JP2015060199A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】壁電極を有する液晶表示装置において、黒画像の表示時の光漏れを低減する。
【解決手段】第1基板10には画素電極21と、共通電極22とが形成されている。第1基板10には壁部W1が形成されている。壁部W1は、絶縁材料で形成され、第2基板50に向けて突出している大壁絶縁部32と、大壁絶縁部32の側面に沿って形成されている、画素電極又は共通電極として機能している壁電極部21aとを含んでいる。また、大壁部W1は、液晶層40の液晶分子の配向を規定する配向膜37が形成されている側面Aを有している。壁部W1の側面Aは、第1基板10と第2基板50とに垂直な方向に対して傾斜している。
【選択図】図2
【解決手段】第1基板10には画素電極21と、共通電極22とが形成されている。第1基板10には壁部W1が形成されている。壁部W1は、絶縁材料で形成され、第2基板50に向けて突出している大壁絶縁部32と、大壁絶縁部32の側面に沿って形成されている、画素電極又は共通電極として機能している壁電極部21aとを含んでいる。また、大壁部W1は、液晶層40の液晶分子の配向を規定する配向膜37が形成されている側面Aを有している。壁部W1の側面Aは、第1基板10と第2基板50とに垂直な方向に対して傾斜している。
【選択図】図2
Description
本発明はIPS(In−Plane−Switching)方式の液晶表示装置に関する。
IPS方式の液晶表示装置のなかには、例えば下記特許文献1で提案されるように、隣接する2つの画素の境に壁状の絶縁部を有し、壁状の絶縁部の側面に電極(以下、壁電極と称する)を有するものがある(以下では、壁状の絶縁部と壁電極とによって構成される部分を壁部と称する)。各画素には対向する2つの壁電極が設けられている。一例では、一方の壁電極は画素電極として機能し、他方の壁電極は共通電極として機能する。画素の階調値に応じた電圧が画素電極に加えられると、画素電極と共通電極との間に水平な電界が形成される。その電界により液晶分子が回転し、バックライトユニットの光が液晶層を透過する。
多くの液晶表示装置では、液晶分子の初期配向は配向膜により5〜10度傾斜している。液晶分子が初期配向に配置されることにより、バックライトユニットの光は液晶層で遮断され、黒画像が表示される。ところが、壁部の側面に近接する液晶分子は壁部の側面に沿って配置されるので、初期配向に配置されない。そのため、黒画像の表示時に光りが漏れ、黒画像と白画像のコントラスト比が小さくなる。
本発明の目的の一つは、壁電極を有する液晶表示装置において、黒画像の表示時の光漏れを低減することにある。
(1)本発明に係る液晶表示装置は、複数の画素のそれぞれに設けられている画素電極と、共通電極とを有している第1の基板と、前記第1の基板に向き合っており、隣接する2つの画素を仕切るブラックマトリクスを有している第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられている液晶層と、前記第1の基板に絶縁材料で形成され、前記隣接する2つの画素の境に位置している壁絶縁部と、前記壁絶縁部の側面に沿って形成されている、前記画素電極又は前記共通電極として機能している壁電極と、前記液晶層の液晶分子の配向を規定する、前記壁電極を覆う配向膜が形成されている側面と、を有する壁部と、を有し、前記配向膜が形成されている前記壁部の側面は、前記第1の基板と前記第2の基板とに垂直な方向に対して傾斜している。本発明によれば、黒画像の表示時の光漏れを抑えることが可能となる。
(2)(1)において、前記壁部は、絶縁材料によって形成され前記壁電極を覆う側面絶縁部を有し、前記側面絶縁部の表面は前記第1の基板と前記第2の基板とに垂直な方向に対して傾斜しており、前記配向膜は前記側面絶縁部の表面に形成されてもよい。これによれば、傾斜した斜面を有する壁部を形成することが比較的容易となる。
(3)(1)又は(2)において、前記第1の基板の基材と前記壁部の前記側面とがなす角度は、前記第1の基板の基材と前記壁絶縁部の側面とがなす角度よりも小さくてもよい。これによれば、黒画像の表示時の光漏れを抑えることが可能となる。
(4)(1)から(3)のいずれかにおいて、前記壁絶縁部の前記側面は、前記第1の基板と前記第2の基板とに垂直な方向に対して傾斜してもよい。これによれば、傾斜した斜面を有する壁部を形成することが比較的容易となる。
(5)(1)から(4)のいずれかにおいて、前記壁部の下部は前記ブラックマトリクスの線幅よりも大きな幅を有してもよい。これによれば、傾斜角度の小さい側面を有する壁部が実現されるので、光漏れをより効果的に抑えることが可能となる。
