JP2014502210A - 光学装置の表面処理プロセス及びそれによって製造される防汚性物品 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
本出願は、2010年11月10日に出願された米国特許仮出願第61/412134号の優先権を主張するものであり、その開示内容の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本発明は、基材(特に、例えば、セラミックス又はガラス等の硬質表面を有する基材)を処理して、その表面に耐汚性(例えば、撥油性及び/又は耐指紋性)を付与するプロセスに関し、別の態様では、本発明は、上記プロセスによって処理された基材に関する。
基材に塗布して(例えば、硬質表面基材及び繊維質基材)、撥油性及び/又は撥水性(疎油性及び/又は疎水性)等の低表面エネルギー特性を付与するためのコーティング組成物として、多くのフルオロケミカル組成物が使用されている。しかしながら、コーティング又はフィルムにおいて使用されるとき、多くのフルオロケミカル物質は、コーティング又はフィルムの表面に拡散したり、(例えば、表面を繰り返し清浄化することにより)経時的に枯渇する傾向がある。こうした理由から、コーティング、フィルム、又は基材表面への共有結合を可能にするため、反応性基又は官能基(例えば、ペルフルオロポリエーテルチオール、シラン、リン酸塩、及びアクリル酸塩)を有するフルオロケミカル誘導体が使用される。
したがって、本発明者らは、様々な異なる光学装置用途の性能要件を満たすことができる表面処理プロセス(及びそこで使用するためのフルオロケミカル組成物)に対する継続的な必要性が存在すると認識している。このようなプロセスは、単純であり、コスト効率がよく、既存の製造プロセスに適合し、及び/又は様々な異なる基材に撥水性(好ましくは、耐久性のある特化した撥水性)を付与することができることが好ましい。
(a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を含む少なくとも1つの光学装置を準備すること。
(b)次の(1)と(2)とを含む硬化性表面処理組成物を準備すること:
(1)(i)ポリフルオロアルキル、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される(好ましくは、ポリフルオロポリエーテルである)一価のセグメントと、(ii)加水分解性基、ヒドロキシル基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの基を含む少なくとも1つのシリル部分を含む一価の末端基と、を含む少なくとも1種のフッ素化有機シラン化合物(以下、単一の末端基(1つ以上のシリル部分を含む)が存在することから、「単足性、(monopodal)」フッ素化有機シラン化合物と称する);及び
(2)(i)ポリフルオロアルカン(好ましくは、ポリフルオロアルキレン)、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される(好ましくは、ポリフルオロポリエーテルである)多価の(好ましくは、二価の)セグメントと、(ii)少なくとも2個の一価の末端基と(該一価の末端基のそれぞれは、独立して、加水分解性基、ヒドロキシル基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの基を含む少なくとも1つのシリル部分を含む)、を含む少なくとも1種のフッ素化有機シラン化合物(以下、複数の末端基(それぞれが1つ以上のシリル部分を含む)が存在することから、「多足性(multipodal)」フッ素化有機シラン化合物と称する)。
(c)基材の少なくとも1つの主表面の少なくとも一部に硬化性表面処理組成物を塗布すること。
(d)塗布された硬化性表面処理組成物を硬化させて表面処理を形成すること。
以下の詳細な説明では、種々の組の数値範囲(例えば、特定の部分における炭素原子の数、又は特定の成分の量など)が記載され、各組内では、範囲の任意の下限を範囲の任意の上限と対にすることができる。同様に、このような数値範囲は、範囲内に含まれる全ての数を含むことを意味する(例えば1〜5は、1、1.5、2、2.75、3、3.80、4、5などを含む)。
本特許出願で使用されるとき、
「カルボニル」とは、式−(CO)−の二価の基を意味する。
「ペルフルオロエーテル」とは、酸素原子により連結された(すなわち、1個の連結した酸素原子が存在する)、2つの飽和又は不飽和のペルフルオロカーボン基(直鎖、分岐鎖、環状(好ましくは、脂環式)、又はこれらの組み合わせ)を有する基又は部分を意味し、
「ペルフルオロポリエーテル基(又はセグメント若しくは部分)」とは、酸素原子により連結された(すなわち、2個の連結した酸素原子が存在する)、3つ以上の飽和又は不飽和のペルフルオロカーボン基(直鎖、分岐鎖、環状(好ましくは、脂環式)、又はこれらの組み合わせ)を有する基又は部分を意味する。
