JP2014185065A - 緩衝機構 - Google Patents
緩衝機構 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014185065A JP2014185065A JP2013062000A JP2013062000A JP2014185065A JP 2014185065 A JP2014185065 A JP 2014185065A JP 2013062000 A JP2013062000 A JP 2013062000A JP 2013062000 A JP2013062000 A JP 2013062000A JP 2014185065 A JP2014185065 A JP 2014185065A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving body
- suction
- contact portion
- substrate
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Vibration Dampers (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Abstract
【課題】 吸着反転装置等の移動体を定められた停止位置で、確実かつ衝撃を和らげて停止させることのできる緩衝機構を提供する。
【解決手段】 装置Aのフレーム1に少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体Cの移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構Fであって、該緩衝機構Fは、停止位置に向かって移動する移動体Cに対して弾力的に当接する当接部50を備え、該当接部50は、移動体Cとの当接後に移動体Cの移動に伴って弾力に抗して後退し、移動体Cの停止位置でも移動体Cとの当接を維持するように構成する。
【選択図】図7
【解決手段】 装置Aのフレーム1に少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体Cの移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構Fであって、該緩衝機構Fは、停止位置に向かって移動する移動体Cに対して弾力的に当接する当接部50を備え、該当接部50は、移動体Cとの当接後に移動体Cの移動に伴って弾力に抗して後退し、移動体Cの停止位置でも移動体Cとの当接を維持するように構成する。
【選択図】図7
Description
本発明は、ガラス、シリコン、セラミック、化合物半導体等の脆性材料からなる基板に分断用のスクライブラインを加工したり、このスクライブラインに沿って基板を分断したりする基板加工装置で用いられる吸着反転装置等の移動体の緩衝機構に関する。
従来より、テーブル上に載置した基板に対し、カッターホイール(スクライビングホイールともいう)を所定のスクライブ圧を加えた状態で転動させたり、レーザービームの照射による熱歪を利用したりして、互いに直交する複数条の平行なスクライブラインを形成し、その後に、基板を表裏反転させて、当該スクライブラインを設けた面とは反対側の面からブレイクバーを押し当てて基板を撓ませることにより基板を分断し、単位製品を取り出す方法が、例えば特許文献1等で知られている。
また、2枚のガラス基板を貼り合わせた基板の分断方法についても、例えば特許文献2(図45等)には、以下に示す手順で分断する方法が開示されている。すなわち、スクライブ装置のテーブル上に載置された基板に対して、カッターホイールを転動させることにより、基板の一方の面であるa面にスクライブラインを形成する。次いで、吸着反転装置で基板を吸着し反転させた後、ブレイク装置のテーブル上に載置し、基板a面の裏面となる基板b面をブレイクバー等で押圧して基板a面をブレイクする。次いで、上記と同様に、基板b面にスクライブラインを形成し、基板を反転させた後、基板a面をブレイクバー等で押圧して基板b面を分断する。この後、分断された基板をブレイク装置から除材して次の工程へ移行するようにしている。
上記のような基板の加工方法において、基板を反転させるのに用いられる吸着反転装置は、基板を吸着して反転させる吸着板を備えている。この吸着板は、テーブル等の載置台から基板を受け取った後、載置台の上方で反転に必要な高さまで上昇させて反転させるか、或いは、載置台上方から反転に必要な空間を有する反転位置まで横方向に移動させて反転させるなどの手段がとられている。
前者の載置台の上方で基板を反転させる手段では、反転に必要な空間を確保するために長い昇降ストロークを必要とし、昇降のための支柱や昇降機構が大掛かりとなってコスト高になるといった問題点がある。これに対し、反転位置まで横方向に吸着板を移動させて反転させる後者の手段では、載置台から基板を受け取った際に載置台に接触しない程度に持ち上げるだけでよいので、吸着板を昇降させる機構として簡単な構成でコンパクトに形成することが可能となる。