(6)(1)から(5)のいずれかにおいて、前記絶縁膜は隣接する2つの画素のうち一方の画素から他方の画素まで前記壁部の上面を通して繋がってもよい。これによれば、製造時の工程数を減らすことができる。
(7)(1)から(6)のいずれかにおいて、前記第1の基板は、前記壁絶縁部である大壁絶縁部と、互いに向き合う2つの大壁絶縁部の間に形成され、2つの大壁絶縁部よりも高さが低い小壁絶縁部と、を備え、前記画素電極と前記共通電極のうち一方の電極は、前記大壁絶縁部の側面に沿って前記壁電極として形成され、前記画素電極と前記共通電極のうち他方の電極は、前記小壁絶縁部に形成されてもよい。
(8)(1)から(6)のいずれかにおいて、前記画素電極と前記共通電極のうち一方の電極は、互いに向き合う2つの壁絶縁部のうち一方の壁絶縁部の側面に沿って形成され、前記画素電極と共通電極のうち他方の電極は、前記2つの壁絶縁部のうち他方の壁絶縁部の側面に沿って形成されてもよい。
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。図1は本発明に係る液晶表示装置が備える第1基板10の平面図である。図2は図1に示すII−II線で示される切断面によって得られる液晶表示装置1の断面図である。図3は液晶表示装置1において形成される電界を説明するための図である。図3の破線は電気力線である。
図2に示すように、液晶表示装置1は、互いに向き合う第1基板10と第2基板50とを有している。第1基板10は後述する薄膜トランジスタT(図8参照)が形成されるTFT基板であり、第2基板50はカラーフィルター52が形成されるカラーフィルター基板である。第1基板10と第2基板50との間には液晶層40が設けられている。第1基板10の第2基板50とは反対側と、第2基板50の第1基板10とは反対側とには、偏光板が配置されている。第1基板10の第2基板50とは反対側に、不図示のバックライトユニットからの光が照射される。
図2に示すように、第2基板50は基材51を有している。基材51はガラスや樹脂などの透明な材料で形成されている。第2基板50は、複数の画素のそれぞれにカラーフィルター52を有している。図2のPで示す範囲が1画素である。第2基板50はブラックマトリクス53を有している。ブラックマトリクス53は隣接する2つの画素を区画している。カラーフィルター52上には、すなわち、カラーフィルター52の液晶層40側の面にはオーバーコート層54が形成されている。
図1に示すように、第1基板10は、複数のドレイン電極線13と、ドレイン電極線13に交差する複数のゲート電極線12とを有している。各画素は隣接する2つのドレイン電極線13と隣接する2つのゲート電極線12とで囲まれている。ドレイン電極線13には各画素の階調値に応じた電圧(階調電圧)が加えられる。ゲート電極線12には薄膜トランジスタTをオン状態するためのゲート電圧が加えられる。図2に示すように、第1基板10は基材11を有している。基材11も、第2基板50の基材51と同様に、ガラスや樹脂などの透明な材料で形成されている。図1に示したゲート電極線12は基材11上に形成され、絶縁膜31(図2参照)によって覆われている。ドレイン電極線13は絶縁膜31上に形成され、同じく絶縁膜31上に形成される絶縁膜36によって覆われている。
図2に示すように、第1基板10は、隣接する2つの画素の境界部分に位置し、第2基板50に向けて突出している大壁部W1を有している。大壁部W1はドレイン電極線13に沿って形成されている。大壁部W1の上方に第2基板50のブラックマトリクス53が位置している。大壁部W1は絶縁材料で形成されている大壁絶縁部32を有している。大壁絶縁部32は絶縁膜36上に設けられている。
図2に示す例の第1基板10は各画素に小壁部W2を有している。小壁部W2は、絶縁材料で形成され、第2基板50に向かって突出している小壁絶縁部33を有している。小壁絶縁部33の高さは、大壁絶縁部32よりも低い。小壁絶縁部33は互いに向き合う2つの大壁部W1の間に位置し、ドレイン電極線13に沿った方向で延びている。小壁絶縁部33も絶縁膜36上に形成されている。小壁絶縁部33は透明な絶縁材料によって形成されている。好ましくは、大壁絶縁部32も、小壁絶縁部33と同じ透明な絶縁材料で形成される。こうすることにより、製造の工程数を低減できる。なお、大壁絶縁部32の材料は必ずしも透明でなくてもよい。
図2に示すように、第1基板10は画素電極21を各画素に有している。画素電極21には、ドレイン電極線13と薄膜トランジスタTとを通して、階調電圧が加えられる。また、第1基板10は、複数の画素に亘って設けられている共通電極22を有している。共通電極22には共通電圧が加えられる。電極21,22は例えばITO(Indium Tin Oxide)やAZO(Aluminum doped Zinc Oxide)等の透明導電材料で形成される。
