JP2014178922A - タッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法 - Google Patents

タッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】外部衝撃を受けて破損したときのガラスの破片の飛散を防止できるタッチパネル用積層体、およびその製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板と、透明電極層と、前記透明電極層を覆う保護層と、ポリマー層と、をこの順で有し、前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなる。
【選択図】なし

Description

本発明は、タッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法に関する。
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置（タッチパネル）が配置され、液晶表示装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで指示画像に対応する情報の入力が行える。
このようなタッチパネルは、電子デバイスの表層に設けられ、且つ最表面にガラスが貼付されているため、安全の観点から、外部衝撃を受けて破損しても基板として用いられているガラスの破片が飛散することを少なくすることが要求される。
例えば、特許文献１には、膜厚と内部ヘイズとを掛け合わせた値が４以上であり、表面の十点平均粗さが２μｍ以下である光透過性ハードコート層をガラスの表面に貼付することでガラスの飛散を防止できることが記載されている。
また、特許文献２には、ハードコート層、厚みが２５〜７０μｍの透明基材フィルム、接着剤層、厚みが５〜２５μｍのポリエステル系フィルム、および粘着剤層の順で積層された粘着シートをガラス板の表面に貼付することでガラスの飛散を防止できることが記載されている。
一方、特許文献３では、フロート法で製造されたヤング率が７１〜７４ＧＰａ、ポアソン比が０．２２〜０．２４と化学的に強化したガラスが記載されている。しかしながら、ガラスを化学的に強化した場合に、外部衝撃を受けて破損したときのガラスの飛散を防止できることについては記載されていない。
特開２００８−２１６９１３号公報 特開２０１２−３５４３１号公報 特開２００７−１１２１０号公報
特許文献１および特許文献２のようにハードコート層や粘着シートをガラス板の表面に貼付することである程度の外部衝撃を受けて破損したときのガラスの破片を飛散させることを防止することができるが、本発明者らが検討した結果、不十分であることがわかった。
そこで本発明者らは、このような従来技術の課題を解決するために検討を進めた。本発明が解決しようとする課題は、外部衝撃を受けて破損したときのガラスの破片の飛散を防止できるタッチパネル用積層体、およびその製造方法を提供することである。
上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、ガラス基板、透明電極層、保護層、およびポリマー層の順で積層させ、前記ガラス基板が、ガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理を行ったガラスを用いた場合にも外部衝撃を受けて破損したときのガラスの破片の飛散を防止できることを見出し、本発明に至った。
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明は、以下の構成を有する。
［１］ ガラス基板と、
透明電極層と、
前記透明電極層を覆う保護層と、
ポリマー層と、
をこの順で有し、
前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなることを特徴とするタッチパネル用積層体。
［２］ さらに、前記ポリマー層の前記保護層が形成されている面の反対側の面にハードコート層を有する、［１］のタッチパネル用積層体。
［３］ 前記保護層と前記ポリマー層との間、および前記ポリマー層と前記ハードコート層との間の少なくとも一方に易接着層を有する、［２］のタッチパネル用積層体。
［４］ 前記透明電極層と前記保護層との間に、反射防止層を有する、［１］〜［３］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［５］ 前記ハードコート層が、硬化性樹脂またはアルコキシシランの加水分解縮合物を含む、［２］〜［４］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［６］ 前記保護層が、アクリル系ポリマーを含む、［１］〜［５］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［７］ 厚みが０．３〜１ｍｍである［１］〜［６］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［８］ 前記反射防止層の厚みが、５００ｎｍ以下である、［４］〜［７］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［９］ 前記反射防止層の屈折率が、１．６以上である、［４］〜［８］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１０］ 前記保護層と前記ポリマー層との間に有する易接着層の屈折率と、該易接着層に隣接する前記保護層および前記ポリマー層の屈折率との屈折率差が、０．０２以下である、［３］〜［９］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１１］ 前記ポリマー層の厚みが、２０〜１５０μｍである、［１］〜［１０］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１２］ 前記ポリマー層と前記ハードコート層との間に有する易接着層の屈折率と、該易接着層に隣接する前記ポリマー層および前記ハードコート層の屈折率との屈折率差が、０．０２以下である、［３］〜［１１］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１３］ 前記ポリマー層が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、または、シクロオレフィンポリマーを含む、［１］〜［１２］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１４］ 前記ポリマー層のリタデーションが３０００〜１２０００ｎｍである、［１］〜［１３］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１５］ 前記ポリマー層のリタデーションが１００から２００ｎｍである、［１］〜［１４］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１６］ 前記ポリマー層の屈折率が１．６０〜１．７５である、［１］〜［１５］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１７］ 前記ポリマー層の表面から４０〜３３０ｎｍの範囲内のいずれかの深さまでの厚みの表面改質層を有す、［１］〜［１６］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［１８］ 前記表面改質層が、前記ポリマー層の表面にグロー放電処理を施して形成されてなる、［１７］のタッチパネル用積層体。
［１９］ 前記表面改質層が、Ｔｇ以上に加熱された前記ポリマー層の表面にグロー放電処理を施して形成されてなる、［１７］のタッチパネル用積層体。
