JP2015110699A - Floor glazing agent composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、床用艶出し剤組成物に関する。詳細には本発明は、優れた抗アレルゲン性及び耐久性を有する被膜を形成するための床用艶出し剤組成物に関する。 The present invention relates to a floor polish composition. Specifically, the present invention relates to a floor polish composition for forming a coating having excellent antiallergenicity and durability.
近年、ダニの***物やその死骸、スギ花粉などに含まれるアレルゲンが原因で引き起こされる喘息やアレルギーが問題となっている。アレルゲンとは、主として人の抗体と特異的に反応するタンパク質及び糖タンパク質をいう。このような問題に伴い、住環境が健康に及ぼす影響への関心が高まり、室内のアレルゲンへの対応がインテリア及び建材メーカーにとっての大きな課題となっている。 In recent years, asthma and allergies caused by allergens contained in mite excrement, carcasses thereof, and cedar pollen have become a problem. Allergens mainly refer to proteins and glycoproteins that react specifically with human antibodies. Along with such problems, interest in the impact of the living environment on health has increased, and the response to indoor allergens has become a major issue for interior and building material manufacturers.
この中でも特にアレルゲン物質の沈降が多い床への対策が必要となっている。そこで、有機系のアレルゲン吸着剤や不活性化材などが開発及び上市され、床材として提供されている。しかし、これらの有機系材料は、反応サイトの失活及び温度・光によるブリードや分解などの問題を抱えている。 Among these, it is necessary to take measures against a bed where allergen substances are often precipitated. Therefore, organic allergen adsorbents and inactivating materials have been developed and marketed and provided as flooring materials. However, these organic materials have problems such as deactivation of reaction sites and bleeding and decomposition due to temperature and light.
このような問題に鑑みて、アレルゲンを含む物質への対応として、光触媒材料の利用が期待されている。光触媒材料は、エネルギー源として低コストかつ環境負荷が非常に小さい光を利用して、有機物や窒素酸化物等の一部無機物を、酸化・分解する活性を発現する。そのため、近年、環境浄化、脱臭、防汚及び殺菌などへの応用が進められており、アレルゲンを変性・分解して不活性化させることも期待できる。 In view of such a problem, use of a photocatalytic material is expected as a measure for a substance containing an allergen. The photocatalytic material exhibits an activity of oxidizing and decomposing some inorganic substances such as organic substances and nitrogen oxides using light as an energy source at a low cost and a very low environmental load. Therefore, in recent years, application to environmental purification, deodorization, antifouling, sterilization and the like has been promoted, and it can be expected that the allergen is denatured and decomposed to be inactivated.
光触媒材料としては、紫外線照射下で活性を発現する酸化チタンなどが広く知られている。ただ、住宅の内部で分解能を発現するには、可視光照射下で活性を発現する光触媒材料が必要であり、その研究・開発が進められている。例えば特許文献１では、酸化チタン結晶の酸素サイトの一部を窒素原子で置換した可視光活性を有する光触媒物質が開示されている。特許文献１の光触媒物質は、酸化チタン結晶の酸素サイトの一部を窒素原子で置換することで、酸化チタンのバンドギャップ内に新たな孤立準位を形成し、可視光活性を発現させるようにしたものである。孤立準位に存在する電子は、孤立準位と伝導帯との間のエネルギーギャップ以上のエネルギーを有する光子が当たると、酸化チタンの伝導帯に励起される。一方、孤立準位には正孔が生成する。そして、励起された電子及び正孔により、光触媒活性が発現する。 As a photocatalyst material, titanium oxide that exhibits activity under ultraviolet irradiation is widely known. However, in order to develop resolution inside a house, a photocatalytic material that exhibits activity under irradiation with visible light is required, and research and development are ongoing. For example, Patent Document 1 discloses a photocatalytic substance having visible light activity in which part of an oxygen site of a titanium oxide crystal is substituted with a nitrogen atom. In the photocatalytic substance of Patent Document 1, a part of the oxygen site of the titanium oxide crystal is replaced with a nitrogen atom so that a new isolated level is formed in the band gap of the titanium oxide and visible light activity is expressed. It is a thing. The electrons existing in the isolated level are excited to the conduction band of titanium oxide when a photon having an energy larger than the energy gap between the isolated level and the conduction band is hit. On the other hand, holes are generated in isolated levels. And the photocatalytic activity is expressed by the excited electrons and holes.
しかしながら、特許文献１のように酸化チタンのバンドギャップ内に形成された孤立準位は電位が小さく、可視光照射によって電子が励起した際に生成する正孔の酸化力は低い。また、孤立準位に生成した正孔は移動が制限されており、酸化対象となる基質との反応性は低い。このため、特許文献１の光触媒物質は、可視光活性を有するものの酸化分解活性が低いという問題があった。そのため、特許文献１の光触媒物質を用いて室内のアレルゲンを不活性化させようと試みても、不十分な結果しか得られないものであった。 However, the isolated level formed in the band gap of titanium oxide as in Patent Document 1 has a small potential, and the oxidizing power of holes generated when electrons are excited by irradiation with visible light is low. In addition, the movement of holes generated in isolated levels is limited, and the reactivity with the substrate to be oxidized is low. For this reason, although the photocatalyst substance of patent document 1 had visible light activity, there was a problem that oxidative decomposition activity was low. Therefore, even if it tried to inactivate an indoor allergen using the photocatalyst substance of patent document 1, only an inadequate result was obtained.
本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本発明の目的は、優れた抗アレルゲン性能を有しつつも高い耐久性を備えた床用艶出し剤組成物を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art. An object of the present invention is to provide a floor polish agent composition having excellent anti-allergen performance and high durability.
本発明の第１の態様に係る、抗アレルゲン性を有した床用艶出し剤組成物は、粒子内架橋を有するアクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョンと、エマルジョンの加熱残分１００質量部に対して１０〜８０質量部である銅化合物担持酸化チタンとを含有する。銅化合物担持酸化チタンは、アナターゼ型酸化チタンを５０ｍｏｌ％以上含有する酸化チタン粒子に銅化合物を担持してなる。そして、銅化合物の平均粒子径は０．５ｎｍ〜１０ｎｍである。また、酸化チタン粒子１００質量部に対して、銅化合物における銅イオンは０．１〜１０質量部である。 An anti-allergenic floor polish composition according to the first aspect of the present invention comprises an emulsion containing acrylic resin particles having intraparticle cross-linking, and 100 parts by mass of the heating residue of the emulsion. 10 to 80 parts by mass of the copper compound-supported titanium oxide. The copper compound-supported titanium oxide is formed by supporting a copper compound on titanium oxide particles containing 50 mol% or more of anatase-type titanium oxide. And the average particle diameter of a copper compound is 0.5 nm-10 nm. Moreover, the copper ion in a copper compound is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of titanium oxide particles.
本発明の第２の態様に係る床用艶出し剤組成物は、第１の態様に係る組成物において、銅化合物担持酸化チタンは、二価の銅化合物と、二価の銅化合物を担持する光半導体性の酸化チタン粒子とを含有する。そして、酸化チタン粒子は、価電子帯の電位が３Ｖ（ｖｓ．ＳＨＥ，ｐＨ＝０）以上である。 The floor polish agent composition according to the second aspect of the present invention is the composition according to the first aspect, wherein the copper compound-supported titanium oxide supports a divalent copper compound and a divalent copper compound. Containing photo-semiconductor titanium oxide particles. The titanium oxide particles have a valence band potential of 3 V (vs. SHE, pH = 0) or more.
本発明の床用艶出し剤組成物は、銅化合物担持酸化チタンを含有しているため、可視光の照射によって高いアレルゲン不活性化作用を示す。さらに、バインダー樹脂として、粒子内架橋を有するアクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョンを使用しているため、得られる被膜の耐久性を高めることが可能となる。 Since the polishing agent composition for floors of the present invention contains copper compound-supported titanium oxide, it exhibits a high allergen inactivating effect by irradiation with visible light. Furthermore, since an emulsion containing acrylic resin particles having intraparticle cross-linking is used as the binder resin, it is possible to enhance the durability of the resulting coating.
以下、本発明の実施形態に係る床用艶出し剤組成物について詳細に説明する。本実施形態に係る床用艶出し剤組成物は、粒子内架橋を有するアクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョンと、アナターゼ型酸化チタンに銅化合物を担持してなる銅化合物担持酸化チタンとを含有する。 Hereinafter, the floor polish agent composition according to the embodiment of the present invention will be described in detail. The floor polish agent composition according to the present embodiment contains an emulsion containing acrylic resin particles having intra-particle crosslinking, and a copper compound-supported titanium oxide obtained by supporting a copper compound on anatase-type titanium oxide. .