図2に示すように、共通電極22は絶縁膜36上に形成され、大壁絶縁部32及び小壁絶縁部33を覆っている。すなわち、共通電極22の一部は、大壁絶縁部32の側面及び上面(第2基板50に対向する面)に形成されている。また、共通電極22の一部は、小壁絶縁部33の側面及び上面(第2基板50に対向する面)に形成されている。
共通電極22の全体は絶縁膜34によって覆われている。すなわち、絶縁膜34は壁部W1,W2の間の部分(平坦な部分)だけでなく、大壁部W1及び小壁部W2にも形成され、共通電極22の壁絶縁部32,33に形成された部分を覆っている。
画素電極21は、大壁絶縁部32の側面に沿って形成され大壁部W1を構成する壁電極部21aを有している。壁電極部21aは、大壁絶縁部32の2つの側面に沿って形成されている。各画素は小壁部W2を挟んで互いに向き合う2つの壁電極部21aを有している。画素電極21は、この2つの壁電極部21aの下縁(基材11側の縁)の間に、それらを繋ぐ水平な水平電極部21bを有している。水平電極部21bにはスリットSが形成されている。共通電極22の小壁部W2に形成された部分は水平電極部21bのスリットSから液晶層40に向かって突出している。
図3に示すように、共通電極22と画素電極21との間の電位差により、液晶層40に横電界が形成される。具体的には、小壁部W2上の共通電極22と、画素電極21の電極部21a,21bとの間に電界が形成される。特に図2の例では、小壁絶縁部33は、その幅が第2基板50に向かって徐々に小さくなるように形成されている(この説明での「小壁絶縁部33の幅」は、2つの壁電極部21aが向き合う方向(図において左右方向)での幅である)。小壁絶縁部33の断面は台形である。その結果、小壁絶縁部33が矩形の断面を有する場合に比べて、小壁絶縁部33の上側に形成される鉛直方向の電界を減らすことができる。このような小壁絶縁部33は、小壁絶縁部33の材料、又は小壁絶縁部33を形成するためのレジストに対して斜めに光を照射する斜め露光によって形成できる。小壁絶縁部33の形状は、図2に示すものに限られない。小壁絶縁部33の断面は、例えば四角形でもよいし、三角形でもよい。
図2の例の画素電極21は、大壁絶縁部32の上面に沿って形成される部分を有していない。そのため、共通電極22は、大壁絶縁部32の側面に位置する2つの壁電極部21aの間で露出している。その結果、壁電極部21aの上部と、共通電極22の大壁絶縁部32の上面に形成されている部分との間にも電界が形成されている。
図2の例では、画素電極21の水平電極部21bに形成されたスリットSの縁は、小壁部W2の側面の下縁に位置している。しかしながら、画素電極21は、小壁部W2の側面の下縁からさらに内側に延び、小壁部W2の側面に形成される部分(以下、において側面電極部と称する)を含んでもよい。この構造では、側面電極部と小壁部W2上の共通電極22との間にフリンジ電界が発生しやすくなる。
図2に示すように、第1基板10は、液晶層40に接する層に、液晶分子の初期配向を規定する配向膜37を有している。配向膜37は大壁部W1の側面Aを構成する部分を含んでいる。大壁部W1の側面Aは第1基板10と第2基板50とに垂直な方向に対して傾斜している(以下では側面Aを傾斜側面と称する)。大壁部W1の断面は略台形であり、大壁部W1は互いに反対側に向いた2つの傾斜側面Aを有している。2つの傾斜側面Aの間隔(大壁部W1の幅)は、第1基板10の基材11に向かって徐々に大きくなっている。大壁部W1の下部の幅Lw(台形の下辺の幅)は、大壁部W1の上面の幅Uw(台形の上辺の幅)よりも大きい。一例では、大壁部W1の下部の幅Lwは、大壁部W1の上面の幅Uwの2倍よりも大きい。
大壁部W1の上面の幅Uwはブラックマトリクス53の線幅よりも小さい一方で、大壁部W1の下部の幅Lwは、ブラックマトリクス53の線幅よりも大きい。したがって、大壁部W1の下部はブラックマトリクス53の縁から右方向及び左方向にはみ出ている。
第1基板10は絶縁膜35を有している。絶縁膜35は、2つの大壁部W1の間に位置し水平電極部21bを覆う平坦部35bを有している。小壁部W2は平坦部35bに埋まっている。すなわち、平坦部35bの厚さT1は小壁部W2の高さと概ね等しい。これにより、小壁部W2の上側での液晶層40の厚さが他の位置での液晶層40の厚さよりも小さくなることを、抑えることができる。絶縁膜35は、壁電極部21aを覆う側面部35a(側面絶縁部)を有している。大壁絶縁部32の側面と画素電極21の壁電極部21aは概ね鉛直である。絶縁膜35の側面部35aは、その厚さが基材11に向かって、すなわち平坦部35bに向かって徐々に大きくなるように形成されている(この説明での「厚さ」とは2つの大壁部W1が向き合う方向での幅、図において左右方向での幅である)。そのため、側面部35aの表面は第1基板10と第2基板50とに垂直な方向に対して傾斜している。配向膜37は側面部35aの表面に形成され、上述の傾斜側面Aを構成している。
