JP2014225328A - Light-emitting device, display device and luminaire - Google Patents

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JP2014225328A JP2011257961A JP2011257961A JP2014225328A JP 2014225328 A JP2014225328 A JP 2014225328A JP 2011257961 A JP2011257961 A JP 2011257961A JP 2011257961 A JP2011257961 A JP 2011257961A JP 2014225328 A JP2014225328 A JP 2014225328A
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充浩 向殿
Mitsuhiro Mukaidono
充浩 向殿
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device capable of performing light emission with high brightness by efficiently emitting light emitted from an organic light-emitting layer to the outside, and also to provide a display device and a luminaire.SOLUTION: Banks 17 which partition a first electrode (bottom electrode) 12 into a plurality of portions for every predetermined area (for example, pixel) are constituted of a material having at least light reflectivity. As the material having the light reflectivity, a material having a white color tone is preferable to used. Furthermore, a material having light diffusivity in addition to the light reflectivity is preferable to be used.

Description

本発明は、有機発光層に電圧を印加して発光させる発光デバイス、およびこれを備えた表示装置、照明装置に関する。    The present invention relates to a light emitting device that emits light by applying a voltage to an organic light emitting layer, and a display device and an illumination device including the light emitting device.

近年、社会の高度情報化に伴い、フラットパネルディスプレイのニーズが高まっている。フラットパネルディスプレイとしては、例えば、非自発光型の液晶ディスプレイ(LCD)、自発光型のプラズマディスプレイ(PDP)、無機エレクトロルミネセンス(無機EL)ディスプレイ、有機エレクトロルミネセンス(以下、「有機EL」または「有機LED」とも言う)ディスプレイ等が挙げられる。
また、近年、低消費電力化、環境適応性などの観点から、従来の白熱電球や蛍光灯に代わり、LED(Light Emitting Diode)、有機エレクトロルミネセンス(以下、「有機EL」または「有機LED」とも言う)などの新たな照明技術が注目されている。
In recent years, the need for flat panel displays has increased with the advancement of sophistication in society. Examples of the flat panel display include a non-self-luminous liquid crystal display (LCD), a self-luminous plasma display (PDP), an inorganic electroluminescence (inorganic EL) display, and organic electroluminescence (hereinafter, “organic EL”). Or a display or the like.
In recent years, from the viewpoint of low power consumption and environmental adaptability, instead of conventional incandescent bulbs and fluorescent lamps, LEDs (Light Emitting Diodes), organic electroluminescence (hereinafter referred to as “organic EL” or “organic LED”) New lighting technology such as “

これらフラットパネルディスプレイの中でも、特に有機EL(Organic light emitting diode)ディスプレイなど、有機発光層を用いた発光素子は、薄型・広視野角などの特長から次世代ディスプレイの主流になりうる候補技術として注目されている。
このような発光素子において、発光色を所望の色に制御することが重要であり、そのための手段として、発光素子の発光色を制御するだけでなく、カラーフィルタや蛍光体などの波長変換層を組み合わせることにより、発光色の制御を行うことも有効な手段である。
Among these flat panel displays, light-emitting elements using organic light-emitting layers, such as organic EL (Organic light emitting diode) displays, are attracting attention as candidate technologies that can become the mainstream of next-generation displays due to their features such as thinness and wide viewing angle. Has been.
In such a light emitting element, it is important to control the emission color to a desired color, and as a means for that purpose, not only the emission color of the light emitting element is controlled, but also a wavelength conversion layer such as a color filter or a phosphor. Controlling the emission color by combining them is also an effective means.

例えば、フルカラーディスプレイ応用の場合、一般的にはR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の各色が必要である。これらRGB各色の画素を基板上に作り分ける方法、白色発光の素子にRGBのカラーフィルタを組み合わせる方法、青色発光の素子に蛍光体を組み合わせる方法などが知られているが、それぞれにおいて、カラーフィルタや蛍光体などの波長変換層を組み合わせて発光色の制御が可能である。なお、カラーフィルタや蛍光体はいずれもこれらに入射する光の波長スペクトルを変換する機能を有するので、以下、波長変換層と称する。    For example, in the case of full-color display application, each color of R (red), G (green), and B (blue) is generally required. There are known methods for separately forming pixels of each RGB color on a substrate, a method for combining a white light emitting element with an RGB color filter, a method for combining a blue light emitting element with a phosphor, and the like. The emission color can be controlled by combining wavelength conversion layers such as phosphors. In addition, since both color filters and phosphors have a function of converting the wavelength spectrum of light incident on them, they are hereinafter referred to as wavelength conversion layers.

例えば、RGB各色の画素を基板上に作り分ける方法では、RGB各色の発光部分にカラーフィルタを組み合わせることにより、色純度の向上、外光反射の抑制などの効果が得られる。白色発光の素子にRGBのカラーフィルタを組み合わせる方法、青色発光の素子に蛍光体を組み合わせる方法においては、各画素ごとにRGBを塗り分ける必要がなく、生産性良くフルカラーディスプレイを作れる利点がある。    For example, in the method of separately forming RGB color pixels on a substrate, effects such as improvement of color purity and suppression of external light reflection can be obtained by combining color filters with light emission portions of RGB colors. The method of combining an RGB color filter with a white light emitting element and the method of combining a phosphor with a blue light emitting element have the advantage that a full color display can be produced with high productivity without the need to paint RGB separately for each pixel.

また、照明応用の場合には、一般的には白色が求められるが、照明対象に応じて波長スペクトルや色味を所望のものにするために、カラーフィルタや蛍光体などの波長変換層を組み合わせるのは有効な手段といえる。特に、演色性の向上、植物工場などでの特定発光スペクトルの実現などのためには、カラーフィルタや蛍光体などの波長変換層を組み合わせるのは有効な手段といえる。
しかし一方で、有機ELには、発光効率が低い、消費電力が大きい、寿命が短い、信頼性が低いなどの課題が残っている。発光効率は、一般的にηφ(ext)(External Quantum Efficiency)=ηext×ηφ=ηext×γ×ηr×φfで表される。ここで、ηφ(ext)は外部量子効率、ηextは外部光取出し効率、ηφは内部量子効率、γはキャリアバランス、ηrは励起子生成確率、φfは蛍光量子収率である。
In addition, in the case of illumination applications, white is generally required, but in order to obtain a desired wavelength spectrum and color depending on the illumination target, a wavelength conversion layer such as a color filter or phosphor is combined. Is an effective means. In particular, it can be said that combining wavelength conversion layers such as color filters and phosphors is an effective means for improving color rendering and realizing a specific emission spectrum in a plant factory.
On the other hand, the organic EL still has problems such as low luminous efficiency, large power consumption, short lifetime, and low reliability. The luminous efficiency is generally represented by ηφ (ext) (External Quantum Efficiency) = ηext × ηφ = ηext × γ × ηr × φf. Here, ηφ (ext) is external quantum efficiency, ηext is external light extraction efficiency, ηφ is internal quantum efficiency, γ is carrier balance, ηr is exciton generation probability, and φf is fluorescence quantum yield.

近年、材料の進歩に伴い、内部量子効率は着実に向上しており、特に、三重項状態を利用するりん光材料の進展に伴い大幅に改善されてきている。しかし一方、光取出し効率は大きな課題として残っている。有機EL素子においては、用いられる有機発光層、透明電極層、ガラス基板などの屈折率が空気より大きいため、スネルの法則に基づく全反射条件から光を効率よく取り出せない。取り出せる光の量は通常、15〜30%程度であり、大半の光が外部に出射されることなく失われていることになる。
また、有機EL発光部分にカラーフィルタや蛍光体などの波長変換層を組み合わせた場合、カラーフィルタや蛍光体などの波長変換層からの光を効率良く取り出すことが課題となる。
In recent years, the internal quantum efficiency has been steadily improved with the progress of materials, and in particular, has been greatly improved with the progress of phosphorescent materials utilizing triplet states. However, light extraction efficiency remains a major issue. In the organic EL element, since the refractive index of the organic light emitting layer, the transparent electrode layer, the glass substrate, and the like used is larger than that of air, light cannot be efficiently extracted from the total reflection condition based on Snell's law. The amount of light that can be extracted is usually about 15 to 30%, and most of the light is lost without being emitted to the outside.
Further, when a wavelength conversion layer such as a color filter or a phosphor is combined with the organic EL light emitting portion, it becomes a problem to efficiently extract light from the wavelength conversion layer such as a color filter or a phosphor.

こうした課題に対して、例えば、特許文献1においては、透明導電層の発光層と反対の面に屈折率1.01〜1.3の範囲となる低屈折率層を設けた発明が開示されている。
また、特許文献2においては、透明電極層と光透過性の基板との間に、低屈折率材料からなるマトリクス樹脂中に光を散乱させる粒子を拡散させた浸み出し光拡散層を設けた発明が開示されている。
また、特許文献3においては、光を取り出す側の基板面に、多数の微小粒子からなる光取出し層を設けた発明が開示されている。
更に、特許文献4には、画素を凹状構造にすることによって光取出し効率を向上させた発明が開示されている。
特許文献5には、画素の側面に反射層を設けることにより光取出し効率を向上させた発明が開示されている。
特許文献6には、蛍光体層を有機EL発光部と組み合わせた有機EL素子において、蛍光体層の側面に反射膜を設けることが開示されている。
For example, Patent Document 1 discloses an invention in which a low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.01 to 1.3 is provided on the surface of the transparent conductive layer opposite to the light emitting layer. Yes.
In Patent Document 2, a leaching light diffusion layer in which particles that scatter light are diffused in a matrix resin made of a low refractive index material is provided between a transparent electrode layer and a light-transmitting substrate. The invention is disclosed.
Patent Document 3 discloses an invention in which a light extraction layer composed of a large number of fine particles is provided on a substrate surface on the light extraction side.
Further, Patent Document 4 discloses an invention in which the light extraction efficiency is improved by making the pixel into a concave structure.
Patent Document 5 discloses an invention in which the light extraction efficiency is improved by providing a reflective layer on the side surface of a pixel.
Patent Document 6 discloses that in an organic EL element in which a phosphor layer is combined with an organic EL light emitting unit, a reflective film is provided on the side surface of the phosphor layer.

特開2002−278477号公報JP 2002-278477 A 特開2004−296437号公報JP 2004-296437 A 特開2011−108395号公報JP 2011-108395 A 特開2011−009017号公報JP 2011-009017 A 特開2010−009793号公報JP 2010-009793 A 特開平11−329726号公報JP 11-329726 A

しかしながら、上述した特許文献1〜4に開示された発明では、光取出し効率を向上させることができるとされているものの、光取出し効率の向上効果が限定的であるという課題があった。即ち、有機発光層や電極を介して面方向に沿って光が伝播し、外部へ出射される光が減少することへの対策が全くなされていなかった。   However, although the inventions disclosed in Patent Documents 1 to 4 described above can improve the light extraction efficiency, there is a problem that the effect of improving the light extraction efficiency is limited. In other words, no measures have been taken against the fact that light propagates along the surface direction through the organic light emitting layer or the electrode and the light emitted to the outside decreases.

例えば、有機発光層の典型的な屈折率が1.8程度、絶縁層(バンク)の典型的な屈折率が1.5〜1.8程度、透明電極層であるITOの典型的な屈折率が2.1〜2.2程度であるため、低屈折率層(屈折率1.0〜1.3程度)との屈折率差のために、低屈折率層との界面で全反射されてしまう成分が多い。この全反射された成分は、有機発光層、絶縁層、透明電極層などを介して面方向に沿って伝播し、外部に出射されることなく損失する。   For example, the typical refractive index of an organic light emitting layer is about 1.8, the typical refractive index of an insulating layer (bank) is about 1.5 to 1.8, and the typical refractive index of ITO which is a transparent electrode layer Is about 2.1 to 2.2, and is totally reflected at the interface with the low refractive index layer due to the difference in refractive index from the low refractive index layer (with a refractive index of about 1.0 to 1.3). There are many ingredients that end up. The totally reflected component propagates along the surface direction through the organic light emitting layer, the insulating layer, the transparent electrode layer, and the like, and is lost without being emitted to the outside.

透明電極層を有機発光層の画素領域ごとに区画する絶縁層(バンク)は、従来、ポリメチルメタクリレート、ポリイミドなどの高分子材料やSiO等の無機材料から構成されており、色調は透明か黒色であった。このため、面方向に沿って広がった光は、絶縁層(バンク)が黒色の場合は、この絶縁層に吸収されて損失する。また、絶縁層(バンク)が透明(光透過性)の場合は、この絶縁層を介して隣接する有機発光層や透明電極層に向けて光が伝播して損失する。 Insulating layer for partitioning the transparent electrode layer in each pixel region of the organic light emitting layer (bank) is conventionally polymethyl methacrylate, is composed of a polymer material or an inorganic material such as SiO 2, such as polyimide, or color transparent It was black. For this reason, when the insulating layer (bank) is black, the light spread along the surface direction is absorbed by the insulating layer and lost. Further, when the insulating layer (bank) is transparent (light transmissive), light propagates toward the adjacent organic light emitting layer or transparent electrode layer through the insulating layer and is lost.

また、特許文献5及び6には、発光部分の側面に反射膜を形成することにより光取出し効率を向上させる技術が開示されており、さらに、特許文献6には反射膜として金属粉、金属粒子もしくは白色顔料を含む樹脂からなることが開示されているが、構造上、プロセス上の課題があった。   Patent Documents 5 and 6 disclose a technique for improving the light extraction efficiency by forming a reflection film on the side surface of the light emitting portion. Further, Patent Document 6 discloses metal powder, metal particles as the reflection film. Alternatively, it is disclosed that the resin is made of a resin containing a white pigment, but there are structural and process problems.

特許文献5の技術においては、側面の反射膜が導電性であるため、反射膜状にさらに絶縁層を設ける必要があり、プロセスが複雑になる欠点があった。しかも、反射膜が形成されている部分が、基板に対して斜めになっている隔壁側面であるため、生産時のプロセス制御性が困難であるばかりでなく、パターン形成のための露光位置合わせマージンなどを考えると、画素開口部が小さくなるという課題があった。画素開口部が小さくなると、ディスプレイとしての所望の輝度を得るために、画素開口部での発光輝度を上げる必要がある。   In the technique of Patent Document 5, since the reflective film on the side surface is conductive, it is necessary to further provide an insulating layer in the form of a reflective film, and there is a drawback that the process becomes complicated. In addition, since the portion where the reflective film is formed is the side wall of the partition wall that is inclined with respect to the substrate, not only is the process controllability during production difficult, but also the exposure alignment margin for pattern formation In view of the above, there is a problem that the pixel opening becomes small. When the pixel opening becomes small, it is necessary to increase the light emission luminance at the pixel opening in order to obtain a desired luminance as a display.