前者の載置台の上方で基板を反転させる手段では、反転に必要な空間を確保するために長い昇降ストロークを必要とし、昇降のための支柱や昇降機構が大掛かりとなってコスト高になるといった問題点がある。これに対し、反転位置まで横方向に吸着板を移動させて反転させる後者の手段では、載置台から基板を受け取った際に載置台に接触しない程度に持ち上げるだけでよいので、吸着板を昇降させる機構として簡単な構成でコンパクトに形成することが可能となる。
しかし、後者の手段において、吸着板を水平方向に移動させて、基板反転位置または基板受け渡し位置で、早い速度のままストッパ等に当接させて停止させると、機器に大きな衝撃が加わることになる。このような強い衝撃は、吸着反転装置の反転駆動機構や走行機構並びに吸着板に連なるエア配管の接続部分等に大きな負荷を与え、機器を破損する原因となる。また、停止時の衝撃が大きいと、その反動によって吸着板が正確な停止位置からずれて、吸着板の反転時や基板の受け渡し時に吸着板が装置のフレームに取り付けられた付帯設備や配管部分に接触したり、定められた位置で基板を受け渡しすることができないなどのトラブルの原因となる。したがって、吸着板の停止直前には移動速度を十分に低下させて衝撃を緩和する必要がある。
そこで本発明は、上記した従来課題に鑑み、吸着反転装置等の移動体を定められた停止位置で、確実かつ衝撃を和らげて停止させることのできる緩衝機構を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明では次のような技術的手段を講じた。すなわち、本発明は、装置のフレームに少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体の移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構であって、前記緩衝機構は前記停止位置に向かって移動する前記移動体に対して弾力的に当接する当接部を備え、該当接部は、前記移動体との当接後に前記移動体の移動に伴って弾力に抗して後退し、前記移動体が前記停止位置で停止したときも前記移動体との当接を維持するように形成されている構成とした。
本発明の緩衝機構では、移動体が停止位置近傍へ移動したときに、当接部が弾力的に当接して移動体の移動速度を低減して停止時の衝撃を緩和すると共に、移動体の停止位置でも移動体との当接を維持するようにしているので、移動体を別途設けたロック機構等により停止位置で保持したときに、移動体のブレやガタツキ等をなくして安定した姿勢を維持することができる。また、移動体を手動で移動させる場合には、移動体が停止位置近傍へ移動したときに、当接部が移動体に当たって当接音が発生するので、移動体が停止位置に近づいたことを作業者に知らせることができ、これにより移動力を緩めて停止位置での衝撃をさらに和らげることができるといった効果がある。
上記発明において、前記当接部は、前記フレームに回動可能に取り付けられ、かつ弾性体によって弾力が付与された揺動アームの先端部分に形成され、前記移動体には前記当接部に接触する接触部が設けられており、前記接触部は、前記移動体の移動方向に対向する押圧面と、前記移動体の移動方向に平行な接触面とを備え、前記押圧面は、前記当接部を前記移動体のさらなる進行によって前記接触面に誘導するように傾斜面で形成されている構成とするのがよい。
これにより、接触部の押圧面に対して弾力的に当接する当接部を、移動体の停止位置までのさらなる進行によって、移動体の移動方向に平行な接触面に誘導して待機させることができる。したがって、停止位置での移動体に、移動体の移動方向と直交する方向に弾力が付与されて、移動体を戻そうとする力が緩和され、移動体の停止姿勢を保持するためのロックピン等への負荷を軽減するとともに、移動体のブレやガタツキ等をさらに効果的に抑制することができる。
上記発明において、前記揺動アームは、前記移動体が離れているときは、弾性体に引っ張られて前記当接部が前記接触部の移動軌跡上に突出するように形成されており、前記当接部が前記接触部と接触した後は、前記移動体の進行に伴い弾性体の弾力に抗して揺動後退するように形成されており、前記揺動アームに該揺動アームの回動を規制して前記当接部の突出姿勢を保持する止めピンが設けられている構成とするのがよい。
これにより、前記移動体が離れた状態のときに、当接部を接触部の移動軌跡上に突出させることができ、移動体が接近したときに確実に受け止めて緩衝させることができる。
これにより、前記移動体が離れた状態のときに、当接部を接触部の移動軌跡上に突出させることができ、移動体が接近したときに確実に受け止めて緩衝させることができる。
本発明において、前記フレームに前記移動体の停止位置を感知する位置感知部材と出没可能なロックピンとが設けられるとともに、前記移動体に前記ロックピンが係入する係合穴が設けられており、前記位置感知部材が前記移動体の位置を感知すると、前記ロックピンが動作して前記係合穴に係入するように形成されている構成とするのがよい。
これにより、移動体を基板の停止位置で確実に位置決めして保持することができる。
これにより、移動体を基板の停止位置で確実に位置決めして保持することができる。
以下、本発明に係る移動体の緩衝機構について図面に基づいて詳細に説明する。なお、ここでは、「移動体」を、脆性材料基板を受け取り位置で受け取って反転位置まで移動して反転させる吸着反転装置とし、この吸着反転装置(移動体)を、基板加工装置に組み込んだ実施例に基づいて説明する。