側面部35aの表面の傾斜角度、すなわち傾斜側面Aの傾斜角度θaは、大壁絶縁部32の側面の角度θbや、壁電極部21aの角度よりも小さい。ここで「傾斜側面Aの傾斜度θa」とは、基材11に沿った水平面と傾斜側面Aとの間の角度である。また、「大壁絶縁部32の側面の角度θb」は基材11に沿った水平面と大壁絶縁部32の側面との間の角度であり、「壁電極部21aの角度」も同様である。
傾斜側面Aの配向膜37も、配向膜37を構成する分子鎖に、液晶分子の初期配向を規定する異方性を有している。配向膜37は、好適には、偏光紫外線を配向膜37に照射する光配向法によって形成される。この方法によれば、傾斜側面Aにも安定して紫外線を当てることができる。その結果、ラビング法によって配向膜37を形成する場合に比して、傾斜側面Aの配向膜37に分子鎖の異方性を付与し易くなる。なお、配向膜37を形成する方法は光配向法に限られない。例えば、配向膜37はラビング法によって形成されてもよい。
傾斜側面Aにより、液晶表示装置が黒画像を表示しているときの光漏れを低減できる(液晶分子の向きが初期配向にあるときに、黒画像が表示される)。図4は、黒画像が表示されているときの液晶分子の配置を示す図である。図4の(a−1)及び(a−2)は、大壁部W1の側面が傾斜していない場合(大壁部W1が傾斜側面Aを有していない場合)における液晶分子の配置を示している。(a−1)は大壁部W1及び液晶層40を上側から見た様子を表し、(a−2)は断面を表している。図4の(b−1)及び(b−2)は、大壁部W1が傾斜側面Aを有している場合における液晶分子の配置を示している。(b−1)は大壁部W1及び液晶層40を上側から見た様子を表し、(b−2)は断面を表している。
図4の(a−1)及び(a−2)に示すように、大壁部W1の側面から遠い液晶分子m1は、平坦部35b上の配向膜37の作用により、初期配向において角度θ1だけ傾斜している(角度θ1は第1基板10側に配置された偏光板の吸収軸方向に対する角度である)。ところが、大壁部W1の側面に近い液晶分子m2は大壁部W1の側面に沿って配置され、その配向は角度θ1からずれる。その結果、黒画像の表示時、液晶層40の位相差は大壁部W1の側面から遠い位置では0に近くなるものの、大壁部W1の側面に近い位置では0よりも大きくなる。このため、大壁部W1の側面の近くで光漏れが発生する。
図4の(b−1)及び(b−2)に示すように、大壁部W1が傾斜側面Aを有している場合も、傾斜側面Aに近い液晶分子m2は傾斜側面Aに沿って配置される。ところが、傾斜側面Aの配向膜37は、配向膜37を構成する分子鎖に、異方性を有しているので、傾斜側面Aに近い液晶分子m2も初期配向において角度θ2だけ傾斜している。これにより、大壁部W1の近くでの液晶層40の位相差を0に近づけることができ、光漏れを低減できる。また、大壁部W1が傾斜側面Aを有する構造では、傾斜側面Aを有していない構造に比して、大壁部W1の近くでの液晶層40の厚さが小さくなる。液晶層40の厚さの低減によっても、大壁部W1の近くでの液晶層40の位相差が0に近くなり、光漏れが低減する。
傾斜した表面を有する側面部35aは、例えば次のように形成できる。絶縁膜35の材料(例えば、感光性レジスト材料など)として比較的粘度の高い溶液を用いる。その溶液を、画素電極21及びそれより下の層が形成された第1基板10に塗布する。このとき、溶液の粘度が高いので、側面部35aの表面は斜面となる。溶媒の割合を調整する(低くする)ことにより、傾斜側面Aを形成するのに望ましい粘度を有する溶液を得ることができる。
図2に示すように、絶縁膜35は複数の画素の全域に亘って形成されている。すなわち、絶縁膜35は上面部35cを有している。上面部35cは大壁絶縁部32の上側を覆い、大壁絶縁部32を挟んで互いに反対側に位置する2つの側面部35aを繋いでいる。絶縁膜35の平坦部35bは、小壁部W2の上側も覆っている。このような絶縁膜35によれば、絶縁膜35をパターニングするための工程が必要とされないので、製造工程の増加を抑えることができる。