［アクリル樹脂エマルジョン］
本実施形態に係る床用艶出し剤組成物は、バインダー樹脂として、アクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョン、つまりアクリル樹脂エマルジョンを含有している。アクリル樹脂エマルジョンは、アクリル系樹脂粒子を水中に分散させ、乳化したものであり、乾燥することによりアクリル系樹脂粒子同士が融着し、被膜を形成する。
[Acrylic resin emulsion]
The floor polish agent composition according to this embodiment contains an emulsion containing acrylic resin particles, that is, an acrylic resin emulsion, as a binder resin. The acrylic resin emulsion is obtained by dispersing acrylic resin particles in water and emulsifying them. When dried, the acrylic resin particles are fused together to form a film.
そして、アクリル樹脂エマルジョン中のアクリル系樹脂粒子は、平均粒子径が８０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましい。アクリル系樹脂粒子の平均粒子径がこの範囲内であることにより、床用艶出し剤組成物の塗布後に略均一な被膜が得られ、さらに後述する光触媒粒子の分散性も高まるため、高い抗アレルゲン性能を得ることが可能となる。なお、アクリル系樹脂粒子の平均粒子径は、動的光散乱法で測定し、キュムラント解析法により得られる平均粒子径を採用する。 The acrylic resin particles in the acrylic resin emulsion preferably have an average particle size of 80 nm to 200 nm. When the average particle diameter of the acrylic resin particles is within this range, a substantially uniform film can be obtained after the application of the floor polish composition, and further, the dispersibility of the photocatalyst particles described later is also increased. Performance can be obtained. The average particle diameter of the acrylic resin particles is measured by a dynamic light scattering method, and the average particle diameter obtained by a cumulant analysis method is adopted.
このようなアクリル樹脂エマルジョンは、（ａ）重合性不飽和モノマー、（ｂ）界面活性剤、（ｃ）重合開始剤、（ｄ）水性媒体より調製されている。つまり、水性媒体に対し、水性媒体に難溶な重合性不飽和モノマーと界面活性剤とを混合し、さらに重合開始剤を加えて重合性不飽和モノマーを重合させることにより調製されている。なお、アクリル樹脂エマルジョンは、必要により（ｅ）任意成分を含有してもよい。 Such an acrylic resin emulsion is prepared from (a) a polymerizable unsaturated monomer, (b) a surfactant, (c) a polymerization initiator, and (d) an aqueous medium. That is, it is prepared by mixing a polymerizable unsaturated monomer that is hardly soluble in an aqueous medium and a surfactant in an aqueous medium, and then adding a polymerization initiator to polymerize the polymerizable unsaturated monomer. The acrylic resin emulsion may contain (e) an optional component as necessary.
（ａ）重合性不飽和モノマー
アクリル樹脂エマルジョンを調製する際には、アクリル系樹脂粒子を構成する重合性不飽和モノマーを使用する。重合性不飽和モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の炭素数１〜２４のアルキルエステル又はシクロアルキルエステル、アクリル酸又はメタクリル酸の炭素数２〜１８のアルコキシアルキルエステルを使用することができる。また、重合性不飽和モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の炭素数２〜８のヒドロキシアルキルエステルも使用することができる。
(A) Polymerizable unsaturated monomer When the acrylic resin emulsion is prepared, a polymerizable unsaturated monomer constituting the acrylic resin particles is used. As a polymerizable unsaturated monomer, C1-C24 alkyl ester or cycloalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid, C2-C18 alkoxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid can be used. Moreover, as a polymerizable unsaturated monomer, a C2-C8 hydroxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid can also be used.
アクリル酸又はメタクリル酸の炭素数１〜２４のアルキルエステル又はシクロアルキルエステルとしては、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピルを挙げることができる。また、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチルを挙げることができる。さらに、アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ステアリル、アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルを挙げることができる。 Examples of the alkyl ester or cycloalkyl ester having 1 to 24 carbon atoms of acrylic acid or methacrylic acid include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, i- (meth) acrylate i- Mention may be made of propyl. Moreover, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Mention may be made of n-octyl. Further examples include decyl acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate.
アクリル酸又はメタクリル酸の炭素数２〜１８のアルコキシアルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メトキシブチル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシブチル等を挙げることができる。 Examples of the C2-C18 alkoxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid include methoxybutyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxybutyl (meth) acrylate, and the like.
アクリル酸又はメタクリル酸の炭素数２〜８のヒドロキシアルキルエステルとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。 Examples of the C2-C8 hydroxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate.
アクリル樹脂エマルジョンを調製する際には、上述の重合性不飽和モノマーのほかに、ビニルエーテル、アルコキシシリル基含有モノマー、スチレン、メチルスチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、ブタジエン等の重合性不飽和モノマーを含有してもよい。ビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどを挙げることができる。また、アルコキシシリル基含有モノマーとしては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシランを挙げることができる。これらの重合性不飽和モノマーは一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。 When preparing an acrylic resin emulsion, in addition to the above polymerizable unsaturated monomer, it contains a polymerizable unsaturated monomer such as vinyl ether, alkoxysilyl group-containing monomer, styrene, methylstyrene, vinyl acetate, vinyl chloride, butadiene, etc. May be. Examples of the vinyl ether include ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether and the like. Examples of the alkoxysilyl group-containing monomer include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, and γ- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane. These polymerizable unsaturated monomers may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
（ｂ）界面活性剤
アクリル樹脂エマルジョンでは、界面活性剤を用いることで重合性不飽和モノマー及びアクリル系樹脂粒子を水中に分散させている。そのため、アクリル樹脂エマルジョンの調製の際には界面活性剤を使用する必要があり、特に重合性界面活性剤を使用することが好ましい。したがって、アクリル樹脂エマルジョンに含有される界面活性剤は、重合性界面活性剤のみからなってもよいが、重合性界面活性剤とそれ以外の界面活性剤とを組み合わせてもよい。
(B) Surfactant In the acrylic resin emulsion, the polymerizable unsaturated monomer and the acrylic resin particles are dispersed in water by using a surfactant. Therefore, it is necessary to use a surfactant when preparing the acrylic resin emulsion, and it is particularly preferable to use a polymerizable surfactant. Therefore, the surfactant contained in the acrylic resin emulsion may be composed only of the polymerizable surfactant, but may be a combination of the polymerizable surfactant and other surfactants.
界面活性剤の使用量は特に限定されないが、重合性不飽和モノマー１００質量部に対して２〜２０質量部とすることが好ましく、２〜１５質量部とすることがより好ましい。界面活性剤の使用量がこの範囲内の場合、重合性不飽和モノマーの重合安定性を損なうことなく重合反応を進行させることができ、凝集物の発生を抑えることもできる。 Although the usage-amount of surfactant is not specifically limited, It is preferable to set it as 2-20 mass parts with respect to 100 mass parts of polymerizable unsaturated monomers, and it is more preferable to set it as 2-15 mass parts. When the amount of the surfactant used is within this range, the polymerization reaction can proceed without impairing the polymerization stability of the polymerizable unsaturated monomer, and the generation of aggregates can also be suppressed.
（ｃ）重合開始剤
水性媒体中に混合した重合性不飽和モノマーを重合させ、アクリル系樹脂粒子を形成するために、重合開始剤を添加する必要がある。重合開始剤としては、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、過酸化水素水、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、アゾビスアミジノプロパンの塩酸塩等の水溶性型重合開始剤を挙げることができる。また、ベンゾイルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ジブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の油溶性型重合開始剤を挙げることができる。さらに、クミルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシオクトエート、アゾビスイソブチロニトリル等の油溶性型重合開始剤を挙げることができる。加えて、酸性亜硫酸ナトリウム、ロンガリット、Ｌ−アスコルビン酸、糖類、アミン類等の還元剤を併用したレドックス系重合開始剤も挙げることができる。
(C) Polymerization initiator In order to polymerize the polymerizable unsaturated monomer mixed in the aqueous medium to form acrylic resin particles, it is necessary to add a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include water-soluble polymerization initiators such as persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate, hydrogen peroxide, t-butyl hydroperoxide, and azobisamidinopropane hydrochloride. . Moreover, oil-soluble type polymerization initiators such as benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, dibutyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate and the like can be mentioned. Further, oil-soluble polymerization initiators such as cumyl peroxyneodecanoate, cumyl peroxyoctoate, and azobisisobutyronitrile can be listed. In addition, redox polymerization initiators that are used in combination with reducing agents such as acidic sodium sulfite, Rongalite, L-ascorbic acid, sugars, and amines can also be mentioned.
重合開始剤の使用量は特に限定されないが、乳化重合工程において存在する重合性不飽和モノマー１００質量部に対して０．０１〜３質量部とすることが好ましい。 Although the usage-amount of a polymerization initiator is not specifically limited, It is preferable to set it as 0.01-3 mass parts with respect to 100 mass parts of polymerizable unsaturated monomers which exist in an emulsion polymerization process.