本発明のプロセスで使用するのに適しているフッ素化有機シラン化合物としては、(a)ポリフルオロアルキル、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される(好ましくは、ポリフルオロポリエーテルである)一価のセグメントと、(b)加水分解性基、ヒドロキシル基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの基を含む少なくとも1つのシリル部分(好ましくは、1〜約20、より好ましくは、1〜約5、最も好ましくは、1つ又は2つ)を含む一価の末端基と、を含む単足性のフッ素化有機シラン化合物が挙げられる。好適なフッ素化有機シラン化合物としては更に、(a)ポリフルオロアルカン(好ましくは、ポリフルオロアルキレン)、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される(好ましくは、ポリフルオロポリエーテルである)多価の(好ましくは、二価の)セグメントと、(b)少なくとも2個の一価の末端基と(該一価の末端基のそれぞれは、独立して、加水分解性基、ヒドロキシル基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの基を含む少なくとも1つのシリル部分(好ましくは、1〜約20、より好ましくは、1〜約5、最も好ましくは、1つ又は2つ)を含む)と、を含む多足性のフッ素化有機シラン化合物が挙げられる。
Rf−Q−[C(R)2−Si(Y)3−x(R1a)x]y I
[式中、Rfは、ポリフルオロアルキル、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される一価のセグメントであり、Qは、二価又は三価の連結基(好ましくは、共有結合又は有機若しくはヘテロ有機の二価若しくは三価の連結基(好ましくは、二価))であり、各Rは、独立して水素又はC1〜4アルキル基(好ましくは、水素)であり、各Yは、独立して、ヒドロキシル、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり、各R1aは、独立して、非加水分解性基(好ましくは、C1〜8アルキル、フェニル、又はこれらの組み合わせ、より好ましくは、C1〜2アルキル、フェニル、又はこれらの組み合わせ、最も好ましくは、C1〜2アルキル又はこれらの組み合わせ)であり、各xは、独立して0、1、又は2の整数(好ましくは、0)であり、yは1又は2の整数(好ましくは、1)である。]
R’f[Q−[C(R)2−Si(Y)3−x(R1a)x]y]z II
[式中、R’fは、ポリフルオロアルカン、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択されるz価のセグメントであり、各Qは、独立して二価又は三価の連結基(好ましくは、共有結合又は有機若しくはヘテロ有機の二価若しくは三価の連結基(好ましくは、二価))であり、各Rは、独立して水素又はC1〜4アルキル基(好ましくは、水素)であり;各Yは、独立して、ヒドロキシル基、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり;各R1aは、独立して、非加水分解性基(好ましくは、C1〜8アルキル、フェニル、又はこれらの組み合わせであり;より好ましくは、C1〜2アルキル、フェニル、又はこれらの組み合わせであり;最も好ましくは、C1〜2アルキル又はこれらの組み合わせである);各xは、独立して0、1、又は2の整数(好ましくは、0)であり;各yは独立して1又は2の整数(好ましくは、1)であり;zは2、3、又は4の整数(好ましくは、2)である。]
上記の単足性及び多足性のフッ素化有機シラン化合物は、例えば、具体的用途、基材の性質、及び得られる硬化コーティング又は表面処理の所望の表面処理特性及び/又はバルク特性に応じて、広範囲な比率で混合されることができる。有用な表面処理組成物としては、単足性のフッ素化有機シランと多足性のフッ素化有機シランとの重量パーセント比(単足性のフッ素化有機シラン化合物:多足性のフッ素化有機シラン化合物)が約10:90以上(詳しくは、約20:80以上、より詳しくは、約30:70以上、最も詳しくは、約40:60以上)を含むものが挙げられる。有用な表面処理組成物としては、単足性のフッ素化有機シランと多足性のフッ素化有機シランとの重量パーセント比(単足性のフッ素化有機シラン化合物:多足性のフッ素化有機シラン化合物)が約99:1以下(詳しくは、約97:3以下、より詳しくは、約95:5以下)のものが挙げられる。
Si(Y)4−n(R1a)n III
(式中、
各Yは、独立して、ヒドロキシル基、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり、
各R1aは、独立して非加水分解性基であり、
nは0、1、2、又は3の整数である。)Y及びR1aにとって好ましいものとしては、式Iに関して上述したものが挙げられる。架橋剤は、例えば、具体的用途及び所望の特性に応じて広範囲の量のいずれかで(例えば、約1重量%〜約40重量%)表面処理組成物中に含まれることができる。任意に、架橋剤はフッ素を含有することができる。