［２０］ 前記ハードコート層に含まれる前記アルコキシシランの加水分解縮合物は、エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランの加水分解縮合物である、［５］〜［１９］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２１］ 前記ハードコート層がアルコキシシランを加水分解し、加水分解したアルコキシシランを縮合して形成してなる、［５］〜［２０］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２２］ 前記ハードコート層の屈折率が、１．６４以上２．１０以下である、［４］〜［２１］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２３］ 前記反射防止層が粒子を含む、［４］〜［２２］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２４］ 前記反射防止層が屈折率１．６０〜３．００である粒子を含む、［４］〜［２３］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２５］ 前記反射防止層が金属酸化物粒子を含む、［４］〜［２４］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２６］ 前記反射防止層が酸化錫または酸化ジルコニウム粒子を含む、［４］〜［２６］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２７］ 前記反射防止層が前記反射防止層に含まれる固形分に対し、４０〜８０質量％の粒子を含む、［４］〜［２６］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［２８］ 前記透明電極層として、下記（３）〜（５）の要素を有する、［１］〜［２７］のいずれかのタッチパネル用積層体。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（４）前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
（５）前記第一の透明電極パターンと前記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
［２９］ （６）前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の電極パターンとは別の導電性要素を有する、［２８］のタッチパネル用積層体。
［３０］ 前記第二の電極パターンが透明電極パターンである、［２８］のタッチパネル用積層体。
［３１］ （１）加飾層を有する、［１］〜［３０］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［３２］ 厚みが１〜４０μｍである（１）加飾層を有する、［１］〜［３１］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［３３］ （２）マスク層を有する、［１］〜［３２］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［３４］ 前記ガラス基板の表面が表面処理を施してなる、［１］〜［３３］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［３５］ 前記ガラス基板の表面がシラン化合物を用いて表面処理を施してなる、［１］〜［３４］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［３６］ 前記ガラス基板が、少なくとも一部に開口部を有する、［１］〜［３５］のいずれかのタッチパネル用積層体。
［３７］ ガラス基板と透明電極層を有する透明電極層付き前面板の該透明電極層側の表面に対し、保護層とポリマー層と、をこの順で有する積層材料の該保護層側の表面を積層する工程を含み、
前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなることを特徴とする［１］〜［３６］のいずれかのタッチパネル用積層体の製造方法。
［３８］ 前記透明電極層を、硬化性樹脂組成物によって形成されたエッチングパターンを用いて透明導電材料をエッチング処理することによって形成する、［３７］のタッチパネル用積層体の製造方法。
［３９］ 前記透明電極層を、導電性硬化性樹脂組成物を用いて形成する、［３７］のタッチパネル用積層体の製造方法。
本発明によれば、外部衝撃を受けて破損したときのガラスの破片の飛散を防止できるタッチパネル用積層体、およびその製造方法を提供することができる。
本発明のタッチパネル用積層体の断面模式図である。 本発明の静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。 本発明における前面板の一例を示す説明図である。 本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。 開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。 マスク層が形成された前面板の一例を示す上面図である。 第一の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。 第一および第二の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。 第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された前面板の一例を示す上面図である。 金属ナノワイヤー断面を示す説明図である。
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
［タッチパネル用積層体］
本発明のタッチパネル用積層体は、ガラス基板と、透明電極層と、前記透明電極層を覆う保護層と、ポリマー層と、をこの順で有し、前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなることを特徴とする。
本発明では、このような構成、即ち、ポリマー層を有する構成とすることでガラス基板におけるガラスの破片の飛散を防止することができる。
また、後述の本発明のより好ましい構成とすることで光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、視認性、すなわちヘイズに優れる。
図１は、本発明のタッチパネル用積層体の一例を示した断面模式図である。本発明のタッチパネル用積層体は、最表面側（視認側）から、ガラス基板１００、透明電極層１０１、透明電極層１０１を覆うように形成されている保護層１０２、およびポリマー層１０３をこの順で有する。
保護層１０２とポリマー層１０３との間には、必要に応じて易接着層１０４を有していてもよい。また、本発明のタッチパネル用積層体は、必要に応じて、ポリマー層１０３の保護層１０２側の面とは反対側の面にハードコート層１０５を有していてもよく、ハードコート層１０５とポリマー層１０３との間には易接着層１０６を有していてもよい。また、ガラス基板１の視認側の面と反対側の面の端部には加飾層１０７を有していてもよい。
また、透明電極層１０１と保護層１０２との間には、反射防止層（図示せず）を有していてもよく、ガラス基板１００の透明導電層１０１が形成されている面の反対側にハードコート層（図示せず）を有していてもよい。
本発明のタッチパネル用積層体の厚みとしては、０．３〜１ｍｍであることが好ましく、０．５〜１ｍｍであることがより好ましく、０．７〜１ｍｍであることがさらに好ましい。
以下、本発明のタッチパネル用積層体を構成する各部材について説明する。
＜ガラス基板＞
本発明のタッチパネル用積層体に用いるガラス基板は、ガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなる。
本発明で使用するガラスは特に限定されないが、ＪＩＳ Ｒ３１０３−２（２００１年）に準拠した方法で得られる歪点温度が５００℃〜５２０℃であることが好ましい。また、ガラスの変形が生じやすい当該温度付近、すなわち溶融塩の温度を４９０〜５３０℃とすることが好ましい。例えば、フロート法で製造される所謂ソーダライムガラスと呼ばれるＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3系ガラスの表面を化学強化処理により圧縮層が形成されたものが好ましい。
圧縮層を形成する化学強化処理としては、ガラスを溶融塩に浸漬させ、ガラス中のナトリウムイオンと溶融塩中のカリウムイオンとを交換させることで圧縮層が形成される。圧縮層は、圧縮応力値において、２００〜６５０ＭＰａの値を有するもので、当該値を有するように、ガラスを化学強化する際に、浸漬させるための溶融塩の温度を４５０〜５５０℃、浸漬時間を１時間〜３時間とすることが好ましい。