（ｄ）水性媒体
アクリル樹脂エマルジョンにおいて、重合性不飽和モノマー及びアクリル系樹脂粒子を分散させる水性媒体として水を使用する。ここで、水としては、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水などの純水又は超純水が好ましく使用することができる。
(D) Aqueous medium Water is used as an aqueous medium in which the polymerizable unsaturated monomer and the acrylic resin particles are dispersed in the acrylic resin emulsion. Here, pure water or ultrapure water such as ion exchange water, ultrafiltration water, reverse osmosis water, or distilled water can be preferably used as the water.
（ｅ）任意成分
アクリル樹脂エマルジョンは、任意成分をさらに含有してもよい。このような任意成分としては、例えば、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、充填剤、可塑剤、顔料、滑剤、着色剤、増粘剤、帯電防止剤、消臭剤、ｐＨ調整剤、芳香剤などを挙げることができる。これらの任意成分は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
(E) Optional component The acrylic resin emulsion may further contain an optional component. Such optional components include, for example, ultraviolet absorbers, hindered amine light stabilizers, fillers, plasticizers, pigments, lubricants, colorants, thickeners, antistatic agents, deodorants, pH adjusters, aromatics. An agent etc. can be mentioned. These arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
ここで、アクリル樹脂エマルジョン中に含有されるアクリル系樹脂粒子は、粒子内架橋していることが好ましい。つまり、アクリル系樹脂粒子を構成する上記重合性不飽和モノマーが粒子内部において、架橋剤を介して互いに架橋していることが好ましい。アクリル系樹脂粒子が粒子内架橋していることにより、得られる被膜における耐光性などの耐久性を向上させることが可能となる。 Here, the acrylic resin particles contained in the acrylic resin emulsion are preferably cross-linked in the particles. That is, it is preferable that the polymerizable unsaturated monomers constituting the acrylic resin particles are cross-linked with each other through the cross-linking agent inside the particles. When the acrylic resin particles are cross-linked in the particles, it is possible to improve durability such as light resistance in the obtained coating film.
粒子内架橋を形成するための架橋剤としては、アジリジン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、シランカップリング剤及び多価金属化合物からなる群より選ばれる少なくとも一つを使用することができる。この中でも架橋剤としては、付加反応の容易性及び入手容易性の観点から多価金属化合物が望ましい。 The crosslinking agent for forming intraparticle crosslinking is at least one selected from the group consisting of an aziridine-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking agent, an oxazoline-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, a silane coupling agent, and a polyvalent metal compound. One can be used. Among these, as the crosslinking agent, a polyvalent metal compound is desirable from the viewpoint of easy addition reaction and availability.
多価金属化合物としては、２価以上の多価金属の塩、錯体、酸化物、水酸化物などの２価以上の多価金属化合物などを挙げることができる。２価以上の多価金属としては、マグネシウム、カルシウム、鉄、亜鉛、バリウム、アルミニウム、ジルコニウムなどを挙げることができる。また、塩を形成するための陰イオンとしては炭酸イオン、炭酸水素イオン、酢酸イオン、リン酸イオン、酒石酸イオン、硫酸イオンなどを挙げることができる。また多価金属の錯体を形成する配位子としては、前記の陰イオンに加え、グリシン、アラニン、アンモニア、エチレンジアミン、トリエタノールアミンなどを挙げることができる。 Examples of the polyvalent metal compound include divalent or higher polyvalent metal compounds such as salts, complexes, oxides, and hydroxides of divalent or higher polyvalent metals. Examples of the divalent or higher polyvalent metal include magnesium, calcium, iron, zinc, barium, aluminum, and zirconium. Examples of the anion for forming a salt include carbonate ion, hydrogen carbonate ion, acetate ion, phosphate ion, tartrate ion, sulfate ion and the like. Examples of the ligand that forms a complex of a polyvalent metal include glycine, alanine, ammonia, ethylenediamine, triethanolamine, and the like in addition to the above anions.
具体的には、多価金属化合物としては、例えば酢酸亜鉛、多価金属の錯体としての炭酸亜鉛アンモニア、酢酸亜鉛アンモニア、リン酸亜鉛アンモニアなどを挙げることができる。また、例えば炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、ジルコニウムフッ化水素酸、ジルコニウムフッ化アンモニウムのジルコニウム化合物を挙げることができる。さらに、ジルコニウムフッ化カリウム、ジルコニウムフッ化ナトリウム、ジルコニウムアセチルアセテート、ジルコニウムブトキシド１−ブタノール等のジルコニウム化合物も挙げることができる。 Specifically, examples of the polyvalent metal compound include zinc acetate, zinc carbonate ammonia, zinc acetate ammonia and zinc phosphate ammonia as a complex of the polyvalent metal. Further, for example, zirconium compounds of ammonium zirconium carbonate, zirconium potassium carbonate, zirconium hydrofluoric acid, and zirconium ammonium fluoride can be mentioned. Furthermore, zirconium compounds such as potassium zirconium fluoride, sodium zirconium fluoride, zirconium acetyl acetate and zirconium butoxide 1-butanol can also be mentioned.
［銅化合物担持酸化チタン］
本実施形態に係る床用艶出し剤組成物は、抗アレルゲン性を発揮する活性粒子として、銅化合物担持酸化チタンを含有している。このような銅化合物担持酸化チタンを被膜の表面に配置することで、被膜に対し高い抗アレルゲン性を発現させることが可能となる。
[Copper compound-supported titanium oxide]
The floor polish composition according to this embodiment contains copper compound-supported titanium oxide as active particles that exhibit antiallergenicity. By disposing such a copper compound-supported titanium oxide on the surface of the coating, it becomes possible to develop a high antiallergenic property against the coating.
本実施形態における銅化合物担持酸化チタンは、アナターゼ型酸化チタンを５０モル％以上含有する酸化チタン粒子と、当該酸化チタン粒子の表面に担持された銅化合物とを有するものである。この銅化合物担持酸化チタンは、酸化チタン粒子の表面に銅化合物が担持されているため、可視光による光触媒活性に優れる。銅化合物担持酸化チタンが光触媒活性に優れる理由は、次のように考えられる。 The copper compound-supported titanium oxide in the present embodiment has titanium oxide particles containing 50 mol% or more of anatase-type titanium oxide and a copper compound supported on the surface of the titanium oxide particles. This copper compound-supported titanium oxide is excellent in photocatalytic activity by visible light because the copper compound is supported on the surface of the titanium oxide particles. The reason why the copper compound-supported titanium oxide is excellent in photocatalytic activity is considered as follows.
銅化合物が担持されていない酸化チタン単体は、図１に示すように、紫外線照射による光励起によって電子及び正孔を生成する。この生成した電子は、酸化チタンの表面に吸着している空気中や水中の酸素を一電子還元し、スーパーオキシドアニオン（・Ｏ２ −）を生成する。さらに正孔は、酸化チタンの表面に吸着している水を酸化して、ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成する。そして、得られたヒドロキシラジカルにより、アレルゲンを変性・分解して不活性化させることができる。 As shown in FIG. 1, the titanium oxide simple substance on which the copper compound is not supported generates electrons and holes by photoexcitation due to ultraviolet irradiation. The generated electrons reduce oxygen in the air or water adsorbed on the surface of titanium oxide by one electron to generate a superoxide anion (.O 2 − ). Further, the holes oxidize water adsorbed on the surface of titanium oxide to generate hydroxy radicals (.OH). And by the obtained hydroxyl radical, allergen can be denatured and decomposed to be inactivated.
このように、光励起により生成した正孔と電子とを分離して両者の再結合を防ぎ、正孔の強い酸化力及び高い移動度によってアレルゲンを酸化分解することができる。ただ、このように酸化チタンで電子を生成し、酸素を一電子還元するには、価電子帯の３．０４Ｖ（ｐＨ＝０）からその酸化還元電位である−０．０４６Ｖ（ｐＨ＝０）の高い位置まで電子を光励起する必要がある。 In this way, the holes and electrons generated by photoexcitation can be separated to prevent recombination of both, and the allergen can be oxidatively decomposed by the strong oxidizing power and high mobility of the holes. However, in order to generate electrons with titanium oxide and reduce oxygen by one electron in this way, from the valence band of 3.04 V (pH = 0) to its redox potential of -0.046 V (pH = 0). It is necessary to photoexcite electrons to a high position.