基板加工装置Aは、図1に示すように、基板Wの表面にスクライブラインを加工するスクライブ装置Bと、基板Wを反転させる吸着反転装置Cと、スクライブ装置Bのテーブルの上方に配置され基板Wを吸着して昇降させる吸着昇降装置Dとを備えている。
これらスクライブ装置B、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dは、基板加工装置Aのフレーム1に組み込まれている。フレーム1は、金属製の枠材によって長方体の形態で組み付けられており、図1の平面視において長手方向に沿ったラインをX方向とし、X方向に直交する方向をY方向として以下説明する。
これらスクライブ装置B、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dは、基板加工装置Aのフレーム1に組み込まれている。フレーム1は、金属製の枠材によって長方体の形態で組み付けられており、図1の平面視において長手方向に沿ったラインをX方向とし、X方向に直交する方向をY方向として以下説明する。
スクライブ装置Bは、図1、2に示すように、フレーム1内のX方向に沿った一端側(本実施例では図1の右側)に組み込まれており、台板2上でY方向に延びるレール3に沿って移動するテーブル4を備えている。台板2は、平面視でY方向に延びる長方形で形成され、その一端部分がフレーム1から延出されている。
テーブル4は、その上面に多数の吸着孔を有する吸着面4aを備え、モータを内蔵する回転駆動部5により水平面内で回動できるようになっている。また、テーブル4並びに回転駆動部5は、レール3に沿って移動する移動ステージ6上に取り付けられており、モータ8によって回転するネジ軸9によりY方向に移動するように形成されている。また、フレーム1には、ガイド10を有するビーム(横桟)11がX方向に沿って設けられ、ガイド10にはカッターホイール12を有する昇降可能なスクライブヘッド13がX方向に移動できるように取り付けられている。
テーブル4は、その上面に多数の吸着孔を有する吸着面4aを備え、モータを内蔵する回転駆動部5により水平面内で回動できるようになっている。また、テーブル4並びに回転駆動部5は、レール3に沿って移動する移動ステージ6上に取り付けられており、モータ8によって回転するネジ軸9によりY方向に移動するように形成されている。また、フレーム1には、ガイド10を有するビーム(横桟)11がX方向に沿って設けられ、ガイド10にはカッターホイール12を有する昇降可能なスクライブヘッド13がX方向に移動できるように取り付けられている。
吸着反転装置Cは、図1、図3〜5に示すように、左右の側枠14、14によって支持されたY方向に延びる水平な回転軸15と、該回転軸15に水平に取り付けられ、回転軸15と共に回転する支持部材16と、この支持部材16に複数の、本実施例では4つの押下げ部材17を介して上下動可能に支持された水平な吸着板18とを備えている。吸着板18は下面に多数の吸着孔を有する吸着面18aを備え、復帰スプリング19によって常時上方に向かって付勢されている。本実施例では上記した押下げ部材17として、ON動作で下動し、OFF動作で押下げ力を解除するピストンを備えたエアシリンダで形成されている。このエアシリンダ17をON動作させることにより、図5に示すように、吸着板18を復帰スプリング19に抗して下動させ、エアシリンダ17をOFF動作させることにより、復帰スプリング19の復元力によって吸着板18を図4の元位置に復帰できるように形成されている。
また、押下げ部材17であるエアシリンダのピストン17aは、その突出ストロークが調整できるように形成されている。これにより、基板Wの厚み等の作業条件に応じて吸着板18の降下量を適切に調整することができるようになっている。なお、押下げ部材であるエアシリンダ17は、配管を介して別途設けたエア供給源(図示外)に接続されている。
また、押下げ部材17であるエアシリンダのピストン17aは、その突出ストロークが調整できるように形成されている。これにより、基板Wの厚み等の作業条件に応じて吸着板18の降下量を適切に調整することができるようになっている。なお、押下げ部材であるエアシリンダ17は、配管を介して別途設けたエア供給源(図示外)に接続されている。
吸着反転装置Cの回転軸15は、反転回動機構42によって180度回転できるように形成されている。この反転回動機構42は、図6に示すように、その一端部にピニオン20を備え、このピニオン20にかみ合うラック21をシリンダ22で移動させることにより、180度回転できるように形成されている。これにより、吸着板18の吸着面18aが下向きの姿勢から上向きの姿勢に、また逆に、上向きの姿勢から下向きの姿勢に反転できるようになっている。
また、図1に示すように、フレーム1のX方向に延びる上部枠材1a、1aの上面にはレール23、23が設けられ、吸着反転装置Cの側枠14、14の上端部には、該レール23、23に沿ってスライドするガイド部24、24が設けられている。さらに、吸着反転装置Cを手動で移動させるための把手25が、一方のガイド部24に連なってフレーム1の外側に延出して設けられている。これにより、吸着板18を、反転可能なスペースを確保したフレーム1内の図1における左側、すなわち基板反転位置から、スクライブ装置Bのテーブル4の上方、すなわち基板受け渡し位置まで手動で移動できるように形成されている。