ガラス基板の厚みとしては、０．３〜１．０ｍｍであることが好ましく、０．４〜０．８ｍｍであることがさらに好ましい。ガラス基板の厚みを０．３ｍｍ以上とすることで、強度不足を解消することができる。
＜透明電極層＞
本発明のタッチパネル用積層体は、ガラス基板上に透明電極層を有し、パターン状に配置されていることが好ましい。
前記透明電極層の屈折率は１．７５〜２．１であることが好ましい。
前記透明電極層の材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。その他、ＩＴＯ等によって透明電極層における導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落［００１４］〜［００１６］等を参考にすることができる。その中でも、前記透明電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
本発明の透明積層体は、前記透明電極パターンが屈折率１．７５〜２．１のＩＴＯ膜であることが好ましい。
透明電極層の厚みとしては、１０〜２００ｎｍが好ましく、２０〜１５０ｎｍがより好ましく、３０〜１００ｎｍがさらに好ましい。
＜＜透明電極パターン＞＞
本発明の積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとして設けられることがある（例えば、図４参照）。例えば図４の構成では、本発明の積層体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン４であっても、第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａであってもよい。言い換えると、以下の本発明の透明積層体の説明では、透明電極パターンの符号を「４」で代表して表すことがあるが、本発明の透明積層体における透明電極パターンは、本発明の静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン４への使用に限定されるものではなく、例えば第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａとして使用してもよい。
前記透明電極パターンの屈折率は１．７５〜２．１であることが好ましい。
前記透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、前記第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、前記導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落［００１４］〜［００１６］等を参考にすることができる。その中でも、前記透明電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
前記透明電極パターンが屈折率１．７５〜２．１のＩＴＯ膜であることが好ましい。
＜保護層＞
本発明のタッチパネル用積層体は、透明電極層を覆う保護層を有し、保護層は、透明電極層の腐食を防止する機能を有することが好ましい。ここでいう透明電極層の腐食の防止は、ハロゲンを含む化合物の除去、特に光重合開始剤を脱ハロゲン化して行うことが好ましい。
保護層は、金属酸化物粒子、樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られたものではない。
保護層は、透明樹脂膜であっても、無機膜であってもよい。
前記無機膜としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報などに用いられている無機膜を用いることができ、これらの文献に記載されている低屈折率材料と高屈折率材料の積層構造の無機膜や、低屈折率材料と高屈折率材料の混合膜の無機膜を用いることが屈折率を制御する観点から好ましい。前記低屈折率材料と前記高屈折率材料は、上記の特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本明細書中に組み込まれる。
前記無機膜は、ＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5の混合膜であってもよく、その場合はスパッタによって形成されたＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5の混合膜であることがより好ましい。
本発明では、保護層が、透明樹脂膜であることが好ましい。
前記透明樹脂膜の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂膜を単独で用いたり、金属微粒子や金属酸化物微粒子などの微粒子を添加した透明樹脂膜を用いたりすることができる。
前記透明樹脂膜に用いられる樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れた組成物が得られる。
前記金属酸化物粒子は、当該粒子を除いた材料からなる樹脂組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましく、具体的には、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子がより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子が更に好ましく、１．９０以上の粒子が特に好ましい。
ここで、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
なお、前記金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
樹脂組成物の透明性の観点から、前記金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
また、前記金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
前記樹脂組成物における金属酸化物粒子の含有量は、樹脂組成物により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、前記樹脂組成物の全固形分に対して、５〜８０質量％とすることが好ましく、１０〜７０質量％とすることがより好ましい。
前記透明樹脂膜が、ＺｒＯ2粒子およびＴｉＯ2粒子のうち少なくとも一方を有することが、反射防止層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ2粒子がより好ましい。
透明樹脂膜に用いられる樹脂（バインダー、ポリマーという言う）やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無い。
保護層に用いられる樹脂（バインダー、ポリマーという言う）としてはアルカリ可溶性樹脂が好ましく、前記アルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落［００２５］、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落［００３３］〜［００５２］に記載のポリマーを用いることができる。
前記重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落［００２３］〜［００２４］に記載の重合性化合物を用いることができる。
前記重合開始剤または重合開始系としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の［００３１］〜［００４２］に記載の重合性化合物を用いることができる。
さらに、保護層には、添加剤を用いてもよい。前記添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、特開２００９−２３７３６２号公報の段落［００６０］〜［００７１］に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落［００５８］〜［００７１］に記載のその他の添加剤が挙げられる。
保護層の厚みとして、１〜５０ｎｍであることが好ましく、２〜３０ｎｍであることがより好ましい。