特許文献6の技術においては、蛍光体層の側面に反射膜を形成する技術、反射膜として金属粉、金属粒子もしくは白色顔料を含む樹脂からなる技術が開示されているが、この技術を有機EL発光部分に適用することについてはなんら開示も示唆もされていない。また、この技術を有機EL発光部に適用し、有機発光部の側面に反射膜を形成しようとすると構造上、プロセス上の課題が生じる。まず、有機ELの発光部分に用いられる有機材料は水分、酸素、溶剤などに対して極めて弱く、この有機EL発光部分の側面に反射膜を形成することはプロセス上極めて困難である。また、この技術は有機ELの各画素ごとに発光層が分離形成されている場合はともかく、発光層が画素ごとに分離させず全面形成された構造には適用できないという課題もある。さらに、有機EL発光部からの光導波による光損失を考えるときには、電極など発光部分以外からの導波も考えなければならないが、特許文献6には、それらについてはなんら開示も示唆もされていない。   In the technique of Patent Document 6, a technique for forming a reflective film on the side surface of the phosphor layer and a technique made of a resin containing metal powder, metal particles, or a white pigment as the reflective film are disclosed. There is no disclosure or suggestion about application to the light emitting part. Further, when this technique is applied to an organic EL light emitting unit and a reflective film is formed on the side surface of the organic light emitting unit, structural problems arise in terms of structure. First, the organic material used for the light emitting portion of the organic EL is extremely weak against moisture, oxygen, solvent, etc., and it is extremely difficult to form a reflective film on the side surface of the organic EL light emitting portion. In addition, this technique has a problem that it cannot be applied to a structure in which the light emitting layer is formed on the entire surface without being separated for each pixel, regardless of whether the light emitting layer is separately formed for each pixel of the organic EL. Furthermore, when considering the optical loss due to the optical waveguide from the organic EL light emitting part, it is necessary to consider the waveguide from other than the light emitting part such as an electrode. However, Patent Document 6 does not disclose or suggest any of them. .

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、有機発光層にカラーフィルタや蛍光体などの波長変換層などを組み合わせた素子において、発光光を外部に向けて効率よく出射させ、高輝度に発光可能な発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供することを目的とする。    The present invention has been made in view of the above circumstances, and in an element in which an organic light emitting layer is combined with a wavelength conversion layer such as a color filter or a phosphor, the emitted light is efficiently emitted toward the outside. An object is to provide a light-emitting device, a display device, and a lighting device that can emit light with high luminance.

上記課題を解決するために、本発明のいくつかの態様は次のような発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供した。
すなわち、本発明の発光デバイスは、光透過性の基板の一面に順に積層された波長変換層、光透過性の第一電極、有機発光層、および第二電極を有する発光デバイスであって、
少なくとも前記有機発光層の、積層方向に沿って広がる側面に接してバンクを形成し、 該バンクは光反射性を有する材料から構成されることを特徴とする。
In order to solve the above problems, some aspects of the present invention provide the following light emitting device, display device, and lighting device.
That is, the light-emitting device of the present invention is a light-emitting device having a wavelength conversion layer, a light-transmitting first electrode, an organic light-emitting layer, and a second electrode laminated in order on one surface of a light-transmitting substrate,
A bank is formed in contact with at least a side surface of the organic light emitting layer extending in the stacking direction, and the bank is made of a material having light reflectivity.

前記第二電極は遮光性を有する材料から構成されることを特徴とする。
また、前記波長変換層の側面にバンクを備え、該バンクは光反射性を有する材料から構成されることを特徴とする。
The second electrode is made of a light-shielding material.
Further, a bank is provided on a side surface of the wavelength conversion layer, and the bank is made of a material having light reflectivity.

前記バンクは白色材料から構成されることを特徴とする。
また、前記バンクは光反射性に加えて更に光拡散性を有する材料から構成されることを特徴とする。
The bank is made of a white material.
Further, the bank is made of a material having light diffusibility in addition to light reflectivity.

前記バンクは樹脂中に微細な光反射性粒子を分散させてなることを特徴とする。
また、前記光反射性粒子は、粒径が200nm〜5μmであることを特徴とする。
The bank is characterized in that fine light reflective particles are dispersed in a resin.
The light-reflecting particles have a particle size of 200 nm to 5 μm.

前記基板と前記波長変換層の間、前記基板と第一電極との間の、いずれか一方または双方に、前記基板よりも屈折率の低い低屈折率層を更に形成したことを特徴とする。    A low refractive index layer having a refractive index lower than that of the substrate is further formed on one or both of the substrate and the wavelength conversion layer and between the substrate and the first electrode.

本発明の表示装置は、前記各項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする。    The display device of the present invention is characterized in that a drive unit for controlling light emission of the light emitting device is arranged for the light emitting device described in each of the above items.

本発明の照明装置は、前記各項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする。    The illuminating device of the present invention is characterized in that a drive unit that controls light emission of the light-emitting device is arranged for the light-emitting device described in the above items.

本発明によれば、高発光効率(高輝度)の発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供することができる。    According to the present invention, it is possible to provide a light emitting device, a display device, and a lighting device with high luminous efficiency (high luminance).

本発明の第一実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light-emitting device which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light-emitting device which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light-emitting device which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light-emitting device which concerns on 4th embodiment of this invention. 本発明の第五実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the light-emitting device which concerns on 5th embodiment of this invention. 本発明の第六実施形態に係る表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the display apparatus which concerns on 6th embodiment of this invention. 本発明の第七実施形態に係る表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the display apparatus which concerns on 7th embodiment of this invention. 本発明の第八実施形態に係る発光デバイスであり、第一実施形態の変形例を示した断面図である。It is the light emitting device which concerns on 8th embodiment of this invention, and is sectional drawing which showed the modification of 1st embodiment. 本発明の第八実施形態に係る発光デバイスであり、第三実施形態の変形例を示した断面図である。It is the light emitting device which concerns on 8th embodiment of this invention, and is sectional drawing which showed the modification of 3rd embodiment. 本発明の第八実施形態に係る発光デバイスであり、第四実施形態の変形例を示した断面図である。It is the light emitting device which concerns on 8th embodiment of this invention, and is sectional drawing which showed the modification of 4th embodiment. 本発明の第八実施形態に係る発光デバイスであり、第七実施形態の変形例を示した断面図である。It is the light emitting device which concerns on 8th embodiment of this invention, and is sectional drawing which showed the modification of 7th embodiment. バンクの形状例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the example of the shape of a bank. 本発明の第一実施形態に係る表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the display apparatus which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係る表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the display apparatus which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の発光デバイスの一適用例である表示装置を示す外観図である。It is an external view which shows the display apparatus which is one application example of the light-emitting device of this invention. 本発明の発光デバイスの一適用例である照明装置を示す外観図である。It is an external view which shows the illuminating device which is one application example of the light-emitting device of this invention.

以下、図面を参照して、本発明に係る発光デバイス、表示装置、及び照明装置の一実施形態について説明する。なお、以下に示す実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。   Hereinafter, an embodiment of a light emitting device, a display device, and an illumination device according to the present invention will be described with reference to the drawings. The following embodiments are specifically described for better understanding of the gist of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features of the present invention easier to understand, there is a case where a main part is shown in an enlarged manner for the sake of convenience. Not necessarily.

(発光デバイス:第一実施形態)
図1は第一実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス10は、光透過性の基板11と、この基板11の一面11aに順に積層された波長変換層15、光透過性の第一電極(下部電極)12、有機発光層14、第二電極(上部電極)13と、少なくとも、積層方向に沿って広がる有機発光層14の側面に接して配置されるバンク17を備え、該バンク17は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light emitting device: first embodiment)
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a light emitting device according to the first embodiment.
The light emitting device 10 includes a light transmissive substrate 11, a wavelength conversion layer 15, a light transmissive first electrode (lower electrode) 12, an organic light emitting layer 14, and a second electrode, which are sequentially stacked on one surface 11 a of the substrate 11. (Upper electrode) 13 and a bank 17 disposed at least in contact with the side surface of the organic light emitting layer 14 extending along the stacking direction, and the bank 17 is made of a material having light reflectivity.

バンク17は、例えば有機発光層14の1画素に相当する領域を区画するように形成されている。照明デバイスなどの場合、こうした領域は1つでもよいが、複数の領域を形成しても良い。
作製プロセスとしては、例えば、基板11上に波長変換層15を形成し、次に、第一電極(下部電極)12を形成し、その後バンク17を形成し、さらに有機発光層14、第二電極(上部電極)13を形成するプロセスなどを用いることができる。有機ELに用いられる材料は水分、酸素などに極めて弱いため、有機発光層14の形成前、すなわち、第一電極(下部電極)12及びバンク17を形成した後に、十分な脱水工程(ベーク工程、真空乾燥工程など)を行うことが好ましい。
また、波長変換層15と第一電極(下部電極)12との間に、層間膜、平坦化膜、第二の基板などのいずれか、あるいは全てを挿入することも好ましい。
The bank 17 is formed so as to partition a region corresponding to one pixel of the organic light emitting layer 14, for example. In the case of a lighting device or the like, the number of such regions may be one, but a plurality of regions may be formed.
As a manufacturing process, for example, the wavelength conversion layer 15 is formed on the substrate 11, then the first electrode (lower electrode) 12 is formed, and then the bank 17 is formed, and the organic light emitting layer 14, the second electrode A process for forming the (upper electrode) 13 can be used. Since the material used for the organic EL is extremely vulnerable to moisture, oxygen, and the like, a sufficient dehydration process (baking process, bake process, It is preferable to perform a vacuum drying step or the like.
It is also preferable to insert any or all of an interlayer film, a planarizing film, a second substrate, etc. between the wavelength conversion layer 15 and the first electrode (lower electrode) 12.

基板11は、光透過性の材料、例えば、ガラス、透明樹脂などから構成される。具体例として、液晶ディスプレイなどで頻繁に使われている0.7mm厚のガラス基板を用いることができる。    The substrate 11 is made of a light transmissive material such as glass or transparent resin. As a specific example, a 0.7 mm thick glass substrate frequently used in a liquid crystal display or the like can be used.

波長変換層15は、カラーフィルタ、蛍光体などで形成することができる。
波長変換層15をカラーフィルタで構成する場合、カラーフィルタは液晶ディスプレイなどで一般に用いられているカラーフィルタ材料を用いて作製することができる。また、カラーフィルタに散乱性粒子などを添加し、カラーフィルタに散乱性を付与することも、カラーフィルタを通った後の光プロファイルが等方的になるため好ましい。
The wavelength conversion layer 15 can be formed of a color filter, a phosphor, or the like.
When the wavelength conversion layer 15 is formed of a color filter, the color filter can be manufactured using a color filter material generally used in a liquid crystal display or the like. It is also preferable to add scattering particles or the like to the color filter to impart scattering properties to the color filter because the light profile after passing through the color filter becomes isotropic.

波長変換層15を蛍光体層として構成する場合、蛍光体と高分子樹脂との混合体などにより形成することができる。蛍光体としては、無機蛍光体、有機蛍光体、有機/無機ハイブリッド蛍光体、量子ドット蛍光体などを用いることができる。また、蛍光体として、ホスト−ゲストタイプなど、複数の材料で構成することも可能である。    When the wavelength conversion layer 15 is configured as a phosphor layer, it can be formed of a mixture of a phosphor and a polymer resin. As the phosphor, an inorganic phosphor, an organic phosphor, an organic / inorganic hybrid phosphor, a quantum dot phosphor, or the like can be used. Further, the phosphor can be composed of a plurality of materials such as a host-guest type.

また、波長変換層15として、蛍光体層とカラーフィルタ層とを重ねて積層することも好ましい。通常は、発光した光をまず蛍光体層に入射させ、蛍光体層で発光した光がカラーフィルタを通して外部に出てゆくようにする。この場合、カラーフィルタ層は、波長スペクトルを適切なものに整える作用と、外光反射を抑制する作用とを併せ持つ。    Moreover, it is also preferable that the wavelength conversion layer 15 is formed by laminating a phosphor layer and a color filter layer. Usually, the emitted light is first incident on the phosphor layer so that the light emitted from the phosphor layer exits through the color filter. In this case, the color filter layer has both an effect of adjusting the wavelength spectrum to an appropriate value and an effect of suppressing external light reflection.

さらに、蛍光体層とカラーフィルタ層のいずれかにブラックマトリクス層を重ねて積層することも好ましい。また、蛍光体層とカラーフィルタ層との積層膜にブラックマトリクス層を重ねて積層することも好ましい。これらの場合、ブラックマトリクス層は外光反射を抑制する効果を持ち、明室環境下でのコントラスト向上に寄与する。    Furthermore, it is also preferable to laminate a black matrix layer on either the phosphor layer or the color filter layer. It is also preferable to laminate a black matrix layer on a laminated film of a phosphor layer and a color filter layer. In these cases, the black matrix layer has an effect of suppressing reflection of external light and contributes to improvement of contrast in a bright room environment.

第一電極(下部電極)12は、透明電極であればよく、例えば、ITO(Indium-tin-oxide)や、ZnO(Zinc oxide)などが用いられる。第一電極12の厚さは例えば、100nm程度である。なお、第一電極12は、通常はアノードであるが、カソードとすることも可能であり、その場合には低仕事関数の材料を用いる。また、配線抵抗を下げる目的等で補助配線を併設してもいい。補助配線は、例えばAl, Ag, Ta, Ti, Niなどの金属材料で形成することができる。    The first electrode (lower electrode) 12 may be a transparent electrode. For example, ITO (Indium-tin-oxide), ZnO (Zinc oxide), or the like is used. The thickness of the first electrode 12 is, for example, about 100 nm. The first electrode 12 is usually an anode, but may be a cathode. In that case, a material having a low work function is used. In addition, auxiliary wiring may be provided for the purpose of reducing wiring resistance. The auxiliary wiring can be formed of a metal material such as Al, Ag, Ta, Ti, Ni, for example.

第一電極(下部電極)12は、バンク(絶縁層)15によって、所定の領域毎に複数に区画されている。本実施形態の発光デバイス10を表示装置(有機ELディスプレイ)として用いる場合には、第一電極(下部電極)12は、1画素に相当する領域毎に区画されていればよい。    The first electrode (lower electrode) 12 is divided into a plurality for each predetermined region by a bank (insulating layer) 15. When the light-emitting device 10 of the present embodiment is used as a display device (organic EL display), the first electrode (lower electrode) 12 may be partitioned for each region corresponding to one pixel.

