JP2015004765A - 露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 マスクの円筒面状のパターン領域を斜め照明する構成において、円筒面状のシート基板上でのデフォーカスによる像の位置ずれの発生を小さく抑える。【解決手段】 第１軸線廻りに回転する円柱状または円筒状のマスクの外周面のパターン領域に設けられたパターンを、第２軸線から一定半径の円筒状の外周面を有する円筒体に支持されて一方向に移動する可撓性の基板上の露光領域に走査露光する露光装置は、マスクの外周面に斜め入射する光によりマスクの外周面上に照明領域を形成する照明系と、照明領域内のパターンの像を基板上の結像領域に形成する投影光学系とを備えている。投影光学系は、照明領域からの光によりパターンの中間像を形成する第１結像光学ユニットと、中間像からの光によりパターンの最終像を結像領域に形成する第２結像光学ユニットと、中間像の形成位置に配置された凹円筒面状の反射面を有する反射鏡とを備えている。【選択図】 図１

Description

本発明は、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、例えば一方向に移動する可撓性の基板にパターンを走査露光する露光装置に関する。

従来、フレキシブルな高分子シート上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法でパターニングすることにより、有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する手法が考案されている。このフォトリソグラフィ工程において用いられる露光装置として、ロール・ツー・ロール（Roll to Roll）で搬送される帯状の可撓性の基板（感光性のシート基板）にマスクのパターンを転写する露光装置（以下、ロール・ツー・ロール型の露光装置という）が知られている。

ロール・ツー・ロール型の露光装置として、例えば第１軸線廻りに回転する円柱状（または円筒状）のマスクの外周面に沿って形成された透過型または反射型のマスクパターンを、円筒状マスクと同じ径の回転ローラーの一部に巻き付けられて一方向に連続的に移動するシート基板上の露光領域に走査露光（スキャン露光）する構成が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。また、回転円筒マスクの外側に配置された照明系から反射型のマスクパターンに照明光を照射し、外側に反射するパターン光を投影光学系によって、一方向に連続的に移動するシート基板上に走査露光（スキャン露光）する構成も提案されている（例えば、特許文献２を参照）。

特開２０１１−２２１５３６号公報 特開２０１１−２２１５３７号公報

外周面にパターン領域が設けられた円柱状（または円筒状）の反射マスクは、例えば金属製の円筒母材の外周面に、金属等による多層膜を蒸着法やメッキ法により積層した後、その多層膜をパターンに応じてエッチングして高反射部と低反射部（光吸収部）を形成することから、安価に製造可能であり、単純な回転運動により一方向に搬送されるシート基板への連続露光が可能になるため、ロール・ツー・ロール型のスキャン露光装置に適している。また、所定の経路に沿って搬送されるシート基板に一定のテンションを掛けて、シート基板の被露光表面を安定な面状態に維持して連続露光するためには、円柱状（または円筒状）の回転ドラムの外周面の一部にシート基板を巻き付けた状態、或いはシート基板の連続移動の方向に所定の曲率で円筒面状に湾曲したエアベアリング式の支持面を持つ案内部材でシート基板を支持した状態で、シート基板を一方向に移動させるのが良い。

この場合、マスクの外周面上に照明領域を形成する際に、偏光ビームスプリッターを用いて落射照明を行う照明手法が単純である。しかしながら、偏光ビームスプリッターを用いる落射照明では、所要の照明領域（ひいてはシート基板上の結像領域）に見合ったサイズを有し且つ所要の解像力に見合った面精度を有する偏光ビームスプリッターおよび波長板が必要になる。そこで、偏光ビームスプリッターおよび波長板を用いることなく、マスクの外周面に斜め入射する光によりマスクの外周面上に照明領域を形成する斜め照明を行うとともに、円筒面状のパターン領域からの回折光を円筒面状のシート基板に斜め方向から結像させるアオリ投影光学系を使用する構成が考えられる。

円筒面状のマスクパターン領域から円筒面状に支持されたシート基板へのパターンの投影において、シート基板上に形成される像の位置ずれおよび像の歪みを発生させないためには、シート基板上の結像領域（露光領域）の全体に亘って円筒面の射影関係を満たす投影光学系が必要になる。ちなみに、通常の光学系の縦倍率αは横倍率をβとするときα＝β^２で表されるため、投影光学系に向かって凸状となる円筒状のマスクパターンの光学像面は、シート基板に向かって凹面形状となり、凸円筒面状に支持されるシート基板上では比較的大きなデフォーカスを許容せざるを得ない。

しかしながら、円筒面状のシート基板に斜め方向から結像させる通常のアオリ投影光学系を用いる構成では、デフォーカス量に応じた像の位置ずれが発生し、ひいては像の歪みが発生する場合がある。シート基板を支持する回転ドラムやエアベアリング式の円筒状支持面を持つ案内部材の曲率半径を極端に大きくし、且つスリット状の結像領域の走査露光方向の幅寸法を極端に小さくすると、デフォーカスによる像の位置ずれの影響を比較的小さくすることはできるが、この構成では装置の巨大化およびスループットの悪化を招いてしまう。

本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、マスクの円筒面状のパターン領域を斜め照明する構成において、円筒面状のシート基板上でのデフォーカスによる像の位置ずれの発生を小さく抑えることのできる露光装置、およびデバイス製造方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために、第１形態では、第１軸線廻りに回転する円柱状または円筒状のマスクの外周面のパターン領域に設けられたパターンを、第２軸線から一定半径の円筒状の外周面を有する円筒体に支持されて一方向に移動する可撓性の基板上の露光領域に走査露光する露光装置であって、
前記第１軸線と直交する平面において前記マスクの外周面に斜め入射する光により前記マスクの外周面上に照明領域を形成する照明系と、
前記照明領域内のパターンの像を前記基板上の結像領域に形成する投影光学系とを備え、
前記投影光学系は、前記照明領域からの光により前記パターンの中間像を形成する第１結像光学ユニットと、前記中間像からの光により前記パターンの最終像を前記結像領域に形成する第２結像光学ユニットと、前記中間像の形成位置に配置された凹円筒面状の反射面を有する反射鏡とを備えていることを特徴とする露光装置を提供する。

