JP2014223578A - ガスバリア性フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フィルム基材上に少なくとも1層のガスバリア膜を有するガスバリア性フィルムの製造方法であって、(1)前記フィルム基材上にケイ素酸化物前駆体もしくはケイ素酸窒化物前駆体を含む溶液を塗布して塗膜を形成する工程と、(2)前記塗膜に200nm未満の波長成分を含む紫外光を照射する工程と、(3)前記塗膜に200nm以上230nm未満の波長を有する紫外光を照射する工程と、を有する、ガスバリア性フィルムの製造方法。
【選択図】なし
Description
本工程では、フィルム基材上に、ケイ素酸化物前駆体またはケイ素酸窒化物前駆体を含む溶液を塗布して塗膜を形成する。
本発明に係るガスバリア性フィルムに用いられるフィルム基材としては、例えば、シリコン等の金属基板、ガラス基板、セラミックス基板、プラスチックフィルム等が挙げられるが、好ましくはプラスチックフィルムが用いられる。用いられるプラスチックフィルムは、ガスバリア膜、ハードコート層等を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
ケイ素酸化物前駆体またはケイ素酸窒化物前駆体(以下、単に前駆体とも称する)の具体的な例としては、例えば、パーヒドロポリシラザン、オルガノポリシラザン、シルセスキオキサン、テトラメチルシラン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、1,1−ジメチル−1−シラシクロブタン、トリメチルビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルジビニルシラン、ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、アリールトリメトキシシラン、エトキシジメチルビニルシラン、アリールアミノトリメトキシシラン、N−メチル−N−トリメチルシリルアセトアミド、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリビニルシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリールオキシジメチルビニルシラン、ジエチルビニルシラン、ブチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、テトラビニルシラン、トリアセトキシビニルシラン、テトラアセトキシシラン、3−トリフルオロアセトキシプロピルトリメトキシシラン、ジアリールジメトキシシラン、ブチルジメトキシビニルシラン、トリメチル−3−ビニルチオプロピルシラン、フェニルトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルイソペンチロキシビニルシラン、2−アリールオキシエチルチオメトキシトリメチルシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アリールアミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ジメチルエチキシフェニルシラン、ベンゾイロキシトリメチルシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ジメチルエトキシ−3−グリシドキシプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、3−ブチルアミノプロピルトリメチルシラン、3−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、2−(2−アミノエチルチオエチル)トリエトキシシラン、ビス(ブチルアミノ)ジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルフェニルシラン、ジメチル−p−トリルビニルシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、ジエチルメチルフェニルシラン、ベンジルジメチルエトキシシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、デシルメチルジメトキシシラン、ジエトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン、オクチロキシトリメチルシラン、フェニルトリビニルシラン、テトラアリールオキシシラン、ドデシルトリメチルシラン、ジアリールメチルフェニルシラン、ジフェニルメチルビニルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、ジアセトキシジフェニルシラン、ジベンジルジメチルシラン、ジアリールジフェニルシラン、オクタデシルトリメチルシラン、メチルオクタデシルジメチルシラン、ドコシルメチルジメチルシラン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アセトキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリビニルシクロトリシロキサン、1,3,5−トリス(3,3,3−トリフルオロプロピル)−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラエトキシ−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等を挙げることができる。これら前駆体は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。
本工程で塗膜を形成するための塗布液(以下、単に塗膜形成用塗布液とも称する)の調製に用いられる溶剤としては、前駆体を溶解できるものであれば特に制限されないが、前駆体と容易に反応してしまう水および反応性基(例えば、ヒドロキシル基、あるいはアミン基等)を含まず、前駆体に対して不活性の有機溶剤が好ましく、非プロトン性の有機溶剤がより好ましい。具体的には、溶剤としては、非プロトン性溶剤;例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒;塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類:例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ−およびポリアルキレングリコールジアルキルエーテル(ジグライム類)などを挙げることができる。上記溶剤は、前駆体の溶解度や溶剤の蒸発速度等の目的にあわせて選択され、単独で使用されてもまたは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
塗膜形成用塗布液を塗布する方法としては、従来公知の適切な湿式塗布方法が採用され得る。具体例としては、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。
本工程では、200nm未満の波長成分を含む紫外光を上記塗膜に照射する。本工程では、ケイ素酸化物またはケイ素酸窒化物内の原子間結合力より大きい、200nm未満の波長成分の光エネルギーを用い、好ましくは100〜180nmの波長成分を含む紫外光を用い、原子の結合を光量子プロセスと呼ばれる光子のみの作用により、直接切断しながら活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、比較的低温(約200℃以下)で、ケイ素酸化物膜および/またはケイ素酸窒化物膜の形成を行う。
e+Xe→e+Xe*
Xe*+Xe+Xe→Xe2 *+Xe
となり、励起されたエキシマ分子であるXe2 *が基底状態に遷移するときに172nmのエキシマ光を発光する。
本工程では、塗膜に200nm以上230nm未満の波長を有する紫外光を照射する。本工程を行うことにより、上記(2)の工程で発生し得る欠陥(E'センター)を修復し低減させることができ、ガスバリア性をさらに向上させることができる。
(2)の工程と(3)の工程とを同時に行う形態としては、特に制限されるものではなく、上記した4形態に何ら制限されるものではない。