第二電極(上部電極)13は、遮光性である場合と光透過性である場合とがある。第二電極(上部電極)13が遮光性や反射性など光不透過性である場合は、いわゆるボトムエミッション型の発光デバイスとなる。また、第二電極(上部電極)13が光透過性である場合は、両面発光型の発光デバイスとなる。第二電極13は、通常はカソードを成し、光不透過性の場合は、LiF/Al, MgAg/Al, Ba/Al, Ca/Agなどを用いることが出来る。また、光透過性の場合には、LiF/ITO, MgAg/IZOなどを用いることができる。なお、第二電極(上部電極)13をアノードとすることも可能であり、その場合には、仕事関数の高い材料、例えば、ITOなどが好ましく用いられる。    The second electrode (upper electrode) 13 may be light-shielding or light-transmissive. When the second electrode (upper electrode) 13 is light-opaque such as light-shielding or reflective, a so-called bottom emission type light-emitting device is obtained. When the second electrode (upper electrode) 13 is light transmissive, a double-sided light emitting device is obtained. The second electrode 13 normally forms a cathode, and LiF / Al, MgAg / Al, Ba / Al, Ca / Ag, or the like can be used in the case of light impermeability. In the case of light transmittance, LiF / ITO, MgAg / IZO, or the like can be used. Note that the second electrode (upper electrode) 13 may be an anode, and in this case, a material having a high work function, such as ITO, is preferably used.

これら以外にも、第一電極12及び第二電極13を形成する電極材料として、各種の公知の電極材料を用いることができる。アノードである場合には、有機発光層14への正孔の注入をより効率よく行う観点から、仕事関数が4.5eV以上の金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)等の金属、及び、インジウム(In)と錫(Sn)からなる酸化物(ITO)、錫(Sn)の酸化物(SnO)インジウム(In)と亜鉛(Zn)からなる酸化物(IZO)等が透明電極材料として挙げられる。 In addition to these, various known electrode materials can be used as the electrode material for forming the first electrode 12 and the second electrode 13. In the case of an anode, a metal such as gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni) or the like having a work function of 4.5 eV or more from the viewpoint of more efficiently injecting holes into the organic light emitting layer 14. And oxide (ITO) made of indium (In) and tin (Sn), oxide of tin (Sn) (SnO 2 ), oxide made of indium (In) and zinc (Zn) (IZO), etc. are transparent It is mentioned as an electrode material.

また、カソードを形成する電極材料としては、有機発光層14への電子の注入をより効率よく行う観点から、仕事関数が4.5eV以下のリチウム(Li)、カルシウム(Ca)、セリウム(Ce)、バリウム(Ba)、アルミニウム(Al)等の金属、又は、これらの金属を含有するMg:Ag合金、Li:Al合金等の合金が挙げられる。    Moreover, as an electrode material for forming the cathode, lithium (Li), calcium (Ca), cerium (Ce) having a work function of 4.5 eV or less from the viewpoint of more efficiently injecting electrons into the organic light emitting layer 14. And metals such as barium (Ba) and aluminum (Al), or alloys such as Mg: Ag alloy and Li: Al alloy containing these metals.

第一電極12及び第二電極13は上記の材料を用いてEB蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、抵抗加熱蒸着法等の公知の方法により形成することができるが、本発明はこれらの形成方法に限定されるものではない。また、必要に応じて、フォトリソグラフフィー法、レーザー剥離法により、形成した電極をパターン化することもでき、シャドーマスクと組み合わせることで直接パターン化した電極を形成することもできる。その膜厚は、50nm以上が好ましい。膜厚が50nm未満の場合には、配線抵抗が高くなることから、駆動電圧の上昇が生じるおそれがある。    The first electrode 12 and the second electrode 13 can be formed using the above materials by a known method such as an EB vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a resistance heating vapor deposition method, etc. The forming method is not limited. If necessary, the formed electrode can be patterned by a photolithographic fee method or a laser peeling method, or a patterned electrode can be directly formed by combining with a shadow mask. The film thickness is preferably 50 nm or more. When the film thickness is less than 50 nm, the wiring resistance is increased, which may increase the drive voltage.

有機発光層(有機EL発光体)14は、第一電極12と第二電極13との間に印加された電圧によって、所定の波長帯の光を発する。有機発光層(有機EL発光体)14は、単層でもよいが、通常は複数層からなり、例えば、α−NPDとAlq3の積層膜などを用いることができる。また、アノードである第一電極(下部電極)12と、カソードである第二電極(上部電極)13との間に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などからなる複層の有機発光層を形成することも行われている。    The organic light emitting layer (organic EL light emitter) 14 emits light in a predetermined wavelength band by a voltage applied between the first electrode 12 and the second electrode 13. Although the organic light emitting layer (organic EL light emitter) 14 may be a single layer, it is usually composed of a plurality of layers. For example, a laminated film of α-NPD and Alq3 can be used. Further, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, between a first electrode (lower electrode) 12 serving as an anode and a second electrode (upper electrode) 13 serving as a cathode, It is also practiced to form a multi-layered organic light emitting layer composed of an electron injection layer or the like.

これらの層以外に、MoO層、C0層、フラーレン含有層、量子ドット含有層などさまざまな層を併用することも盛んに検討されており、いずれも本発明を適用できることは言うまでもない。量子ドット含有層を用いた発光素子は、QLED(Quantum-dot light emitting diode)と呼ばれている。また、発光領域を積層するいわゆるタンデム構造を用いることもできる。第一電極12と第二電極13との間に配置される層の膜厚は、通常、各層が数10nm程度である。もちろん、本発明の技術は、本発明の構成をとるものであれば、現在まだ発明されていない発光素子、一般に認知されていない発光素子などにも適用可能であることはいうまでもない。 In addition to these layers, it has been actively studied to use various layers such as a MoO 3 layer, a C 60 layer, a fullerene-containing layer, and a quantum dot-containing layer, and it goes without saying that the present invention can be applied to any of these layers. A light emitting element using a quantum dot containing layer is called a QLED (Quantum-dot light emitting diode). A so-called tandem structure in which light emitting regions are stacked can also be used. As for the film thickness of the layer arrange | positioned between the 1st electrode 12 and the 2nd electrode 13, each layer is about several tens of nm normally. Needless to say, the technology of the present invention can be applied to a light-emitting element that has not yet been invented or a light-emitting element that is not generally recognized as long as the configuration of the present invention is adopted.

有機発光層14の層構造としての具体的として、下記の構成が挙げられるが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
(1)有機発光層
(2)正孔輸送層/有機発光層
(3)有機発光層/電子輸送層
(4)正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(5)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/正孔防止層/電子輸送層
(8)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/正孔防止層/電子輸送層/電子注入層
(9)正孔注入層/正孔輸送層/電子防止層/有機発光層/正孔防止層/電子輸送層/電子注入層
ここで、有機発光層、正孔注入層、正孔輸送層、正孔防止層、電子防止層、電子輸送層及び電子注入層の各層は、単層構造でも多層構造でもよい。
Specific examples of the layer structure of the organic light emitting layer 14 include the following configurations, but the present invention is not limited thereto.
(1) Organic light emitting layer (2) Hole transport layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron transport layer (4) Hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer (5) Hole injection layer / Hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer (7) Hole injection layer / hole transport layer / organic Light-Emitting Layer / Hole Prevention Layer / Electron Transport Layer (8) Hole Injection Layer / Hole Transport Layer / Organic Light-Emitting Layer / Hole Prevention Layer / Electron Transport Layer / Electron Injection Layer (9) Hole Injection Layer / Hole Transport layer / electron prevention layer / organic light emitting layer / hole prevention layer / electron transport layer / electron injection layer Here, organic light emission layer, hole injection layer, hole transport layer, hole prevention layer, electron prevention layer, electron Each of the transport layer and the electron injection layer may have a single layer structure or a multilayer structure.

有機発光層14は、以下に例示する有機発光材料のみから構成されていてもよく、発光性のドーパントとホスト材料の組み合わせから構成されていてもよく、任意に正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)等を含んでいてもよく、また、これらの材料が高分子材料(結着用樹脂)又は無機材料中に分散された構成であってもよい。発光効率・寿命の観点からは、ホスト材料中に発光性のドーパントが分散されたものが好ましい。    The organic light emitting layer 14 may be composed of only the organic light emitting material exemplified below, or may be composed of a combination of a light emitting dopant and a host material, and optionally, a hole transport material, an electron transport material, Additives (donor, acceptor, etc.) may be included, and these materials may be dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material. From the viewpoint of luminous efficiency and lifetime, those in which a luminescent dopant is dispersed in a host material are preferable.

有機発光材料としては、有機発光層用の公知の発光材料を用いることができる。このような発光材料は、低分子発光材料、高分子発光材料等に分類され、これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。また、上記発光材料は、蛍光材料、燐光材料等に分類されるものでもよく、低消費電力化の観点で、発光効率の高い燐光材料を用いる事が好ましい。
ここで、具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
As the organic light emitting material, a known light emitting material for an organic light emitting layer can be used. Such light-emitting materials are classified into low-molecular light-emitting materials, polymer light-emitting materials, and the like. Specific examples of these compounds are given below, but the present invention is not limited to these materials. The light-emitting material may be classified into a fluorescent material, a phosphorescent material, and the like, and it is preferable to use a phosphorescent material with high light emission efficiency from the viewpoint of reducing power consumption.
Here, specific compounds are exemplified below, but the present invention is not limited to these materials.

発光層に任意に含まれる発光性のドーパントとしては、有機発光層用の公知のドーパント材料を用いることができる。このようなドーパント材料としては、例えば、紫外発光材料としては、p−クォーターフェニル、3,5,3,5テトラ-t-ブチルセクシフェニル、3,5,3,5テトラ-t-ブチル-p−クィンクフェニル等の蛍光発光材料等が挙げられる。青色発光材料として、スチリル誘導体等の蛍光発光材料、ビス[(4,6−ジフルオロフェニル)−ピリジナト−N,C2‘]ピコリネート イリジウム(III)(FIrpic)、ビス(4’,6‘−ジフルオロフェニルポリジナト)テトラキス(1−ピラゾイル)ボレート イリジウム(III)(FIr)等の燐光発光有機金属錯体等が挙げられる。 As a luminescent dopant arbitrarily contained in the light emitting layer, a known dopant material for an organic light emitting layer can be used. Examples of such dopant materials include, for example, p-quaterphenyl, 3,5,3,5 tetra-t-butylsecphenyl, 3,5,3,5 tetra-t-butyl-p. -Fluorescent materials such as quinckphenyl. Fluorescent light-emitting materials such as styryl derivatives, bis [(4,6-difluorophenyl) -pyridinato-N, C2 ′] picolinate iridium (III) (FIrpic), bis (4 ′, 6′-difluorophenyl) And phosphorescent organometallic complexes such as polydinato) tetrakis (1-pyrazoyl) borate iridium (III) (FIr 6 ).

また、ドーパントを用いる時のホスト材料としては、有機EL用の公知のホスト材料を用いることができる。このようなホスト材料としては、上述した低分子発光材料、高分子発光材料、4,4‘−ビス(カルバゾール)ビフェニル、9,9−ジ(4−ジカルバゾール−ベンジル)フルオレン(CPF)、3,6−ビス(トリフェニルシリル)カルバゾール(mCP)、(PCF)等のカルバゾール誘導体、4−(ジフェニルフォスフォイル)−N,N-ジフェニルアニリン(HM−A1)等のアニリン誘導体、1,3−ビス(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)ベンゼン(mDPFB)、1,4−ビス(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)ベンゼン(pDPFB)等のフルオレン誘導体等が挙げられる。    Moreover, as a host material when using a dopant, a well-known host material for organic EL can be used. As such a host material, the above-described low molecular light emitting material, polymer light emitting material, 4,4′-bis (carbazole) biphenyl, 9,9-di (4-dicarbazole-benzyl) fluorene (CPF), 3 , 6-bis (triphenylsilyl) carbazole (mCP), carbazole derivatives such as (PCF), aniline derivatives such as 4- (diphenylphosphoyl) -N, N-diphenylaniline (HM-A1), 1,3- And fluorene derivatives such as bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (mDPFB) and 1,4-bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (pDPFB).

電荷注入輸送層は、電荷(正孔、電子)の電極からの注入と発光層への輸送(注入)をより効率よく行う目的で、電荷注入層(正孔注入層、電子注入層)と電荷輸送層(正孔輸送層、電子輸送層)に分類され、以下に例示する電荷注入輸送材料のみから構成されていてもよく、任意に添加剤(ドナー、アクセプター等)等を含んでいてもよく、これらの材料が高分子材料(結着用樹脂)又は無機材料中に分散された構成であってもよい。    The charge injection / transport layer is used to more efficiently inject charges (holes, electrons) from the electrode and transport (injection) to the light emitting layer, and the charge injection layer (hole injection layer, electron injection layer). It is classified as a transport layer (hole transport layer, electron transport layer), and may be composed only of the charge injection transport material exemplified below, and may optionally contain additives (donor, acceptor, etc.) These materials may be dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material.

電荷注入輸送材料としては、有機発光層用の公知の電荷輸送材料を用いることができる。このような電荷注入輸送材料は、正孔注入輸送材料及び電子注入輸送材料に分類され、これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。    As the charge injecting and transporting material, a known charge transporting material for the organic light emitting layer can be used. Such charge injecting and transporting materials are classified into hole injecting and transporting materials and electron injecting and transporting materials. Specific examples of these compounds are given below, but the present invention is not limited to these materials.

正孔注入・正孔輸送材料としては、例えば、酸化バナジウム(V)、酸化モリブデン(MoO)等の酸化物、無機p型半導体材料、ポルフィリン化合物、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)−ベンジジン(TPD)、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPD)等の芳香族第三級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン化合物等の低分子材料、ポリアニリン(PANI)、ポリアニリン−樟脳スルホン酸(PANI−CSA)、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネイト(PEDOT/PSS)、ポリ(トリフェニルアミン)誘導体(Poly−TPD)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)、ポリ(p−フェニレンビニレン)(PPV)、ポリ(p−ナフタレンビニレン)(PNV)等の高分子材料等が挙げられる。 Examples of the hole injection / hole transport material include oxides such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) and molybdenum oxide (MoO 2 ), inorganic p-type semiconductor materials, porphyrin compounds, N, N′-bis (3 -Methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD), etc. Low molecular weight materials such as tertiary amine compounds, hydrazone compounds, quinacridone compounds, styrylamine compounds, polyaniline (PANI), polyaniline-camphor sulfonic acid (PANI-CSA), 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate ( PEDOT / PSS), poly (triphenylamine) derivative (Poly-TPD), polyvinylcarbazole (PVC) z), polymer materials such as poly (p-phenylene vinylene) (PPV), poly (p-naphthalene vinylene) (PNV), and the like.