これに対し、酸化チタンの表面に銅化合物を担持させた銅化合物担持酸化チタンでは、上記のような高い位置まで酸化チタン中の電子を光励起する必要がない。つまり図１に示すように、可視光によって銅イオンの酸化還元電位である＋０．１６Ｖまで光励起させれば、励起電子が二価銅（Ｃｕ（ＩＩ））に移行し一価銅（Ｃｕ（Ｉ））に還元した後、さらに酸素を二電子又は四電子還元してＨ２Ｏ２又はＨ２Ｏを生成する。この際、一価銅自身は二価銅に戻る。一方、生成した正孔は従来の酸化チタンと同じく強い酸化力及び高い移動度を持つため、有機物、つまりアレルゲンを酸化分解することができる。このように、銅化合物担持酸化チタンは、酸化チタン単体と同等の酸化力を有しつつも可視光によって光励起が可能であるため、室内でも好適に用いることができる。 In contrast, with a copper compound-supported titanium oxide in which a copper compound is supported on the surface of titanium oxide, it is not necessary to photoexcite electrons in the titanium oxide up to the high position as described above. That is, as shown in FIG. 1, when photoexcitation is performed with visible light to +0.16 V, which is a redox potential of copper ions, the excited electrons are transferred to divalent copper (Cu (II)) and monovalent copper (Cu (I )), The oxygen is further reduced by two or four electrons to produce H 2 O 2 or H 2 O. At this time, monovalent copper itself returns to divalent copper. On the other hand, the generated holes have the same strong oxidizing power and high mobility as conventional titanium oxide, so that organic substances, that is, allergens can be oxidized and decomposed. Thus, the copper compound-supported titanium oxide can be suitably used indoors because it can be photoexcited by visible light while having an oxidizing power equivalent to that of a single titanium oxide.
銅化合物を表面に担持する酸化チタン粒子は、アナターゼ型酸化チタンを５０ｍｏｌ％以上含有することが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは、ルチル型酸化チタンに比べ高バンドギャップであり、伝導帯下端のエネルギー準位が高いため光触媒活性に優れる。そのため、酸化チタン粒子は、アナターゼ型酸化チタンを５０ｍｏｌ％以上含有することが好ましく、８０ｍｏｌ％以上含有することがより好ましく、９０ｍｏｌ％以上含有することが特に好ましい。 It is preferable that the titanium oxide particle which carries a copper compound on the surface contains 50 mol% or more of anatase type titanium oxide. Anatase-type titanium oxide has a higher band gap than rutile-type titanium oxide, and is superior in photocatalytic activity because of the high energy level at the bottom of the conduction band. Therefore, the titanium oxide particles preferably contain 50 mol% or more of anatase type titanium oxide, more preferably 80 mol% or more, and particularly preferably 90 mol% or more.
このように、本実施形態の床用艶出し剤組成物では、抗アレルゲン性を発揮する活性粒子として、銅化合物担持酸化チタンを使用している。そのため、室内の可視光下でも高い抗アレルゲン性を発揮することが可能となる。なお、上述のように、可視光によって銅イオンの酸化還元電位である＋０．１６Ｖまで光励起させれば、励起電子が二価銅に移行し、電子と正孔の再結合を防ぐことができる。そのため、酸化チタン粒子に担持される銅化合物は、二価の銅化合物であることが好ましい。また、一価の銅化合物は、二価の銅化合物よりも抗アレルゲン活性に優れることから、酸化チタン粒子に担持される銅化合物は、二価の銅化合物と一価の銅化合物の両方であることが好ましい。 Thus, in the floor polish agent composition of this embodiment, the copper compound carrying | support titanium oxide is used as active particle which exhibits antiallergenicity. Therefore, it becomes possible to exhibit high antiallergenicity even under visible light in the room. As described above, when photoexcitation is performed with visible light up to +0.16 V, which is the oxidation-reduction potential of copper ions, excited electrons move to divalent copper, and recombination of electrons and holes can be prevented. Therefore, the copper compound supported on the titanium oxide particles is preferably a divalent copper compound. In addition, since the monovalent copper compound is superior in anti-allergen activity than the divalent copper compound, the copper compound supported on the titanium oxide particles is both a divalent copper compound and a monovalent copper compound. It is preferable.
このような一価銅化合物としては、酸化銅（Ｉ）、硫化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）及び水酸化銅（Ｉ）等が挙げられる。また、二価銅化合物としては、水酸化銅（ＩＩ）、酸化銅（ＩＩ）、塩化銅（ＩＩ）、酢酸銅（ＩＩ）、硫酸銅（ＩＩ）、硝酸銅（ＩＩ）、フッ化銅（ＩＩ）、ヨウ化銅（ＩＩ）及び臭化銅（ＩＩ）等が挙げられる。なお、これらの銅化合物は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of such monovalent copper compounds include copper (I) oxide, copper (I) sulfide, copper (I) iodide, copper (I) chloride, and copper (I) hydroxide. In addition, as the divalent copper compound, copper hydroxide (II), copper oxide (II), copper chloride (II), copper acetate (II), copper sulfate (II), copper nitrate (II), copper fluoride ( II), copper (II) iodide, copper (II) bromide and the like. In addition, these copper compounds may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
銅化合物担持酸化チタンにおいて、酸化チタン粒子の表面に担持される銅化合物の平均粒子径は０．５ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。また、酸化チタン粒子１００質量部に対して、銅化合物における銅イオンは０．１〜１０質量部であることが好ましい。銅化合物の平均粒子径及び担持量がこの範囲であることにより、上述のように酸素を二電子又は四電子還元することが容易となる。その結果、光励起により生成した正孔と電子とを容易に分離して両者の再結合を防ぎ、正孔の強い酸化力によってアレルゲンを酸化分解することが可能となる。なお、銅化合物の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡等の方法で測定することができる。 In a copper compound carrying | support titanium oxide, it is preferable that the average particle diameter of the copper compound carry | supported on the surface of a titanium oxide particle is 0.5 nm-10 nm. Moreover, it is preferable that the copper ion in a copper compound is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of titanium oxide particles. When the average particle diameter and the supported amount of the copper compound are within this range, it becomes easy to reduce oxygen by two electrons or four electrons as described above. As a result, holes and electrons generated by photoexcitation can be easily separated to prevent recombination of both, and the allergen can be oxidatively decomposed by the strong oxidizing power of the holes. In addition, the average particle diameter of a copper compound can be measured by methods, such as a transmission electron microscope.
また、銅化合物担持酸化チタンにおける酸化チタン粒子の平均粒子径は特に限定されない。ただ、床用艶出し剤組成物を塗布して得られる被膜の透明性を確保する観点から、酸化チタン粒子の平均粒子径は、可視光線の波長以下、つまり３８０ｎｍ以下であることが好ましい。特に、酸化チタン粒子の平均粒子径は、８０ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましい。なお、酸化チタン粒子の平均粒子径は、動的光散乱法により測定することができる。 Moreover, the average particle diameter of the titanium oxide particle in a copper compound carrying | support titanium oxide is not specifically limited. However, from the viewpoint of ensuring the transparency of the film obtained by applying the floor polish composition, the average particle diameter of the titanium oxide particles is preferably not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 380 nm. In particular, the average particle diameter of the titanium oxide particles is more preferably 80 nm to 200 nm. The average particle diameter of the titanium oxide particles can be measured by a dynamic light scattering method.
銅化合物を表面に担持する酸化チタン粒子は、価電子帯の電位が３Ｖ（ｖｓ．ＳＨＥ，ｐＨ＝０）以上である光半導体性の酸化チタン粒子であることが好ましい。酸化チタン粒子における価電子帯の上端電位が３Ｖ以上であることにより、生成した正孔が強い酸化力を示すことが可能となる。 The titanium oxide particles supporting the copper compound on the surface are preferably photo-semiconductor titanium oxide particles having a valence band potential of 3 V (vs. SHE, pH = 0) or more. When the upper end potential of the valence band in the titanium oxide particles is 3 V or more, the generated holes can exhibit a strong oxidizing power.