図2に示すように、絶縁膜35の上面部35cの厚さは、絶縁膜35の平坦部35bの厚さよりも小さい。これにより、液晶層40に横電界が形成され易くなる。図5は、液晶層40に形成される電界に対する上面部35cの厚さの影響を説明するための図である。図5(a)は図3と同様である。図5(b)で示す第1基板10の上面部35cは、図5(a)で示す第1基板10の上面部35cよりも大きな厚さを有している。液晶層40の厚さは、液晶層40において必要とされる位相差によって決まるので、図5(a)と図5(b)とにおいて液晶層40の厚さは一定である。そのため、図5(b)に示すように上面部35cの厚さを大きくすると、大壁部W1の高さは小さくなる。図5(a)及び(b)に示すように、壁電極部21aと、共通電極22の大壁絶縁部32上の部分との間には、縦方向の電界Eが形成される。この電界Eは、上面部35cの厚さが大きい構造では、電界Eは液晶層40を通りやすくなる。言い換えると、上面部35cを薄くすることにより、液晶層40に形成される縦方向の電界を低減でき、白画像の表示時の光の透過率を向上できる。なお、絶縁膜35の材料の溶液の粘度(濃度)を調整することにより、平坦部35bに比べて薄い上面部35cを得ることができる。
絶縁膜35の小壁部W2上の部分の厚さは、平坦部35bの厚さT1よりも薄い。これにより、小壁部W2の上側で、液晶層40の厚さを確保し易くなる。すなわち、対向する2つの大壁部W1の間で、液晶層40の厚さを均一に保ちやすくなる。その結果、白画像の表示時の光の透過率の低減を抑えることができる。
上述したように、傾斜側面Aの傾斜角度θaは、絶縁膜35の材料に加える溶媒の割合を調節することにより変えることができる。傾斜角度θaが異なる複数のサンプルを製造し、各サンプルについて黒画像の表示時の光の透過率を測定した。尚、壁の高さは約5um、平坦部35bの厚さを約2umに設定した。図6は測定結果を示すグラフである。横軸は傾斜側面Aの傾斜角度θaであり、縦軸は透過率の相対値である。透過率の相対値は、傾斜側面Aの傾斜角度θaが85度である場合の透過率を100%とした場合の透過率の相対的な大きさである。傾斜角度θaは傾斜側面Aが基材11となす角度である。具体的には、大壁部W1の外面において基材11に対する角度が最も大きい部分の傾斜角度をθaとした。傾斜角度θaは、サンプルを切断し、その断面をSEM(Scanning Electron Microscope)観察により測定した。いずれのサンプルでも、ブラックマトリクス53の線幅を5μmとし、大壁部W1の上面の幅を2μmとした。
図6に示すように、傾斜角度θaが85度から75度の範囲では、傾斜角度θaが小さくなるに従って透過率の相対値も小さくなる。傾斜角度θaが75度の場合には透過率の相対値は約35%である。傾斜角度θaが75度より小さく70度より大きい範囲では、透過率の相対値は30%に向けて徐々に下がり、傾斜角度θaが70度以下の範囲では、透過率の相対値は概ね一定で約30%となる。図6の測定結果から、好ましい傾斜角度θaは75度以下である。より好ましい傾斜角度θaは70度以下である。すなわち、好ましい傾斜角度θaは、傾斜角度を徐々に小さくした場合に透過率の相対値が一定となる角度(図6において70度)+5度(図6において75度)よりも小さい角度である。さらに好ましい傾斜角度θaは、透過率の相対値が一定となる角度(図6において70度)よりも小さい角度である。図6において、傾斜角度θaが70度以下の範囲で、透過率の相対値が概ね一定となるのは、傾斜角度θaが70度になると、傾斜側面Aに形成される配向膜37の分子鎖の方向が、平坦部35bに形成される配向膜37の分子鎖の方向に、液晶表示装置1の平面視において概ね一致するためと考えられる。
傾斜角度θaが小さくなるに従って、傾斜側面Aの近くで液晶層40の厚さが小さくなる。その結果、傾斜側面Aの近くで液晶分子が動きにくくなり、白画像の表示時における光の透過率が下がることが考えられる。そこで、傾斜角度θaが異なる複数のサンプルを製造し、各サンプルについて白画像の表示時における光の透過率を測定した。図7はその測定結果を示すグラフである。横軸は傾斜角度θaであり、縦軸は光の透過率である。図7の透過率は、カラーフィルター52や偏光板による光の吸収による影響、及び各画素の開口率の影響を除いた透過率である。第1基板10側の偏光板を透過した直線偏光の振動方向が、第2基板50側の偏光板において90度回転している場合には、その光の透過率は100%としている。傾斜角度θaの測定方法は図6の測定時と同様である。また、いずれのサンプルでも、ブラックマトリクス53の線幅を5μmとし、大壁部W1の上面の幅を2μmとした。
図7に示すように、傾斜側面Aの傾斜角度θaが小さくなると、白画像の表示時の透過率は低下した。特に傾斜角度θaが55度より小さい範囲では、透過率の低下は顕著となった。したがって、傾斜角度θaは55度以上が好ましい。傾斜角度θaが60度以上の範囲では、透過率は約90%で概ね一定となった。したがって、傾斜角度θaは60%以上がさらに好ましい。すなわち、好ましい傾斜角度θaは、傾斜角度を徐々に大きくした場合に白画像の表示時における光の透過率が概ね一定となる角度(図7において60度)−5度(図7において55度)よりも大きい角度である。さらに好ましい傾斜角度θaは、傾斜角度を徐々に大きくした場合に白画像の表示時における光の透過率が概ね一定となる角度(図7において60度)よりも大きい角度である。図6の測定結果と図7の測定結果によれば、好ましい傾斜角度θaは55度以上75度以下である。さらに好ましい傾斜角度θaは60度以上70度以下である。