第２形態では、第１形態の露光装置を用いて、
露光用の光の照射によって親撥液性が改質する感光性機能層、又は露光用の光の照射によってメッキ還元基が露呈する感光性機能層が形成された基板に、所定のパターンを露光することと、
前記所定のパターンに対応する形状の電極層、配線層、半導体層の少なくとも１つを形成する為に、前記感光性機能層の表面に層材料となるインクを塗布、又は層材料となる溶液を接触させることと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。

本発明の一形態によれば、マスクパターンの中間像の形成位置に配置された凹円筒面状の反射面を有する反射鏡を備えたアオリ投影光学系を用いている。したがって、マスクの円筒面状のパターン領域を斜め照明する構成においてアオリ投影光学系を用いても、凸円筒面状のパターン領域と凸円筒面状の結像領域との間で射影関係を満たすことができ、ひいては円筒面状のシート基板上でのデフォーカスによる像の位置ずれの発生を小さく抑えることができる。

本発明の第１実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。 マスクの外周面を平面状に展開して示す図である。 ドラムの外周面およびシート基板を平面状に展開して示す図である。 照明系からの照明光がマスクの外周面に斜め入射して照明領域を形成する様子を示す図である。 照明領域が所定の法線角度範囲にある様子を示す図である。 アオリ投影光学系ではデフォーカスが像の位置ずれを招く様子を示す図である。 第１実施形態において凸円筒面状の結像領域への露光と射影関係を満たすこととが両立することを模式的に説明する図である。 本発明の第２実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。 第２実施形態において第１結像光学ユニットにより発生した横収差を第２結像光学ユニットにより打ち消すことを模式的に説明する図である。 並列配置された複数の投影光学系を備える第１実施形態の変形例の構成を概略的に示す図である。 図１０の変形例における複数の結像領域の配置を概略的に示す図である。 並列配置された複数の投影光学系を備える第２実施形態の変形例の構成を概略的に示す図である。 有機ＥＬ表示パネルのＴＦＴ層の製造工程の一例を示すフローチャートである。 液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。

以下、実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の第１実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図１では、その紙面における水平方向にＸ軸を、図１の紙面における鉛直方向にＺ軸を、図１の紙面に垂直な方向にＹ軸を設定している。

第１実施形態の露光装置は、Ｙ方向に沿った軸線Ｍａを中心として図１中時計廻りに回転する円柱状（または円筒状）の反射型マスクＭと、光源ＬＳからの光によりマスクＭの外周面上に照明領域ＩＲを形成する照明系ＩＬと、マスクＭのパターンの像をシート基板ＳＨ上の結像領域ＥＲに形成する投影光学系ＰＬと、シート基板ＳＨを保持した状態でＹ方向に沿った軸線ＲＬａを中心として図１中時計廻りに回転する円柱状（または円筒状）のドラム（ローラー）ＲＬと、中心軸線Ｍａ廻りにマスクＭを回転駆動する第１駆動系ＤＲ１と、中心軸線ＲＬａ廻りにドラムＲＬを回転駆動する第２駆動系ＤＲ２と、駆動系ＤＲ１，ＤＲ２等の動作を統括的に制御する制御系ＣＲとを備えている。

シート基板ＳＨは、フォトレジスト（感光材料）が塗布されたフレキシブルな（可撓性を有する）帯状の高分子シートである。シート基板ＳＨは、ドラムＲＬの外周面である円筒面に当接した状態で且つ円筒面に沿って滑動しないように保持されている。その結果、シート基板ＳＨは、ドラムＲＬの軸線ＲＬａ廻りの回転に伴って円筒面の円周方向に移動する。換言すれば、シート基板ＳＨは、軸線ＲＬａ廻りに回転するドラムＲＬの一部に巻き付けられて一方向に移動する。

照明系ＩＬには、光源ＬＳから露光用の照明光（露光光）が供給される。露光光として、例えば、超高圧水銀ランプの射出光から選択されたｉ線（波長３６５ｎｍ）の光、ＹＡＧレーザの３倍高調波（波長３５５ｎｍ）よりなるパルス光、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などを用いることができる。照明系ＩＬは、複数のレンズなどを有し、ＸＺ平面（軸線Ｍａと直交する平面）においてマスクＭの外周面に斜め入射する光により、マスクＭの外周面上においてＹ方向に細長い照明領域ＩＲを形成する。

すなわち、照明領域ＩＲは、マスクＭの外周面である円筒面に沿った面形状を有する。円柱状（または円筒状）の形態を有するマスクＭの外周面には、シート基板ＳＨに転写すべきパターン、すなわち有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの電子デバイス用のパターンが設けられている。マスクＭの外周面に設けられる転写パターンは、例えば多層膜により形成されて高反射部と低反射部とからなるパターンである。

図２は、マスクＭの外周面をＹＺ平面に沿った平面状に展開して示す図である。図２に示すように、平面状に展開された照明領域ＩＲは、Ｙ方向に沿って細長く延びる矩形状（スリット状）の外形を有する。図２に示すように、Ｙ方向に沿った帯状の照明領域ＩＲは、照明系ＩＬの射出側の光軸ＡＸ１（ひいては投影光学系ＰＬの入射側の光軸ＡＸ２）を中心として、転写すべきパターンが設けられたパターン領域ＰＡを照明するように形成される。パターン領域ＰＡ内のパターンのうち、照明領域ＩＲにより照明されたパターンからの光は、２回結像型の反射屈折光学系として構成された投影光学系ＰＬに入射する。

具体的に、投影光学系ＰＬは、照明領域ＩＲにより照明されたパターンからの光によりパターンの中間像を形成する第１結像光学ユニットＧ１１と、中間像からの光によりパターンの最終像をシート基板ＳＨ上の結像領域ＥＲに形成する第２結像光学ユニットＧ１２と、中間像の形成位置に配置された凹円筒面状の反射面を有する反射鏡ＣＭ１とを備えている。投影光学系ＰＬは、シート基板ＳＨ上の結像領域ＥＲに、照明領域ＩＲ内のパターンの投影像を形成する。結像領域ＥＲは、照明領域ＩＲと光学的に対応する領域であって、照明領域ＩＲと同様に、円柱状（または円筒状）のドラムＲＬの外周面である円筒面に沿った面形状を有する。