本実施形態に係る床用艶出し剤組成物において、銅化合物担持酸化チタンの含有量は、上記アクリル樹脂エマルジョンの加熱残分１００質量部に対して１０〜８０質量部である。銅化合物担持酸化チタンの含有量が１０質量部未満の場合には、被膜の表面における光触媒量が不十分となり、抗アレルゲン活性が不十分となる恐れがある。銅化合物担持酸化チタンの含有量が８０質量部を超える場合には、被膜にクラック等が入り、成膜が困難となる恐れがある。また、太陽光などの多量の紫外線に長期に亘り暴露されるような窓際近傍において、被膜が白化するなどの恐れがある。なお、高い抗アレルゲン性及び耐久性を確保する観点から、銅化合物担持酸化チタンの含有量は、アクリル樹脂エマルジョンの加熱残分１００質量部に対して２０〜６０質量部であることがより好ましい。なお、アクリル樹脂エマルジョンの加熱残分は、ＪＩＳ Ｋ５６０１−１−２（塗料成分試験方法−第１部：通則−第２節：加熱残分）に準拠して求めることができる。 In the floor polish agent composition according to this embodiment, the content of the copper compound-supported titanium oxide is 10 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the heating residue of the acrylic resin emulsion. When the content of the copper compound-supported titanium oxide is less than 10 parts by mass, the amount of photocatalyst on the surface of the coating becomes insufficient, and the antiallergen activity may be insufficient. When the content of the copper compound-supported titanium oxide exceeds 80 parts by mass, the film may be cracked and film formation may be difficult. In addition, the coating may be whitened near the window where it is exposed to a large amount of ultraviolet rays such as sunlight for a long time. In addition, from the viewpoint of ensuring high antiallergenicity and durability, the content of the copper compound-supported titanium oxide is more preferably 20 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the heating residue of the acrylic resin emulsion. In addition, the heating residue of an acrylic resin emulsion can be calculated | required based on JISK5601-1-2 (Paint component test method-1st part: General rule-Section 2: Heating residue).
このように本実施形態に係る銅化合物担持酸化チタンは、アナターゼ型酸化チタンを５０ｍｏｌ％以上含有する酸化チタン粒子に銅化合物を担持しているため、可視光照射下においても抗アレルゲン活性に優れる。特に銅化合物担持酸化チタンは、可視光による光触媒活性に必要な二価銅化合物を含むため、可視光による光触媒活性に優れる。なお、当該銅化合物担持酸化チタンは、可視光よりもエネルギーが高い紫外光によっても上記光触媒活性を発揮する。 Thus, since the copper compound carrying | support titanium oxide which concerns on this embodiment has carry | supported the copper compound on the titanium oxide particle which contains 50 mol% or more of anatase type titanium oxides, it is excellent in antiallergen activity also under visible light irradiation. In particular, since the copper compound-supported titanium oxide contains a divalent copper compound necessary for the photocatalytic activity by visible light, the photocatalytic activity by visible light is excellent. In addition, the said copper compound carrying | support titanium oxide exhibits the said photocatalytic activity also with the ultraviolet light whose energy is higher than visible light.
［ワックス］
本実施形態に係る床用艶出し剤組成物は、上述のように、アクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョンと銅化合物担持酸化チタンとを含有する。ただ、床用艶出し剤組成物は、必要に応じて、床材の艶出しのためのワックスも含有することができる。床用艶出し剤組成物に添加され得るワックスとしては、従来使用されている天然又は合成ワックスのうち如何なるものも用いることができる。
[wax]
As described above, the floor polish agent composition according to the present embodiment contains an emulsion containing acrylic resin particles and a copper compound-supported titanium oxide. However, the floor polish agent composition can also contain a wax for polishing the flooring material, if necessary. As the wax that can be added to the floor polish composition, any conventionally used natural or synthetic wax can be used.
ワックスとしては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、モンタンワックス、モンタン誘導ワックス、セレシンワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックスを用いることができる。さらに、フィッシャートロプシュワックス、アマイドワックス、ポリエチレンワックス又はそのカルボキシル変性ワックス、酸化ポリエチレンワックス又はそのカルボキシル変性ワックスも用いることができる。また、ポリプロピレンワックス又はそのカルボキシル変性ワックス、酸化ポリプロピレンワックス又はそのカルボキシル変性ワックス、グリコール変性酸化ポリエチレンワックスも用いることができる。グリコール変性酸化ポリプロピレンワックス、エチレン−アクリル酸共重合体ワックス、エチレン−メタクリル酸共重合体ワックスも用いることができる。なお、これらのワックスは一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、床用艶出し剤組成物におけるワックスの含有量は特に限定されないが、例えば有機成分１００質量部中において１０〜５０質量部とすることができる。 As the wax, carnauba wax, candelilla wax, montan wax, montan derived wax, ceresin wax, paraffin wax, microcrystalline wax can be used. Furthermore, Fischer-Tropsch wax, amide wax, polyethylene wax or its carboxyl-modified wax, oxidized polyethylene wax or its carboxyl-modified wax can also be used. Polypropylene wax or its carboxyl-modified wax, oxidized polypropylene wax or its carboxyl-modified wax, and glycol-modified oxidized polyethylene wax can also be used. Glycol-modified polypropylene oxide wax, ethylene-acrylic acid copolymer wax, and ethylene-methacrylic acid copolymer wax can also be used. In addition, these waxes may be used alone or in combination of two or more. In addition, content of the wax in the polishing agent composition for floor | beds is although it does not specifically limit, For example, it can be 10-50 mass parts in 100 mass parts of organic components.
［成膜助剤］
本実施形態に係る床用艶出し剤組成物は、アクリル樹脂エマルジョン及び銅化合物担持酸化チタンを含有している。しかし、被膜の抗アレルゲン性及び膜物性に大きな影響を与えないならば、成膜助剤を添加してもよい。成膜助剤を添加することにより、アクリル系樹脂粒子を軟化し、その融着を促進し、成膜性を向上させることが可能となる。
[Filming aid]
The floor polish composition according to this embodiment contains an acrylic resin emulsion and a copper compound-supported titanium oxide. However, a film forming aid may be added if it does not significantly affect the antiallergenic properties and film properties of the film. By adding a film forming aid, it is possible to soften the acrylic resin particles, promote the fusion thereof, and improve the film forming property.
成膜助剤としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを用いることができる。また、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノールも用いることができる。これらの成膜助剤は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。 As the film forming aid, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether can be used. Dipropylene glycol monoethyl ether, N-methyl-2-pyrrolidone, diethylene glycol diethyl ether, and 3-methyl-3-methoxybutanol can also be used. One of these film forming assistants may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
ただ、本実施形態の床用艶出し剤組成物は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が排出されることを抑制する観点から、床用艶出し剤組成物中の成膜助剤の添加量は可能な限り少量であることが好ましい。そのため、成膜助剤の含有量は、エマルジョンの加熱残分１００質量部に対して０〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましい。成膜助剤の含有量がこの範囲外であっても本発明の効果を発揮することができる。ただ、バインダーとなるアクリル樹脂の最低造膜温度が著しく高いときに成膜助剤が少ない場合は、成膜が不十分となり乾燥後にクラックが入る恐れがある。また、成膜助剤の含有量が１０質量部を超える場合は、ＶＯＣの観点から室内空気を汚染し、シックハウス等の要因及び臭気の原因となる恐れがある。 However, from the viewpoint of suppressing the discharge of volatile organic compounds (VOC), the amount of the film-forming auxiliary in the floor polish agent composition of this embodiment is It is preferred that it be as small as possible. Therefore, the content of the film forming auxiliary is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the heating residue of the emulsion. Even if the content of the film forming auxiliary is outside this range, the effects of the present invention can be exhibited. However, when the film forming aid is small when the minimum film forming temperature of the acrylic resin serving as the binder is remarkably high, film formation is insufficient and there is a risk of cracking after drying. Moreover, when content of the film-forming auxiliary exceeds 10 mass parts, indoor air may be contaminated from the viewpoint of VOC, which may cause factors such as sick house and odor.
本実施形態に係る床用艶出し剤組成物は、アクリル樹脂エマルジョン及び銅化合物担持酸化チタンを混合し、銅化合物担持酸化チタンをアクリル樹脂エマルジョンに分散させることにより調製することができる。また、必要に応じて、上述のワックス及び成膜助剤も混合することができる。なお、粘度調整のために、必要に応じて水性媒体を添加してもよい。水性媒体としては、上述のように、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水などの純水又は超純水などを使用することができる。 The floor polish agent composition according to this embodiment can be prepared by mixing an acrylic resin emulsion and a copper compound-supported titanium oxide, and dispersing the copper compound-supported titanium oxide in the acrylic resin emulsion. Moreover, the above-mentioned wax and film-forming aid can also be mixed as needed. In addition, you may add an aqueous medium as needed for viscosity adjustment. As the aqueous medium, as described above, pure water such as ion exchange water, ultrafiltration water, reverse osmosis water, distilled water, or ultrapure water can be used.
これらを分散させるための分散装置としては、例えば、ディスパーザーやホモジナイザーを使用することができる。また、ガラスやジルコンなどのビーズメディアを使用したものでは、ボールミルやビーズミル、サンドミル、コロイドミルなどが使用できる。これらの分散装置は一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。ただ、これらの分散装置の中でも、アクリル樹脂エマルジョン及び銅化合物担持酸化チタンを効率的に分散させる観点から、ビーズミルを用いることが好ましい。 As a dispersing device for dispersing these, for example, a disperser or a homogenizer can be used. In addition, for those using bead media such as glass and zircon, a ball mill, a bead mill, a sand mill, a colloid mill, or the like can be used. One of these dispersing devices may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. However, among these dispersing devices, it is preferable to use a bead mill from the viewpoint of efficiently dispersing the acrylic resin emulsion and the copper compound-supported titanium oxide.