また、図1に示すように、フレーム1のX方向に延びる上部枠材1a、1aの上面にはレール23、23が設けられ、吸着反転装置Cの側枠14、14の上端部には、該レール23、23に沿ってスライドするガイド部24、24が設けられている。さらに、吸着反転装置Cを手動で移動させるための把手25が、一方のガイド部24に連なってフレーム1の外側に延出して設けられている。これにより、吸着板18を、反転可能なスペースを確保したフレーム1内の図1における左側、すなわち基板反転位置から、スクライブ装置Bのテーブル4の上方、すなわち基板受け渡し位置まで手動で移動できるように形成されている。
さらに、左右の側枠14、14の上端を橋架する連結板26には、フレーム1に取り付けられた出没可能なロックピン28、28が係入する係合穴27が設けられている。
ロックピン28は、上記した基板反転位置と基板受け渡し位置とにそれぞれ配置されており、吸着反転装置Cが基板反転位置並びに基板受け渡し位置にきたときに、位置感知部材29が感知して自動的に係合穴27に係入するように形成されている。ロックピン28としては、例えば電磁石のON/OFFによって出没するソレノイドで形成することができる。また、位置感知部材29としては光センサやリミットスイッチなどを利用することができる。
ロックピン28は、上記した基板反転位置と基板受け渡し位置とにそれぞれ配置されており、吸着反転装置Cが基板反転位置並びに基板受け渡し位置にきたときに、位置感知部材29が感知して自動的に係合穴27に係入するように形成されている。ロックピン28としては、例えば電磁石のON/OFFによって出没するソレノイドで形成することができる。また、位置感知部材29としては光センサやリミットスイッチなどを利用することができる。
さらに、吸着反転装置Cの吸着板18が基板反転位置及び基板受け渡し位置の近傍にきたときに、その移動速度を低下させる緩衝機構Fがそれぞれの位置で左右一対ずつ設けられている。
緩衝機構Fは、図7並びに図8に示すように、停止位置に向かって移動する吸着反転装置Cに向かって弾力的に当接する当接部50を備えている。本実施例において、この当接部50は、フレーム1に固定されたベース57に対して、枢軸51を支点として回動可能に取り付けられた揺動アーム52と、揺動アーム52の先端部に設けられたローラ53と、揺動アーム52を弾力的に付勢するスプリング54とから形成されている。
また、吸着反転装置Cの連結板26には、上記ローラ53に当接する接触部55が設けられている。この接触部55は、移動方向に対向して前後に形成された押圧面55aと、移動方向に平行な接触面55bとを備え、前記押圧面55aは当接するローラ53を接触面55bに誘導するように傾斜面で形成されている。
前記揺動アーム52は、吸着反転装置Cが離れているときはスプリング54に引っ張られて揺動し、ローラ53が接触部55の移動軌跡上へ突出するように形成されており、吸着反転装置Cが接近すると、接触部55の押圧面55aにローラ53が当たってスプリング54の弾力に抗して揺動後退するようになっている。なお、図中、符号56は揺動アーム52の回動を規制して突出姿勢を保持する止めピンである。この止めピン56は、揺動アーム52の下面に形成され、図7で示す揺動アーム52の突出姿勢において、ベース57のエッジに当たってその回動を規制する。
緩衝機構Fは、図7並びに図8に示すように、停止位置に向かって移動する吸着反転装置Cに向かって弾力的に当接する当接部50を備えている。本実施例において、この当接部50は、フレーム1に固定されたベース57に対して、枢軸51を支点として回動可能に取り付けられた揺動アーム52と、揺動アーム52の先端部に設けられたローラ53と、揺動アーム52を弾力的に付勢するスプリング54とから形成されている。
また、吸着反転装置Cの連結板26には、上記ローラ53に当接する接触部55が設けられている。この接触部55は、移動方向に対向して前後に形成された押圧面55aと、移動方向に平行な接触面55bとを備え、前記押圧面55aは当接するローラ53を接触面55bに誘導するように傾斜面で形成されている。
前記揺動アーム52は、吸着反転装置Cが離れているときはスプリング54に引っ張られて揺動し、ローラ53が接触部55の移動軌跡上へ突出するように形成されており、吸着反転装置Cが接近すると、接触部55の押圧面55aにローラ53が当たってスプリング54の弾力に抗して揺動後退するようになっている。なお、図中、符号56は揺動アーム52の回動を規制して突出姿勢を保持する止めピンである。この止めピン56は、揺動アーム52の下面に形成され、図7で示す揺動アーム52の突出姿勢において、ベース57のエッジに当たってその回動を規制する。
吸着昇降装置Dは、図9に示すように、フレーム1に固定された水平な固定板30と、固定板30に取り付けられ、かつ、鉛直下方に向かって往復運動をするピストン31aを有する流体シリンダ31と、該流体シリンダ31のピストン31aの下端に固定された吸着板32とを備えている。吸着板32は、上記したスクライブ装置Bのテーブル4の上方に配置され、下面には多数の吸着孔を有する吸着面32aが設けられている。
また、吸着板32は、その上面から鉛直上方に延びて固定板30を摺動可能に貫通する4本の垂直なガイド33を備えており、これにより、吸着板32が昇降する際に自由回転するのを阻止している。