図３は、ドラムＲＬの外周面およびシート基板ＳＨをＹＺ平面に沿った平面状に展開して示す図である。図３に示すように、軸線ＲＬａ廻りに回転するドラムＲＬの一部に巻き付けられて一方向に移動するシート基板ＳＨ上には、投影光学系ＰＬの射出側の光軸ＡＸ３を中心としてＹ方向に沿って帯状に延びる結像領域ＥＲが形成される。投影光学系ＰＬは、シート基板ＳＨ上の結像領域ＥＲに照明領域ＩＲ内のパターンの投影像を形成する。

投影光学系ＰＬの投影倍率に応じてマスクＭの回転とシート基板ＳＨの移動（ひいてはドラムＲＬの回転）とを同期させることにより、シート基板ＳＨ上にはパターン領域ＰＡのＹ方向寸法に対応する幅を有する露光領域ＳＲに対してマスクパターンが走査露光される。具体的に、マスクＭが中心軸線Ｍａ廻りに１回転すると、ドラムＲＬの外周面に沿って円周方向へ移動するシート基板ＳＨ上の第１露光領域ＳＲ１には、マスクＭのパターン領域ＰＡ内のパターンが走査露光により転写される。

次いで、マスクＭが中心軸線Ｍａ廻りにもう１回転すると、ドラムＲＬの外周面に沿って円周方向へ移動するシート基板ＳＨ上において第１露光領域ＳＲ１からシート基板ＳＨの長尺方向（長手方向）に間隔を隔てた第２露光領域ＳＲ２にも、パターン領域ＰＡ内のパターンが走査露光により転写される。すなわち、制御系ＣＲからの指令にしたがって第１駆動系ＤＲ１による中心軸線Ｍａ廻りのマスクＭの回転と第２駆動系ＤＲ２による円筒面に沿ったシート基板ＳＨの移動（ひいては中心軸線ＲＬａ廻りのドラムＲＬの回転）とを同期させることにより、ドラムＲＬの外周面に沿って円周方向へ移動するシート基板ＳＨ上には、パターン領域ＰＡ内のパターンがそれぞれ転写された複数の露光領域ＳＲがシート基板ＳＨの長尺方向に間隔を隔てて順次形成される。

マスクＭの外周面において、その円周方向に沿って間隔を隔てて複数のパターン領域を設けることもできる。この場合、マスクＭが中心軸線Ｍａ廻りに所定角度だけ回転する度に、各パターン領域内のパターンが各露光領域に走査露光により転写される。ただし、以下の説明では、マスクＭの外周面に単一のパターン領域ＰＡが設けられ、マスクＭが中心軸線Ｍａ廻りに１回転する度に、パターン領域ＰＡ内のパターンが各露光領域ＳＲに走査露光により転写されるものとする。

また、説明の理解を容易にするために、第１結像光学ユニットＧ１１および第２結像光学ユニットＧ１２はともに等倍光学系であり、投影光学系ＰＬはパターンの等倍像を結像領域ＥＲに形成するものとする。さらに、マスクＭとドラムＲＬとは互いに同じ半径を有し、ひいてはマスクＭの外周面とドラムＲＬの外周面とは互いに同じ曲率を有するものとする。

以下、第１実施形態においてマスクＭの円筒面状のパターン領域ＰＡを斜め照明する構成において、円筒面状のシート基板ＳＨ上でのデフォーカスによる像の位置ずれの発生を小さく抑える原理について説明する。平面状に展開されたマスクＭのパターン領域ＰＡおよびシート基板ＳＨ上の結像領域ＥＲにおける位置を二次元座標（ｘ，ｙ）で表し、円筒面における曲率方向の位置を法線角度Θで表す。

二次元座標におけるｙ方向は、全体三次元座標のＹ方向と平行に設定されている。Θは投影光学系ＰＬの入射側光軸ＡＸ２の方向を基準（＝０）とし、π≧Θ＞−πであるものとする。マスクＭの半径をＲとすると、パターン領域ＰＡにおける位置は、二次元座標（ｘ＝ＲΘ，ｙ）で表され、ｘ方向に２π周期構造となる。第１実施形態において円筒面状のシート基板ＳＨ上でのデフォーカスを発生させないためには、円筒面での射影関係が満たされる必要がある。

第１実施形態では、図４に示すように、射出側光軸ＡＸ１を有する照明系ＩＬからの照明光が、マスクＭの円筒面状のパターン領域ＰＡにおける法線角度θの位置を中心に、投影光学系ＰＬの入射側光軸（ひいては第１結像光学ユニットＧ１１の入射側光軸）ＡＸ２に対して角度２θ（π／２≧｜θ｜）の方向から光軸テレセンで斜め入射して、照明領域ＩＲを形成する。照明領域ＩＲの中心位置のパターンからの主光線は、投影光学系ＰＬの入射側光軸ＡＸ２の方向（θ＝０）に沿って第１結像光学ユニットＧ１１に入射する。このように、照明系ＩＬの射出側光軸ＡＸ１および第１結像光学ユニットＧ１１の入射側光軸ＡＸ２は軸線Ｍａと直交するＸＺ平面上にあり、ＸＺ平面に沿ったマスクＭの外周面の法線に関して対称に配置されている。

この場合、図５に示すように、スリット状の照明領域ＩＲを法線角度θの方向から見た見掛け幅をＬとし、照明領域ＩＲがθ−αからθ＋αの法線角度の範囲にあるとき、次の式（１）および（２）に示す関係が成立する。また、スリット状の照明領域ＩＲの曲率方向に沿った実際の幅Ｌｍは、次の式（３）で表される。
Ｌ＝２×Ｒ×sinα （１）
α＝sin^−１（０．５×Ｌ／Ｒ） （２）