なお、分散時間は、アクリル樹脂エマルジョンに銅化合物担持酸化チタンが高分散されるように、各分散装置やメディアによって適宜調整すればよい。また、分散装置及び分散時間によっては銅化合物担持酸化チタンの分散度が低下し過ぎる場合があるため、分散度が低下し過ぎないように適宜調整することが好ましい。 In addition, what is necessary is just to adjust dispersion | distribution time suitably with each dispersion | distribution apparatus and media so that a copper compound carrying | support titanium oxide may be highly dispersed in an acrylic resin emulsion. Further, depending on the dispersion apparatus and dispersion time, the dispersity of the copper compound-supported titanium oxide may be excessively lowered, and therefore, it is preferable to appropriately adjust the dispersity so that the dispersity does not decrease excessively.
本実施形態の床用艶出し剤組成物が塗布される被塗布材は特に限定されない。ただ、後述するように、本実施形態の床用艶出し剤組成物は、内装材の艶出し剤として用いることが特に好ましい。当該床用艶出し剤組成物は、抗アレルゲン性が高いため、室内の内装用艶出し剤に特に適している。被塗布材としては、例えばビニル系及び合成樹脂塗り床などのプラスチック系床材、石材及びセメント系の床材、並びに木質系の床材を挙げることができる。 The material to be coated to which the floor polish composition of the present embodiment is applied is not particularly limited. However, as will be described later, the floor polish composition of the present embodiment is particularly preferably used as a polish for interior materials. The floor polish composition is particularly suitable as an interior polish because of its high antiallergenicity. Examples of the material to be coated include plastic floor materials such as vinyl-based and synthetic resin-coated floors, stone-based and cement-based floor materials, and wood-based floor materials.
床用艶出し剤組成物を被塗布材に塗布するための塗布方法及び乾燥条件は特に限定されない。床用艶出し剤組成物を被塗布材の少なくとも一部に塗布する方法としては、塗工法（エアスプレー、ハケ、バーコーター、メイヤーバー、エアナイフ等を用いるもの）を用いることができる。また、塗布方法として、印刷法（グラビア印刷、リバースグラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等）も用いることができる。また、乾燥条件としては、水性媒体及び有機溶剤が除去される条件ならば特に限定されない。床用艶出し剤組成物を乾燥させるためには、常温乾燥や乾燥機を用いた強制乾燥を実施することが可能である。 The application method and drying conditions for applying the floor polish composition to the material to be applied are not particularly limited. As a method for applying the floor polish composition to at least a part of the material to be coated, a coating method (using air spray, brush, bar coater, Mayer bar, air knife, etc.) can be used. Further, as a coating method, a printing method (gravure printing, reverse gravure printing, offset printing, flexographic printing, screen printing, or the like) can also be used. The drying conditions are not particularly limited as long as the aqueous medium and the organic solvent are removed. In order to dry the polishing agent composition for floors, it is possible to carry out normal temperature drying or forced drying using a dryer.
床用艶出し剤組成物より得られる被膜の膜厚も特に限定されないが、乾燥膜の外観を向上させる観点から、乾燥後の膜厚として５μｍ〜５０μｍが好ましく、１０μｍ〜３０μｍであることがより好ましい。被膜の膜厚がこの範囲外であっても本発明の効果を発揮することができる。しかし、膜厚が厚すぎる場合にはクラックや乾燥不良の問題が生じる可能性がある。また、被膜が薄すぎる場合には、抗アレルゲン性が低下する可能性がある。 The film thickness of the film obtained from the floor polish composition is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the appearance of the dry film, the film thickness after drying is preferably 5 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm. preferable. Even if the film thickness is out of this range, the effect of the present invention can be exhibited. However, if the film thickness is too thick, there may be a problem of cracks and poor drying. Moreover, when a film is too thin, antiallergenicity may fall.
本実施形態に係る、抗アレルゲン性を有した床用艶出し剤組成物は、粒子内架橋を有するアクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョンと、銅化合物担持酸化チタンとを含有する。当該銅化合物担持酸化チタンは、アナターゼ型酸化チタンを５０ｍｏｌ％以上含有する酸化チタン粒子に銅化合物を担持してなり、かつ、エマルジョンの加熱残分１００質量部に対して１０〜８０質量部である。そして、銅化合物の平均粒子径は０．５ｎｍ〜１０ｎｍである。また、酸化チタン粒子１００質量部に対して、銅化合物における銅イオンは０．１〜１０質量部である。この床用艶出し剤組成物は、銅化合物担持酸化チタンを含有しているため、可視光の照射によって高いアレルゲン不活性化作用を示す。さらにバインダー樹脂として、粒子内架橋を有するアクリル系樹脂粒子を含有するエマルジョンを使用している。そのため、得られる被膜の耐久性を高めることが可能となる。 The floor polish agent composition having antiallergenicity according to the present embodiment contains an emulsion containing acrylic resin particles having intraparticle cross-linking and a copper compound-supported titanium oxide. The said copper compound carrying | support titanium oxide carries a copper compound on the titanium oxide particle containing 50 mol% or more of anatase type titanium oxides, and is 10-80 mass parts with respect to 100 mass parts of the heating residue of an emulsion. . And the average particle diameter of a copper compound is 0.5 nm-10 nm. Moreover, the copper ion in a copper compound is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of titanium oxide particles. Since this floor polish composition contains a copper compound-supported titanium oxide, it exhibits a high allergen inactivating effect when irradiated with visible light. Furthermore, an emulsion containing acrylic resin particles having intraparticle cross-linking is used as the binder resin. Therefore, it becomes possible to improve the durability of the resulting coating.
また、アレルゲンは、一般的にたんぱく質から構成されており、帯電列において負に帯電している物質である。そのため、バインダー樹脂として負帯電の樹脂を用いた場合、電気的に反発し十分な表面反応が得られない恐れがある。しかし、本実施形態の床用艶出し剤組成物は、バインダー樹脂として、正の表面電位を有するアクリル系樹脂を使用している。そのため、本実施形態の床用艶出し剤組成物から得られる被膜は、負帯電のアレルゲンと吸着しやすくなり、銅化合物担持酸化チタンとの接触率が向上する。その結果、アレルゲンをより効率的に不活性化することが可能となる。 Allergens are generally composed of proteins and are substances that are negatively charged in the charge train. For this reason, when a negatively charged resin is used as the binder resin, there is a risk that the surface will be repelled and sufficient surface reaction may not be obtained. However, the floor polish agent composition of the present embodiment uses an acrylic resin having a positive surface potential as the binder resin. Therefore, the film obtained from the floor polish agent composition of the present embodiment is easily adsorbed with a negatively charged allergen, and the contact ratio with the copper compound-supported titanium oxide is improved. As a result, it becomes possible to inactivate allergens more efficiently.
以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.
［実施例１］
（銅化合物担持酸化チタンの調製）
まず、蒸留水１０００ｍｌに５０ｇのアナターゼ型酸化チタン（製品名：ＦＰ−６、昭和タイタニウム株式会社製、平均一次粒子径：１５ｎｍ）を懸濁させた。次に、酸化チタン１００質量部に対して銅イオンが０．２質量部となるように、０．３ｇの塩化銅（ＩＩ）二水和物（ＣｕＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、関東化学株式会社製）を懸濁液に添加した。そして、懸濁液を９０℃に加熱し、攪拌しながら１時間熱処理を行った。
[Example 1]
(Preparation of copper compound-supported titanium oxide)
First, 50 g of anatase type titanium oxide (product name: FP-6, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average primary particle size: 15 nm) was suspended in 1000 ml of distilled water. Next, 0.3 g of copper chloride (II) dihydrate (CuCl 2 .2H 2 O, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) so that the copper ion is 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of titanium oxide. ) Was added to the suspension. The suspension was heated to 90 ° C. and heat-treated for 1 hour with stirring.