また、アノードからの正孔の注入・輸送をより効率よく行う点で、正孔注入層として用いる材料としては、正孔輸送層に使用する正孔注入輸送材料より最高被占分子軌道(HOMO)のエネルギー準位が低い材料を用いることが好ましく、正孔輸送層としては、正孔注入層に使用する正孔注入輸送材料より正孔の移動度が、高い材料を用いることが好ましい。    In addition, in terms of more efficient injection and transport of holes from the anode, the material used for the hole injection layer is the highest occupied molecular orbital (HOMO) than the hole injection transport material used for the hole transport layer. It is preferable to use a material having a low energy level, and as the hole transport layer, it is preferable to use a material having higher hole mobility than the hole injection transport material used for the hole injection layer.

また、より正孔の注入・輸送性を向上させるため、前記正孔注入・輸送材料にアクセプターをドープする事が好ましい。アクセプターとしては、有機発光層用の公知のアクセプター材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。    In order to further improve the hole injection / transport property, it is preferable to dope the hole injection / transport material with an acceptor. As an acceptor, the well-known acceptor material for organic light emitting layers can be used. Although these specific compounds are illustrated below, this invention is not limited to these materials.

アクセプター材料としては、Au、Pt、W,Ir、POCl3 、AsF6 、Cl、Br、I、酸化バナジウム(V)、酸化モリブデン(MoO)等の無機材料、TCNQ(7,7,8,8,−テトラシアノキノジメタン)、TCNQF4 (テトラフルオロテトラシアノキノジメタン)、TCNE(テトラシアノエチレン)、HCNB(ヘキサシアノブタジエン)、DDQ(ジシクロジシアノベンゾキノン)等のシアノ基を有する化合物、TNF(トリニトロフルオレノン)、DNF(ジニトロフルオレノン)等のニトロ基を有する化合物、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等の有機材料が挙げられる。この内、TCNQ、TCNQF4 、TCNE、HCNB、DDQ等のシアノ基を有する化合物がよりキャリア濃度を効果的に増加させることが可能であるためより好ましい。 Acceptor materials include Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, I, vanadium oxide (V 2 O 5 ), molybdenum oxide (MoO 2 ), and other inorganic materials, TCNQ (7, 7 , 8,8, -tetracyanoquinodimethane), TCNQF 4 (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), TCNE (tetracyanoethylene), HCNB (hexacyanobutadiene), DDQ (dicyclodicyanobenzoquinone), etc. And compounds having a nitro group such as TNF (trinitrofluorenone) and DNF (dinitrofluorenone), and organic materials such as fluoranyl, chloranil and bromanyl. Among these, compounds having a cyano group such as TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, DDQ and the like are more preferable because they can increase the carrier concentration more effectively.

電子注入・電子輸送材料としては、例えば、n型半導体である無機材料、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体、ベンゾジフラン誘導体等の低分子材料;ポリ(オキサジアゾール)(Poly−OXZ)、ポリスチレン誘導体(PSS)等の高分子材料が挙げられる。特に、電子注入材料としては、特にフッ化リチウム(LiF)、フッ化バリウム(BaF)等のフッ化物、酸化リチウム(LiO)等の酸化物等が挙げられる。 Examples of electron injection / electron transport materials include inorganic materials that are n-type semiconductors, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiopyrazine dioxide derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, diphenoquinone derivatives, fluorenone derivatives, benzodifuran derivatives. And low molecular weight materials such as poly (oxadiazole) (Poly-OXZ) and polystyrene derivatives (PSS). In particular, examples of the electron injection material include fluorides such as lithium fluoride (LiF) and barium fluoride (BaF 2 ), and oxides such as lithium oxide (Li 2 O).

電子のカソードからの注入・輸送をより効率よく行う点で、電子注入層として用いる材料としては、電子輸送層に使用する電子注入輸送材料より最低空分子軌道(LUMO)のエネルギー準位が高い材料を用いることが好ましく、電子輸送層として用いる材料としては、電子注入層に使用する電子注入輸送材料より電子の移動度が高い材料を用いることが好ましい。    The material used for the electron injection layer is a material having an energy level of the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) higher than that of the electron injection / transport material used for the electron transport layer, in order to more efficiently inject and transport electrons from the cathode. It is preferable to use a material having a higher electron mobility than the electron injecting and transporting material used for the electron injecting layer.

また、より電子の注入・輸送性を向上させるため、前記電子注入・輸送材料にドナーをドープする事が好ましい。ドナーとしては、有機発光層用の公知のドナー材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。    In order to further improve the electron injection / transport property, it is preferable to dope the electron injection / transport material with a donor. As the donor, a known donor material for an organic light emitting layer can be used. Although these specific compounds are illustrated below, this invention is not limited to these materials.

ドナー材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Al、Ag、Cu、In等の無機材料、アニリン類、フェニレンジアミン類、ベンジジン類(N,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジン、N,N’−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フェニル)−ベンジジン、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン等)、トリフェニルアミン類(トリフェニルアミン、4,4’4''−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン、4,4’4''−トリス(N−3−メチルフェニル−N−フェニル−アミノ)−トリフェニルアミン、4,4’4''−トリス(N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ)−トリフェニルアミン等)、トリフェニルジアミン類(N,N’−ジ−(4−メチル−フェニル)−N,N’−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン)等の芳香族3級アミンを骨格にもつ化合物、フェナントレン、ピレン、ペリレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン等の縮合多環化合物(ただし、縮合多環化合物は置換基を有してもよい)、TTF(テトラチアフルバレン)類、ジベンゾフラン、フェノチアジン、カルバゾール等の有機材料がある。この内特に、芳香族3級アミンを骨格にもつ化合物、縮合多環化合物、アルカリ金属がよりキャリア濃度を効果的に増加させることが可能であるためより好ましい。    Donor materials include inorganic materials such as alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, Al, Ag, Cu, and In, anilines, phenylenediamines, benzidines (N, N, N ′, N′-tetraphenyl) Benzidine, N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine, N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl- Benzidine, etc.), triphenylamines (triphenylamine, 4,4′4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ″ -tris (N-3- Methylphenyl-N-phenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ″ -tris (N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino) -triphenylamine, etc.), triphenyldiamine Compounds having aromatic tertiary amine skeleton such as (N, N′-di- (4-methyl-phenyl) -N, N′-diphenyl-1,4-phenylenediamine), phenanthrene, pyrene, perylene, anthracene And condensed polycyclic compounds such as tetracene and pentacene (however, the condensed polycyclic compound may have a substituent), TTF (tetrathiafulvalene) s, dibenzofuran, phenothiazine, carbazole, and other organic materials. Among these, a compound having an aromatic tertiary amine as a skeleton, a condensed polycyclic compound, and an alkali metal are more preferable because the carrier concentration can be increased more effectively.

発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層及び電子注入層等の有機発光層は、上記の材料を溶剤に溶解、分散させた有機発光層形成用の塗液を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等の印刷法等による公知のウエットプロセス、上記の材料を抵抗加熱蒸着法、電子線(EB)蒸着法、分子線エピタキシー(MBE)法、スパッタリング法、有機気相蒸着(OVPD)法等の公知のドライプロセス、又は、レーザー転写法等により形成することができる。なお、ウエットプロセスにより有機発光層を形成する場合には、有機発光層形成用の塗液は、レベリング剤、粘度調整剤等の塗液の物性を調整するための添加剤を含んでいてもよい。    Organic light-emitting layers such as a light-emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer, and an electron injection layer are prepared using a coating liquid for forming an organic light-emitting layer in which the above materials are dissolved and dispersed in a solvent Known coating methods such as spin coating method, dipping method, doctor blade method, discharge coating method, spray coating method, ink jet method, letterpress printing method, intaglio printing method, screen printing method, printing method such as microgravure coating method, etc. Wet process, known dry processes such as resistance heating vapor deposition, electron beam (EB) vapor deposition, molecular beam epitaxy (MBE), sputtering, organic vapor deposition (OVPD), etc., or laser transfer It can be formed by a method or the like. When forming the organic light emitting layer by a wet process, the coating liquid for forming the organic light emitting layer may contain additives for adjusting the physical properties of the coating liquid, such as a leveling agent and a viscosity modifier. .

上記の有機発光層14を構成する各層の膜厚は、通常1〜1000nm程度であるが、10〜200nmが好ましい。膜厚が10nm未満であると、本来必要とされる物性(電荷の注入特性、輸送特性、閉じ込め特性)が得なれない。また、ゴミ等の異物による画素欠陥が生じるおそれがある。また、膜厚が200nmを超えると有機発光層の抵抗成分により駆動電圧の上昇が生じ、消費電力の上昇に繋がる懸念がある。    The thickness of each layer constituting the organic light emitting layer 14 is usually about 1 to 1000 nm, preferably 10 to 200 nm. If the film thickness is less than 10 nm, the properties (charge injection characteristics, transport characteristics, confinement characteristics) that are originally required cannot be obtained. In addition, pixel defects due to foreign matters such as dust may occur. Further, when the film thickness exceeds 200 nm, there is a concern that the drive voltage increases due to the resistance component of the organic light emitting layer, leading to an increase in power consumption.

バンク17は、少なくとも光反射性を有する材料から構成される。光反射性に加えて光拡散性を有する材料を用いることも好ましい。光拡散性を有する材料としては、色調が白色の材料を用いることが好ましい。    The bank 17 is made of a material having at least light reflectivity. It is also preferable to use a material having light diffusibility in addition to light reflectivity. As a material having light diffusibility, a material having a white color tone is preferably used.

単に光反射性のみの場合には、バンク17の側面の基板11に対する角度やバンク17の形状によって、取り出される光のプロファイルが大きく変わるため、所望の光プロファイルを得るためには、バンク17の側面の基板に対する角度やバンク17の形状を適切なものに制御する必要も出てくる。    In the case of only light reflectivity, the profile of the light to be extracted varies greatly depending on the angle of the side surface of the bank 17 with respect to the substrate 11 and the shape of the bank 17. It is also necessary to control the angle of the substrate and the shape of the bank 17 appropriately.

これに対し、バンク17が光反射性に加えて、白色性、光散乱性を有していると、バンク17で反射する光の方向が広がるため、取り出される光のプロファイルは、バンク17の側面の基板11に対する角度や、バンク17の形状にそれほど依存せず、自然な発光プロファイルが得られやすい。    On the other hand, if the bank 17 has whiteness and light scattering in addition to light reflectivity, the direction of light reflected by the bank 17 is widened. It is easy to obtain a natural light emission profile without depending on the angle of the substrate 11 to the substrate 11 and the shape of the bank 17.

一例として、バンク17を、例えば、特開2007−322546号公報、特開2008−211036号公報、特開2011−66267号公報など開示されている高反射率の白色ソルダーレジストを利用して形成することができる。あるいは、ポリイミド系やアクリル系などの感光性樹脂にTiOなどの粒子を分散させて、バンク17に光反射性、光散乱性、白色性などの機能を付与することも有効な手法である。 As an example, the bank 17 is formed using a high-reflectance white solder resist disclosed in, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2007-322546, 2008-211036, and 2011-66267. be able to. Alternatively, it is also effective to disperse particles such as TiO 2 in a photosensitive resin such as polyimide or acrylic, and to give the bank 17 functions such as light reflectivity, light scattering, and whiteness.

バンク17は、光透過性の基板11の一面11a上に、所定のパターンで形成される。バンク17を所定の形状にパターン化するためには、光感光性樹脂に酸化チタン粒子などを添加したものをフォトリソグラフィーを用いてパターン化する方法、樹脂に酸化チタン粒子などを添加したものを全面形成し、その上にフォトレジストをパターン形成して、酸化チタン粒子を添加した樹脂層を所定のパターンにエッチングする方法など、半導体製造工程や液晶パネル製造工程などで用いられる公知の製造工程を適用することができる。    The bank 17 is formed in a predetermined pattern on the one surface 11 a of the light transmissive substrate 11. In order to pattern the bank 17 into a predetermined shape, a method of patterning a photosensitive resin with titanium oxide particles added using photolithography, a resin with titanium oxide particles added to the entire surface, etc. Apply a well-known manufacturing process used in semiconductor manufacturing processes, liquid crystal panel manufacturing processes, etc., such as a method of forming a photoresist pattern on it and etching the resin layer with added titanium oxide particles into a predetermined pattern can do.

バンク17の膜厚は、例えば1μm〜5μmが概ね適切な範囲ではあるが、目的に合わせて適宜膜厚を選定してもよい。例えば、100nm〜数10μmの高さのバンクも使用可能であり、いずれの場合であっても本発明の効果を得ることができる。    The film thickness of the bank 17 is, for example, generally in a range of 1 μm to 5 μm, but the film thickness may be appropriately selected according to the purpose. For example, a bank having a height of 100 nm to several tens of μm can be used, and the effect of the present invention can be obtained in any case.

バンク17によって有機発光層14から発した光や色変換膜から発した光を反射する前に、全反射を繰り返してそのたびごとに光がロスするのは好ましくないので、互いに隣接するバンク17どうしの間隔(開口径)はあまり大きくないほうがよい。隣接するバンク17どうしの間隔は、50mm,20mm,10mm,5mm,1mm,500μm,100μm,50μm,20μmなどである。    Before the light emitted from the organic light emitting layer 14 or the light emitted from the color conversion film is reflected by the bank 17, it is not preferable that the light is lost every time the total reflection is repeated. The interval (opening diameter) should not be too large. The intervals between adjacent banks 17 are 50 mm, 20 mm, 10 mm, 5 mm, 1 mm, 500 μm, 100 μm, 50 μm, 20 μm, and the like.

バンク17に光散乱性を持たせる場合には、バンク17を構成する樹脂中に微細な光反射性粒子を分散させることが好ましい。光反射性粒子は、粒径が200nm〜5μmであることが好ましい。これによって、バンク17は光反射性を持つとともに、光の反射方向をランダムにする光散乱性も持つことができる。    When providing the bank 17 with light scattering properties, it is preferable to disperse fine light-reflecting particles in the resin constituting the bank 17. The light reflective particles preferably have a particle size of 200 nm to 5 μm. As a result, the bank 17 can have light reflectivity and can also have light scattering properties that make the light reflection direction random.