また、吸着板32は、その上面から鉛直上方に延びて固定板30を摺動可能に貫通する4本の垂直なガイド33を備えており、これにより、吸着板32が昇降する際に自由回転するのを阻止している。
本実施例において、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dにおける吸着板18、32の昇降動作並びにバキューム動作、及び、吸着反転装置Cの吸着板18を反転させる反転回動機構42の駆動は、ボタンスイッチによるスイッチ操作によって手動で行うことができるようにしてある。
具体的には、図21に示すように、吸着反転装置Cのロックピン28、28のロックを解除するための右側ロック解除ボタン34並びに左側ロック解除ボタン35、基板受け渡し位置で吸着板18を下動させるために押下げ部材(エアシリンダ)17をON/OFF操作する昇降ボタン36、吸着昇降装置Dの流体シリンダ31を作動させるための操作ボタン37、吸着反転装置Cの反転回動機構42を駆動する反転操作ボタン43が、基板加工装置Aの正面に取り付けられた操作パネル38(図1では省略)に設けられている。さらに、吸着反転装置Cの吸着板18のバキュームボタン39、吸着昇降装置Dの吸着板32のバキュームボタン40が上記操作パネル38に設けられている。
具体的には、図21に示すように、吸着反転装置Cのロックピン28、28のロックを解除するための右側ロック解除ボタン34並びに左側ロック解除ボタン35、基板受け渡し位置で吸着板18を下動させるために押下げ部材(エアシリンダ)17をON/OFF操作する昇降ボタン36、吸着昇降装置Dの流体シリンダ31を作動させるための操作ボタン37、吸着反転装置Cの反転回動機構42を駆動する反転操作ボタン43が、基板加工装置Aの正面に取り付けられた操作パネル38(図1では省略)に設けられている。さらに、吸着反転装置Cの吸着板18のバキュームボタン39、吸着昇降装置Dの吸着板32のバキュームボタン40が上記操作パネル38に設けられている。
上記したスクライブ装置Bのテーブル4、並びに吸着昇降装置Dの吸着板32の各吸着面、4a、32aの吸着孔は、前記した吸着反転装置の吸着板18と同様に、吸気用の配管を介して上記したエア吸引装置(図示外)に接続されており、吸引エアによって基板Wを吸着保持できるように形成されている。図面上では、これら吸気用の配管並びにその付帯設備は、図面の複雑化を避けるために省略してある。また、吸着反転装置Cの吸着板18と昇降装置Dの吸着板32とはバキュームボタン40を押すことにより切換バルブ(図示外)によってエア吸引が切り換わるようになっている。
次に、上記した基板加工装置Aによって、単板の基板Wの上面にスクライブラインを加工した後、この基板Wを反転させる工程を、図1、図7〜20を用いて順を追って説明する。
図1において、スクライブ装置Bのテーブル4上に載置されている基板Wは、その上面がカッターホイール12によって既にスクライブラインが加工された状態にある。カッターホイール12によるスクライブ加工は、テーブル4を台板2の延出端部まで移動させて加工すべき基板Wを載置した後、テーブル4をスクライブヘッド13の位置まで移行させ、カッターホイール12を降下させてカッターホイール12またはテーブル4を相対的に移動させることにより行われる。また、テーブル4を回転駆動部5により90度回転させることにより、X−Y方向のスクライブラインを加工することができる。
図1において、スクライブ装置Bのテーブル4上に載置されている基板Wは、その上面がカッターホイール12によって既にスクライブラインが加工された状態にある。カッターホイール12によるスクライブ加工は、テーブル4を台板2の延出端部まで移動させて加工すべき基板Wを載置した後、テーブル4をスクライブヘッド13の位置まで移行させ、カッターホイール12を降下させてカッターホイール12またはテーブル4を相対的に移動させることにより行われる。また、テーブル4を回転駆動部5により90度回転させることにより、X−Y方向のスクライブラインを加工することができる。
上面にスクライブラインが加工されてテーブル4上に載置されている基板Wは、以下の工程を経て表裏反転される。
まず、吸着反転装置Cの左側のロックピン28のロックを、左側ロック解除ボタン35を操作して解除する。そして、把手25を持って手動で図10、11に示すように吸着板18をスクライブ装置Bのテーブル4の上方、すなわち、基板受け渡し位置まで移動させる。
吸着反転装置Cが基板受け渡し位置の近傍まで移動すると、吸着反転装置Cに設けられた接触部55の押圧面55aが緩衝機構Fのローラ53に当たって、スプリング54の弾力に抗して後退し、吸着反転装置Cの移動速度を減衰する。また、接触部55の押圧面55aが緩衝機構Fのローラ53に当たったときには当接音が発生するので、作業者は吸着反転装置Cが停止位置に近づいていることを認識することができ、これにより手動による移動力を緩めて停止位置での衝撃の発生を和らげることができる。