また、保護層の屈折率が、１．５〜１．５３であることが好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましく、１．５１〜１．５２であることが特に好ましい。
＜ポリマー層＞
本発明のタッチパネル用積層体は、ポリマー層を有する。本発明では、ポリマー層を有し、且つ所定の積層順序とすることで本発明の効果を奏する。
ポリマー層には高分子フィルムを用いることが好ましい。
ポリマー層に用いられる高分子フィルムの材質は、特に制限されるものではなく任意である。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、シクロオレフィンポリマー等が例示される。その中でも特に好ましい素材として、ポリカーボネート、ポリエステル（その中でも特にポリエチレンテレフタレート）、または、シクロオレフィンポリマーが例示される。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。特に、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステルは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので、最も好適な素材である。
本発明におけるポリエステルフィルムとは、主成分がポリエステルであるフィルムをいい、通常、樹脂成分の９８質量％以上がポリエステルであるフィルムをいい、好ましくは、ポリエステルフィルムを構成する成分の９０質量％がポリエステルであるフィルムをいう。ポリエステルの種類は特に制限されるものではなく、ポリエステルとして公知のものを使用することができる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。中でも、コストや機械的強度の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いることが特に好ましい。
高分子フィルムは特定の複屈折性を有するため配向フィルムを用いることが望ましいが、その製造方法は、本発明で規定したフィルム特性を満足する限り、特に限定されるものではない。
ポリカーボネートフィルムの場合には、ポリカーボネートを溶融し、シート状に押し出し成型した無配向のシートをガラス転移温度以上の温度において一方向（必要によっては二方向）に延伸して、特定のリタデーションを有する配向ポリカーボネートフィルムを得ることができる。無配向のポリカーボネートシートは市販のものや溶液製膜によって作製したものも好適に用いることができる。
また、シクロオレフィンポリマーを用いる場合、公知のシクロオレフィンポリマーを用いることができ、特定のリタデーションを有するシクロオレフィンポリマーを用いることが好ましい。シクロオレフィンフィルムの場合には、シクロオレフィンポリマーを溶融し、シート状に押し出し成型した無配向のシートをガラス転移温度以上の温度において一方向（必要によっては二方向）に延伸して、特定のリタデーションを有する配向シクロオレフィンポリマーフィルムを得ることができる。
特定のリタデーションを有する配向シクロオレフィンポリマーとしては、市販のものを用いてもよく、日本ゼオン社製、ゼオノアフイルムＺＤ１４などを挙げることができる。
無配向のシクロオレフィンポリマーは市販のものや溶液製膜によって作製したものも好適に用いることができる。
また、ポリエステルフィルムの場合には、ポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンターで横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
具体的には、横延伸温度は８０〜１３０℃が好ましく、特に好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、特に好ましくは３．０〜５．５倍である。延伸倍率が高すぎると、得られるフィルムの透明性が低下しやすくなる。一方、延伸倍率が低すぎると延伸張力も小さくなるため、得られるフィルムの複屈折が小さくなり、リタデーションが小さくなるので好ましくない。続く熱処理において、処理温度は１００〜２５０℃が好ましく、特に好ましくは１８０〜２４５℃である。
ポリマー層のリタデーションを特定範囲に制御する為には、延伸倍率や延伸温度、フィルムの厚みを適宜設定することにより行なうことができる。例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、フィルムの厚みが厚いほど高いリタデーションを得やすくなる。逆に、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、フィルムの厚みが薄いほど低いリタデーションを得やすくなる。
ポリマー層は、表面改質層を有することが好ましい。表面改質層とは、ポリマー層の表層に形成される層であって、非晶度（非結晶度／結晶度）が５％以上の層のことをいう。表面改質層は、ポリマー層の表面から４０〜３３０ｎｍの範囲内のいずれかの深さまでの厚みを有している。表面改質層は、３３０ｎｍの範囲内のいずれかの深さまでの厚みを有していることが好ましく、５０〜２２０ｎｍの範囲内であることがより好ましく、５０〜２００ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。
非晶度は、非結晶部と結晶部の合計に占める非結晶部の割合（非結晶部の含有率）を示したものである。非結晶部はゴーシュ型の結晶分子を、結晶部はトランス型の結晶分子を多く含む。このため、非結晶部と結晶部の含有率は、結晶分子の含有率によって算出することができる。具体的には、ＡＴＲ−ＩＲ法によって表面改質層のスペクトル得ることによって、非結晶部と結晶部の含有率を算出することができる。非晶度（１１７５ｃｍ-1）を結晶度のスペクトル（１３４１ｃｍ-1）のスペクトルで割った値を非晶度（非結晶度／結晶度）とした。
ポリマー層の表面改質層の非晶度（非結晶度／結晶度）は５％以上であることが好ましく、５〜８．３％であることがより好ましく、５〜８％であることがさらに好ましい。表面改質層の非晶度を上記範囲内とすることにより、ポリマー層の黄変を防ぎながら、オリゴマーブロック性と密着性等を上げることができる。
表面改質層の厚さは、ポリマー層表面にオスミウム染色を施し、断面ＴＥＭ観察することで求めることができる。色度がＬ＝３０以下の部分を黒く染まっているといい、改質されている部分である。未処理の場合では、ほとんど何も見えないが、グロー放電処理を行うと表面が黒く染まる。
ポリマー層をグロー放電処理することによって、ポリエステルフィルムの表面に上記のような表面改質層を形成することが好ましく、Ｔｇ以上に加熱し、グロー放電処理することによって、ポリエステルフィルムの表面に上記のような表面改質層を形成することがより好ましい。
ポリマー層としては、保護層または易接着層、およびハードコート層との密着性を付与するために、ポリマー層の表面にグロー放電処理を施してもよい。
グロー放電処理は、真空プラズマ処理またはグロー放電処理とも呼ばれる方法で、低圧雰囲気の気体(プラズマガス)中での放電によりプラズマを発生させ、基材表面を処理する方法である。本発明の処理で用いる低圧プラズマはプラズマガスの圧力が低い条件で生成する非平衡プラズマである。本発明の処理は、この低圧プラズマ雰囲気内に被処理フィルムを置くことにより行われる。
本発明のグロー放電処理において、プラズマを発生させる方法としては、直流グロー放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方法を利用することができる。放電に用いる電源は直流でも交流でもよい。交流を用いる場合は３０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ程度の範囲が好ましい。交流を用いる場合には５０又は６０Ｈｚの商用の周波数を用いてもよいし、１０〜５０ｋＨｚ程度の高周波を用いてもよい。また、１３．５６ＭＨｚの高周波を用いる方法も好ましい。
