emulsion 6.0g silver equivalent 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 3.0mg
Surfactant (S-1) 20mg
＜最外層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ） １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） １０ｍｇ
<Outermost layer composition / per 1 m 2 >
1g of gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5μm) 10mg
Surfactant (S-1) 10mg
このようにして得たロール状の導電性材料前駆体を、特開２００７−２２５８８４号公報に記載の連続露光機で露光した。露光光源は三菱電機照明株式会社製直管蛍光ランプＦＬ４０ＳＤを用いた。図１に示す本発明の画像単位（電極パターン）の透過原稿を透明円筒体の外周面に巻き付けた。ただし画像単位が有する導通パターンａおよび周辺配線部ｂの本数はそれぞれ４０本である。 The roll-shaped conductive material precursor thus obtained was exposed by a continuous exposure machine described in JP-A-2007-225884. As the exposure light source, a straight tube fluorescent lamp FL40SD manufactured by Mitsubishi Electric Lighting Co., Ltd. was used. The transparent original of the image unit (electrode pattern) of the present invention shown in FIG. 1 was wound around the outer peripheral surface of the transparent cylindrical body. However, the number of conductive patterns a and peripheral wiring portions b included in the image unit is 40 each.
図１に示す画像単位の透過原稿において、導通パターンａは、線幅７μｍ、細線間隔３００μｍの正方形の金属メッシュパターンを有し、周辺配線部ｂは図中マルで示した配線が最も密に存在している箇所におけるラインアンドスペースが５０μｍ／５０μｍの細線からなる。 1, the conductive pattern a has a square metal mesh pattern with a line width of 7 μm and a fine line interval of 300 μm, and the wiring indicated by the circles in the drawing is most densely present. The line and space in the part which has done is comprised of a thin line of 50 micrometers / 50 micrometers.
本発明の画像単位の導電部となるメッシュパターンの細線幅が透過原稿のメッシュパターン部の細線幅と同じになる露光量となるように連続露光機のラインスピードを調整し、本発明の画像単位が１００個得られるように連続露光し、一旦巻き取った。 The line speed of the continuous exposure machine is adjusted so that the fine line width of the mesh pattern serving as the conductive portion of the image unit of the present invention is the same as the fine line width of the mesh pattern portion of the transparent original, and the image unit of the present invention is adjusted. Were continuously exposed to obtain 100 pieces and wound up once.
その後、露光した導電性材料前駆体を、図２に記載した処理装置で処理した。現像槽３に２０℃の下記組成の拡散転写現像液を満たし、現像液に６０秒間浸漬するように処理装置のラインスピードを調整した。水洗処理部５、リンス部８では、シャワーノズルから４０℃の水を噴出させ、ハロゲン化銀乳剤層、中間層、最外層および裏塗り層を水洗除去し、乾燥部１０にて乾燥処理した。なお図２に示したように、除電ブラシｇは、乾燥部１０を出た後であって巻き取り軸１１に巻き取られるまでの間の位置に、該前駆体の画像単位を有さない側の面に６００ｍｍ幅の除電ブラシｇが接触するように設置した。用いた除電ブラシｇは、ブラシ部に直径１００μｍ、長さ２０ｍｍのステンレス繊維を有する。
Thereafter, the exposed conductive material precursor was processed by the processing apparatus described in FIG. The developing
なお、得られた画像単位は、図１に示す画像単位の透過原稿のメッシュパターン部の細線幅を再現していた。また画像単位間の距離（非導電部の長さ）は２００ｍｍである。また得られた画像単位の厚みは１５０ｎｍであった。このようにして、支持体上に１００組の繰り返し単位を有する、実施例１の電極パターンシートを得た。 Note that the obtained image unit reproduces the fine line width of the mesh pattern portion of the transparent original of the image unit shown in FIG. The distance between the image units (the length of the nonconductive portion) is 200 mm. The thickness of the obtained image unit was 150 nm. In this way, an electrode pattern sheet of Example 1 having 100 sets of repeating units on the support was obtained.
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム ４０ｇ
ハイドロキノン ２８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ３ｇ
亜硫酸カリウム １２５ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン ２４ｇ
臭化カリウム ２ｇ
全量を水で１０００ｍＬとする。
ｐＨ＝１２．２に調整する。
<Diffusion transfer developer composition>
Potassium hydroxide 40g
Hydroquinone 28g
1-phenyl-3-pyrazolidone 3g
125g potassium sulfite
24g of N-methylethanolamine
Potassium bromide 2g
Bring the total volume to 1000 mL with water.