バンク17は、また、第一電極(下部電極)12のエッジ部分でのリークを防ぐ役割も果たす。即ち、第一電極12に有機発光層14を形成した場合、第一電極12の端面で有機発光層14の膜厚が薄くなる。このため第一電極12と第二電極13との間でショートが起こりやすくなる。バンク17をこうした領域に配置することによって、ショートを防止することができる。この場合、バンク17は、一般的にエッジカバー、ないし絶縁層などと称される構成物となる。    The bank 17 also serves to prevent leakage at the edge portion of the first electrode (lower electrode) 12. That is, when the organic light emitting layer 14 is formed on the first electrode 12, the thickness of the organic light emitting layer 14 is reduced at the end face of the first electrode 12. For this reason, a short circuit easily occurs between the first electrode 12 and the second electrode 13. By arranging the bank 17 in such a region, a short circuit can be prevented. In this case, the bank 17 is a component generally called an edge cover or an insulating layer.

以上のような構成の発光デバイスの作用について説明する。
図1に示すように、発光デバイス10の第一電極(下部電極)12と第二電極(上部電極)13との間に、所定の電圧値の電圧が印加されると、有機発光層14中に注入された電子と正孔との再結合によって生じた励起子(エキシトン)によって、有機発光層14が発光する。
The operation of the light emitting device having the above configuration will be described.
As shown in FIG. 1, when a voltage having a predetermined voltage value is applied between the first electrode (lower electrode) 12 and the second electrode (upper electrode) 13 of the light emitting device 10, The organic light emitting layer 14 emits light due to excitons (excitons) generated by recombination of electrons and holes injected into.

有機発光層14で発光した光(励起光)のうち、透明な第一電極(下部電極)12に向かう方向に出射された光は、第一電極12を透過して波長変換層15に入射する。
また、有機発光層14で発光した光(励起光)のうち、光不透過性の第二電極(上部電極)13に向かう方向に出射された光は、第二電極13の表面で反射され、再び有機発光層14を透過し、第一電極12を透過して波長変換層15に入射する。
Of the light (excitation light) emitted from the organic light emitting layer 14, the light emitted in the direction toward the transparent first electrode (lower electrode) 12 passes through the first electrode 12 and enters the wavelength conversion layer 15. .
Of the light (excitation light) emitted from the organic light emitting layer 14, the light emitted in the direction toward the light-impermeable second electrode (upper electrode) 13 is reflected by the surface of the second electrode 13, The light passes through the organic light emitting layer 14 again, passes through the first electrode 12, and enters the wavelength conversion layer 15.

一方、有機発光層14で発光した光(励起光)のうち、面広がり方向(積層方向に直角な方向)に向けて出射された光は、バンク17に入射する。バンク17に入射した光は、バンク17が光反射性を有する材料から構成されているため、入射した光を反射、および好ましくは拡散させる。そして、バンク17で反射された光も、第一電極12を透過して波長変換層15に入射する。      On the other hand, of the light (excitation light) emitted from the organic light emitting layer 14, the light emitted toward the surface spreading direction (direction perpendicular to the stacking direction) enters the bank 17. The light incident on the bank 17 reflects and preferably diffuses the incident light because the bank 17 is made of a material having light reflectivity. The light reflected by the bank 17 also passes through the first electrode 12 and enters the wavelength conversion layer 15.

次に、波長変換層15に光が入射した後のことを述べる。
波長変換層15が、特段の光散乱性機能がないカラーフィルタの場合、波長変換層15に入射した光は、波長スペクトルが変化し、進行方向については基本的には屈折率差に基づく進行方向変化が生じるのみであり、光は基板11を通して外部に出射される。
Next, what happens after light is incident on the wavelength conversion layer 15 will be described.
When the wavelength conversion layer 15 is a color filter without a special light scattering function, the wavelength of the light incident on the wavelength conversion layer 15 changes, and the traveling direction is basically a traveling direction based on a refractive index difference. Only the change occurs, and the light is emitted to the outside through the substrate 11.

一方、波長変換層15が蛍光体または、光散乱機能を有するカラーフィルタの場合、波長変換層15からの光はさまざまな方向に進む。このうち、基板11側に進む光は、基板11を介して外部に出射される。
基板11と反対方向に進む光は、光不透過性の第二電極(上部電極)13の表面で反射され、再び波長変換層15、および基板11を透過して外部に出射される。また、面広がり方向(積層方向に直角な方向)に向けて出射された光の一部はバンク17に入射する。バンク17に入射した光は、バンク17が光反射性を有する材料から構成されているため、入射した光を反射、および好ましくは拡散させる。そして、バンク17で反射された光も、波長変換層15、および基板11を透過して外部に出射される。
On the other hand, when the wavelength conversion layer 15 is a phosphor or a color filter having a light scattering function, light from the wavelength conversion layer 15 travels in various directions. Among these, the light traveling toward the substrate 11 is emitted to the outside through the substrate 11.
The light traveling in the opposite direction to the substrate 11 is reflected by the surface of the light-impermeable second electrode (upper electrode) 13, passes through the wavelength conversion layer 15 and the substrate 11 again, and is emitted to the outside. Further, part of the light emitted in the surface spreading direction (direction perpendicular to the stacking direction) is incident on the bank 17. The light incident on the bank 17 reflects and preferably diffuses the incident light because the bank 17 is made of a material having light reflectivity. The light reflected by the bank 17 also passes through the wavelength conversion layer 15 and the substrate 11 and is emitted to the outside.

このように、本実施形態の発光デバイス10によれば、バンク17に光反射性があるため、バンク17に向かって出射された光が、バンク17で吸収されてしまったり、バンク17内を導波して損失することがない。そして、バンク17に向かって出射された光をバンク17で反射させて基板11から外部に出射させることによって、光取出し効率を格段に向上させることが可能になる。   Thus, according to the light emitting device 10 of the present embodiment, since the bank 17 has light reflectivity, the light emitted toward the bank 17 is absorbed by the bank 17 or guided through the bank 17. There is no loss due to waves. Then, the light emitted toward the bank 17 is reflected by the bank 17 and emitted from the substrate 11 to the outside, so that the light extraction efficiency can be remarkably improved.

即ち、従来の発光デバイスは、有機発光層の屈折率や散乱性、あるいは形状の制御によって光取出し効率を上げるという発想に対して、本発明においては、有機発光層14において発光した光を、バンク17で囲われた領域内に閉じ込め、バンク17の方向に伝播させないことにある。こうした構成によって、光の出射を光を取り出したい方向にだけ限定でき、光をロスすることなく効率よく取り出せる。これによって、従来知られている発光デバイスと比較して、光取出し効率を格段に向上させることができる。    That is, in the conventional light emitting device, in contrast to the idea of increasing the light extraction efficiency by controlling the refractive index, scattering property, or shape of the organic light emitting layer, in the present invention, This is to confine in the area surrounded by 17 and not propagate in the direction of the bank 17. With such a configuration, the emission of light can be limited only to the direction in which the light is desired to be extracted, and the light can be extracted efficiently without loss. Thereby, the light extraction efficiency can be remarkably improved as compared with a conventionally known light emitting device.

なお、バンク17は、光反射性は必須であるが、更に加えて正反射ではなく、乱反射性、散乱性を有する材料から構成することがより好ましい。正反射よりも、乱反射、散乱の方が、バンク17に入射した光がランダムな方向に反射されるため、光の取り出し効率をより一層高められる。    In addition, although the light reflectivity is indispensable for the bank 17, it is more preferable that the bank 17 is made of a material having irregular reflection properties and scattering properties instead of regular reflection. In the case of irregular reflection and scattering, the light incident on the bank 17 is reflected in a random direction, and the light extraction efficiency can be further improved compared to regular reflection.

また、バンク17を配置する位置は、理想的には、所定の形状にパターン化された第一電極(下部電極)12の周辺すべてをバンク17で覆うことが好ましい。しかし、その一部のみをバンク17覆っても、光取出し効率の向上効果は得られる。ただし、第一電極(下部電極)12の周辺長さに対して、例えば、1%程度の長さに対してのみ光反射性のバンク17を配置しただけでは、残り99%の長さの部分からは光が面広がり方向に導波して損失することになり、光取出し効率の向上効果は限定的である。    Further, ideally, the bank 17 is preferably covered by the bank 17 around the first electrode (lower electrode) 12 patterned in a predetermined shape. However, even if only part of the bank 17 is covered, the effect of improving the light extraction efficiency can be obtained. However, with respect to the peripheral length of the first electrode (lower electrode) 12, for example, if the light-reflective bank 17 is arranged only for a length of about 1%, the remaining 99% of the length Therefore, light is guided and lost in the direction of surface spread, and the effect of improving the light extraction efficiency is limited.

有機発光層14で発光した光が面広がり方向に導波して逃げてゆくか、あるいは光反射性のバンク17によって反射されて、基板11側から取り出されるかは、第一電極12の周辺長さに対して、バンク17が配置されている長さの割合が相関している。例えば、光反射性のバンクを用いない場合の光取出し効率が25%と仮定すると、損失分は75%となる。第一電極12の周辺長さに対して、バンク17が配置されている長さの割合が10%であれば、概算で約7.5%の光が取り出される可能性があり、トータルの光取出し効率は32.5%となり、光反射性のバンク17を形成しない場合の取り出し効率25%に対して、約30%の効率向上となる。    Whether the light emitted from the organic light-emitting layer 14 is guided away in the surface spreading direction or escapes or is reflected by the light-reflective bank 17 and extracted from the substrate 11 side is the peripheral length of the first electrode 12 On the other hand, the ratio of the length in which the bank 17 is arranged is correlated. For example, assuming that the light extraction efficiency without using a light reflective bank is 25%, the loss is 75%. If the ratio of the length at which the bank 17 is arranged to the peripheral length of the first electrode 12 is 10%, approximately 7.5% of light may be extracted on the basis of the total light. The extraction efficiency is 32.5%, which is an improvement of about 30% compared to the extraction efficiency of 25% when the light-reflective bank 17 is not formed.

しかし、第一電極12の周辺長さに対して、バンク17が配置されている長さの割合が1%であれば、最大でも0.75%しか光取出しは向上せず、トータルの光取出し効率は25.75%にしかならない。これは、光反射性のバンク17を設けない場合の光取出し効率25%に対して、僅か3%の改善でしかなく、得られる効果はあまりに小さい。    However, if the ratio of the length in which the bank 17 is arranged to the peripheral length of the first electrode 12 is 1%, the light extraction is improved only by 0.75% at the maximum, and the total light extraction is performed. The efficiency is only 25.75%. This is only a 3% improvement over the light extraction efficiency of 25% when the light-reflective bank 17 is not provided, and the obtained effect is too small.

この様な観点から、第一電極(下部電極)12の周辺長さに対して、バンク17が配置されている長さの割合は、理想的には100%であるが、概ね5%以上あれば、相応の光取り出し効率の向上効果は得られることになる。    From such a viewpoint, the ratio of the length in which the bank 17 is disposed to the peripheral length of the first electrode (lower electrode) 12 is ideally 100%, but is approximately 5% or more. Accordingly, a corresponding effect of improving the light extraction efficiency can be obtained.

第一電極12の周辺長さに対して、バンク17が配置されている長さの割合が5%の場合、光反射性のバンク17によって取り出される光は最大3.75%(75%×5%)であり、トータル27.75%となる。これは光反射性のバンク17を設けない場合の光取出し効率25%に対して、15%の向上であり、意味のある改善といえる。
ただし、実質的には、他の構成部での光損失や、基板11内での導波によるロスなどがあるため、好ましくは、第一電極12の周辺長さに対して、光反射性のバンク17が配置されている長さの割合が50%以上が好ましく、特に100%にすることが好ましい。
When the ratio of the length in which the bank 17 is arranged to the peripheral length of the first electrode 12 is 5%, the maximum amount of light extracted by the light reflective bank 17 is 3.75% (75% × 5 %) For a total of 27.75%. This is a significant improvement of 15% with respect to the light extraction efficiency of 25% when the light-reflective bank 17 is not provided.
However, since there is substantially a light loss in other constituent parts and a loss due to wave guide in the substrate 11, it is preferable that the light reflective property be compared with the peripheral length of the first electrode 12. The ratio of the length in which the bank 17 is arranged is preferably 50% or more, particularly preferably 100%.

第一電極12の周辺長さに対して、バンク17が配置されている長さの割合をどれくらいにするかは、例えば、バンク17をパターン化する際の形状で決めることができる。一般的なケースで考えれば、第一電極12の周辺をすべてバンク17で覆うことはなんら困難ではなく、第二電極13と第一電極12との間のリークの抑制、およびウェットプロセスで形成する場合の隣接画素への流れ込み防止という観点も考えると、第一電極(下部電極)12の周辺をすべて光反射性バンク17で覆うことが好ましい。    The ratio of the length in which the bank 17 is arranged with respect to the peripheral length of the first electrode 12 can be determined by, for example, the shape of patterning the bank 17. Considering a general case, it is not difficult to cover the entire periphery of the first electrode 12 with the bank 17, and it is formed by suppressing leakage between the second electrode 13 and the first electrode 12 and by a wet process. Considering the viewpoint of preventing inflow to adjacent pixels, it is preferable to cover the entire periphery of the first electrode (lower electrode) 12 with the light reflective bank 17.

また、発光デバイス10は、信頼性確保のため、適切な方法で周囲を封止するのが好ましい。封止の方法は、公知の方法などを用いることができる。例えば、缶封止と乾燥剤を用いる方法、キャップガラスと乾燥剤を用いる方法、ガラスフリット封止、透湿性を抑えた膜とガラスとで張り合わせる方法などが挙げられる。    Moreover, it is preferable to seal the periphery of the light emitting device 10 by an appropriate method in order to ensure reliability. As a sealing method, a known method or the like can be used. For example, a method using a can seal and a desiccant, a method using a cap glass and a desiccant, a glass frit seal, a method of pasting together a film with suppressed moisture permeability and glass, and the like.