本発明のグロー放電処理で用いるプラズマガスとして、酸素ガス、窒素ガス、水蒸気ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の無機ガスを使用することができ、特に、酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスが好ましい。具体的には、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを使用することが望ましい。酸素ガスとアルゴンガスを用いる場合、両者の比率としては、分圧比で酸素ガス：アルゴンガス＝１００：０〜３０：７０位、より好ましくは、９０：１０〜７０：３０位が好ましい。また、特に気体を処理容器に導入せず、リークにより処理容器にはいる大気や被処理物から出る水蒸気などの気体をプラズマガスとして用いる方法も好ましい。
プラズマガスの圧力としては、非平衡プラズマ条件が達成される低圧が必要である。具体的なプラズマガスの圧力としては、０．００５〜１０Ｔｏｒｒ、より好ましくは０．００８〜３Ｔｏｒｒ程度の範囲が好ましい。プラズマガスの圧力が０．００５Ｔｏｒｒ未満の場合は接着性改良効果が不充分な場合があり、逆に１０Ｔｏｒｒを超えると電流が増大して放電が不安定になる場合がある。
プラズマ出力としては、処理容器の形状や大きさ、電極の形状などにより一概には言えないが、１００〜１００００Ｗ程度、より好ましくは、２０００〜１００００Ｗ程度が好ましい。
本発明のグロー放電処理の処理時間は０．０５〜１００秒、より好ましくは０．５〜３０秒程度が好ましい。処理時間が０．０５未満の場合には接着性改良効果が不充分な場合があり、逆に１００秒を超えると被処理フィルムの変形や着色等の問題が生じる場合がある。
本発明のグロー放電処理の放電処理強度はプラズマ出力と処理時間によるが、０．０１〜１０ｋＶ・Ａ・分／ｍ2の範囲が好ましく、０．１〜７ｋＶ・Ａ・分／ｍ2がより好ましい。
放電処理強度を０．０１ｋＶ・Ａ・分／ｍ2以上とすることで充分な接着性改良効果が得られ、１０ｋＶ・Ａ・分／ｍ2以下とすることで被処理フィルムの変形や着色といった問題を避けることができる。
本発明のグロー放電処理では、あらかじめ被処理フィルムであるポリマー層を加熱しておくことが好ましい。ポリエステルフィルムの表面は、Ｔｇ以上の温度でグロー放電処理が施され、その後にグロー放電処理が施されることが好ましい。すなわち、グロー放電処理時において、ポリマー層の表面はＴｇ（６９℃）以上に加熱されていることが好ましい。ポリマー層の表面はＴｇ〜２００℃の温度範囲内に加熱されていることがより好ましく、Ｔｇ〜１５０℃の温度範囲内に加熱されていることがさらに好ましい。上記温度範囲内に加熱してからグロー放電処理を施すことにより、ポリマー層にオリゴマーが析出することを防ぐことができ、ポリマー層が白化することを防止できる。さらに、上記温度範囲内に加熱してからグロー放電処理を施すことにより、ポリマー層が黄変することを抑制することができる。これにより、干渉ムラが解消され、ｂ*値およびヘイズ値が小さいタッチパネル用積層体を得ることができる。
真空中で被処理フィルムの温度を上げる具体的方法としては、赤外線ヒーターによる加熱、熱ロールに接触させることによる加熱方法などが挙げられる。
本発明のタッチパネル用積層体のｂ*値は、−２．０〜２．０であることが好ましく、−１．５〜１．５であることがより好ましく、−１．２〜１．２であることがさらに好ましい。なお、本発明では黄色味の着色度合をＣＩＥ１９７６のＬ*ａ*ｂ*表色系におけるｂ*値で表す。
前記ポリマー層のｂ*値は、ｂ*＝０．００６ｔ＋０．５５以下であることが好ましい。ｂ*値はｂ*＝０．００６ｔ＋０．３８以下であることが好ましく、更にｂ*＝０．００６ｔ＋０．２５以下であることが更に好ましい。尚、上記式において、ｔは前記ポリマー層の厚さ（μｍ）を示す。ｂ*値を上記式以下にすることにより、前記ポリマー層の黄変を防ぐことができ、ポリエステルフィルムの透明性を高めることができる。
本発明では、前記ポリマー層のｂ*値は１．７５以下であることが好ましく、１．６以下であることがより好ましく、１．４５以下であることがさらに好ましい。本発明で用いられる前記ポリマー層の膜厚は特に限定されるものではないが、前記ポリマー層の膜厚が１０〜１００μｍの場合、ｂ*値は１．２以下であることが好ましく、１．０以下であることがより好ましく、０．９以下であることがさらに好ましい。また、前記ポリマー層の膜厚が１００〜１５０μｍの場合、ｂ*値は１．４５以下であることが好ましく、１．３以下であることがより好ましく、１．１５以下であることがさらに好ましい。さらに、前記ポリマー層の膜厚が１５０〜２００μｍの場合、ｂ*値は１．７５以下であることが好ましく、１．６以下であることがより好ましく、１．４５以下であることがさらに好ましい。
さらに、グロー放電処理が施される前のｂ*値とグロー放電処理が施された後のｂ*値の変化量（Δｂ）が０．３以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましく、０．１以下であることがさらに好ましい。グロー放電処理の前後でｂ*値の変化が少ないことは、グロー放電処理において黄変が起きていないことを示す。本発明では、グロー放電処理の前後におけるｂ*値の変化量を上記上限値以下とすることにより、黄変が抑制された前記ポリマー層を得ることができる。
また、本発明のタッチパネル用積層体のヘイズ値は、２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
積層フィルムのｂ*値およびヘイズ値を、上記範囲内とすることにより、本発明のタッチパネル用積層体をタッチパネル等の表示装置に組み込んだ場合に、画像の色づきを少なくすることができ、視認性を良好なものとすることができる。
ポリマー層に用いられる高分子フィルムは、３０００〜１２０００ｎｍの位相差（面内方向のリタデーション、以下Ｒｅとも言う）を有することが好ましく、４５００〜１００００ｎｍの位相差を有することがより好ましく、６０００〜８０００ｎｍの位相差を有することがさらに好ましい。ポリマー層リタデーションが３０００ｎｍ未満では、サングラスなどの偏光板を通して画面を観察した時、強い干渉色を呈するため、包絡線形状が光源の発光スペクトルと相違し、良好な視認性を確保することができない。一方、ポリマー層リタデーションが１２０００ｎｍを超えると、それ以上のポリマー層リタデーションを有する高分子フィルムを用いたとしても更なる視認性の改善効果は実質的に得られないばかりか、フィルムの厚みも相当に厚くなり、工業材料としての取り扱い性が低下するので好ましくない。
ポリマー層に用いられる高分子フィルムのＲｅは、λ／４板として機能させることができる範囲とすることが、偏光サングラスなどの偏光板を介したときの表示画像の視認性の観点から好ましい。
この場合のポリマー層に用いられる高分子フィルムのＲｅは、１００〜２００ｎｍであることが好ましく、１２０〜１８０ｎｍであることがより好ましく、１３０〜１６０ｎｍであることがさらに好ましい。
ポリマー層に用いられる高分子フィルムのＲｅがこの範囲外になると、液晶表示装置の表示画像の偏光状態を円偏光にすることができず、偏光サングラスなどの偏光板を介したときの表示画像が、偏光サングラスの角度によって視認性が著しく悪化する。
また、ポリマー層の面内方向のリタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）は、好ましくは０．２００以上、より好ましくは０．５００以上、さらに好ましくは０．６００以上である。上記面内方向のリタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が大きいほど、偏光サングラスで視認した場合の虹ムラを解消することができる。
一方、ポリマー層の面内方向のリタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）は、好ましくは１．２以下、より好ましくは１．０以下である。１．２より大きくすると、高分子フィルムをより延伸する必要があり、強度が劣ることがある。
リタデーション（Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ））は各々、波長λにおける面内方向のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１１）及び式（１２）よりＲｔｈを算出することもできる。
Figure 2014178922
注記：