通常の等倍の投影光学系を用いる場合、その縦倍率は１倍であるため、光学像面は物体面である円筒面状の照明領域ＩＲに対応して｜Θ’｜＝｜Θ｜＜π／２の法線角度範囲で、投影光学系の射出側光軸の方向から見て凹円筒面形状になる。一方、テンションを掛けた状態でシート基板ＳＨを搬送する必要があるため、比較的大きな像質悪化（デフォーカス）を敢えて許容し、回転する半径Ｒ’の円柱状（または円筒状）のドラムＲＬに巻き付けた状態でシート基板ＳＨの凸円筒面状の結像領域ＥＲ（｜Θ’｜＞π／２）に露光せざるを得ない。このとき、凸円筒面状の結像領域ＥＲの曲率方向に沿った実際の幅Ｌｓは、次の式（４）で表される。

式（３）および（４）を参照すると、マスクＭのパターンをシート基板ＳＨ上に歪みなく忠実に転写するには、すべての物像関係位置でＲ’ｄΘ’＝ＲｄΘを満たせばよいことがわかる。偏光ビームスプリッターを用いる落射照明の場合、マスクＭの半径ＲとドラムＲＬの半径Ｒ’とを等しく設定し且つマスクＭの中心軸線ＭａとドラムＲＬの中心軸線ＲＬａとの間に平行なテレセン光学系を構成することができる。したがって、シート基板ＳＨ上の結像領域ＥＲが凸円筒面状であってもＲ’ｄΘ’（Ｒ＝Ｒ’）は変化しないため、像質悪化（デフォーカス）をある程度許容しさえすれば、シート基板ＳＨの搬送に適した凸円筒面状の結像領域ＥＲへの露光において射影関係は保たれる。

しかしながら、第１実施形態のように照明系ＩＬによる斜め照明に対応してアオリ投影光学系ＰＬを用いる場合、ドラムＲＬに巻き付けられたシート基板ＳＨの凸円筒面状の結像領域ＥＲに対して斜め方向から結像（露光）することになる。その結果、アオリ投影光学系ＰＬでは、図６に示すように、凸円筒面状の結像領域ＥＲに対する凹円筒面状の光学像面ＩＰのデフォーカス量６１に応じた像の位置ずれ６２によりＲ’ｄΘ’（Ｒ＝Ｒ’）が変化し、単純な光学補正を行ってもシート基板ＳＨの搬送に適した凸円筒面状の結像領域ＥＲへパターンを忠実に転写することは困難である。すなわち、斜め照明に対応して用いられるアオリ投影光学系ＰＬでは、デフォーカスが像の位置ずれを必然的に招く。

第１実施形態では、シート基板ＳＨの搬送に適した凸円筒面状の結像領域ＥＲへの露光と射影関係Ｒ’ｄΘ’＝ＲｄΘを満たすこととを両立させるために、マスクＭの外周面と同じ曲率（ひいてはマスクＭと同じ曲率半径Ｒ）の凹円筒面状の反射面を有する反射鏡ＣＭ１を中間像の形成位置に配置している。図７に模式的に示すように、照明系ＩＬからの照明光が照明領域ＩＲの中心に対して角度θの光軸テレセンで入射すると、照明領域ＩＲの中心からの光の主光線の角度はθになるが、法線角度が中心とαだけ異なる周辺位置からの主光線の角度はθ−αとなる。

収差補正されている倍率−１の第１結像光学系（第１結像光学ユニットＧ１１に対応）７１を介した光により、中間結像面と一致する反射鏡ＣＭ１の凹円筒面状の反射面では射影関係が成り立ち、歪みのない中間像Ｉｍが投影される。その後、光軸が反転し、反射鏡ＣＭ１の凹円筒面の法線角度はΘ''からΘ''＋πに変換され、かつ、凹円筒面上における中間像Ｉｍの周辺位置θ−αには主光線角度θ＋αの光が入射する関係で、法線角度αにかかわらず反射面からの反射光の主光線角度はθに変換される。その結果、第２結像光学系（第２結像光学ユニットＧ１２に対応）７２を角度θだけ傾けて配置すれば、第２結像光学系７２へ物側テレセンで光線を入射させることができ、ひいては通常の両側テレセンの投影光学系と同様に扱うことができる。

シート基板ＳＨ上の凸円筒面状の結像領域ＥＲに結像される最終像面は｜Θ’｜＝｜Θ''｜＞π／２の法線角度範囲で、第２結像光学系７２の射出側光軸ＡＸ３から見て凸円筒面形状となり、シート基板ＳＨの搬送に適した凸円筒面状の結像領域ＥＲへの露光と射影関係Ｒ’ｄΘ’＝ＲｄΘを満たすこととを両立させることができる。ただし、マスクＭの半径Ｒが小さ過ぎたり、照明領域ＩＲの法線角度範囲を規定する角度αが大き過ぎたりすると、第１結像光学系７１の光路が非対称になる程度が無視できなくなるため、非対称収差への対策が必要になる。

再び図１を参照すると、第１実施形態では、照明系ＩＬからの照明光が、光軸テレセンで、凸円筒面状のパターン領域ＰＡに例えばθ＝６度の角度で斜め入射して、照明領域ＩＲを形成する。照明領域ＩＲの中心で発生した回折光の主光線は、照明領域ＩＲの中心を通る法線に対して−６度だけ傾いた方向に進むため、照明領域ＩＲの中心からの光の主光線と第１結像光学ユニットＧ１１の入射側光軸ＡＸ２とが一致するように、第１結像光学ユニットＧ１１の最も入射側に４８度の頂角を有する三角プリズムＰ１を配置している。

Ｙ方向に沿って細長いスリット状の照明領域ＩＲの幅はαから−αまでの法線角度範囲であり、照明領域ＩＲからの光の主光線もαから−αまでの角度の広がりをもっている。第１結像光学ユニットＧ１１では、第１レンズＬ１と第２レンズＬ２との間に４５度の頂角を有する二等辺三角プリズムＰ２が配置され、補正機構として使用される平行平面板Ｐ３，Ｐ４が第１レンズＬ１の前側および第２レンズＬ２の後側にそれぞれ配置されている。照明領域ＩＲからの光の主光線が２αの角度の広がりをもっている関係で、第１結像光学ユニットＧ１１の瞳位置に配置された平面鏡Ｍ１では図１中上下に広がった状態で折り返される。