(発光デバイス:第二実施形態)
図2は第二実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス20は、光透過性の基板21と、この基板21の一面21aに順に積層された波長変換層25、光透過性の第一電極(下部電極)22、第二電極(上部電極)23と、この第一電極22および第二電極23の間に形成された有機発光層24と、少なくとも、有機発光層24の側面に配置されるバンク27とを備え、該バンク27は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light Emitting Device: Second Embodiment)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a light emitting device according to the second embodiment.
The light emitting device 20 includes a light transmissive substrate 21, a wavelength conversion layer 25, a light transmissive first electrode (lower electrode) 22, and a second electrode (upper electrode) 23 that are sequentially stacked on one surface 21 a of the substrate 21. And an organic light emitting layer 24 formed between the first electrode 22 and the second electrode 23, and at least a bank 27 disposed on a side surface of the organic light emitting layer 24. The bank 27 has light reflectivity. It is comprised from the material which has.

そして、この実施形態においては、有機発光層24を、例えば画素毎に区切って形成している。即ち、第一実施形態においては、有機発光層14はバンク17を乗り越えて一連の層として形成されていたが(図1参照)、第二実施形態においては、有機発光層24はバンク27の上部(第二電極側)で区切られて複数に分割されている。これによって、有機発光層24を伝播して面広がり方向に伝播していく光を遮断し、光取出し効率を更に向上させることができる。    In this embodiment, the organic light emitting layer 24 is formed, for example, divided for each pixel. That is, in the first embodiment, the organic light emitting layer 14 is formed as a series of layers over the bank 17 (see FIG. 1). However, in the second embodiment, the organic light emitting layer 24 is formed above the bank 27. It is divided into a plurality of sections separated by (second electrode side). Thereby, light propagating through the organic light emitting layer 24 and propagating in the surface spreading direction can be blocked, and the light extraction efficiency can be further improved.

(発光デバイス:第三実施形態)
図3は第三実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス30は、光透過性の基板(第一の基板)31と、この基板31の一面31aに順に積層された波長変換層35、層間膜38、光透過性の第二の基板39、第一電極(下部電極)32、有機発光層34、第二電極(上部電極)33と、少なくとも、波長変換層35及び有機発光層34の双方の側面に配置されるバンク37を備え、該バンク37は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light emitting device: third embodiment)
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a light emitting device according to the third embodiment.
The light emitting device 30 includes a light transmissive substrate (first substrate) 31, a wavelength conversion layer 35, an interlayer film 38, a light transmissive second substrate 39, and a first layer 31, which are sequentially stacked on one surface 31 a of the substrate 31. One bank (lower electrode) 32, an organic light emitting layer 34, a second electrode (upper electrode) 33, and a bank 37 disposed on at least both sides of the wavelength conversion layer 35 and the organic light emitting layer 34, are provided. Is made of a material having light reflectivity.

この第三実施形態では、層間膜38、光透過性の第二の基板39を用いているが、これら層間膜38、第二の基板39のいずれかあるいは両方を省略することもできる。
また、この第三実施形態では、有機発光層34がバンク37を乗り越えて一連の層として形成されているが、有機発光層34を、画素毎に区切って形成してもよい。
第三実施形態においては、有機発光層34と波長変換層35の双方の側面に光反射性のバンク37を配置しているため、光取出し効率の観点からは第一実施形態、第二実施形態より好ましい。
In the third embodiment, the interlayer film 38 and the light transmissive second substrate 39 are used. However, either or both of the interlayer film 38 and the second substrate 39 may be omitted.
In the third embodiment, the organic light emitting layer 34 is formed as a series of layers over the bank 37. However, the organic light emitting layer 34 may be formed so as to be divided for each pixel.
In the third embodiment, since the light-reflective banks 37 are arranged on both side surfaces of the organic light emitting layer 34 and the wavelength conversion layer 35, the first embodiment and the second embodiment from the viewpoint of light extraction efficiency. More preferred.

第三実施形態の作製プロセスとしては、例えば、基板31上に順次、膜や構造物を積み上げていっても良いが、基板31上にバンク37と波長変換層35とを形成し、一方、第二の基板39上に、第一電極(下部電極)32、有機発光層34、第二電極(上部電極)33を形成し、基板(第一の基板)31と第二の基板39とを貼り合せる方法で作製することもできる。    As a manufacturing process of the third embodiment, for example, a film or a structure may be sequentially stacked on the substrate 31, but the bank 37 and the wavelength conversion layer 35 are formed on the substrate 31, while the first A first electrode (lower electrode) 32, an organic light emitting layer 34, and a second electrode (upper electrode) 33 are formed on a second substrate 39, and the substrate (first substrate) 31 and the second substrate 39 are bonded together. It can also be made by a method of combining.

(発光デバイス:第四実施形態)
図4は第四実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
第四実施形態における発光デバイス40は、光透過性の基板(第一の基板)41と、この基板41の一面41aに順に積層された波長変換層45、層間膜48、光透過性の第二の基板49、第一電極(下部電極)42、有機発光層44、第二電極(上部電極)43と、少なくとも、波長変換層45及び有機発光層44の双方の側面に配置されるバンク47を備え、該バンク47は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light-emitting device: Fourth embodiment)
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a light emitting device according to the fourth embodiment.
The light emitting device 40 according to the fourth embodiment includes a light transmissive substrate (first substrate) 41, a wavelength conversion layer 45, an interlayer film 48, and a light transmissive second layer sequentially stacked on one surface 41a of the substrate 41. Substrate 49, first electrode (lower electrode) 42, organic light emitting layer 44, second electrode (upper electrode) 43, and bank 47 disposed at least on both sides of wavelength conversion layer 45 and organic light emitting layer 44. The bank 47 is made of a material having light reflectivity.

第四実施形態においては、波長変換層45を、例えば画素毎に区切って形成している。即ち、第三実施形態においては、波長変換層35はバンク37を乗り越えて一連の層として形成されていたが(図3参照)、第四実施形態においては、波長変換層45はバンク47の上部(第二電極側)で区切られて複数に分割されている。これによって、波長変換層45を伝播して面広がり方向に伝播していく光を遮断し、光取出し効率を更に向上させることができる。    In the fourth embodiment, the wavelength conversion layer 45 is formed, for example, divided for each pixel. That is, in the third embodiment, the wavelength conversion layer 35 is formed as a series of layers over the bank 37 (see FIG. 3), but in the fourth embodiment, the wavelength conversion layer 45 is formed above the bank 47. It is divided into a plurality of sections separated by (second electrode side). Thereby, light propagating through the wavelength conversion layer 45 and propagating in the surface spreading direction can be blocked, and the light extraction efficiency can be further improved.

第四実施形態では、層間膜48、光透過性の第二の基板49を用いる形態で説明しているが、これら層間膜48、光透過性の第二の基板49いずれかあるいは両方を省略することもできる。
また、第四実施形態では、有機発光層44がバンク47を乗り越えて一連の層として形成されているが、有機発光層44を、区画毎に区切って形成してもよい。
第四実施形態においては、有機発光層44と波長変換層45の双方の側面に光反射性のバンク47を配置しているため、光取出し効率の観点からは第一実施形態、第二実施形態より好ましい。
In the fourth embodiment, the interlayer film 48 and the light transmissive second substrate 49 are used. However, either or both of the interlayer film 48 and the light transmissive second substrate 49 are omitted. You can also.
Further, in the fourth embodiment, the organic light emitting layer 44 is formed as a series of layers over the bank 47, but the organic light emitting layer 44 may be formed by being divided into sections.
In the fourth embodiment, since the light-reflective banks 47 are arranged on both sides of the organic light emitting layer 44 and the wavelength conversion layer 45, the first embodiment and the second embodiment are used from the viewpoint of light extraction efficiency. More preferred.

また、第四実施形態の作製プロセスであるが、基板41上に順次、膜や構造物を積み上げていっても良いが、基板41上にバンク47と波長変換層45とを形成し、一方、第二の基板49上に、第一電極(下部電極)42、有機発光層44、第二電極(上部電極)43を形成し、これら基板(第一の基板)41と第二の基板49とを貼り合せる方法で作製することもできる。    Further, in the manufacturing process of the fourth embodiment, a film or a structure may be sequentially stacked on the substrate 41, but the bank 47 and the wavelength conversion layer 45 are formed on the substrate 41, A first electrode (lower electrode) 42, an organic light emitting layer 44, and a second electrode (upper electrode) 43 are formed on the second substrate 49, and the substrate (first substrate) 41, the second substrate 49, It can also be produced by a method of bonding.

なお、上述した第三実施形態や第四実施形態において、有機発光層34,44、波長変換層35,45の形成領域を所定の範囲内に限定して形成する方法としては、例えば、マスク蒸着法、インクジェット法、印刷などによるウェット法を用いた塗り分け、LITI(Laser Induced Thermal imaging)、LIPS(laser Induced Pattern wise Sublimation)などのレーザーを用いる手法、フォトブリーチ法などの方法を適宜用いればよい。    In the third embodiment and the fourth embodiment described above, as a method for forming the organic light emitting layers 34 and 44 and the wavelength conversion layers 35 and 45 by limiting the formation regions within a predetermined range, for example, mask deposition is used. A method such as a method using a laser, such as a coating method using a wet method such as a printing method, an inkjet method, or a printing method, a laser induced pattern wise sublimation (LITI), or a photobleaching method may be used as appropriate. .

バンク37,47は、また、インクジェットなどウェットプロセスによって有機発光層34,44を形成する場合に、基板31,41のある画素領域に塗布された液体が、隣接する画素領域に流れることを防止する。こうした機能をより高めるために、バンク37,47に更に撥液性を付与する処理を施すことも好ましい。    The banks 37 and 47 also prevent liquid applied to a certain pixel region of the substrates 31 and 41 from flowing to adjacent pixel regions when the organic light emitting layers 34 and 44 are formed by a wet process such as inkjet. . In order to enhance these functions, it is also preferable to perform a treatment for imparting liquid repellency to the banks 37 and 47.

(発光デバイス:第五実施形態)
図5は第五実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
第五実施形態に係る発光デバイス50は、光透過性の基板51と、この基板51の一面51aに順に積層された波長変換層55、第一電極(下部電極)52、有機発光層54、第二電極(上部電極)53と、少なくとも、波長変換層55及び有機発光層54の双方の側面に配置されるバンク57を備え、該バンク57は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light-emitting device: fifth embodiment)
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a light emitting device according to the fifth embodiment.
The light emitting device 50 according to the fifth embodiment includes a light transmissive substrate 51, a wavelength conversion layer 55, a first electrode (lower electrode) 52, an organic light emitting layer 54, A two-electrode (upper electrode) 53 and at least a bank 57 disposed on both side surfaces of the wavelength conversion layer 55 and the organic light-emitting layer 54 are provided, and the bank 57 is made of a material having light reflectivity.

この第五実施形態では、波長変換層55、第一電極52、有機発光層54がバンク57を乗り越えて一連の層として形成された構成となっている。
なお、第五実施形態では、更に層間膜を波長変換層55と第一電極52の間に挿入しても良い。
In the fifth embodiment, the wavelength conversion layer 55, the first electrode 52, and the organic light emitting layer 54 are formed as a series of layers over the bank 57.
In the fifth embodiment, an interlayer film may be further inserted between the wavelength conversion layer 55 and the first electrode 52.

(発光デバイス:第六実施形態)
図6は第六実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
第六実施形態に係る発光デバイス60は、光透過性の基板61と、この基板61の一面61aに順に積層された波長変換層65、第一電極(下部電極)62、有機発光層64、第二電極(上部電極)63と、少なくとも、波長変換層65及び有機発光層65の双方の側面に配置されるバンク67を備え、該バンク67は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light-emitting device: Sixth embodiment)
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a light emitting device according to the sixth embodiment.
The light-emitting device 60 according to the sixth embodiment includes a light-transmitting substrate 61, a wavelength conversion layer 65, a first electrode (lower electrode) 62, an organic light-emitting layer 64, A two-electrode (upper electrode) 63 and a bank 67 disposed at least on both side surfaces of the wavelength conversion layer 65 and the organic light emitting layer 65 are provided, and the bank 67 is made of a material having light reflectivity.

このような第六実施形態では、更に層間膜を波長変換層65と第一電極62との間に挿入しても良い。
第六実施形態においては、波長変換層65、第一電極62、および有機発光層64を、例えば画素毎に区切って形成している。即ち、第五実施形態においては、波長変換層55、第一電極52、有機発光層54は、バンク57を乗り越えて一連の層として形成されていたが(図5参照)、第六実施形態においては、波長変換層65、第一電極62、および有機発光層64はバンク67の上部(第二電極側)で区切られて複数に分割されている。これによって、波長変換層65、第一電極62、および有機発光層64を伝播して面広がり方向に伝播していく光を遮断し、光取出し効率を更に向上させることができる。
In such a sixth embodiment, an interlayer film may be further inserted between the wavelength conversion layer 65 and the first electrode 62.
In the sixth embodiment, the wavelength conversion layer 65, the first electrode 62, and the organic light emitting layer 64 are formed, for example, divided for each pixel. That is, in the fifth embodiment, the wavelength conversion layer 55, the first electrode 52, and the organic light emitting layer 54 are formed as a series of layers over the bank 57 (see FIG. 5), but in the sixth embodiment. The wavelength conversion layer 65, the first electrode 62, and the organic light emitting layer 64 are divided into a plurality by being divided at the upper part (second electrode side) of the bank 67. Accordingly, light propagating through the wavelength conversion layer 65, the first electrode 62, and the organic light emitting layer 64 and propagating in the surface spreading direction can be blocked, and the light extraction efficiency can be further improved.

また、第六実施形態では、波長変換層65、第一電極62、および有機発光層64がバンク67によって区切られているが、この三者のうち、二者あるいは一者だけをバンク67を乗り越えて一連の層として形成することも可能である。    In the sixth embodiment, the wavelength conversion layer 65, the first electrode 62, and the organic light emitting layer 64 are separated by the bank 67. Of these three members, only two or one of them overcome the bank 67. It is also possible to form a series of layers.

(発光デバイス:第七実施形態)
図7は第七実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
第七実施形態に係る発光デバイス70は、光透過性の基板71と、この基板71の一面71aに順に積層された波長変換層75、第一電極(下部電極)72、有機発光層74、第二電極(上部電極)73と、少なくとも、波長変換層75及び有機発光層74の双方の側面に配置されるバンク77とを備え、該バンク77は光反射性を有する材料から構成されている。
(Light Emitting Device: Seventh Embodiment)
FIG. 7 is a schematic sectional view showing a light emitting device according to the seventh embodiment.
The light-emitting device 70 according to the seventh embodiment includes a light-transmitting substrate 71, a wavelength conversion layer 75, a first electrode (lower electrode) 72, an organic light-emitting layer 74, A two-electrode (upper electrode) 73 and at least a bank 77 disposed on both side surfaces of the wavelength conversion layer 75 and the organic light emitting layer 74 are provided, and the bank 77 is made of a material having light reflectivity.