式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示すると、セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）などが挙げられる。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨによりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出することができる。なお、測定波長は特に断りがない限り５５０ｎｍである。
高分子フィルムのリタデーションを上記範囲に設定することで、比較的簡便な構成のみで透過光のスペクトルの包絡線形状を光源の発光スペクトルに近似させることが可能となる。すなわち、従来技術では不連続な発光スペクトルを有する光源を用いるがために、極めて高いリタデーション（１０００００ｎｍ超）を有する複屈折体を用いなければ、視認性の改善ができなかったところ、連続的な発光スペクトルを有するという白色ＬＥＤ光源の性質を利用して上記のように比較的簡便な構成で視認性を向上させるという特異な効果を奏する。
ポリマー層の厚みとしては、２０〜１５０μｍであることが好ましいく、３０〜１２５μｍであることがより好ましく、５０〜１００μｍであることがさらに好ましい。２０μｍを未満であると、高分子フィルムの力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下する。一方、１５０μｍを超えると、高分子フィルムは非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下することがある。
ポリマー層の屈折率は、使用する材料により値は異なるが、１．６０〜１．７５であることが好ましく、１．６２〜１．６８であることがより好ましく、１．６４〜１．６７であることが特に好ましい。屈折率が上記範囲内であれば、タッチパネル用積層体の支持体としての優れた剛性を示すとともに、透明性に優れたタッチパネル用積層体を得ることができる。なお、本発明において屈折率とは波長６６０ｎｍにおける測定値を表す。
ポリマー層は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で他の添加剤を含んでいてもよく、酸化防止剤や紫外線防止剤が例示される。
＜ハードコート層＞
本発明のタッチパネル用積層体は、ポリマー層の保護層が形成されている面の反対側の面にハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層を有することで、ガラスの飛散性だけでなく、ヘイズ、透明性、鉛筆硬度などを向上させることができる。
なお、ハードコート層は、ガラス基板の透明導電層が形成されている面の反対側にも有していてもよい。
前記ハードコート層が、硬化性樹脂またはアルコキシシランの加水分解縮合物を含むことが好ましい。
前記ハードコート層の好ましい態様の一つとしては、耐薬品性、耐傷性に強い硬化性樹脂から前記ハードコート層が主として（５０質量％以上）構成されるものであることが好ましい。ハードコート層は、紫外線や電子線を照射することによって硬化性樹脂を硬化させて形成してもよく、アルコキシシランの加水分解物を縮合させ硬化させて形成してもよい。
紫外線や電子線を照射することによって硬化性樹脂を硬化させて形成する場合、硬化性樹脂としては、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂などあるが、好ましくは、膜形成作業が容易で且つ鉛筆硬度を所望の値に容易に高めやすい電離放射線硬化型樹脂である。また、アルコキシシランの加水分解物を縮合させることにより形成する場合、アルコキシシランの加水分解物を含む水性組成物を塗布して乾燥させることにより形成することができる。このため、有機溶剤等を用いることなくハードコート層を形成することができ、環境への負荷を大幅に低減することができる。
＜＜電離放射線硬化型樹脂＞＞
ハードコート層の形成に用いる電離放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系官能基を持つものが好ましく、特にポリエステルアクリレートまたはウレタンアクリレートが好ましい。ポリエステルアクリレートは、ポリエステル系ポリオールのオリゴマーの（メタ）アクリレートから構成される。また、前記ウレタンアクリレートは、ポリオール化合物とジイソシアネート化合物からなるオリゴマーをアクリレート化したものから構成される。なお、アクリレートを構成する単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２エチルヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレートなどがある。
ハードコート層の硬度をさらに高めたい場合は、多官能モノマーを併用することができる。具体的な多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなど例示できる。
ハードコート層の形成に使用するポリエステル系オリゴマーとしては、アジピン酸とグリコール（エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリブチレングリコールなど）やトリオール（グリセリン、トリメチロールプロパンなど）セバシン酸とグリコールやトリオールとの縮合生成物であるポリアジペートトリオールや、ポリセバシエートポリオールなどが例示できる。なお、上記脂肪族のジカルボン酸の一部または全てを他の有機酸で置換してもよい。この場合、他の有機酸としては、イソフタル酸、テレフタル酸または無水フタル酸などが、ハードコート層に高度の硬度を発現することから、好ましい。
ハードコート層の形成に使用するポリウレタン系オリゴマーは、ポリイソシアネートとポリオールとの縮合生成物から得ることができる。具体的なポリイソシアネートとしては、メチレン・ビス（ｐ―フェニレンジイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネート・ヘキサントリオールの付加体、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートトリメチロ―ルプロパンのアダクト体、１，５―ナフチレンジイソシアネート、チオプロピルジイソシアネート、エチルベンゼン―２，４―ジイソシアネート、２，４―トリレンジイソシアネート二量体、水添キシリレンジイソシアネート、トリス（４―フェニルイソシアネート）チオフォスフエートなどが例示でき、また、具体的なポリオールとしては、ポリオキシテトらメチレングリコールなどのポリエーテル系ポリオール、ポリアジペートポリオール、ポリカーボネートポリオールなどのポリエステル系ポリオール、アクリル酸エステル類とヒドロキシエチルメタアクリレートとのコポリマーなどが例示できる。
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂として、紫外線硬化型樹脂を使用するときは、これらの樹脂中にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミフィラベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステルまたはチオキサントン類などを光重合開始剤として、また、ｎ―ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホスフィンなどを光増感剤として混合して使用するのが好ましい。
なお、ウレタンアクリレートは、弾性や可撓性に富み、加工性（折り曲げ性）に優れる反面、表面硬度が不足し、２Ｈ以上の鉛筆硬度のものが得難い。これに対して、ポリエステルアクリレートは、ポリエステルの構成成分の選択により、極めて高い硬度のハードコート層を形成することができる。そこで、高硬度と可撓性とを両立しやすいことから、ウレタンアクリレート６０〜９０質量部に対して、ポリエステルアクリレート４０〜１０質量部を配合させたハードコート層が好ましい。
＜＜アルコキシシラン＞＞
ハードコート層をアルコキシシランの加水分解物を縮合させることにより形成する場合、ハードコート層の厚みは、水性組成物の塗布量を調整することにより制御することができる。
本発明に用いられるハードコート層の他の好ましい態様の一つでは、前記ハードコート層がアルコキシシランの加水分解物を縮合させることにより形成される。アルコキシシランは加水分解性基を有し、この加水分解性基が酸性の水溶液中で加水分解されることにより、シラノールが生成され、シラノール同士が縮合することによって、アルコキシシランの加水分解縮合物（オリゴマー）が生成される。すなわち、ハードコート層には、アルコキシシランの加水分解縮合物が含まれる。