ローラ53が接触部55の押圧面55aに押されて揺動アーム52がさらに揺動すると、図8に示すように、押圧面55aの傾斜によりローラ53が接触部55の接触面55bに移動するとともに、最終の基板受け渡し位置で位置感知部材29(図1参照)が吸着反転装置Cの位置を感知して、自動的に右側のロックピン28が係合穴27に係入して吸着反転装置Cの位置がロックされる。この位置でローラ53は接触部55の接触面55bに接触した姿勢で待機し、次の工程で吸着反転装置Cがローラ53から遊離したときに図7の元姿勢へ復帰する。また、ロック位置で、左右のローラ53、53が左右の接触部55、55の接触面55bに弾力的に接触して吸着反転装置Cを左右から挟みつけるように保持するので、吸着反転装置Cのブレやガタツキ等をなくすことができ、吸着反転装置Cの動作を円滑に行うことができる。
まず、吸着反転装置Cの左側のロックピン28のロックを、左側ロック解除ボタン35を操作して解除する。そして、把手25を持って手動で図10、11に示すように吸着板18をスクライブ装置Bのテーブル4の上方、すなわち、基板受け渡し位置まで移動させる。
吸着反転装置Cが基板受け渡し位置の近傍まで移動すると、吸着反転装置Cに設けられた接触部55の押圧面55aが緩衝機構Fのローラ53に当たって、スプリング54の弾力に抗して後退し、吸着反転装置Cの移動速度を減衰する。また、接触部55の押圧面55aが緩衝機構Fのローラ53に当たったときには当接音が発生するので、作業者は吸着反転装置Cが停止位置に近づいていることを認識することができ、これにより手動による移動力を緩めて停止位置での衝撃の発生を和らげることができる。
ローラ53が接触部55の押圧面55aに押されて揺動アーム52がさらに揺動すると、図8に示すように、押圧面55aの傾斜によりローラ53が接触部55の接触面55bに移動するとともに、最終の基板受け渡し位置で位置感知部材29(図1参照)が吸着反転装置Cの位置を感知して、自動的に右側のロックピン28が係合穴27に係入して吸着反転装置Cの位置がロックされる。この位置でローラ53は接触部55の接触面55bに接触した姿勢で待機し、次の工程で吸着反転装置Cがローラ53から遊離したときに図7の元姿勢へ復帰する。また、ロック位置で、左右のローラ53、53が左右の接触部55、55の接触面55bに弾力的に接触して吸着反転装置Cを左右から挟みつけるように保持するので、吸着反転装置Cのブレやガタツキ等をなくすことができ、吸着反転装置Cの動作を円滑に行うことができる。
上記のようにして吸着反転装置Cを基板の受け渡し位置でロックした後、昇降ボタン36を押して押下げ部材17(図5参照)を作動させ、吸着板18を図12に示すようにテーブル4の基板Wに接する位置まで下動させる。この位置でバキュームボタン39を押して基板Wを吸着板18に吸着させる。この際、テーブル4の吸引エアによる吸着力は、別途設けたテーブル用の吸着解除ボタン(図示外)によって、バキュームボタン39を押す前に解除しておくか、或いは前記したバキュームボタン39を押す操作と連動して解除されるようにする。
次いで、再度昇降ボタン36を押して押下げ部材17の押下げ力を解除する。この解除により、吸着板18は復帰スプリング19(図3参照)の復元力によって図13に示すように元位置に復帰する。
次いで、再度昇降ボタン36を押して押下げ部材17の押下げ力を解除する。この解除により、吸着板18は復帰スプリング19(図3参照)の復元力によって図13に示すように元位置に復帰する。
次いで、右側ロック解除ボタン34を押して右側のロックピン28のロックを解除した後、図14に示すように、吸着反転装置Cを手動で基板反転位置まで移動させる。この際、吸着反転装置Cが停止位置近傍へ近づくと、先に説明したのと同様に、基板反転位置近傍に設けてある緩衝機構Fが動作して吸着反転装置Cの移動速度が減速されるとともに、基板反転位置で位置感知部材29が感知して左側のロックピン28が係合穴27に係入して吸着反転装置Cの位置がロックされる。この位置で、図15に示すように、反転操作ボタン43を押して吸着板18を反転させる。
吸着板18を反転させた後、左側ロック解除ボタン35を押してロックを解除し、吸着反転装置Cを手動で図16の基板受け渡し位置まで移動させる。その後、吸着昇降装置Dの操作ボタン37を押して、図17に示すように、吸着板32を吸着反転装置Cの吸着板18に吸着されている基板W上に降下させる。この状態でバキュームボタン40を押して吸着エアを吸着反転装置Cの吸着板18から吸着昇降装置Dの吸着板32に切り換え、基板Wを吸着板32に吸着させた後、操作ボタン37を押して、図18に示すように、吸着昇降装置Dの吸着板32を上昇させるとともに、前記した操作によって吸着反転装置Cのロックを解除して吸着反転装置C(吸着板18)を基板反転位置に戻す。
次いで、操作ボタン37を押して、図19に示すように、吸着昇降装置Dの吸着板32をスクライブ装置Bのテーブル4上まで降下させ、バキュームボタン40を押して吸着板32の吸着エアをOFFにする。これにより、基板Wをテーブル4に受け渡す。この後、操作ボタン37を押して、図20に示すように、吸着昇降装置Dの吸着板32を元の位置まで上昇させる。また、反転位置に戻された吸着反転装置Cの吸着板18は、反転操作ボタン43を押すことにより吸着面18aが下向きになるように反転させて次の基板反転作業のために待機させておく。
このようにして反転された基板Wは、次のブレイク工程のためにテーブル4から除材される。
このようにして反転された基板Wは、次のブレイク工程のためにテーブル4から除材される。