第七実施形態では、更に層間膜を波長変換層75と第一電極72との間に挿入しても良い。
第七実施形態においては、波長変換層75、第一電極(下部電極)72、有機発光層74、第二電極73は全面に渡って形成するが、バンク77によって各区域あるいは各画素ごとに区切られる方式である。これを実現するための手法はいろいろあるが、現実的な方法としては、光反射性のバンク77を図7に示すように逆テーパー形状に形成する方法である。バンク77を逆テーパー形状に形成することにより、波長変換層75、第一電極(下部電極)72、有機発光層74、および第二電極73は自然に段切れが生じ、波長変換層75、有機発光層74から出た光は基板71側に向かうことになり、光取出し効率の点で好ましい。
In the seventh embodiment, an interlayer film may be further inserted between the wavelength conversion layer 75 and the first electrode 72.
In the seventh embodiment, the wavelength conversion layer 75, the first electrode (lower electrode) 72, the organic light emitting layer 74, and the second electrode 73 are formed over the entire surface, but are partitioned by the bank 77 for each area or each pixel. It is a method. There are various methods for realizing this, but a practical method is to form the light-reflective bank 77 in an inversely tapered shape as shown in FIG. By forming the bank 77 in a reverse taper shape, the wavelength conversion layer 75, the first electrode (lower electrode) 72, the organic light emitting layer 74, and the second electrode 73 are naturally cut off, and the wavelength conversion layer 75, the organic The light emitted from the light emitting layer 74 is directed to the substrate 71 side, which is preferable in terms of light extraction efficiency.

(発光デバイス:第八実施形態)
図8A〜図8Dは第八実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
この実施形態の発光デバイス80a〜80dは、波長変換層85、第一電極(下部電極)82、有機発光層84、第二電極(上部電極)83、および有機発光層84の側面に配置されるバンク87とを備え、該バンク87は光反射性を有する材料から構成されている。そして、基板81と波長変換層85あるいは、基板81と第一電極(下部電極)82との間に、基板81よりも屈折率の低い低屈折率層86を形成している。この低屈折率層86の屈折率は基板81の屈折率より低いことが好ましく、理想的には、屈折率1.0がもっとも好ましい。
(Light Emitting Device: Eighth Embodiment)
8A to 8D are schematic cross-sectional views showing the light emitting device according to the eighth embodiment.
The light emitting devices 80a to 80d of this embodiment are disposed on the side surfaces of the wavelength conversion layer 85, the first electrode (lower electrode) 82, the organic light emitting layer 84, the second electrode (upper electrode) 83, and the organic light emitting layer 84. The bank 87 is made of a material having light reflectivity. A low refractive index layer 86 having a refractive index lower than that of the substrate 81 is formed between the substrate 81 and the wavelength conversion layer 85 or between the substrate 81 and the first electrode (lower electrode) 82. The refractive index of the low refractive index layer 86 is preferably lower than the refractive index of the substrate 81, and ideally the refractive index is 1.0.

以下、低屈折率層の形成例を図8A〜図8Dに示すが、本実施形態はこれに限られるものではない。
図8Aは、図1に示した発光デバイスに対して、更に基板81と波長変換層85との間に、基板81よりも屈折率の低い低屈折率層86を形成した発光デバイス80aを示している。
図8Bは、図3に示した発光デバイスに対して、更に基板81と波長変換層85との間に、基板81よりも屈折率の低い低屈折率層86を形成した発光デバイス80bを示している。
図8Cは、図4に示した発光デバイスに対して、更に基板(第一の基板)81と波長変換層85との間、及び第二の基板89と第一電極82の間に、基板81や第二の基板89よりも屈折率の低い低屈折率層86をそれぞれ形成した発光デバイス80cを示している。
図8Dは、図7に示した発光デバイスに対して、更に基板81と波長変換層85との間に、基板81よりも屈折率の低い低屈折率層86を形成した発光デバイス80dを示している。
Hereinafter, although the example of formation of a low refractive index layer is shown to FIG. 8A-FIG. 8D, this embodiment is not restricted to this.
FIG. 8A shows a light emitting device 80a in which a low refractive index layer 86 having a refractive index lower than that of the substrate 81 is further formed between the substrate 81 and the wavelength conversion layer 85 in the light emitting device shown in FIG. Yes.
FIG. 8B shows a light emitting device 80b in which a low refractive index layer 86 having a refractive index lower than that of the substrate 81 is further formed between the substrate 81 and the wavelength conversion layer 85 with respect to the light emitting device shown in FIG. Yes.
FIG. 8C shows a substrate 81 between the substrate (first substrate) 81 and the wavelength conversion layer 85 and between the second substrate 89 and the first electrode 82 in addition to the light emitting device shown in FIG. And a light emitting device 80c in which a low refractive index layer 86 having a refractive index lower than that of the second substrate 89 is formed.
FIG. 8D shows a light emitting device 80d in which a low refractive index layer 86 having a lower refractive index than that of the substrate 81 is further formed between the substrate 81 and the wavelength conversion layer 85 in the light emitting device shown in FIG. Yes.

なお、これら図8A〜図8Dにそれぞれ示す発光デバイス80a〜80dにおいても、光反射性のバンク87を設けずに、低屈折率層86を形成しただけでは、波長変換層85と低屈折率層86との界面、あるいは第一電極82と低屈折率層86との界面で跳ね返った光が正反射を繰り返して面広がり方向に逃げてゆくことになり、光取出し効率はそれほど向上しない。ゆえに、光反射性のバンク87と低屈折率層86とを組み合わせて用いることにより、光取出し効率の大幅な向上効果を得ることができる。    In the light emitting devices 80a to 80d shown in FIGS. 8A to 8D, the wavelength conversion layer 85 and the low refractive index layer are formed only by forming the low refractive index layer 86 without providing the light reflective bank 87. The light bounced off at the interface with the first electrode 82 or the interface between the first electrode 82 and the low refractive index layer 86 repeats regular reflection and escapes in the surface spreading direction, so that the light extraction efficiency is not so improved. Therefore, by using the light reflective bank 87 and the low refractive index layer 86 in combination, it is possible to obtain a significant improvement in the light extraction efficiency.

(バンクの形状例)
図9は、上述した各実施形態に適用可能な光反射性を有する材料から構成されるバンクの形状例を示した断面図である。なお、図9においては、波長変換層、第一電極など、発光デバイスの層構成については図示を省略している。
図9(a)では、バンク91は、基板90から上部に向かって幅が狭まった断面台形となるように形成されている。
図9(b)では、バンク92は、基板90から上部に向かって幅が広がった断面台形となるように形成されている。
図9(c)では、バンク93は、断面が半円形ないし半楕円形となるように形成されている。
図9(d)では、バンク94は、断面が半円形で、かつ頂部が平坦面となるように形成されている。
図9(e)では、バンク95は、基板90から上部に向かって角を形成する断面三角形となるように形成されている。
(Example of bank shape)
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of the shape of a bank made of a light-reflective material applicable to the above-described embodiments. In FIG. 9, illustration of the layer configuration of the light emitting device such as the wavelength conversion layer and the first electrode is omitted.
In FIG. 9A, the bank 91 is formed to have a trapezoidal cross section with a width narrowing from the substrate 90 toward the top.
In FIG. 9B, the bank 92 is formed to have a trapezoidal cross section having a width that increases from the substrate 90 toward the top.
In FIG. 9C, the bank 93 is formed to have a semicircular or semi-elliptical cross section.
In FIG. 9D, the bank 94 is formed to have a semicircular cross section and a flat top.
In FIG. 9E, the bank 95 is formed to have a triangular cross section that forms an angle from the substrate 90 toward the top.

これら図9(a)〜(e)にそれぞれ示すバンクのうち、特に図9(a)、図9(c)、図9(d)、図9(e)のように、光の出射側、即ち基板90寄りが広がっている形状が、光がより出射されやすいという効果がある。こうした効果は、発光プロファイルにも影響を与えるので、表示装置に適用した場合の広視野角化に寄与する。この広視野角という視点では、図9(e)に示す断面三角形のバンク95の形状がもっとも好ましい。一方、バンクに重ねて成膜する層がエッジ部分で切れてしまうことを抑制するためには、図9(c)、図9(d)のようにバンク93,94のように丸みを帯びた形状が好ましい。    Among the banks shown in FIGS. 9A to 9E, in particular, as shown in FIGS. 9A, 9C, 9D, and 9E, the light emitting side, That is, the shape in which the substrate 90 is spread has an effect that light is more easily emitted. Since such an effect also affects the light emission profile, it contributes to a wide viewing angle when applied to a display device. From the viewpoint of this wide viewing angle, the shape of the bank 95 having a triangular cross section shown in FIG. On the other hand, in order to prevent the layer deposited on the bank from being cut off at the edge portion, it is rounded like banks 93 and 94 as shown in FIGS. 9 (c) and 9 (d). Shape is preferred.

一方、パッシブ駆動有機EL表示装置でよく用いられる手法であるが、図9(b)に示すような逆テーパー形状のバンク92を形成し、これによって、第二電極(上部電極)を全面に渡って形成したときに、バンク92のエッジ部分(角部)で段切れを生じさせ、第二電極(上部電極)をストライプ状に形成することも可能である。更に、図9(b)のバンク92の構造は、プライベート使用を主たる目的とした有機EL表示装置において、視野角を狭くしてプライバシーフィルタの役割を果たすことにも有効である。    On the other hand, although it is a technique often used in a passive drive organic EL display device, a bank 92 having an inverted taper shape as shown in FIG. 9B is formed, so that the second electrode (upper electrode) is spread over the entire surface. It is also possible to form a step at the edge portion (corner portion) of the bank 92 and form the second electrode (upper electrode) in a stripe shape. Furthermore, the structure of the bank 92 in FIG. 9B is also effective in narrowing the viewing angle and playing the role of a privacy filter in the organic EL display device mainly intended for private use.

(表示装置:第1実施形態)
図10は、本実施形態に係る表示装置の第一実施形態を示す概略断面図である。
この実施形態では、発光デバイスをアクティブマトリクス駆動させた有機EL表示装置を示す。有機EL表示装置(表示装置)100は、発光デバイスを構成する各層、即ち光透過性の基板101、低屈折率層106、波長変換層105、第一電極(下部電極)102、有機発光層104、第二電極(上部電極)103、および、少なくとも波長変換層105と有機発光層104の双方の側面に配置されるバンク107を備え、該バンク107は光反射性を有する材料から構成されている。なお、低屈折率層106は、必要に応じて省略されても良い。
(Display device: first embodiment)
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing the first embodiment of the display device according to the present embodiment.
In this embodiment, an organic EL display device in which a light emitting device is driven in an active matrix is shown. The organic EL display device (display device) 100 includes each layer constituting a light emitting device, that is, a light transmissive substrate 101, a low refractive index layer 106, a wavelength conversion layer 105, a first electrode (lower electrode) 102, and an organic light emitting layer 104. , A second electrode (upper electrode) 103, and a bank 107 disposed on both side surfaces of at least the wavelength conversion layer 105 and the organic light emitting layer 104. The bank 107 is made of a material having light reflectivity. . Note that the low refractive index layer 106 may be omitted as necessary.

また、基板101と第一電極(下部電極)102との間には、アクティブマトリックス駆動素子110が形成される。基板101上には、アクティブマトリックス駆動素子110を構成するゲート電極111a、ゲート酸化膜112が形成される。ゲート酸化膜112上には、活性層111d、ソース電極111b、ドレイン電極111cが形成され、さらに、層間絶縁膜113が形成される。層関絶縁膜113にはコンタクトホール114が設けられており、ドレイン電極111cと第一電極102とが電気的に接合される。アクティブマトリックス駆動素子110は、これらゲート電極111a、ゲート酸化膜112、ソース電極111b、ドレイン電極111cおよび活性層111dなどから構成されている。    Further, an active matrix driving element 110 is formed between the substrate 101 and the first electrode (lower electrode) 102. On the substrate 101, a gate electrode 111a and a gate oxide film 112 constituting the active matrix driving element 110 are formed. On the gate oxide film 112, an active layer 111d, a source electrode 111b, a drain electrode 111c are formed, and an interlayer insulating film 113 is further formed. A contact hole 114 is provided in the interlayer insulating film 113, and the drain electrode 111c and the first electrode 102 are electrically joined. The active matrix driving element 110 includes the gate electrode 111a, the gate oxide film 112, the source electrode 111b, the drain electrode 111c, the active layer 111d, and the like.

発光デバイスの発光を制御するアクティブマトリックス駆動素子110は、スイッチング用及び駆動用として機能する。こうしたアクティブマトリックス駆動素子110は公知の材料、構造及び形成方法を用いて形成することができる。
活性層111dの材料としては、例えば、非晶質シリコン(アモルファスシリコン)、多結晶シリコン(ポリシリコン)、微結晶シリコン、セレン化カドミウム等の無機半導体材料、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化ガリウム−酸化亜鉛等の酸化物半導体材料又は、ポリチオフェン誘導体、チオフエンオリゴマー、ポリ(p−フェリレンビニレン)誘導体、ナフタセン、ペンタセン等の有機半導体材料が挙げられる。また、TFTの構造としては、例えば、スタガ型、逆スタガ型、トップゲート型、コプレーナ型が挙げられる。
The active matrix driving element 110 that controls the light emission of the light emitting device functions for switching and driving. Such an active matrix driving element 110 can be formed using known materials, structures, and forming methods.
Examples of the material of the active layer 111d include inorganic semiconductor materials such as amorphous silicon (amorphous silicon), polycrystalline silicon (polysilicon), microcrystalline silicon, cadmium selenide, zinc oxide, indium oxide-gallium oxide-oxide. An oxide semiconductor material such as zinc, or an organic semiconductor material such as a polythiophene derivative, a thiophene oligomer, a poly (p-ferylene vinylene) derivative, naphthacene, or pentacene can be given. Examples of the TFT structure include a staggered type, an inverted staggered type, a top gate type, and a coplanar type.