Adjust to pH = 12.2.
＜比較例１＞
除電ブラシｇのブラシ部の先端が、画像単位を有さない側の支持体表面に接触しないように、５ｍｍの距離を設け設置した以外は実施例１と同様にして、比較例１の電極パターンシートを得た。
<Comparative Example 1>
The electrode pattern of Comparative Example 1 was the same as Example 1 except that the tip of the brush portion of the static elimination brush g was installed with a distance of 5 mm so as not to contact the surface of the support having no image unit. A sheet was obtained.
＜比較例２＞
除電ブラシｇのブラシ部が、支持体上に画像単位が形成された側の面に接触するように設置した以外は、実施例１と同様にして、比較例２の電極パターンシートを得た。
<Comparative Example 2>
An electrode pattern sheet of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the brush part of the static elimination brush g was placed so as to be in contact with the surface on which the image unit was formed on the support.
＜比較例３＞
直径２００μｍ、長さ２０ｍｍのステンレス繊維をブラシ部に有する除電ブラシに変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例３の電極パターンシートを得た。
<Comparative Example 3>
An electrode pattern sheet of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the brush was replaced with a neutralizing brush having a stainless fiber having a diameter of 200 μm and a length of 20 mm in the brush part.
＜比較例４＞
除電ブラシｇの代わりにイオナイザー（（株）コガネイ ＤＴＹ−ＢＡ１１−６００）を用い、画像単位を有さない側の支持体面に、１００ｍｍの距離を設け設置し、利用した以外は、実施例１と同様にして、比較例４の電極パターンシートを得た。
<Comparative Example 4>
Example 1 except that an ionizer (Coganei DTY-BA11-600) was used instead of the static elimination brush g, and a distance of 100 mm was provided and used on the support surface on the side having no image unit. Similarly, an electrode pattern sheet of Comparative Example 4 was obtained.
＜歩留まりの評価＞
上記のようにして得られた実施例１および比較例１〜４の電極パターンシートを、画像単位ごとに裁断し、それぞれ１００枚のシートとした。その後、それぞれの画像単位が有する、導通があるべき対応する電極端子間の電気抵抗を、テスターを用いて測定した（図１のｂ部）。得られた画像単位１００個それぞれについて測定し、全ての電極端子間で導通が得られたものを合格とし、１箇所以上導通が得られなかったものを不合格とした。また、合格したシートの表面（画像単位が形成された側の表面と、画像単位が形成されていない側の表面）を、白色光を照射しながら目視で観察し、表面傷が認められたシートは合格した枚数から除外した。そして歩留まりの評価として、このようにして求めた良品枚数を表１に示した。
<Evaluation of yield>
The electrode pattern sheets of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 obtained as described above were cut for each image unit to obtain 100 sheets. Then, the electrical resistance between the corresponding electrode terminals which should have conduction | electrical_connection which each image unit has was measured using the tester (b section of FIG. 1). Measurement was performed for each of the 100 obtained image units, and a case where continuity was obtained between all electrode terminals was accepted, and a case where continuity was not obtained at one or more locations was rejected. Also, the surface of the passed sheet (the surface on the side where the image unit is formed and the surface on the side where the image unit is not formed) is visually observed while irradiating with white light, and the surface scratch is recognized. Was excluded from the number of passes. Table 1 shows the number of non-defective products obtained in this way as a yield evaluation.
表１の結果から、本発明によって歩留まりの低下が改善された電極パターンシートの製造方法が得られることが判る。 From the results shown in Table 1, it can be seen that the present invention can provide a method for producing an electrode pattern sheet with improved yield reduction.
ａ．導通パターン
ｂ．周辺配線部
ｆ．画像単位
ｇ．除電ブラシ
３．現像槽
５．水洗処理部
８．リンス部
１０．乾燥部
a. Conductive pattern b. Peripheral wiring part f. Image unit g. 2. Static elimination
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170113137A (en) | 2016-03-30 | 2017-10-12 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | Optically transparent electrode laminate |
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2014
- 2014-01-14 JP JP2014004125A patent/JP2015133239A/en active Pending
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