上記した工程において、吸着反転装置Cの吸着板18は、スクライブ装置Bのテーブル4から基板Wを受け取った後、基板反転位置に移動させて反転させるものであるから、テーブル4から基板Wを受け取った際にテーブル4に接触しない程度に持ち上げるだけでよい。したがって、図3〜5に示すように、吸着板18を昇降させる機構として上下移動ストロークの小さな押下げ部材17と、押下げ部材17の押下げ力を解除したときに吸着板18を元位置に復帰させる復帰スプリング19とによる簡単な機構でコンパクトに形成することができる。
上記実施例において、スクライブ装置Bのテーブル4上の基板Wを反転するために、まず吸着反転装置Cでテーブル4上の基板Wを取り上げて反転させた後、吸着昇降装置Dに基板Wを受け渡してテーブル4に載置するようにしたが、この手順を代えて、まず吸着昇降装置Dで基板Wをテーブル4から取り上げて吸着反転装置Cに受け渡し、基板Wを反転させた後、吸着反転装置Cでテーブル4に基板Wを載置するようしてもよい。
また、基板加工装置Aに組み込んだスクライブ装置Bに代えて、図22に示すように、シリンダ44によって昇降する板状のブレイクバー45を備えたブレイク装置Eを組み込むことも可能である。この場合は、あらかじめ上面にスクライブラインが加工された基板Wを、上記したスクライブ装置Bのテーブル4と同じ移動機構を備えたテーブル4に載置し、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dによって上記した工程と同じ手順を経て、スクライブラインが裏面側となるように基板Wを反転させてテーブル4に戻す。そして、テーブル4をブレイクバー45の下方まで移動させてブレイクバー45を基板Wに押し当てて基板Wを撓ませ、スクライブラインに沿って分断する。この後、分断された基板Wはテーブル4から除材されることになる。
以上本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施形態に特定されるものではない。例えば、上記実施例では、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dにおける吸着板18、32の昇降動作並びにバキューム動作、及び、吸着反転装置Cの吸着板18を反転させる反転回動機構42の駆動は、ボタン操作によって手動で行うようにしたが、コンピュータ制御によって自動で行うように形成することも可能である。その他本発明では、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。
本発明は、ガラス等の脆性材料基板にスクライブ加工やブレイク加工を行う基板加工装置において、基板を反転させる吸着反転装置等の移動体に利用される。
A 基板加工装置
B スクライブ装置
C 吸着反転装置(移動体)
D 吸着昇降装置
F 緩衝機構
W 基板(脆性材料基板)
1 フレーム
14 側枠
15 回転軸
18 吸着板
27 係合穴
28 ロックピン
29 位置感知部材
50 当接部
52 揺動アーム
53 ローラ
54 スプリング
55 接触部
55a 押圧面
55b 接触面
B スクライブ装置
C 吸着反転装置(移動体)
D 吸着昇降装置
F 緩衝機構
W 基板(脆性材料基板)
1 フレーム
14 側枠
15 回転軸
18 吸着板
27 係合穴
28 ロックピン
29 位置感知部材
50 当接部
52 揺動アーム
53 ローラ
54 スプリング
55 接触部
55a 押圧面
55b 接触面
Claims (7)
- 装置のフレームに少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体の移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構であって、
前記緩衝機構は、前記停止位置に向かって移動する前記移動体に対して弾力的に当接する当接部を備え、該当接部は、前記移動体との当接後に前記移動体の移動に伴って弾力に抗して後退し、前記移動体が前記停止位置で停止したときも前記移動体との当接を維持するように形成されている緩衝機構。 - 前記当接部は、前記フレームに回動可能に取り付けられ、かつ弾性体によって弾力が付与された揺動アームの先端部分に形成され、
前記移動体には前記当接部に接触する接触部が設けられており、
前記接触部は、前記移動体の移動方向に対向する押圧面と、前記移動体の移動方向に平行な接触面とを備え、前記押圧面は、前記当接部を前記移動体のさらなる進行によって前記接触面に誘導するように傾斜面で形成されている請求項1に記載の緩衝機構。 - 前記揺動アームは、前記移動体が離れているときは、弾性体に引っ張られて前記当接部が前記接触部の移動軌跡上に突出するように形成されており、前記当接部が前記接触部と接触した後は、前記移動体の進行に伴い弾性体の弾力に抗して揺動後退するように形成されており、
前記揺動アームに該揺動アームの回動を規制して前記当接部の突出姿勢を保持する止めピンが設けられている請求項2に記載の緩衝装置。 - 前記当接部がローラである請求項2または3のいずれかに記載の緩衝機構。
- 前記当接部が前記移動体の移動軌跡の両終端近傍に設けられている請求項1〜4のいずれかに記載の緩衝機構。
- 前記フレームに前記移動体の停止位置を感知する位置感知部材と出没可能なロックピンとが設けられるとともに、前記移動体に前記ロックピンが係入する係合穴が設けられており、