全ての溶媒は市販元から入手される標準の試薬グレードであり、特記しない限り更に精製せずに使用した。
1.34mの低出力電極及び中央部ガスポンプ排気を備え、反応性イオンエッチング(RIE)用に構成されたPlasma−Therm Model 3032バッチリアクター(Plasma−Therm,LLC(St.Petersburg,FL)より入手したもの)を使用してケイ素含有層を蒸着した。チャンバは、乾式燥機械ポンプ(Absolute Vacuum Products Limited(West Sussex,UK)より入手したEdwards Model iQDP80)によって支援されたルーツブロワ(Absolute Vacuum Products Limited(West Sussex,UK)より入手したEdwards Model EH1200)によってポンプ排気した。RF出力は、インピーダンス整合ネットワークを通じて5kW、13.56MHzの固体素子発振器(Advanced Energy Industries(Fort Collins,CO)より入手したRFPP Model RF50S0)によって供給した。このシステムの公称ベース圧力は0.666Paであった。ガス流量は、MKS流量調整装置MKS Instruments(Andover,MA)より入手したもの)によって制御した。
接触角の測定方法
以下の実施例に記載のようにサンプルを調製した。イソプロピルアルコール(IPA)中で手で撹拌することによって1分間サンプルをすすぎ、イソプロピルアルコールを蒸発させた後、水(H2O)及びヘキサデカン(HD)接触角を測定した(それぞれ、湿潤液として水及びヘキサデカンを用いた)。ビデオ接触角分析機(AST Products(Billerica,MA)から製品番号VCA−2500XEとして入手可能)で、受け取ったままの試薬グレードのヘキサデカン及び濾過システム(Millipore Corporation(Billerica,MA)から入手)を通して濾過した脱イオン水を使用して測定を行った。報告する値は、液滴の右側と左側で測定した少なくとも3滴の測定値の平均である。液滴体積は、静的接触角測定については5マイクロリットル、前進及び後退接触角測定については1〜3マイクロリットルであった。
この試験では、携帯電話の主表面(Apple,Inc.(Cupertino,CA)より商品名IPHONE 3GSで入手した電話のガラス面及び後側など)を、以下に記載の実施例及び/又は比較例のコーティング組成物でコーティングした。次いで、得られた電話のコーティングされた表面を人の顔にこすりつけ、コーティングされた表面に転写した顔の脂(汚れ)の相対量を目視で評価した。コーティングされた表面に転写した顔の脂の量に基づいてA、B、又はCのスコア(目視検査に基づく)を割り当てた(スコアAは最低限の油が転写したことを意味し、スコアCは大量の油が転写したことを意味し、スコアBは中程度の量の顔の脂が転写したことを意味する)。一部の例では、携帯電話の代わりにIPADタブレット型コンピュータ(Apple,Inc.(Cupertino,CA)より入手)のガラス表面で代用することによって試験を繰り返した。他の場合において、基材は、携帯電話又はタブレット型コンピュータの代わりにステンレス鋼板であった。
この試験では、コーティングされた表面を清浄するのに必要な拭き取り回数を決定するために、上記の通りに(防汚試験Iに従って)試験した携帯電話を、マイクロファイバー布を使用して清浄した。スコアAは、コーティングされた表面を完全に清浄にするために1〜2回の拭き取りが必要であったことを示し、スコアBは、コーティングされた表面を完全に清浄にするために5〜10回の拭き取りが必要であったことを示した。
この試験では、携帯電話の主表面(Apple,Inc.(Cupertino,CA)より商品名IPHONE 3GSで入手した電話のガラス面及び後側など)を、以下に記載の実施例及び/又は比較例のコーティング組成物でコーティングした。次で、ペンのインクに対するコーティング表面の抵抗能力を試験するため、SHARPIE MARKER(Sanford(Bellwood,IL)より入手可能)を使用し、得られたコーティング表面を横断するように線を引いた。スコアAは、インクが玉状になり、清浄クロスで1回拭きとることによってコーティング表面から拭きとられたことを示し、スコアBは、インクをコーティング表面から完全に除去するために10回を超える拭き取りが必要であったことを示した。
所望量のHFPOシラン、PPFOジシラン、及び/又はC4ジシラン(上記の通りに調製)を一緒に添加した後、得られた混合物をプラスチックボトルの中で室温にて混合することによって、コーティング組成物を調製した。得られた混合物をHFE 7200で希釈し、室温で12時間にわたって回転させた。コーティング組成物の構成成分及びそれらの量は、以下の表1に実施例及び比較例のそれぞれに関して記載されている。