なお、傾斜角度θaが55度である場合、大壁部W1の下部の幅Lw(図2参照)は7.0μmであった。ブラックマトリクス53の線幅5.0μmであるので、傾斜角度θaが55度である場合、大壁部W1の下部はブラックマトリクス53の両縁から1μmだけはみ出していた。しかしながら、図7の測定結果によれば、傾斜角度θaが55度以上であれば、白画像の表示時に比較的良好な透過率が得られることが分かった。すなわち、大壁部W1の下部の幅Lwは次の式(1)を満たすことが好ましい。
0<Lw<Bw+2μm・・・式(1)
Bwはブラックマトリクス53の線幅である。
0<Lw<Bw+2μm・・・式(1)
Bwはブラックマトリクス53の線幅である。
図8は図1に示すVIII−VIII線を切断面とする液晶表示装置1の断面図である。この図では薄膜トランジスタTが示されている。なお、この図において第2基板50は省略されている。
図1及び図8に示すように、第1基板10にはゲート電極線12が形成されている。ゲート電極線12はゲート絶縁膜31によって覆われている。絶縁膜31上には、上述したドレイン電極線13と、半導体層14とが形成されている。半導体層14上にはドレイン電極線13に繋がるドレイン電極13aと、ソース電極15とが形成されている。ゲート絶縁膜31上には、半導体層14、ドレイン電極線13、ドレイン電極13a、及びソース電極15を覆う絶縁膜36が形成されている。絶縁膜36上に共通電極22が形成されている。そして、共通電極22上に絶縁膜34が形成されている。絶縁膜34上に画素電極21が形成されている。画素電極21は、絶縁膜34、共通電極22、及び絶縁膜36に形成されたスルーホールhを通してソース電極15に繋がっている。
以上説明したように、第1基板10の大壁部W1は配向膜37が形成されている傾斜側面Aを有している。これにより、大壁部W1の近くでの光漏れを低減できる。
なお、本発明は以上説明した液晶表示装置1に限られず、種々の変更が可能である。
図9から図14のそれぞれは本発明の他の例を示す断面図である。これらの図では、図2を参照して説明した箇所と同一箇所には同一符合を付している。以下の説明では、図2の例と異なる点を中心にして説明する。説明の無い事項は図2の例と同様である。なお、これらの図では、絶縁膜36とそれより下側の構造、及び、ブラックマトリクス53より上側の構造は省略されている。
図9の例では、絶縁膜35に替えて絶縁膜135が設けられている。絶縁膜135は、大壁絶縁部32の上側を覆う上面部35cを有していない。この構造によれば、上面部35cが形成される構造に比して、大壁部W1の高さを増すことができる。すなわち、画素電極21の壁電極部21aの高さを増すことができる。これにより、液晶層40に横電界を形成し易くなる。このような絶縁膜135は、上面部35cをフォトリソグラフィーによって取り除くことにより形成できる。なお、図9の例では、画素電極21は小壁部W2の側面の下側部分に沿って形成されている側面電極部21cを有している。
図10の例では、絶縁膜135は、第1絶縁膜135Aと第2絶縁膜135Bとからなる2層構造を有している。第1絶縁膜135Aは対向する2つの大壁部W1の間に形成されている。第1絶縁膜135Aは大壁絶縁部32を覆うようには形成されていない。一方、第2絶縁膜135Bは第1絶縁膜135A上に形成され、且つ大壁絶縁部32を覆っている。すなわち、第2絶縁膜135Bは、壁電極部21aに沿っている側面部135a(側面絶縁部)と、大壁絶縁部32の上側を覆う上面部135cと、第1絶縁膜135A上に形成されている平坦部135bとを有している。側面部135aの表面は、第1基板10と第2基板50とに垂直な方向に対して傾斜しており、これにより傾斜側面Aが得られている。第1絶縁膜135Aの材料の溶液は、第2絶縁膜135Bの材料の溶液よりも粘度が低くなるように濃度が調整されている。この2層構造によれば、大壁部W1の上面を構成する上面部135cの厚さを低減しながら、2つの大壁部W1の間で、絶縁膜135の厚さ(詳細には、第1絶縁膜135Aの厚さと平坦部135bの厚さとの合算)を確保し易くなる。第1絶縁膜135Aは、第1基板10の製造工程において、フォトリソグラフィーによって大壁絶縁部32の上側に位置する部分が取り除かれる。