次に、加熱処理を行った懸濁液に対し、ＣｕＣｌ２・２Ｈ２Ｏ：Ｃ６Ｈ１２Ｏ６：ＮａＯＨのモル比が１：４：８になるように、水酸化ナトリウム水溶液とグルコース水溶液を添加した。そして、混合物を７０℃で１時間熱処理し、スラリーを濾過した後、得られた粉体を純水で洗浄して８０℃で乾燥し、ミキサーで粉砕することにより、銅化合物担持酸化チタンを得た。なお、水酸化ナトリウム水溶液は、濃度が１ｍｏｌ／Ｌの水溶液を１３．７５ｍｌ添加し、グルコース水溶液は、濃度が１ｍｏｌ／Ｌの水溶液を７ｍｌ添加した。また、水酸化ナトリウム及びグルコースは、関東化学株式会社製のものを使用した。 Next, an aqueous sodium hydroxide solution and an aqueous glucose solution so that the molar ratio of CuCl 2 .2H 2 O: C 6 H 12 O 6 : NaOH is 1: 4: 8 with respect to the heat-treated suspension. Was added. And after heat-processing a mixture for 1 hour at 70 degreeC and filtering a slurry, the obtained powder was wash | cleaned with a pure water, and it dried at 80 degreeC, and obtained a copper compound carrying | support titanium oxide by a mixer. It was. The aqueous sodium hydroxide solution was added with 13.75 ml of an aqueous solution having a concentration of 1 mol / L, and the aqueous glucose solution was added with 7 ml of an aqueous solution having a concentration of 1 mol / L. Sodium hydroxide and glucose manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd. were used.
得られた銅化合物担持酸化チタン１質量部をイオン交換水９９質量部に懸濁し、１５０Ｗの超音波分散機を用いて５分間分散処理を行った。そして、得られた溶液を２ｃｍ角のスライドガラス基材にキャストすることにより、観察用の試験片を得た。得られた試験片を用いて、銅化合物の平均粒子径を透過型電子顕微鏡で測定した結果、４ｎｍであった。 1 part by mass of the obtained copper compound-supported titanium oxide was suspended in 99 parts by mass of ion-exchanged water, and dispersed for 5 minutes using a 150 W ultrasonic disperser. And the test piece for observation was obtained by casting the obtained solution to a 2 cm square slide glass base material. It was 4 nm as a result of measuring the average particle diameter of a copper compound with the transmission electron microscope using the obtained test piece.
（床用艶出し剤組成物の調製）
アクリル樹脂エマルジョンとしての床用樹脂ワックス（株式会社リンレイ製オール（登録商標））１０質量部に対して、銅化合物担持酸化チタンを１．１質量部混合することにより、本例の床用艶出し剤組成物を得た。なお、床用樹脂ワックス（オール）は、金属架橋型アクリル系樹脂エマルジョンを平均４５質量％、高融点ワックスエマルジョンを平均７．５質量％、水を平均３５質量％含有するものである。また、床用樹脂ワックスは、１０５℃で２４時間加熱した際の不揮発分（加熱残分）が２２．５質量％である。
(Preparation of a polishing composition for floors)
By adding 1.1 parts by mass of copper oxide-supported titanium oxide to 10 parts by mass of resin wax for floor as an acrylic resin emulsion (all (registered trademark) manufactured by Linley Co., Ltd.), polishing for floor of this example An agent composition was obtained. The resin wax for floor (all) contains an average of 45% by mass of a metal-crosslinked acrylic resin emulsion, an average of 7.5% by mass of a high melting point wax emulsion, and an average of 35% by mass of water. Moreover, the resin wax for floor | beds is 22.5 mass% of non volatile matters (heating residue) at the time of heating at 105 degreeC for 24 hours.
［実施例２］
床用樹脂ワックス１０質量部に対して銅化合物担持酸化チタンを０．３３質量部混合した以外は実施例１と同様の方法により、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
[Example 2]
A floor polish agent composition of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.33 parts by mass of copper oxide-supported titanium oxide was mixed with 10 parts by mass of the resin wax for floors.
［実施例３］
床用樹脂ワックス１０質量部に対して銅化合物担持酸化チタン光触媒を０．６６質量部混合した以外は実施例１と同様の方法により、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
[Example 3]
A floor polish agent composition of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.66 parts by mass of the copper compound-supported titanium oxide photocatalyst was mixed with 10 parts by mass of the floor resin wax.
［実施例４］
床用樹脂ワックス１０質量部に対して銅化合物担持酸化チタン光触媒を１．４３質量部混合した以外は実施例１と同様の方法により、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
[Example 4]
A floor polish agent composition of this example was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1.43 parts by mass of the copper oxide-supported titanium oxide photocatalyst was mixed with 10 parts by mass of the floor resin wax.
［実施例５］
床用樹脂ワックス１０質量部に対して銅化合物担持酸化チタン光触媒を１．７６質量部混合した以外は実施例１と同様の方法により、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
[Example 5]
A floor polish agent composition of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.76 parts by mass of the copper compound-supported titanium oxide photocatalyst was mixed with 10 parts by mass of the resin wax for floors.
［比較例１］
床用樹脂ワックス１０質量部に対して銅化合物担持酸化チタン光触媒を０．１１質量部混合した以外は実施例１と同様の方法により、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
[Comparative Example 1]
A floor polish composition of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.11 part by mass of the copper oxide-supported titanium oxide photocatalyst was mixed with 10 parts by mass of the resin wax for floor.
［比較例２］
床用樹脂ワックス１０質量部に対して銅化合物担持酸化チタン光触媒を１．９８質量部混合した以外は実施例１と同様の方法により、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
[Comparative Example 2]
A floor polish agent composition of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.98 parts by mass of the copper compound-supported titanium oxide photocatalyst was mixed with 10 parts by mass of the resin wax for floors.
［比較例３］
実施例１の床用樹脂ワックスに対して銅化合物担持酸化チタン光触媒を混合せず、そのまま本例の床用艶出し剤組成物として使用した。
[Comparative Example 3]
A copper compound-supported titanium oxide photocatalyst was not mixed with the floor resin wax of Example 1 and was used as it was as the floor polish agent composition of this example.
［比較例４］
（銅化合物担持酸化チタンの調製）
まず、蒸留水１０００ｍｌに５０ｇのアナターゼ型酸化チタン（製品名：ＦＰ−６、昭和タイタニウム株式会社製、平均一次粒子径：１５ｎｍ）を懸濁させた。次に、酸化チタン１００質量部に対して銅イオンが０．２質量部となるように、０．１２５ｇの酸化銅（Ｉ）（ＣｕＯ）の粉末を懸濁液に添加した。そして、懸濁液を９０℃に加熱し、攪拌しながら１時間熱処理を行った。なお酸化銅（Ｉ）粉末は、和光純薬工業株式会社製のものを用い、平均粒子径が６μｍであった。
[Comparative Example 4]
(Preparation of copper compound-supported titanium oxide)
First, 50 g of anatase type titanium oxide (product name: FP-6, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average primary particle size: 15 nm) was suspended in 1000 ml of distilled water. Next, 0.125 g of copper (I) oxide (CuO) powder was added to the suspension so that the copper ions were 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of titanium oxide. The suspension was heated to 90 ° C. and heat-treated for 1 hour with stirring. The copper (I) oxide powder was manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and the average particle size was 6 μm.
次に、加熱処理を行った懸濁液に対し、ＣｕＯ：Ｃ６Ｈ１２Ｏ６：ＮａＯＨのモル比が１：４：８になるように、水酸化ナトリウム水溶液とグルコース水溶液を添加した。そして、混合物を７０℃で１時間熱処理し、スラリーを濾過した後、得られた粉体を純水で洗浄して８０℃で乾燥し、ミキサーで粉砕することにより、銅化合物担持酸化チタンを得た。なお、水酸化ナトリウム水溶液は、濃度が１ｍｏｌ／Ｌの水溶液を１３．７５ｍｌ添加し、グルコース水溶液は、濃度が１ｍｏｌ／Ｌの水溶液を７ｍｌ添加した。また、水酸化ナトリウム及びグルコースは、関東化学株式会社製のものを使用した。 Next, an aqueous sodium hydroxide solution and an aqueous glucose solution were added to the heat-treated suspension so that the molar ratio of CuO: C 6 H 12 O 6 : NaOH was 1: 4: 8. And after heat-processing a mixture for 1 hour at 70 degreeC and filtering a slurry, the obtained powder was wash | cleaned with a pure water, and it dried at 80 degreeC, and obtained a copper compound carrying | support titanium oxide by a mixer. It was. The aqueous sodium hydroxide solution was added with 13.75 ml of an aqueous solution having a concentration of 1 mol / L, and the aqueous glucose solution was added with 7 ml of an aqueous solution having a concentration of 1 mol / L. Sodium hydroxide and glucose manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd. were used.
（床用艶出し剤組成物の調製）
アクリル樹脂エマルジョンとしての床用樹脂ワックス（株式会社リンレイ製オール）１０質量部に対して、銅化合物担持酸化チタンを１．１質量部混合することにより、本例の床用艶出し剤組成物を得た。
(Preparation of a polishing composition for floors)
By adding 1.1 parts by mass of copper oxide-supported titanium oxide to 10 parts by mass of the resin wax for floors (all made by Linley Co., Ltd.) as an acrylic resin emulsion, the floor polish agent composition of this example is obtained. Obtained.