上記の携帯電話、タブレット型コンピュータ、及びステンレス鋼板を、それぞれ、実施例1のコーティング組成物で(実施例7として)、EGC 2702で(比較例Gとして)、EGC 4880で(比較例Hとして)コーティングし、又はコーティングしなかった(比較例Iとして)。次いで、上記の防汚試験I〜IIIを行って基材を試験した。この結果を以下の表3に示す。
Claims (26)
- (a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を含む少なくとも1つの光学装置を準備することと、
(b)(1)(i)ポリフルオロアルキル、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される一価のセグメントと、(ii)加水分解性基、ヒドロキシル基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの基を含む少なくとも1つのシリル部分を含む一価の末端基と、を含む少なくとも1種のフッ素化有機シラン化合物、及び
(2)(i)ポリフルオロアルカン、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される多価のセグメントと、(ii)少なくとも2個の一価の末端基であって、当該一価の末端基のそれぞれは、独立して、加水分解性基、ヒドロキシル基、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの基を含む少なくとも1つのシリル部分を含む一価の末端基と、を含む少なくとも1種のフッ素化有機シラン化合物、を含む、硬化性表面処理組成物を準備することと、
(c)前記硬化性表面処理組成物を前記基材の少なくとも1つの主表面の少なくとも一部に塗布することと、
(d)前記塗布された硬化性表面処理組成物を硬化して表面処理を形成することと、を含むプロセス。 - 前記基材が、木材、ガラス、鉱物、ポリマー、金属、金属合金、金属化合物、皮革、羊皮紙、紙、織物、塗面、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記一価のセグメントが、ペルフルオロアルキル、ペルフルオロエーテル、ペルフルオロポリエーテル、又はこれらの組み合わせを含み、及び/又は前記多価のセグメントが、ペルフルオロアルカン、ペルフルオロエーテル、ペルフルオロポリエーテル、又はこれらの組み合わせを含む、請求項1又は2に記載のプロセス。
- 前記一価のセグメント及び/又は前記多価のセグメントがポリフルオロポリエーテルを含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記多価のセグメントが二価である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記一価の末端基のそれぞれが、独立して1〜20の前記シリル部分を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプロセス。
- 一価のセグメントを含む前記フッ素化有機シラン化合物が次の一般式:
Rf−Q−[C(R)2−Si(Y)3−x(R1a)x]y I
で表わされ、式中、Rfは、ポリフルオロアルキル、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択される一価のセグメントであり、Qは二価又は三価の連結基であり、各Rは、独立して水素又はC1〜4アルキル基であり、各Yは、独立して、ヒドロキシル基、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり、各R1aは、独立して非加水分解性基であり、各xは、独立して0、1、又は2の整数であり、yは1又は2の整数である、請求項1〜6のいずれか一項記載のプロセス。 - 前記Rfが、4〜35個の過フッ素化された炭素原子を含有し、前記Rfが、少なくとも1つの二価のヘキサフルオロプロピレンオキシ基(−CF(CF3)−CF2O−)を含み、前記Qが二価であり、各前記R1aが、独立して、C1〜8アルキル、フェニル、又はこれらの組み合わせであり、各前記Rが水素であり、各前記xが0であり、及び/又は前記yが1である、請求項7に記載のプロセス。
- 前記RfがF[CF(CF3)CF2O]aCF(CF3)−であり、式中、aは4〜20の平均値を有する、請求項7又は8に記載のプロセス。
- 前記RfがC3F7O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−であり、前記Q−C(R)2−Si(Y)3−x(R1a)xがC(O)NH(CH2)3Si(Y)3、(CH2)3−S−(CH2)3Si(Y)3、又はこれらの組み合わせであり、式中、nは3〜50である、請求項7又は8に記載のプロセス。