図11の例は、図10の第2絶縁膜135Bに替えて、絶縁部135Cを有している。絶縁部135Cは上述の側面部135aに相当している。すなわち、絶縁部135Cは壁電極部21aに沿って形成され、且つ、その表面は基板10,20に対して垂直な方向に対して傾斜している。絶縁部135Cは、大壁絶縁部32の上側を覆う部分や、小壁部W2を覆う部分を有してない。このような構造によれば、大壁部W1の高さ、すなわち壁電極部21aの高さを増すことができるので、横電界が液晶層40に形成され易くなる。絶縁部135Cの形成工程では、フォトリソグラフィーによって大壁絶縁部32の上側の部分(上面部135cに対応する部分)や、小壁部W2の上側の部分が取り除かれる。
図12の例では、上述の大壁絶縁部32に替えて大壁絶縁部232が設けられている。大壁絶縁部232の幅(2つの大壁絶縁部232が対向する方向での幅)は、第1基板10の基材11に向かって徐々に大きくなっている。換言すると、大壁絶縁部232は略台形の断面を有している。大壁絶縁部232の側面は傾斜している。この大壁絶縁部232の上面及び側面を覆うように、共通電極22及び絶縁膜34が形成されている。画素電極21の壁電極部21aは傾斜した側面に沿って形成されている。この側面の存在により、大壁部W1の側面Aは傾斜している。
図2の絶縁膜35に対応する絶縁膜235は画素電極21上に形成され、大壁絶縁部232の上面及び側面を覆っている。絶縁膜235は、大壁絶縁部232の上側を覆う上面部235cと、大壁絶縁部232の側面に沿って形成される側面部235a(側面絶縁部)と、水平電極部21bを覆う平坦部235cとを有している。側面部235aは、大壁絶縁部232の傾斜した側面に沿って形成され、その厚さは第1基板10の基材11に向かって徐々に大きくなっている。この構造によれば、大壁絶縁部232の側面が略鉛直となっている図2の構造に比して、傾斜側面Aの傾斜角度θaを小さくすることが比較的容易となる。なお、側面部235aの厚さは必ずしも基材11に向かって徐々に大きくなっていなくてもよい。大壁絶縁部232は、例えば、大壁絶縁部232の材料、又は大壁絶縁部232を形成するためのレジストに対して斜めに光を照射する斜め露光によって形成できる。
図13の例は図12の例と概ね同様であるものの、絶縁膜235において相違している。図13の例は、絶縁膜235に対応する絶縁膜335を有している。絶縁膜335は、2つの大壁部W1の間に形成されているものの、大壁部W1の大壁絶縁部232の側面及び上面を覆うようには形成されていない。配向膜37は絶縁膜335上に形成されるとともに、大壁絶縁部232の上側を覆っている。また、配向膜37は大壁絶縁部232の側面に沿って形成される部分を有し、この部分は壁電極部21a上に形成されている。叙述したように、大壁絶縁部232の側面は傾斜しているため、配向膜37によって構成される大壁部W1の側面Aは傾斜している。この構造によれば、大壁部W1の高さを増すことができるので、液晶層40に横電界が形成され易くなる。絶縁膜335は、その形成工程において、フォトリソグラフィーによって大壁絶縁部32の上側の部分や側面に沿っている部分が取り除かれる。
これまでの説明では、対向する2つの大壁部W1の側面の双方に画素電極21の壁電極部21aが形成されていた。しかしながら、一方の大壁部W1には画素電極21の壁電極が形成され、他方の大壁部W1には共通電極の壁電極が形成されてもよい。図14は、この形態に係る液晶表示装置の断面図である。
第1基板10は、大壁絶縁部32を有している。大壁絶縁部32の一方の側面には画素電極21の壁電極部21aが形成されている。大壁絶縁部32の他方の側面には共通電極22の壁電極部22aが形成されている。したがって、画素電極21の壁電極部21aと共通電極22の壁電極部22aは1つの画素の中心を挟んで互いに向き合っている。共通電極22は壁電極部22aと絶縁膜36上に形成される水平な水平電極部22bを有している。また、画素電極21も絶縁膜36上に形成される水平電極部21bを有している。図14の例では、上述の小壁部W2は形成されていない。この構造によれば、2つの大壁部W1の間で液晶分子の動きが均一化されるので、白画像の表示時における光の透過率を増すことができる。
電極21,22は絶縁膜435で覆われている。絶縁膜435は壁電極部21a,22bに沿って形成される側面部435a(側面絶縁部)を有している。側面部435aの厚さは、上述の絶縁膜35の側面部35aと同様に、第1基板10の基材11に向かって徐々に厚くなっている。したがって、側面部435aの表面は、第1基板10と第2基板50とに垂直な方向に対して傾斜している。配向膜37は、側面部435aを覆っており、大壁部W1の傾斜側面Aを構成している。図14の例において、大壁絶縁部32は、図12及び図13の例と同様に、台形の断面を有してもよい。図14に示す絶縁膜435は、水平電極部21b,22b上に形成される平坦部435bと、大壁絶縁部32の上側を覆う上面部435cとを含んでいる。絶縁膜435は必ずしも上面部435cを有していなくもよい。