［成膜］
上述のようにして得られた各例の床用艶出し剤組成物を、１５ｃｍ角のガラス板に対してハケを用いて塗布し乾燥させ、試験片を形成した。なお、床用艶出し剤組成物の塗布量は、乾燥後の膜重量が３ｍｇ／ｍ２となるように調整した。
[Film formation]
The floor polish composition of each example obtained as described above was applied to a 15 cm square glass plate using a brush and dried to form a test piece. The coating amount of the floor polish composition was adjusted so that the film weight after drying was 3 mg / m 2 .
［成膜性試験］
上述のようにして得られた各例の試験片に対し、綿タオルを１ｋｇ／ｍ２の荷重で１０往復擦った。その結果、被膜の剥離が無いものを「○」と評価し、被膜の剥離が発生したものを「×」と評価した。
[Film formation test]
A cotton towel was rubbed 10 times with a load of 1 kg / m 2 against the test pieces of each example obtained as described above. As a result, the case where the film was not peeled was evaluated as “◯”, and the case where the film was peeled was evaluated as “x”.
［アレルゲン不活性化試験］
まず、アレルゲン（精製ダニ抗原Ｄｅｒｆ１、アサヒビール株式会社製）を緩衝液に加えて濃度３３．３ｎｇ／Ｌのアレルゲン液を調製した。なお、緩衝液は、タカラバイオ株式会社製の生化学用緩衝液２０Ｘ ＰＢＳ Ｔｗｅｅｎ−２０ Ｂｕｆｆｅｒを超純水で２０倍に希釈したものを用いた。さらに、上述のように成膜した試験片から被膜を剥離し、４０ｍｍ角の各例のフィルムを作製した。
[Allergen inactivation test]
First, allergen (purified mite antigen Derf1, manufactured by Asahi Breweries) was added to the buffer solution to prepare an allergen solution having a concentration of 33.3 ng / L. The buffer used was a 20-fold diluted biochemical buffer 20X PBS Tween-20 Buffer manufactured by Takara Bio Inc. with ultrapure water. Furthermore, the film was peeled off from the test piece formed as described above, and 40 mm square films of respective examples were produced.
次に、上述のアレルゲン液０．４ｍｌを評価用サンプルに滴下した後、この評価用サンプルを各例のフィルムで被覆した。続いて、白色蛍光灯を用い、４００ｎｍ以下の波長をカットする紫外線カットフィルターを通して、可視光を評価用サンプルの表面に２４時間照射した。なお、この際の照度は、２０００ｌｘとなるように調整した。 Next, after dripping 0.4 ml of the above-mentioned allergen solution on the sample for evaluation, this sample for evaluation was covered with the film of each example. Subsequently, the surface of the sample for evaluation was irradiated for 24 hours using a white fluorescent lamp through an ultraviolet cut filter that cuts a wavelength of 400 nm or less. The illuminance at this time was adjusted to 2000 lx.
その後、フィルム内からアレルゲン液を回収した。そして、アレルゲン液中のアレルゲン濃度を酵素免疫定量法（ＥＬＩＳＡ法）により定量し、照射前後におけるアレルゲン液中のアレルゲン濃度変化を百分率で算出して、アレルゲンの不活性化の度合いを評価した。 Thereafter, the allergen solution was recovered from the film. Then, the allergen concentration in the allergen solution was quantified by enzyme immunoassay (ELISA method), and the change in allergen concentration in the allergen solution before and after irradiation was calculated as a percentage to evaluate the degree of inactivation of allergen.
［促進耐候性試験］
ＪＩＳ Ｋ５６００−７−７（塗料一般試験方法−第７部：塗膜の長期耐久性−第７節：促進耐候性及び促進耐光性（キセノンランプ法））に準拠して、評価用サンプル表面のコーティング膜の耐候性を評価した。なお、室内で使用される条件を想定して、試験板の湿潤を行わないサイクルＣ試験を行った。５０時間の連続暴露試験後に評価用サンプルの外観を目視にて観察し、以下の基準に基づいてコーティング膜の耐候性を評価した。
○：耐候性試験前と外観に変化なし。
×：耐候性試験前と外観に明らかに変化あり。
[Accelerated weather resistance test]
In accordance with JIS K5600-7-7 (General coating test method-Part 7: Long-term durability of coating film-Section 7: Accelerated weather resistance and accelerated light resistance (xenon lamp method)) The weather resistance of the coating film was evaluated. In addition, a cycle C test in which the test plate was not wetted was performed assuming the conditions for indoor use. After the 50-hour continuous exposure test, the appearance of the evaluation sample was visually observed, and the weather resistance of the coating film was evaluated based on the following criteria.
○: No change in appearance before and after the weather resistance test.
X: There is a clear change in appearance before and after the weather resistance test.
各例における床用樹脂ワックス及び銅化合物担持酸化チタンの含有量、並びに床用樹脂ワックスの加熱残分１００質量部に対する銅化合物担持酸化チタンの含有量を表１に示す。さらに、各例の試験片に対する成膜性試験、アレルゲン不活性化試験及び促進耐候性試験の結果を表１に合わせて示す。 Table 1 shows the contents of the floor resin wax and the copper compound-supported titanium oxide in each example, and the copper compound-supported titanium oxide content with respect to 100 parts by mass of the heating residue of the floor resin wax. Further, Table 1 shows the results of the film formability test, the allergen inactivation test, and the accelerated weather resistance test for the test pieces of each example.
表１に示すように、本発明に包含される実施例１〜５の組成物は、成膜性試験、アレルゲン不活性化試験及び促進耐候性試験のいずれにおいても良好な結果を示した。これに対し、比較例１及び比較例３は、銅化合物担持酸化チタンの含有量が過少なため、抗アレルゲン活性が不十分な結果となった。また、比較例２は、銅化合物担持酸化チタンの含有量が過多なため、膜物性が悪化し、耐候性が不十分な結果となった。 As shown in Table 1, the compositions of Examples 1 to 5 included in the present invention showed good results in any of the film formability test, the allergen inactivation test, and the accelerated weather resistance test. On the other hand, Comparative Example 1 and Comparative Example 3 resulted in insufficient antiallergen activity because the content of the copper compound-supported titanium oxide was too small. In Comparative Example 2, the content of the copper compound-supported titanium oxide was excessive, so that the film physical properties deteriorated and the weather resistance was insufficient.
さらに比較例４の組成物は、成膜性試験及びアレルゲン不活性化試験において不十分な結果となった。つまり、銅化合物担持酸化チタンを調製する際に使用した酸化銅（Ｉ）粉末は、水に殆ど溶解しないため、酸化銅と酸化チタンは分離した状態であった。その結果、可視光による光触媒活性が低下し、抗アレルゲン性能が悪化したと考えられる。また、酸化銅（Ｉ）は水に殆ど溶解しないため、銅化合物の粒子径が６μｍのままであり、膜特性も低下したものと考えられる。 Furthermore, the composition of Comparative Example 4 had insufficient results in the film formability test and the allergen inactivation test. That is, since the copper (I) oxide powder used in preparing the copper compound-supported titanium oxide hardly dissolves in water, the copper oxide and the titanium oxide were in a separated state. As a result, it is considered that the photocatalytic activity by visible light was lowered and the antiallergen performance was deteriorated. Moreover, since copper (I) oxide hardly dissolves in water, the particle diameter of the copper compound remains 6 μm, and it is considered that the film characteristics are also deteriorated.
以上、本発明を実施例及び比較例によって説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。 Although the present invention has been described with reference to the examples and comparative examples, the present invention is not limited to these, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
Claims (2)
アナターゼ型酸化チタンを５０ｍｏｌ％以上含有する酸化チタン粒子に銅化合物を担持してなり、かつ、前記エマルジョンの加熱残分１００質量部に対して１０〜８０質量部である銅化合物担持酸化チタンと、
を含有し、
前記銅化合物の平均粒子径は０．５ｎｍ〜１０ｎｍであり、
前記酸化チタン粒子１００質量部に対して、前記銅化合物における銅イオンは０．１〜１０質量部である、抗アレルゲン性を有した床用艶出し剤組成物。 An emulsion containing acrylic resin particles having intra-particle crosslinking;
A copper compound-supported titanium oxide comprising a copper compound supported on titanium oxide particles containing 50 mol% or more of anatase-type titanium oxide, and 10 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the heating residue of the emulsion;
Containing
The copper compound has an average particle size of 0.5 nm to 10 nm,
The floor polish agent composition which has anti-allergenic property which is 0.1-10 mass parts of copper ions in the said copper compound with respect to 100 mass parts of said titanium oxide particles.
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| JP2016194035A (en) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | Toto株式会社 | Aqueous coating composition |
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