ガスバリアフィルムにおいては、本発明に係るガスバリア膜以外に、必要に応じて各種機能層を設けてもよい。
本発明に係るフィルム基材の表面には、接着性(密着性)の向上を目的として、アンカーコート層を易接着層として形成してもよい。アンカーコート層の構成材料、形成方法等は、特開2013−52561号公報の段落「0229」〜「0232」に開示される材料、方法等が適宜採用される。
本発明に係るガスバリア性フィルムは、フィルム基材のガスバリア膜を有する面、好ましくはフィルム基材とガスバリア膜との間に平滑層を有していてもよい。平滑層は突起等が存在するフィルム基材の粗面を平坦化するために、あるいはフィルム基材に存在する突起により、ガスバリア膜に生じた凹凸やピンホールを埋めて平坦化するために設けられる。平滑層の構成材料、形成方法、表面粗さ、膜厚等は、特開2013−52561号公報の段落「0233」〜「0248」に開示される材料、方法等が適宜採用される。
本発明に係るガスバリア性フィルムは、ブリードアウト防止層をさらに有することができる。ブリードアウト防止層は、平滑層を有するフィルムを加熱した際に、樹脂基材中から未反応のオリゴマー等が表面へ移行して、接触する面を汚染する現象を抑制する目的で、平滑層を有する基材の反対面に設けられる。ブリードアウト防止層は、この機能を有していれば、基本的に平滑層と同じ構成をとっても構わない。ブリードアウト防止層の構成材料、形成方法、膜厚等は、特開2013−52561号公報の段落「0249」〜「0262」に開示される材料、方法等が適宜採用される。
本発明に係るガスバリアフィルムにおいては、本発明に係るガスバリア膜のほかに、乾式ガスバリア膜を設けてもよい。たとえば乾式ガスバリア膜の上に本発明に係るガスバリア膜を設けることで、塗布による均質な膜により乾式ガスバリア膜の有する微細な欠陥の補修などによる相乗効果によりガスバリア性の更なる向上が期待できる。
本発明の製造方法により得られるガスバリア性フィルムは、空気中の化学成分(酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等)によって性能が劣化するデバイスに好ましく用いることができる。前記デバイスの例としては、例えば、有機EL素子、液晶表示素子(LCD)、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池(PV)等の電子デバイスを挙げることができ、有機EL素子または太陽電池が好ましく、有機EL素子が特に好ましい。
ガスバリア性フィルムを用いた有機EL素子の例は、特開2007−30387号公報に詳しく記載されている。
反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ/4板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明におけるガスバリア性フィルムは、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ/4板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ/4板および偏光膜からなる構成を有する。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはTN型(Twisted Nematic)、STN型(Super Twisted Nematic)またはHAN型(Hybrid Aligned Nematic)、VA型(Vertically Alignment)、ECB型(Electrically Controlled Birefringence)、OCB型(Optically Compensated Bend)、IPS型(In−Plane Switching)、CPA型(Continuous Pinwheel Alignment)であることが好ましい。
本発明に係るガスバリア性フィルムは、太陽電池素子の封止フィルムとしても用いることができる。ここで、本発明に係るガスバリア性フィルムは、ガスバリア膜が太陽電池素子に近い側となるように封止することが好ましい。本発明に係るガスバリア性フィルムが好ましく用いられる太陽電池素子としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池素子、多結晶シリコン系太陽電池素子、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池素子、ガリウムヒ素(GaAs)やインジウム燐(InP)等のIII−V族化合物半導体太陽電池素子、カドミウムテルル(CdTe)等のII−VI族化合物半導体太陽電池素子、銅/インジウム/セレン系(いわゆる、CIS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン系(いわゆる、CIGS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系(いわゆる、CIGSS系)等のI−III−VI族化合物半導体太陽電池素子、色素増感型太陽電池素子、有機太陽電池素子等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池素子が、銅/インジウム/セレン系(いわゆる、CIS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン系(いわゆる、CIGS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系(いわゆる、CIGSS系)等のI−III−VI族化合物半導体太陽電池素子であることが好ましい。
その他の適用例としては、特表平10−512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2000−98326号公報に記載の電子ペーパー等が挙げられる。
本発明に係るガスバリア性フィルムは、光学部材としても用いることができる。光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。
本発明に係るガスバリア性フィルムを基板とし、λ/4板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ/4板の遅相軸と偏光板の吸収軸とのなす角が45°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向(MD)に対し45°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開2002−865554号公報に記載のものを好適に用いることができる。
(1)の工程
無触媒のパーヒドロポリシラザンを20重量%含むジブチルエーテル溶液(AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社製、アクアミカ(登録商標)NN120−20)と、アミン触媒(N,N,N',N'−テトラメチル−1,6−ジアミノヘキサン(TMDAH))を含むパーヒドロポリシラザン20重量%のジブチルエーテル溶液(AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社製、アクアミカ(登録商標)NAX120−20)とを、4:1の割合で混合し、さらにジブチルエーテルと2,2,4−トリメチルペンタンとの重量比が65:35となるように混合した溶媒で、塗布液の固形分が5重量%になるように、塗布液を希釈調製した。
(2)および(3)の工程は、図1に示す紫外光照射ユニットを複数備える装置を用いて行った。
光源の種類、酸素濃度、照射量、および(2)および(3)の工程を表1および表2に示す条件に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムを作製した。
(装置)
蒸着装置:日本電子株式会社製、真空蒸着装置JEE−400
恒温恒湿度オーブン:Yamato Humidic ChamberIG47M
水分と反応して腐食する金属:カルシウム(粒状)
水蒸気不透過性の金属:アルミニウム(φ3〜5mm、粒状)
(水蒸気バリア性評価試料の作製)