前記位置感知部材が前記移動体の位置を感知すると、前記ロックピンが動作して前記係合穴に係入するように形成されている請求項1〜5のいずれかに記載の緩衝機構。 - 前記移動体が、脆性材料基板を吸着して反転させる吸着反転装置であり、該吸着反転装置は、基板受け渡し位置から基板反転位置まで往復移動するように形成されている請求項1〜6のいずれかに記載の緩衝機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013062000A JP2014185065A (ja) | 2013-03-25 | 2013-03-25 | 緩衝機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013062000A JP2014185065A (ja) | 2013-03-25 | 2013-03-25 | 緩衝機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014185065A true JP2014185065A (ja) | 2014-10-02 |
Family
ID=51832987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013062000A Pending JP2014185065A (ja) | 2013-03-25 | 2013-03-25 | 緩衝機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014185065A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020066285A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | ウェーハ分断装置、反転装置、および搬送システム |
-
2013
- 2013-03-25 JP JP2013062000A patent/JP2014185065A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020066285A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | ウェーハ分断装置、反転装置、および搬送システム |
JPWO2020066285A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2021-08-30 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | ウェーハ分断装置、反転装置、および搬送システム |
TWI809155B (zh) * | 2018-09-28 | 2023-07-21 | 日商三星鑽石工業股份有限公司 | 晶圓分斷裝置、反轉裝置及搬運系統 |
JP7329258B2 (ja) | 2018-09-28 | 2023-08-18 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | ウェーハ分断装置、反転装置、および搬送システム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014135332A (ja) | 吸着反転装置 | |
TWI633069B (zh) | Substrate turnover transport device | |
CN101155506B (zh) | 基板支撑装置 | |
TWM511050U (zh) | 面板之彎折分割裝置 | |
KR102048627B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 그 방법 | |
CN109436805A (zh) | 一种多尺寸全自动玻璃上料装置及其工作方法 | |
JP2014135333A (ja) | 吸着昇降装置 | |
JP6059565B2 (ja) | 吸着反転装置 | |
JP2014133672A (ja) | 吸着反転装置 | |
JP2014185065A (ja) | 緩衝機構 | |
KR102593615B1 (ko) | 기판 절단 장치 | |
JP6271683B2 (ja) | 吸着反転装置 | |
KR101465014B1 (ko) | 강화유리 절단장치 | |
JP2019196281A (ja) | 基板分断装置 | |
JP5517695B2 (ja) | 折割装置 | |
CN216372093U (zh) | 一种石英晶体自动旋转翻面机构 | |
JP4518269B2 (ja) | 荷位置決め装置 | |
JP2014135334A (ja) | 基板加工装置 | |
KR20180069173A (ko) | 기판 파지 유닛 및 이를 구비하는 스크라이빙 장치 | |
CN219842973U (zh) | 真空吸附拆卸顶升机构 | |
CN219668287U (zh) | 一种工业机器人转运装置 | |
JPH06340439A (ja) | 板ガラスの折割り装置とその関連装置 | |
CN218808695U (zh) | 居中定位装置 | |
JPH06298355A (ja) | 部品保持装置 | |
JP2014065600A (ja) | 基板吸着装置 |