JP2014179492A - 光半導体装置用のリードフレーム又は基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の光半導体装置用のリードフレーム又は基板は、銅、銅合金、鉄、鉄合金、アルミニウム、アルミニウム合金、セラミックス、プラスチックスからなる群から選択される母材の表面の上に、厚さ1μm以上7μm以下の光沢性のニッケルめっき又は光沢性のニッケル合金めっきの第1層と、厚さ0.005μm以上0.1μm以下のパラジウムめっき又はパラジウム合金めっきの第2層と、厚さ0.05μm以上2.0μm未満であって、かつ光沢度1.3以上の銀めっきの第3層と、をこの順に有することを特徴とする。
【選択図】なし
Description
光半導体装置は、電気回路を形成し、電圧を印加すると発光する窒化ガリウムなどの化合物半導体の光半導体素子をリードフレームや基板(プリント基板、セラミック基板、フレキシブル基板など)に、ペーストなどでダイボンディングして固定し、p型とn型の電極に金線などでワイヤーボンディングし、樹脂で封止して製造されることが多い。また、光半導体装置は、LED電球などに搭載する際に、はんだリフロ−などで実装される。
リードフレームとしては、株式会社神戸製鋼所製の銅合金KLF194(CDA No.C19400、鉄含有率2.3%)の板厚0.11mmの平板を使用し、株式会社エノモトのLED用オープンフレームFLASH LED 6PIN OP1(外形寸法5050)のタイプに型抜きしたものを使用する。アルカリ系の脱脂剤で脱脂処理したあと、希硫酸で酸中和し、その後シアン浴により銅めっきを0.5μm施す。その後、本発明の金属めっき層を順次行った後、銀めっきを行い、清浄な純水で洗浄した後、乾燥し、銀めっき付きリードフレームを製作する。銀めっきは、全面銀めっきとする。このリードフレームを金型内に配置し、成形材料として、ポリフタルアミド樹脂を注入し、硬化させて金型から外す。そして、得られた樹脂成形後のリードフレーム上にInGaN系の青色発光ダイオードチップをペーストでダイボンドした後、150℃で1時間加熱して接合させる。その後、発光ダイオードチップの電極と、リードフレームを25μm径の金線ワイヤーにてワイヤーボンディングする。次に、変性シリコーン樹脂にYAG蛍光体を20%の割合で配合したものを、成形開口部に充填し、熱風乾燥機にて硬化させ(硬化条件:150℃、4時間)、封止を完了する。この後、個別のLEDとして個片化する。基板についても同様にしてサンプルを作成する。
Claims (9)
- 銅、銅合金、鉄、鉄合金、アルミニウム、アルミニウム合金、セラミックス、プラスチックスからなる群から選択される母材の表面の上に、
厚さ1μm以上7μm以下の光沢性のニッケルめっき又は光沢性のニッケル合金めっきの第1層と、
厚さ0.005μm以上0.1μm以下のパラジウムめっき又はパラジウム合金めっきの第2層と、
厚さ0.05μm以上2.0μm未満であって、かつ光沢度1.3以上の銀めっきの第3層と、をこの順に有することを特徴とする光半導体装置用のリードフレーム又は基板。 - 前記第3層の厚さは、0.05μm以上1.0μm以下である請求項1に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 前記第1層は、30ppm以上1000ppm以下の炭素又は/及び50ppm以上1000ppm以下の硫黄を含有している請求項1又は2に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 前記母材の表面に、厚さ0.1μm以上10μm以下の銅めっき層を有する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 前記ニッケル合金めっきが、ニッケルコバルト合金、ニッケル錫合金、ニッケルりん合金、ニッケルホウ素合金、ニッケルクロム合金のうちのいずれかである請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 前記パラジウム合金めっきが、パラジウムニッケル合金、パラジウム銅合金、パラジウム鉄合金、パラジウム錫合金、パラジウムテルル合金、パラジウムビスマス合金、パラジウムゲルマニウム合金、パラジウム白金合金のうちのいずれかである請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 前記第2層と前記第3層の間に、厚さ0.002μm以上0.05μm以下の金めっき層又は金合金めっき層を有する請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 前記金合金が、金銀合金、金ニッケル合金、金銅合金、金インジウム合金、金錫合金、金亜鉛合金、金タリウム合金、金コバルト合金のうちのいずれかである請求項7に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板。
- 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の光半導体装置用のリードフレーム又は基板上に光半導体素子を搭載した光半導体装置。
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