液晶表示装置1の各画素はマルチドメイン構造を有してもよい。すなわち、各画素はドレイン電極線13の延伸方向において2分される2つの領域を有し、一方の領域での液晶分子の初期配向の方向が、他方の領域での液晶分子の初期配向の方向に対して傾斜していてもよい。
図2の例では、大壁部W1の壁電極部21aは画素電極として機能していた。しかしながら、大壁部W1には共通電極として機能する壁電極部21aが形成されてもよい。この構造の一例では、共通電極は2つの大壁部W1の間に水平電極部21bを有し、水平電極部21bにはスリットSが形成される。画素電極は、小壁絶縁部33上に形成され、このスリットSから液晶層40に向かって露出する。
1 液晶表示装置、10 第1基板、11 基材、21 画素電極、21a 壁電極部、21b 水平電極部、22 共通電極、32,232 大壁絶縁部、33 小壁絶縁部、34,35,36,135,235,335,435 絶縁膜、37 配向膜、40 液晶層、51 基材、W1 大壁部、W2 小壁部。
Claims (8)
- 複数の画素のそれぞれに設けられている画素電極と、共通電極とを有している第1の基板と、
前記第1の基板に向き合っており、隣接する2つの画素を仕切るブラックマトリクスを有している第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられている液晶層と、
前記第1の基板に絶縁材料で形成され、前記隣接する2つの画素の境に位置している壁絶縁部と、前記壁絶縁部の側面に沿って形成されている、前記画素電極又は前記共通電極として機能している壁電極と、前記液晶層の液晶分子の配向を規定する、前記壁電極を覆う配向膜が形成されている側面と、を有する壁部と、を有し、
前記配向膜が形成されている前記壁部の側面は、前記第1の基板と前記第2の基板とに垂直な方向に対して傾斜している、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記壁部は、絶縁材料によって形成され前記壁電極を覆う側面絶縁部を有し、
前記側面絶縁部の表面は前記第1の基板と前記第2の基板とに垂直な方向に対して傾斜しており、
前記配向膜は前記側面絶縁部の表面に形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記配向膜が形成されている前記壁部の側面と前記第1の基板の基材とがなす角度は、前記第1の基板の基材と前記壁絶縁部の側面とがなす角度よりも小さい、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1又は2に記載の液晶表示装置において、
前記壁絶縁部の前記側面は、前記第1の基板と前記第2の基板とに垂直な方向に対して傾斜している、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記壁部は、前記壁部における前記第1の基板の基材側の部分である下部を有し、
前記壁部の下部は前記ブラックマトリクスの線幅よりも大きな幅を有している、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項2に記載の液晶表示装置において、
前記側面絶縁部を形成する絶縁材料は、隣接する2つの画素のうち一方の画素から他方の画素まで前記壁部の上面を通って繋がっている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記第1の基板は、前記壁絶縁部である大壁絶縁部と、1つの画素を挟んで互いに向き合う2つの大壁絶縁部の間に形成され、2つの大壁絶縁部よりも高さが低い小壁絶縁部と、を備え、
前記画素電極と前記共通電極のうち一方の電極は、前記大壁絶縁部の側面に沿って前記壁電極として形成され、
前記画素電極と前記共通電極のうち他方の電極は、前記小壁絶縁部に形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記画素電極と前記共通電極のうち一方の電極は、互いに向き合う2つの壁絶縁部のうち一方の壁絶縁部の側面に沿って形成され、
前記画素電極と共通電極のうち他方の電極は、前記2つの壁絶縁部のうち他方の壁絶縁部の側面に沿って形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
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