中間像の形成位置の前後には４８度の頂角を有する三角プリズムＰ５が配置され、反射鏡ＣＭ１の凹円筒面状の反射面に対して光軸が−６度傾いた状態で中間像が投影される。反射鏡ＣＭ１での反射後に光の進路が＋６度方向に反転されるので、第１結像光学ユニットＧ１１と第２結像光学ユニットＧ１２とを反射鏡ＣＭ１に関して対称的に配置することが可能になっている。第２結像光学ユニットＧ１２は第１結像光学ユニットＧ１１と類似の構成を有するが、第２結像光学ユニットＧ１２では反射鏡ＣＭ１により主光線の角度の広がりがキャンセルされる。このため、反射鏡ＣＭ１よりも前側に配置された開口絞りにより結像に用いる回折光を規定することができる。

ドラムＲＬの直前には、マスクＭ側と同様に、４８度の頂角を有する三角プリズムＰ６が配置されている。こうして、第２結像光学ユニットＧ１２を経た結像光は、光軸テレセンで凸円筒面状の結像領域ＥＲに６度の角度で斜め入射し、光学像面とがほぼ一致した結像領域ＥＲにパターンの最終像を形成する。マスクＭの曲率半径Ｒおよび照明領域ＩＲの幅Ｌｍにもよるが、射影関係Ｒ’ｄΘ’＝ＲｄΘがほぼ満たされる。その結果、凸円筒面状のパターン領域ＰＡにおいて斜め照明されたパターンが、アオリ投影光学系ＰＬを介して凸円筒面状の結像領域ＥＲに、デフォーカスがほとんど発生することなく正確に投影される。

すなわち、第１実施形態では、マスクＭのパターン中間像の形成位置に配置された凹円筒面状の反射面を有する反射鏡ＣＭ１を備えたアオリ投影光学系ＰＬを用いている。したがって、マスクＭの凸円筒面状のパターン領域ＰＡを斜め照明する構成においてアオリ投影光学系ＰＬを用いても、凸円筒面状のパターン領域ＰＡと凸円筒面状の結像領域ＥＲとの間で射影関係Ｒ’ｄΘ’＝ＲｄΘを満たすことができ、ひいては凸円筒面状のシート基板ＳＨ上でのデフォーカスによる像の位置ずれの発生を小さく抑えることができる。

ところで、マスクＭの外周面への照明光の入射角度とマスクＭの外周面から投影光学系ＰＬへの反射光の射出角度とは必ず等しくなる。このため、マスクＭの外周面から投影光学系ＰＬへの反射光の方向について都合の良い射出角度がある場合には、照明系ＩＬからマスクＭの外周面への照明光の入射角度を調整することにより、マスクＭの外周面から投影光学系ＰＬへの反射光の射出角度を所望の角度に設定してもよい。

なお、第１実施形態では、反射鏡ＣＭ１の凹円筒面状の反射面の曲率が、マスクＭの外周面と同じ曲率に設定されている。しかしながら、これに限定されることなく、第１結像光学ユニットが等倍光学系である場合、反射鏡の凹円筒面状の反射面の曲率をマスクの外周面の曲率にある程度近い値に設定することにより、結像領域に形成される最終像のデフォーカスによる位置ずれを低減することができる。

また、第１実施形態では、第１結像光学ユニットＧ１１および第２結像光学ユニットＧ１２がともに等倍光学系であるものとしている。しかしながら、これに限定されることなく、反射鏡の凹円筒面状の反射面の曲率を、マスクの外周面の曲率と第１結像光学ユニットの倍率とに応じた適切な曲率に設定することにより、結像領域に形成される最終像のデフォーカスによる位置ずれを低減することができる。

また、第１実施形態では、マスクＭとドラムＲＬとは互いに同じ半径を有し、ひいてはマスクＭの外周面とドラムＲＬの外周面とは互いに同じ曲率を有するものとしている。しかしながら、これに限定されることなく、ドラムＲＬの半径をマスクＭの半径と一致させなくても、例えばドラムＲＬの半径をマスクＭの半径よりも大きく設定しても、結像領域に形成される最終像のデフォーカスをある程度小さく抑えることができ、ひいてはデフォーカスによる像の位置ずれを低減することができる。

図８は、本発明の第２実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。第２実施形態は、第１実施形態と類似の構成を有する。しかしながら、第１実施形態では投影光学系ＰＬの入射側光軸と射出側光軸とが平行に近い状態に設定され且つ第１結像光学ユニットＧ１１と第２結像光学ユニットＧ１２とが類似の構成を有するが、第２実施形態では投影光学系ＰＬの入射側光軸と射出側光軸とのなす角度が９０度に近い状態に設定され且つ第１結像光学ユニットＧ２１と第２結像光学ユニットＧ２２とが互いに同じ構成を有する。図８では、図１に示す構成要素と同様の機能を有する要素に、図１と同じ参照符号を付している。以下、第１実施形態との相違点に着目して第２実施形態の構成および作用を説明する。

第２実施形態においても第１実施形態の場合と同様に、説明の理解を容易にするために、第１結像光学ユニットＧ２１および第２結像光学ユニットＧ２２は等倍光学系であり、投影光学系ＰＬは等倍のパターン像を結像領域ＥＲに形成するものとする。また、マスクＭとドラムＲＬとは互いに同じ半径を有し、ひいてはマスクＭの外周面とドラムＲＬの外周面とは互いに同じ曲率を有するものとする。

上述したように、マスクＭの半径Ｒが小さ過ぎたり、照明領域ＩＲの法線角度範囲を規定する角度αが大き過ぎたり（すなわち照明領域ＩＲの幅が大き過ぎたり）すると、第１結像光学ユニットＧ２１の光路が非対称になる影響が大きくなり、ひいては第１結像光学ユニットＧ２１において発生する非対称収差が大きくなる。第２実施形態では、反射鏡ＣＭ２の凹円筒面状の反射面の曲率をマスクＭの外周面の曲率の２倍に設定することにより、第１結像光学ユニットＧ２１により発生する非対称収差を第２結像光学ユニットＧ２２により相殺している。