活性層111の形成方法としては、(1)プラズマ誘起化学気相成長(PECVD)法により成膜したアモルファスシリコンに不純物をイオンドーピングする方法、(2)シラン(SiH)ガスを用いた減圧化学気相成長(LPCVD)法によりアモルファスシリコンを形成し、固相成長法によりアモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオン打ち込み法によりイオンドーピングする方法、(3)Siガスを用いたLPCVD法又はSiHガスを用いたPECVD法によりアモルファスシリコンを形成し、エキシマレーザー等のレーザーによりアニールし、アモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオンドーピングを行う方法(低温プロセス)、(4)LPCVD法又はPECVD法によりポリシリコン層を形成し、1000℃以上で熱酸化することによりゲート絶縁膜を形成し、その上に、nポリシリコンのゲート電極を形成し、その後、イオンドーピングを行う方法(高温プロセス)、(5)有機半導体材料をインクジェット法等により形成する方法、(6)有機半導体材料の単結晶膜を得る方法等が挙げられる。 As a method for forming the active layer 111, (1) a method of ion-doping impurities into amorphous silicon formed by a plasma induced chemical vapor deposition (PECVD) method, and (2) a reduced pressure chemistry using silane (SiH 4 ) gas. Amorphous silicon is formed by vapor phase epitaxy (LPCVD), and amorphous silicon is crystallized by solid phase epitaxy to obtain polysilicon, followed by ion doping by ion implantation, (3) Si 2 H 6 gas Amorphous silicon is formed by LPCVD method or PECVD method using SiH 4 gas, annealed by laser such as excimer laser, etc., and amorphous silicon is crystallized to obtain polysilicon, followed by ion doping (low temperature process) ), (4) LPCVD method or PECVD method Ri to form a polysilicon layer, a gate insulating film formed by thermal oxidation at 1000 ° C. or higher, thereon to form a gate electrode of the n + polysilicon, then, a method of performing ion doping (high temperature process) (5) A method of forming an organic semiconductor material by an inkjet method or the like, and (6) a method of obtaining a single crystal film of the organic semiconductor material.

ゲート絶縁膜112は、公知の材料を用いて形成することができる。例えば、PECVD法、LPCVD法等により形成されたSiO又はポリシリコン膜を熱酸化して得られるSiO等が挙げられる。また、TFTの信号電極線、走査電極線、共通電極線、第1駆動電極及び第2駆動電極は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、タンタル(Ta)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)等が挙げられる。 The gate insulating film 112 can be formed using a known material. Examples thereof include SiO 2 formed by PECVD, LPCVD, etc., or SiO 2 obtained by thermally oxidizing a polysilicon film. The signal electrode line, the scanning electrode line, the common electrode line, the first drive electrode, and the second drive electrode of the TFT can be formed using a known material, for example, tantalum (Ta), aluminum (Al). , Copper (Cu), and the like.

層間絶縁膜113は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、酸化シリコン(SiO)、窒化シリコン(SiN、又は、Si)、酸化タンタル(TaO、又は、Ta)等の無機材料、又は、アクリル樹脂、レジスト材料等の有機材料等が挙げられる。また、その形成方法としては、化学気相成長(CVD)法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられる。また、必要に応じてフォトリソグラフィー法等によりパターニングすることもできる。 The interlayer insulating film 113 can be formed using a known material, for example, silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (SiN or Si 2 N 4 ), tantalum oxide (TaO or Ta 2 O). 5 )) or an organic material such as an acrylic resin or a resist material. Examples of the formation method include dry processes such as chemical vapor deposition (CVD) and vacuum deposition, and wet processes such as spin coating. Moreover, it can also pattern by the photolithographic method etc. as needed.

なお、アクティブマトリックス駆動素子110を基板101上に形成した場合には、その表面に凸凹が形成され、この凸凹によって発光デバイスの欠陥(例えば、画素電極の欠損、有機EL層の欠損、対向電極の断線、画素電極と対向電極の短絡、耐圧の低下等)等が発生するおそれがある。これらの欠陥を防止するために、層間絶縁膜113上に更に平坦化膜を設けてもよい。    When the active matrix driving element 110 is formed on the substrate 101, irregularities are formed on the surface, and the irregularities cause defects in the light emitting device (for example, defective pixel electrodes, defective organic EL layers, counter electrode). There is a risk that a disconnection, a short circuit between the pixel electrode and the counter electrode, a decrease in breakdown voltage, etc.) may occur. In order to prevent these defects, a planarizing film may be further provided on the interlayer insulating film 113.

こうした平坦化膜は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化タンタル等の無機材料、ポリイミド、アクリル樹脂、レジスト材料等の有機材料等が挙げられる。平坦化膜の形成方法としては、CVD法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられるが、本発明はこれらの材料及び形成方法に限定されるものではない。また、平坦化膜は、単層構造でも多層構造でもよい。    Such a planarization film can be formed using a known material, and examples thereof include inorganic materials such as silicon oxide, silicon nitride, and tantalum oxide, and organic materials such as polyimide, acrylic resin, and resist material. Examples of the method for forming the planarizing film include dry processes such as CVD and vacuum deposition, and wet processes such as spin coating, but the present invention is not limited to these materials and forming methods. Further, the planarization film may have a single layer structure or a multilayer structure.

(表示装置:第2実施形態)
図11は第2実施形態に係る表示装置を示す概略断面図である。
この実施形態では、発光デバイスをアクティブマトリクス駆動させた有機EL表示装置を示す。有機EL表示装置(表示装置)120は、光透過性の基板121、低屈折率層126、波長変換層125、第一電極(下部電極)122、有機発光層124、第二電極(上部電極)123と、少なくとも、波長変換層125及び有機発光層124の双方の側面に配置されるバンク127を備え、該バンク127は光反射性を有する材料から構成されている。なお、低屈折率層126は、必要に応じて省いても良い。
(Display device: second embodiment)
FIG. 11 is a schematic sectional view showing a display device according to the second embodiment.
In this embodiment, an organic EL display device in which a light emitting device is driven in an active matrix is shown. The organic EL display device (display device) 120 includes a light-transmitting substrate 121, a low refractive index layer 126, a wavelength conversion layer 125, a first electrode (lower electrode) 122, an organic light emitting layer 124, and a second electrode (upper electrode). 123 and at least a bank 127 disposed on both side surfaces of the wavelength conversion layer 125 and the organic light emitting layer 124, and the bank 127 is made of a material having light reflectivity. Note that the low refractive index layer 126 may be omitted as necessary.

また、基板121と第一電極(下部電極)122との間には、アクティブマトリックス駆動素子130が形成される。基板121上に、ゲート電極131a、ゲート酸化膜132が形成される。ゲート酸化膜132上には、活性層131d、ソース電極131b、ドレイン電極131cが形成され、さらに、層間絶縁膜133が形成される。層関絶縁膜133にはコンタクトホール134が設けられており、ドレイン電極131cと第一電極122が電気的に接合される。アクティブマトリックス駆動素子130は、ゲート電極131a、ゲート酸化膜132、ソース電極131b、ドレイン電極131cおよび活性層131dなどからなる。     In addition, an active matrix driving element 130 is formed between the substrate 121 and the first electrode (lower electrode) 122. A gate electrode 131 a and a gate oxide film 132 are formed on the substrate 121. An active layer 131d, a source electrode 131b, a drain electrode 131c are formed on the gate oxide film 132, and an interlayer insulating film 133 is further formed. A contact hole 134 is provided in the interlayer insulating film 133, and the drain electrode 131c and the first electrode 122 are electrically joined. The active matrix driving element 130 includes a gate electrode 131a, a gate oxide film 132, a source electrode 131b, a drain electrode 131c, an active layer 131d, and the like.

(発光デバイスの適用例)
発光デバイスの適用例としては、図12(A)に示す携帯電話機、図12(B)に示す有機ELテレビなどが挙げられる。
図12(A)に示す携帯電話機1000は、本体1001、表示部1002、音声入力部1003、音声出力部1004、アンテナ1005、操作スイッチ1006等を備えており、表示部1002に前記各実施形態の発光デバイスが用いられている。
図12(B)に示すテレビ受信装置1100は、本体キャビネット1101、表示部1102、スピーカー1103、スタンド1104等を備えており、表示部1102に前記各実施形態の発光デバイスが用いられている。
これら携帯電話機や有機ELテレビにおいては、前記各実施形態の発光デバイスが用いられているため、輝度が高く表示品位に優れている。
(Application examples of light emitting devices)
As an application example of the light-emitting device, a mobile phone shown in FIG. 12A, an organic EL television shown in FIG.
A cellular phone 1000 illustrated in FIG. 12A includes a main body 1001, a display portion 1002, a sound input portion 1003, a sound output portion 1004, an antenna 1005, an operation switch 1006, and the like. The display portion 1002 includes the functions described in the above embodiments. A light emitting device is used.
A television receiver 1100 illustrated in FIG. 12B includes a main body cabinet 1101, a display portion 1102, a speaker 1103, a stand 1104, and the like, and the light-emitting devices of the above embodiments are used for the display portion 1102.
In these cellular phones and organic EL televisions, since the light emitting device of each of the above embodiments is used, the luminance is high and the display quality is excellent.

また、発光デバイスの適用例として、例えば、図13(A)に示すシーリングライト(照明装置)に適用できる。図13(A)に示すシーリングライト1400は、照明部1401、吊具1402、及び電源コード1403等を備えている。そして、照明部1401として前記各実施形態の発光デバイスが好適に適用できる。本発明の一実施形態に係る発光デバイスをシーリングライト1400の照明部1401に適用することによって、少ない消費電力で明るく、かつ自在な色調の照明光を得ることができ、光演出性の高い照明器具を実現することができる。また、均一な照度で色純度の高い面発光が可能な照明器具を実現することができる。    As an application example of the light-emitting device, for example, the light-emitting device can be applied to a ceiling light (illumination device) illustrated in FIG. A ceiling light 1400 illustrated in FIG. 13A includes a lighting unit 1401, a hanging tool 1402, a power cord 1403, and the like. And the light emitting device of each said embodiment can be applied suitably as the illumination part 1401. FIG. By applying the light-emitting device according to an embodiment of the present invention to the illumination unit 1401 of the ceiling light 1400, it is possible to obtain bright and free-colored illumination light with low power consumption, and high lighting performance. Can be realized. In addition, it is possible to realize a lighting fixture capable of emitting surface light with high color purity with uniform illuminance.

また、発光デバイスの適用例として、例えば、図13(B)に示す照明スタンドに適用できる。図13(B)に示す照明スタンド1500は、照明部1501、スタンド1502、電源スイッチ1503、及び電源コード1504等を備えている。そして、照明部1501として前記各実施形態の発光デバイスが好適に適用できる。本発明の一実施形態に係る発光デバイスを照明スタンド1500の照明部1501に適用することによって、少ない消費電力で明るく、かつ自在な色調の照明光を得ることができ、光演出性の高い照明器具を実現することができる。また、均一な照度で色純度の高い面発光が可能な照明器具を実現することができる。    As an application example of the light-emitting device, for example, the light-emitting device can be applied to a lighting stand illustrated in FIG. A lighting stand 1500 illustrated in FIG. 13B includes a lighting portion 1501, a stand 1502, a power switch 1503, a power cord 1504, and the like. And the light emitting device of each said embodiment can be applied suitably as the illumination part 1501. FIG. By applying the light-emitting device according to an embodiment of the present invention to the lighting unit 1501 of the lighting stand 1500, it is possible to obtain bright and free-colored illumination light with low power consumption, and to have high light performance. Can be realized. In addition, it is possible to realize a lighting fixture capable of emitting surface light with high color purity with uniform illuminance.

本発明は、発光素子に利用でき、より具体的には、表示装置、表示システム、照明装置、照明システムなどに利用できる。    The present invention can be used for a light emitting element, and more specifically, can be used for a display device, a display system, a lighting device, a lighting system, and the like.

10…発光デバイス、11…基板、12…第一電極(下部電極)、13…第二電極(上部電極)、14…有機発光層、17…バンク。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light-emitting device, 11 ... Board | substrate, 12 ... 1st electrode (lower electrode), 13 ... 2nd electrode (upper electrode), 14 ... Organic light emitting layer, 17 ... Bank.

Claims (10)

光透過性の基板の一面に順に積層された波長変換層、光透過性の第一電極、有機発光層、および第二電極を有する発光デバイスであって、
少なくとも前記有機発光層の、積層方向に沿って広がる側面に接してバンクを形成し、
該バンクは光反射性を有する材料から構成されることを特徴とする発光デバイス。
A light-emitting device having a wavelength conversion layer, a light-transmissive first electrode, an organic light-emitting layer, and a second electrode laminated in order on one surface of a light-transmissive substrate,
Forming a bank in contact with at least the side surface of the organic light emitting layer extending along the stacking direction,
The bank is made of a material having light reflectivity.
前記第二電極は遮光性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項1記載の発光デバイス。    The light emitting device according to claim 1, wherein the second electrode is made of a light-shielding material. 前記波長変換層の側面にバンクを備え、該バンクは光反射性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項1または2記載の発光デバイス。    The light emitting device according to claim 1, wherein a bank is provided on a side surface of the wavelength conversion layer, and the bank is made of a material having light reflectivity. 前記バンクは白色材料から構成されることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載の発光デバイス。    The light-emitting device according to claim 1, wherein the bank is made of a white material. 前記バンクは光反射性に加えて更に光拡散性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の発光デバイス。    5. The light emitting device according to claim 1, wherein the bank is made of a material having a light diffusing property in addition to the light reflecting property. 前記バンクは樹脂中に微細な光反射性粒子を分散させてなることを特徴とする請求項1ないし5いずれか1項記載の発光デバイス。    6. The light-emitting device according to claim 1, wherein the bank is formed by dispersing fine light-reflecting particles in a resin. 前記光反射性粒子は、粒径が200nm〜5μmであることを特徴とする請求項6記載の発光デバイス。    The light-emitting device according to claim 6, wherein the light-reflecting particles have a particle size of 200 nm to 5 μm. 前記基板と前記波長変換層の間、前記基板と第一電極との間の、いずれか一方または双方に、前記基板よりも屈折率の低い低屈折率層を更に形成したことを特徴とする請求項1ないし7いずれか1項記載の発光デバイス。    A low refractive index layer having a refractive index lower than that of the substrate is further formed on one or both of the substrate and the wavelength conversion layer, or between the substrate and the first electrode. Item 8. The light emitting device according to any one of Items 1 to 7. 請求項1ないし8いずれか1項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする表示装置。    9. A display device comprising: a light-emitting device according to claim 1; and a driving unit that controls light emission of the light-emitting device. 請求項1ないし8いずれか1項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする照明装置。   9. A lighting apparatus comprising: a light-emitting device according to claim 1; and a driving unit that controls light emission of the light-emitting device.
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