- 各前記Qが、独立して、硫黄、酸素、及び窒素から選択される少なくとも1個のヘテロ原子を含有する、及び/又はエステル(カルボニルオキシ)、アミド(カルボニルイミノ)、スルホンアミド(スルホニルイミノ)、カルボニル、カーボネート(オキシカルボニルオキシ)、ウレイレン(イミノカルボニルイミノ)、カルバメート(オキシカルボニルイミノ)、チオ、スルホニル、スルフィニル、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1個の官能基を含有する、請求項7〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
- 各前記Yが、ヒドロキシル、水素、ハロゲン、アルコキシ、アシルオキシ、アリールオキシ、ポリアルキレンオキシ、及びこれらの組み合わせから独立して選択される、請求項7〜12のいずれか一項に記載のプロセス。
- 各前記Yが独立してアルコキシである、請求項7〜13のいずれか一項に記載のプロセス。
- 多価のセグメントを含む前記フッ素化有機シラン化合物が次の一般式:
R’f[Q−[C(R)2−Si(Y)3−x(R1a)x]y]z II
によって表わされ、式中、R’fは、ポリフルオロアルカン、ポリフルオロエーテル、ポリフルオロポリエーテル、及びこれらの組み合わせから選択されるz価のセグメントであり、各Qは、独立して二価又は三価の連結基であり、各Rは、独立して水素又はC1〜4アルキル基であり、各Yは、独立して、ヒドロキシル基、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり、各R1aは、独立して非加水分解性基であり、各xは、独立して0、1、又は2の整数であり、各yは独立して1又は2の整数であり、zは2、3、又は4の整数である、請求項1〜14のいずれか一項に記載のプロセス。 - 前記R’fが4〜35個の過フッ素化された炭素原子を含有し、前記R’fが、少なくとも1つの二価のヘキサフルオロプロピレンオキシ基(−CF(CF3)−CF2O−)を含み、各前記Qが独立して二価の連結基であり、各前記R1aが、独立して、C1〜8アルキル、フェニル、又はこれらの組み合わせであり、各前記Rが水素であり、各前記xが0であり、各前記yが1であり、及び/又は前記zが2である、請求項15に記載のプロセス。
- 前記R’fが、−CF(CF3)(OCF2CF(CF3))bO−(CtF2t)−O(CF(CF3)CF2O)cCF(CF3)−(式中、tは2、3、又は4であり、b+cは4〜24の平均値を有する。)、−CF2O(CF2O)n(C2F4O)qCF2−(式中、n+qの平均値は4〜24である。)、及び−CF2O(C2F4O)qCF2−(式中、qの平均値は4〜24である。)から選択される、請求項15又は16に記載のプロセス。
- 前記R’fが、−CF2O(CF2O)n(C2F4O)qCF2−(式中、nは1〜5であり、qは3〜40である。)であり、前記Q−C(R)2−Si(Y)3−x(R1a)xが、C(O)NH(CH2)3Si(Y)3、(CH2)3−S−(CH2)3Si(Y)3、又はこれらの組み合わせである、請求項15又は16に記載のプロセス。
- 各前記Qが、独立して、硫黄、酸素、及び窒素から選択される少なくとも1個のヘテロ原子を含有する、及び/又はエステル(カルボニルオキシ)、アミド(カルボニルイミノ)、スルホンアミド(スルホニルイミノ)、カルボニル、カーボネート(オキシカルボニルオキシ)、ウレイレン(イミノカルボニルイミノ)、カルバメート(オキシカルボニルイミノ)、チオ、スルホニル、スルフィニル、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1個の官能基を含有する、請求項15〜18のいずれか一項に記載のプロセス。
- 各前記Yが、ヒドロキシル、水素、ハロゲン、アルコキシ、アシルオキシ、アリールオキシ、ポリアルキレンオキシ、及びこれらの組み合わせから独立して選択される、請求項15〜20のいずれか一項に記載のプロセス。
- 各前記Yが独立してアルコキシである、請求項15〜21のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記塗布することが、前記硬化性表面処理組成物を、一価のセグメントを含む前記フッ素化有機シランと多価のセグメントを含む前記フッ素化有機シランの予め形成された混合物として塗布することを含む、請求項1〜22のいずれか一項に記載のプロセス。
- (a)少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を含む少なくとも1つの光学装置を準備することと、
(b)(1)C3F7O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−C(O)NH−(CH2)3Si(Y)3、
C3F7O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−(CH2)3−S−(CH2)3Si(Y)3、又はこれらの組み合わせ(式中、各Yは独立してヒドロキシル基、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり、nは3〜50である。)の式のポリフルオロポリエーテルシランと、