なお、ハードコート層には、アルコキシシランの加水分解縮合物の他に、アルコキシシラン、またはその加水分解物が一部含まれていてもよい。
本発明に用いられるハードコート層は、アルコキシシランを含む水性組成物を塗布して乾燥させることにより形成することができる。水性組成を使用することは、ＶＯＣ（ｖｏｌａｔｉｌｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）による環境汚染を低減する観点からも好ましい。
また、アルコキシシランとして、エポキシ基含有アルコキシシランおよびエポキシ基非含有アルコキシシランを用いることが好ましい。エポキシ基含有アルコキシシランおよびエポキシ基非含有アルコキシシランは各々、加水分解性基を有するため、この加水分解性基が酸性の水溶液中で加水分解され、生成されるシラノールが縮合することによってエポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランの加水分解縮合物が生成される。すなわち、本発明に用いられるハードコート層には、エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランの加水分解縮合物が含まれる。
ハードコート層を形成するための水性組成物中において、全アルコキシシランに対して、エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は２０〜８５質量％であることが好ましい。エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は、２０質量％以上であればよく、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましい。また、エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は、８５質量％以下であればよく、８０質量％以下であることが好ましく、７５質量％以下であることがより好ましい。全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合を上記範囲内とすることにより、水性組成物の安定性を高めることができ、さらに、アルカリ耐性の強いハードコート層を形成することができる。
エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基を有するアルコキシシランである。エポキシ基含有アルコキシシランとしては、１分子中に１つ以上エポキシ基を有するものであればよく、エポキシ基の数は特に限定されない。エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基の他に、さらに、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基など基を有していても良い。
本発明で用いるエポキシ基含有アルコキシシランとしては、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。市販品としては、ＫＢＥ−４０３（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランである。エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランであればよく、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基などの基を有していても良い。
エポキシ基非含有アルコキシシランは、テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランであるか、これらの混合物であることが好ましい。テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランの混合物であることが好ましく、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランを混合して含有することにより、ハードコート層を形成した際に、適度な柔軟性を有しつつも、十分な硬度を得ることができる。
エポキシ基非含有アルコキシシランが、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランの混合物である場合、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランのモル比は、２５：７５〜８５：１５であることが好ましく、３０：７０〜８０：２０であることがより好ましく、３０：７０〜６５：３５であることがさらに好ましい。モル比を上記範囲内とすることにより、アルコキシシランの重合度を所望の範囲内に制御することや加水分解速度及びアルミキレートの溶解性の制御が容易となる。
テトラアルコキシシランは、４官能のアルコキシシランであり、各アルコキシ基の炭素数が１〜４のものがより好ましい。中でも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが特に好ましく用いられる。炭素数を４以下とすることにより、酸性水と混ぜたときのテトラアルコキシシランの加水分解速度が遅くなりすぎることがなく、均一な水溶液にするまでの溶解に要する時間がより短くなる。これにより、ハードコート層を製造する際の製造効率を高めることができる。市販品としては、ＫＢＥ−０４（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
トリアルコキシシランは、下記一般式（１）で表される３官能のアルコキシシランである。
ＲＳｉ（ＯＲ1）3 …（１）
ここで、Ｒはアミノ基を含まない炭素数が１〜１５の有機基、Ｒ1はメチル、エチル基等の炭素数４以下のアルキル基である。
一般式（１）で表される３官能のアルコキシシランは、アミノ基を官能基として含まない。つまり、この３官能のアルコキシシランは、アミノ基を持たない有機基Ｒを有している。Ｒがアミノ基を有する場合は、４官能のアルコキシシランと混合して加水分解すると、生成するシラノール同士で脱水縮合が促進されてしまう。このため、水性組成物が不安定となり好ましくない。
一般式（１）のＲは、炭素数が１〜１５の範囲であるような分子鎖長を持つ有機基であれば良い。炭素数を１５以下とすることにより、ハードコート層を形成した際の柔軟性が過度に大きくならず、十分な硬度を得ることができる。Ｒの炭素数を上記範囲内とすることにより、脆性がより改善されたハードコート層を得ることができる。また、支持体等の他のフィルムとハードコート層の密着性を高めることができる。
さらに、Ｒで示す有機基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を有しても良い。有機基がヘテロ原子を持つことにより、他のフィルムとの密着性をより向上させることができる。
トリアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランを挙げることができる。中でも、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシランは特に好ましく用いられる。市販品としては、ＫＢＥ−１３（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
（金属錯体）
本発明に用いるハードコート層は、硬化剤として金属錯体を含んでいてもよい。金属錯体としては、Ａｌ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｈｆ及びＺｒよりなる金属錯体が好ましく、これらを併用することもできる。
これらの金属錯体は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン、アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。