真空蒸着装置(日本電子製真空蒸着装置 JEE−400)を用い、実施例および比較例で作製したガスバリア性フィルムのガスバリア膜表面に、マスクを通して12mm×12mmのサイズで金属カルシウムを蒸着させた。
得られた試料を40℃、90%RHの高温高湿下で保存し、保存時間に対して金属カルシウムが腐食して行く様子を観察した。観察は5時間ごとに行い、12mm×12mmの金属カルシウム蒸着面積に対する金属カルシウムが腐食した面積を%表示で算出した。金属カルシウムが腐食した面積が100%に達した時間を、下記のランクで評価した。
2:30時間以上100時間未満
3:100時間以上200時間未満
4:200時間以上300時間未満
5:300時間以上500時間未満
6:500時間以上
各実施例および比較例について、作製直後のガスバリア性フィルムと、85℃85%RHで7日間保存した後のガスバリア性フィルムとのそれぞれについて、上記の水蒸気バリア性評価を行った。
2 エキシマランプホルダー
3 エキシマランプ、
4 窒素ガス配管入口、
5 窒素ガス配管、
6 窒素ガス、
7 紫外光。
Claims (7)
- フィルム基材上に少なくとも1層のガスバリア膜を有するガスバリア性フィルムの製造方法であって、
(1)前記フィルム基材上にケイ素酸化物前駆体またはケイ素酸窒化物前駆体を含む溶液を塗布して塗膜を形成する工程と、
(2)前記塗膜に200nm未満の波長成分を含む紫外光を照射する工程と、
(3)前記塗膜に200nm以上230nm未満の波長を有する紫外光を照射する工程と、
を有する、ガスバリア性フィルムの製造方法。 - 前記(2)の工程で、前記塗膜に波長200nm未満の真空紫外光を照射する、請求項1に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記(2)の工程と前記(3)の工程とを複数回繰り返す、請求項1または2に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記(2)の工程の後に前記(3)の工程を行う、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記(2)の工程の酸素濃度が0.01〜1体積%である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記(3)の工程の酸素濃度が0.01〜21体積%である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記(2)の工程と前記(3)の工程を同時に行うことを特徴とする請求項1〜3、5、および6のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016183235A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 株式会社レニアス | 輸送機器用風防表面の改質方法 |
JPWO2018180975A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2019-04-04 | 積水化学工業株式会社 | 無機膜及びガスバリアフィルム |
US11888095B2 (en) | 2017-10-13 | 2024-01-30 | Merck Patent Gmbh | Manufacturing process for an optoelectronic device |
US11993725B2 (en) | 2015-03-11 | 2024-05-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Barrier films and quantum dot polymer composite articles including the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007012392A2 (de) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Clariant International Ltd | Verfahren zur herstellung einer dünnen glasartigen beschichtung auf substraten zur verringerung der gaspermeation |
JP2013022799A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性フィルム及びガスバリア性フィルムの製造方法 |
JP2013052561A (ja) * | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | ガスバリア性フィルム及びガスバリア性フィルムの製造方法 |
JP2014077082A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Az Electronic Materials Mfg Co Ltd | ケイ素質緻密膜の形成方法 |
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2013
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007012392A2 (de) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Clariant International Ltd | Verfahren zur herstellung einer dünnen glasartigen beschichtung auf substraten zur verringerung der gaspermeation |
JP2009503157A (ja) * | 2005-07-26 | 2009-01-29 | クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド | ガスの透過を減少させるために基材上に薄いガラス様の被膜を形成する方法 |
JP2013022799A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性フィルム及びガスバリア性フィルムの製造方法 |
JP2013052561A (ja) * | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | ガスバリア性フィルム及びガスバリア性フィルムの製造方法 |
JP2014077082A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Az Electronic Materials Mfg Co Ltd | ケイ素質緻密膜の形成方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11993725B2 (en) | 2015-03-11 | 2024-05-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Barrier films and quantum dot polymer composite articles including the same |
JP2016183235A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 株式会社レニアス | 輸送機器用風防表面の改質方法 |
JPWO2018180975A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2019-04-04 | 積水化学工業株式会社 | 無機膜及びガスバリアフィルム |
US11888095B2 (en) | 2017-10-13 | 2024-01-30 | Merck Patent Gmbh | Manufacturing process for an optoelectronic device |
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