すなわち、反射鏡ＣＭ１の凹円筒面状の反射面の曲率半径をＲ／２（マスクＭの半径Ｒの１／２）とし、図９に示すように照明系ＩＬからの照明光を照明領域ＩＲの中心に対して角度θの光軸テレセンで入射させる。この場合、第１実施形態と同様に、照明領域ＩＲの中心からの光の主光線の角度はθになるが、法線角度が中心とαだけ異なる周辺位置からの主光線の角度はθ−αとなる。

収差補正されている倍率−１の第１結像光学系（第１結像光学ユニットＧ２１に対応）７３を介した光により、中間結像面と一致しない反射鏡ＣＭ２の凹円筒面状の反射面では射影関係が成り立たないが、僅かなデフォーカスにより僅かに歪みのある中間像Ｉｍが投影される。その後、光軸が反転し、反射鏡ＣＭ２の凹円筒面の法線角度はΘ''からΘ''＋πに変換され、かつ、凹円筒面上における中間像Ｉｍの周辺位置θ−２αには主光線角度θ−αの光が入射する関係で、主光線角度がθ＋αに変換され、光軸に関して対称に光路が反転する。その結果、第１結像光学系７３により発生した横収差を、第１結像光学系７３と同じ構成を有する第２結像光学系（第２結像光学ユニットＧ２２に対応）７４により打ち消すことができる。

すなわち、第２実施形態では、マスクＭのパターンの中間像の形成位置に配置されてマスクＭの半径の１／２に対応する曲率半径を持つ凹円筒面状の反射面を有する反射鏡ＣＭ２を備えたアオリ投影光学系ＰＬを用いている。したがって、マスクＭの凸円筒面状のパターン領域ＰＡを斜め照明する構成においてアオリ投影光学系ＰＬを用いても、第１結像光学ユニットＧ２１により発生した横収差を第２結像光学ユニットＧ２２により打ち消すことができる。

なお、第２実施形態では、反射鏡ＣＭ１の凹円筒面状の反射面の曲率が、マスクＭの外周面の曲率の２倍に設定されている。しかしながら、これに限定されることなく、第１結像光学ユニットが等倍光学系である場合、反射鏡の凹円筒面状の反射面の曲率をマスクの外周面の曲率よりも大きく設定することにより、第１結像光学ユニットにより発生する非対称収差を第２結像光学ユニットにより低減することができる。

また、第２実施形態では、第１結像光学ユニットＧ２１および第２結像光学ユニットＧ２２がともに等倍光学系であるものとしている。しかしながら、これに限定されることなく、反射鏡の凹円筒面状の反射面の曲率を、マスクの外周面の曲率と第１結像光学ユニットの倍率とに応じた適切な曲率に設定することにより、第１結像光学ユニットにより発生する非対称収差を第２結像光学ユニットにより低減することができる。

また、第２実施形態では、マスクＭとドラムＲＬとは互いに同じ半径を有し、ひいてはマスクＭの外周面とドラムＲＬの外周面とは互いに同じ曲率を有するものとしている。しかしながら、これに限定されることなく、ドラムＲＬの半径をマスクＭの半径と一致させなくても、例えばドラムＲＬの半径をマスクＭの半径よりも大きく設定しても、結像領域に形成される最終像のデフォーカスをある程度小さく抑えることができ、ひいてはデフォーカスによる像の位置ずれを低減することができる。

なお、第２実施形態における手法、すなわち反射鏡ＣＭ２の凹円筒面状の反射面の曲率をマスクＭの外周面の曲率の２倍に設定する手法を第１実施形態に適用することにより、第１結像光学ユニットにより発生する非対称収差を第２結像光学ユニットにより低減する効果を得ることができる。また、第１実施形態における手法、すなわち反射鏡ＣＭ１の凹円筒面状の反射面の曲率をマスクＭの外周面と同じ曲率に設定する手法を第２実施形態に適用することにより、デフォーカスによる像の位置ずれを低減する効果を得ることができる。

なお、上述の第１実施形態および第２実施形態では、単一の投影光学系ＰＬを用いて走査露光を行っている。しかしながら、これに限定されることなく、ドラムの回転軸線の方向に沿って複数の投影光学系を配列して、いわゆるマルチスキャン露光を行う構成も可能である。例えば図１０に示す第１実施形態の変形例では、複数（図１０では例示的に３つ）の投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３が、ドラムＲＬの回転軸線ＲＬａの方向（Ｙ方向）、すなわちシート基板ＳＨの移動方向と交差する方向に沿って配列されている。ここで、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ３は、第１実施形態における投影光学系ＰＬと同じ構成を有する。

具体的に、マスクＭおよびドラムＲＬを挟んで、−Ｘ方向側に第２投影光学系ＰＬ２が配置され、＋Ｘ方向側に第１投影光学系ＰＬ１および第３投影光学系ＰＬ３が配置されている。そして、Ｙ方向に沿って互いに隣り合う一方の投影光学系と他方の投影光学系、すなわち第１投影光学系ＰＬ１と第２投影光学系ＰＬ２および第２投影光学系ＰＬ２と第３投影光学系ＰＬ３とは、マスクＭの回転軸線ＭａおよびドラムＲＬの回転軸線ＲＬａを含むＹＺ平面に関して対称的な位置関係に配置されている。

さらに詳細には、図１１に示すように、第１投影光学系ＰＬ１に対応する第１結像領域ＥＲ１と、第２投影光学系ＰＬ２に対応する第２結像領域ＥＲ２と、第３投影光学系ＰＬ３に対応する第３結像領域ＥＲ３とが、シート基板ＳＨの移動方向に沿って見たときに互いに部分的に重なるように、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ３が配置されている。すなわち、互いに隣り合う一方の投影光学系の結像領域と他方の投影光学系の結像領域とがドラムの回転軸線に沿って部分的に重なり合うように配置されている。

同様に、例えば図１２に示す第２実施形態の変形例においても、複数（図１２では例示的に３つ）の投影光学系ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３が、ドラムＲＬの回転軸線ＲＬａの方向（Ｙ方向）に沿って配列されている。図１２に示す投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ３は、それぞれ第２実施形態における投影光学系ＰＬと同じ構成を有する。なお、所定方向に沿って配列された複数の投影光学ユニットからなる投影光学系を用いて感光性の基板にパターンを走査露光する手法は、例えば特開２００１−２１５７１８号公報に開示されている。