(2)(Y)3Si(CH2)3−NHC(O)−CF2O(CF2O)n(C2F4O)qCF2−C(O)NH−(CH2)3Si(Y)3、
(Y)3Si(CH2)3−S−(CH2)3−CF2O(CF2O)n(C2F4O)qCF2−(CH2)3−S−(CH2)3Si(Y)3、又はこれらの組み合わせ(式中、各Yは独立してヒドロキシル基、加水分解性基、又はこれらの組み合わせであり、nは1〜50であり、qは3〜40である。)の式のポリフルオロポリエーテルシランと、を混合することによって、硬化性表面処理組成物を準備することと、
(c)前記硬化性表面処理組成物を前記基材の少なくとも1つの主表面の少なくとも一部に塗布することと、
(d)前記塗布された硬化性表面処理組成物を硬化して表面処理を形成することと、を含むプロセス。 - 各前記Yが独立してアルコキシである、請求項24に記載のプロセス。
- 少なくとも1つの主表面を有する少なくとも1つの基材を含む少なくとも1つの光学装置を含む物品であって、前記基材が、少なくとも1つの前記主表面の少なくとも一部上に、請求項1〜25のいずれか一項に記載のプロセスによって調製された表面処理を有する、物品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41213410P | 2010-11-10 | 2010-11-10 | |
US61/412,134 | 2010-11-10 | ||
PCT/US2011/059576 WO2012064649A1 (en) | 2010-11-10 | 2011-11-07 | Optical device surface treatment process and smudge-resistant article produced thereby |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014502210A true JP2014502210A (ja) | 2014-01-30 |
JP2014502210A5 JP2014502210A5 (ja) | 2014-12-18 |
JP5932820B2 JP5932820B2 (ja) | 2016-06-08 |
Family
ID=45003083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013538810A Expired - Fee Related JP5932820B2 (ja) | 2010-11-10 | 2011-11-07 | 光学装置の表面処理プロセス及びそれによって製造される防汚性物品 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130229378A1 (ja) |
EP (1) | EP2638116B1 (ja) |
JP (1) | JP5932820B2 (ja) |
CN (1) | CN103221497B (ja) |
WO (1) | WO2012064649A1 (ja) |
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- 2011-11-07 CN CN201180053953.9A patent/CN103221497B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-07 US US13/883,368 patent/US20130229378A1/en not_active Abandoned
- 2011-11-07 WO PCT/US2011/059576 patent/WO2012064649A1/en active Application Filing
- 2011-11-07 EP EP11785869.6A patent/EP2638116B1/en not_active Not-in-force
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---|---|
WO2012064649A1 (en) | 2012-05-18 |
CN103221497A (zh) | 2013-07-24 |
EP2638116A1 (en) | 2013-09-18 |
JP5932820B2 (ja) | 2016-06-08 |
CN103221497B (zh) | 2016-06-08 |
US20130229378A1 (en) | 2013-09-05 |
EP2638116B1 (en) | 2015-08-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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