なお、各実施形態において、シート基板ＳＨは、回転軸線ＲＬａの回りに回転するドラムＲＬに支持される構成としたが、特開２０１１−２２１５３６号公報に開示されているように、エアベアリング方式でシート基板ＳＨを支持する円筒状の支持面を有する案内部材としても良い。その場合、支持面の曲率半径は、仮想的な軸線ＲＬａから一定半径の円筒面の一部となるように設定され、支持面は多孔質セラミック等で構成され、一様な厚み（例えば、数μｍ〜十数μｍ）のエアベアリング層が作られるようにする。

上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

上述の実施形態にかかる露光装置を用いて、フレキシブルな表示パネル、タッチパネル、カラーフィルタ等のデバイスを製造することができる。図１３は、フレキシブルな有機ＥＬ表示パネル（ＡＭＯＬＥＤ）の画素駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）層の製造工程の一例を示すフローチャートである。ここでは、ボトムゲート型のＴＦＴを例にとって説明するが、トップゲート型のＴＦＴであっても、工程は概ね同じである。

まず、表示パネルのベース基材となるシート基板（樹脂、プラスチック製）の表面を、紫外線、大気圧プラズマ、電子線、Ｘ線等を照射して活性化処理（ステップＳ４０）した後、基板の表面に感光性の機能液を一様に、又は選択的に塗布し、その基板をガラス転移温度以下の乾燥炉に通して、感光性機能層を成膜する（ステップＳ４１）。感光性機能液としては、紫外線の照射を受けた部分の親撥液性が改質される感光性シランカップリング材、紫外線の照射を受けた部分にメッキ還元基が露呈する感光性還元材等があり、工程によって使い分けられる。

次に、感光性機能層が形成された基板は、先の各実施形態で説明した露光装置に送られ、ＴＦＴのゲート電極とそれに付随する配線とに対応した形状の第１層用のマスクパターンによって露光される（ステップＳ４２）。露光された基板は、露光装置から送り出されて次工程用の処理装置に送られるが、ステップＳ４１で成膜された感光性機能層の種類によって、ステップＳ４３Ａ、Ｓ４４Ａの工程と、ステップＳ４３Ｂ、Ｓ４４Ｂの工程とのいずれか一方に送られる。

感光性機能層として親撥液性が改質される感光性シランカップリング材を用いた場合は、基板上の紫外線で露光されたゲート電極とそれに付随する配線とに対応した部分が撥液性から親液性に改質される為、ステップＳ４３Ａに進み、親液性となった部分の上に導電性インク（銀や銅等の導電性ナノ粒子を含有するインク）を選択塗布し、ゲート電極や配線となるパターン層（第１層）を描画する。この描画は、インクジェット方式、グラビア印刷、オフセット印刷等で良い。描画された基板は、導電性インクの溶剤を除去すると共に、含有されるナノ粒子同士の電気的な結合を強固にする為に、アニールと乾燥の処理を受ける（ステップＳ４４Ａ）。ナノ粒子同士の電気的な結合を強固にするアニールとして、ストロボ・ランプからの高輝度なパルス光を基板に照射する方式も利用できる。

感光性機能層として、紫外線を受けた部分にメッキ還元基が露呈する感光性還元材を用いた場合は、基板上の紫外線で露光されたゲート電極とそれに付随する配線とに対応した部分にメッキ還元基が露呈する為、ステップＳ４３Ｂに進み、基板はパラジウムイオン等を含むメッキ液中に一定時間浸漬され、ゲート電極や配線となるパラジウムによるパターン層（第１層）を基板上に析出させる。このメッキ工程では、パラジウムによるパターン層を下地として、その上にさらに他の金属（金、銅等）によるメッキを施すと良い。メッキ処理された基板は、純水洗浄の後にガラス転移温度以下の乾燥炉に送られ、所定の水分含有率になるまで乾燥される（ステップＳ４４Ｂ）。

ステップＳ４４ＡまたはステップＳ４４Ｂの後のステップＳ４５では、第１層のパターン（ここではゲート電極と付随する配線）が形成されたか否かが判断される。すなわち、引き続き第２層のパターン（ここではＴＦＴのゲート絶縁膜）を形成するか否かが判断される。但し、実際の工程では、第１層パターンを形成された基板は自動的に第２層パターンの形成工程に送られるため、このような判断のステップはない。

ステップＳ４５で、第２層のパターンとしてＴＦＴのゲート絶縁膜を形成すると判断されると、基板上には、第１層のパターン（ゲート電極層と付随する配線層）を基準にして、その上に積層すべきゲート絶縁層の溶液を選択塗布（パターニング）する（ステップＳ４６）。このゲート絶縁層の成膜工程は、版を使った印刷方式、インクジェット方式等で行われる為、溶液塗布後は基板をガラス転移温度以下で乾燥させて、溶剤成分を蒸発させて膜を硬化させる工程も必要となる。

第２層のパターン（ゲート絶縁層）が形成された基板は、先のステップＳ４１、Ｓ４２と同様の工程に送られ、第３層のパターンとして、ＴＦＴのソース・ドレイン電極とそれに付随する配線とが形成される。第３層のパターンは、第１層のパターン（ゲート電極と配線）に対して精密にアライメントされる必要がある。その為、ステップＳ４２の露光工程で使われる露光装置には、第３層のパターン（ソース・ドレイン電極と配線）に対応したマスクパターンと、感光性機能層が成膜された基板上に形成済みの第１層のパターン（ゲート電極と配線）とを精密にアライメントする機能が設けられている。

次に、ステップＳ４３Ａ、Ｓ４３Ｂ、又はステップＳ４４Ａ、Ｓ４４Ｂと同様の工程によって、第２層パターン（ゲート絶縁層）上に、導電性の材料（導電性ナノ粒子、金属等）によるソース・ドレイン電極とそれに付随する配線が形成される。その後、ステップＳ４５では、第２層パターンが形成済みと判断され、次のステップＳ４７において、ＴＦＴの半導体層が第４層パターンとして、ソース・ドレイン電極のチャネル長の間に形成される。この半導体層の形成工程は、半導体材料（有機半導体、酸化物半導体、カーボンナノチューブ等）に適した処理方法で実施される。ここでも、ＴＦＴの半導体層を形成すべき基板上の領域に半導体材料の溶液を選択的に塗布することになるので、版を使った印刷方式、インクジェット方式等による重ね合わせパターニング、塗布された半導体材料の結晶を配向させる為の熱アニール、光アニール、或いは電磁波アニール等が必要となる。

以上のようにして、第１層〜第４層のパターンが基板上に積層されると、ＴＦＴとして機能する素子が完成するが、有機ＥＬディスプレイ等では、この層の上に有機ＥＬの発光層がさらに積層されるため、ステップＳ４８において、表面全体に一様な厚みで絶縁層が成膜された基板は、次の発光層の形成工程（次工程）に送られる。

図１４は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１４に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）、セル組立工程（ステップＳ５４）およびモジュール組立工程（ステップＳ５６）を順次行う。ステップＳ５０のパターン形成工程では、感光性基板としてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、ガラス基板用の露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、ガラス基板用の露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写された感光性基板の現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層（転写パターン層）を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。

ステップＳ５２のカラーフィルタ形成工程では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応する３つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。このカラーフィルタは、近年、フレキシブルな樹脂シート基板上に印刷方式で形成するものが提案されているが、上述の各実施形態の露光装置を用いることも可能である。

例えば、図１３に示したステップＳ４１、Ｓ４２のように、紫外線照射によって親撥液性が改質される感光性シランカップリング材を一様に塗布したシート基板を、上述の各実施形態の露光装置に送り、その露光装置には、ＲＧＢ各色のフィルタ層となるインクが塗布されるシート基板上の領域（短冊状のサブピクセル領域）に紫外線が照射されるような円筒状のマスクパターンを装着する。その後、図１３中のステップＳ４３Ａ、Ｓ４４Ａのように、露光されたシート基板上の親液性に改質された領域に、ＲＧＢ各色のフィルタ層となるインクを塗布するようにすれば良い。

ステップＳ５４のセル組立工程では、ステップＳ５０によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップＳ５２によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップＳ５６のモジュール組立工程では、ステップＳ５４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。

また、本発明は、半導体デバイスまたは液晶デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、プラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル、或いはフレキシブルなシートマスク等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。

ＬＳ 光源
ＩＬ 照明系
Ｍ マスク
Ｍａ マスクの中心軸線
ＩＲ 照明領域
ＰＬ 投影光学系
Ｇ１１，Ｇ２１ 第１結像光学ユニット
Ｇ２１，Ｇ２２ 第２結像光学ユニット
ＣＭ１，ＣＭ２ 反射鏡
ＳＨ シート基板
ＥＲ 結像領域
ＲＬ ドラム（ローラー）
ＲＬａ ドラムの中心軸線
ＤＲ１，ＤＲ２ 駆動系
ＣＲ 制御系

Claims (12)

1. 第１軸線廻りに回転する円柱状または円筒状のマスクの外周面のパターン領域に設けられたパターンを、第２軸線から一定半径の円筒状の外周面を有する円筒体に支持されて一方向に移動する可撓性の基板上の露光領域に走査露光する露光装置であって、
   前記第１軸線と直交する平面において前記マスクの外周面に斜め入射する光により前記マスクの外周面上に照明領域を形成する照明系と、
   前記照明領域内のパターンの像を前記基板上の結像領域に形成する投影光学系とを備え、
   前記投影光学系は、前記照明領域からの光により前記パターンの中間像を形成する第１結像光学ユニットと、前記中間像からの光により前記パターンの最終像を前記結像領域に形成する第２結像光学ユニットと、前記中間像の形成位置に配置された凹円筒面状の反射面を有する反射鏡とを備えていることを特徴とする露光装置。
2. 前記反射鏡の凹円筒面状の反射面は、前記結像領域に形成される前記最終像のデフォーカスによる位置ずれを低減するための所要の曲率を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記第１結像光学ユニットは等倍光学系であり、前記反射鏡の凹円筒面状の反射面は前記マスクの外周面と同じ曲率を有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 前記第２結像光学ユニットは等倍光学系であり、前記円筒体の外周面は前記マスクの外周面と同じ曲率を有することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 前記反射鏡の凹円筒面状の反射面は、前記第１結像光学ユニットにより発生する非対称収差を前記第２結像光学ユニットにより低減するための所要の曲率を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
6. 前記第１結像光学ユニットおよび前記第２結像光学ユニットは互いに同じ構成を有する等倍光学系であり、前記反射鏡の凹円筒面状の反射面は前記マスクの外周面よりも大きい曲率を有することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 前記反射鏡の凹円筒面状の反射面の曲率は、前記マスクの外周面の曲率の２倍であることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記照明系の射出側光軸および前記第１結像光学ユニットの入射側光軸は、前記第１軸線と直交する平面上にあり、該平面に沿った前記マスクの外周面の法線に関して対称に配置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 前記第２軸線方向に沿って配列された複数の前記投影光学系を備えていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 前記第１軸線と前記第２軸線とは互いに平行であり、
    互いに隣り合う一方の前記投影光学系と他方の前記投影光学系とは、前記第１軸線および前記第２軸線を含む平面に関して対称的な位置関係に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
11. 前記複数の投影光学系は、互いに隣り合う一方の前記投影光学系の結像領域と他方の前記投影光学系の結像領域とが前記第２軸線に沿って部分的に重なり合うように配置されていることを特徴とする請求項９または１０に記載の露光装置。
12. 請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、
    露光用の光の照射によって親撥液性が改質する感光性機能層、又は露光用の光の照射によってメッキ還元基が露呈する感光性機能層が形成された基板に、所定のパターンを露光することと、
    前記所定のパターンに対応する形状の電極層、配線層、半導体層の少なくとも１つを形成する為に、前記感光性機能層の表面に層材料となるインクを塗布、又は層材料となる溶液を接触させることと、
    を含むことを特徴とするデバイス製造方法。

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