金属錯体の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）、マンガンアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート、銅アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナート、チタンオキシアセチルアセトナートが挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトナートであり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムキレート錯体であるアルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が特に好ましい。市販品としては、アルミキレートＡ（Ｗ）、アルミキレートＤ、アルミキレートＭ（川研ファインケミカル（株）製）などが挙げられる。
金属錯体が占める割合は、エポキシ基含有アルコキシシランに対して、１７〜７０モル％であることが好ましい。金属錯体が占める割合は、１７％以上であれば良く、２０％以上であることがより好ましい。また、金属錯体の含有率は、７０％以下であれば良く、６５％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。
本発明では、金属錯体を上記下限値以上含むことにより、ハードコート層を形成した際に優れたアルカリ耐性を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、水性水溶液中の分散性を良好とし、かつ、製造コストを抑えることができる。
（無機微粒子）
また、本発明に用いるハードコート層は、無機微粒子を含有していてもよい。無機微粒子は、ハードコート層の屈折率を好ましい範囲に調節する目的と、ハードコート層のアルカリ耐性を高める目的で添加される。
無機微粒子としては、透明で絶縁性の金属酸化物が好ましい例として挙げられる。例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタンからなる微粒子を用いることが好ましく、特に、アルコキシシランとの架橋の観点からシリカ微粒子を用いることが好ましい。
シリカ微粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素又はその水和物が水に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。特に限定されないが、具体的にはスノーテックスＯ−３３などの日産化学工業（株）製のスノーテックスシリーズなどが上げられる。コロイダルシリカの平均粒子径は３ｎｍ〜５０ｎｍであり、４ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、４ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあることがより好ましく、５ｎｍ〜３５ｎｍの範囲にあることが特に好ましい。
なお、ここでの平均粒子径は、分散した無機微粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径（平均一次粒子径）とする。無機微粒子の平均粒子径は、３００個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出することができる。
なお、コロイダルシリカは、水性組成物中に添加される時点でのｐＨが２〜７の範囲に調整されていることがより好ましい。このｐＨが２〜７であると、２よりも小さいあるいは７よりも大きい場合に比べて、アルコキシシランの加水分解物であるシラノールの安定性がより良好で、このシラノールの脱水縮合反応が速く進行することによる塗布液の粘度上昇を抑制することができる。
無機微粒子を含む場合、水性組成物中に含まれる全固形分に対して無機微粒子が占める割合（単位：質量％）をｘとすると、０＜ｘ≦８０である。ｘは１以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましい。また、ｘは、８０以下であれば良く、７０以下であることが好ましく、６５以下であることがより好ましい。水性組成物中において無機微粒子が占める割合を上記範囲とすることにより、ハードコート層を形成した際により高いアルカリ耐性を得ることができる。
水性組成物中に含まれる全固形分に対して、無機微粒子が占める割合（単位：質量％）をｘとして、全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合（単位：質量％）をｙすると、ｙ≧ｘ−５であることが好ましい。さらに、ｙ≧ｘであることがより好ましい。ｙとｘの関係を上記範囲とすることにより、より高い耐アルカリ耐性を得ることができ、アルカリ溶液に浸漬させた際のヘイズ値の変化を抑えることができる。さらに、水性組成物の安定性を高めることができる。
この無機微粒子は、平均アスペクト比は、３０〜５０００であることが好ましい。無機微粒子のアスペクト比は、３０以上であれば良く、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましく、３００以上がさらに好ましい。また、無機微粒子のアスペクト比は、５０００以下であれば良く、３０００以下が好ましく、１５００以下がより好ましく、８００以下がさらに好ましい。
本発明では、無機微粒子の平均アスペクト比を上記範囲内とすることにより、より高硬度なハードコート層を形成することができる。
ここで、平均アスペクト比とは、無機微粒子の長軸方向に直交する厚み方向における無機微粒子の平均短径をｒ（ｎｍ）として、無機微粒子の長軸方向における無機微粒子の平均長径をＬ（ｎｍ）とした際のＬ／ｒ比を意味する。すなわち、アスペクト比は、水性組成物中に含有される無機微粒子を観察し、無機微粒子の長径を短径で割ることにより算出することができる。
本発明では、無機微粒子の平均短径ｒ（ｎｍ）は、１〜２０ｎｍであることが好ましい。平均短径ｒ（ｎｍ）は、１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましい。平均短径ｒ（ｎｍ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、平均長径Ｌ（ｎｍ）は、１００〜１００００ｎｍであることが好ましい。平均長径Ｌ（ｎｍ）は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、３００ｎｍ以上であることがより好ましく、７００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、平均長径Ｌ（ｎｍ）は、１００００ｎｍ以下であることが好ましく、８０００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。無機微粒子の短径および長径を上記範囲内とすることにより、無機微粒子の平均アスペクト比を好ましい範囲内にすることができる。
上述した無機微粒子の長さは、光学顕微鏡や電子顕微鏡を用いて測定することができる。例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ハードコート層の縦方向に垂直な断面と、縦方向に平行な断面に存在する長径が１００ｎｍ以上の任意の無機粒子を１００個選択し、その無機粒子の長径と短径を計測し、アスペクト比を求めることができる。１００個の無機粒子毎に長径と短径を計測し、それらアスペクト比から平均のアスペクト比を算出することができる。
（紫外線吸収剤）
ハードコート層には、紫外線吸収剤を含有させてもよい。これによって、積層フィルムおよび着色剤（特に染料系）の紫外線劣化を防止し、長期間視認性と防爆性を保持することができる。紫外線吸収剤の種類は特定されない。添加量は、ハードコート層を形成する樹脂に対し、０．１〜１０質量％が好ましい。０．１質量％以上とすることにより、紫外線劣化防止効果が十分に発揮され、１０質量％以下とすることにより、耐摩耗性や耐擦傷性の低下をより効果的に抑制できる。
添加方法は溶剤に分散して使用することが好ましい。
（その他の添加剤）
さらにハードコート層には、塗膜表面の摩擦を軽減したり、塗布性をより向上する目的で界面活性剤、すべり剤、マット剤を添加しても良い。
また、顔料や染料、その他微粒子等を分散させることによってハードコート層を着色しても良い。さらに、耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤や酸化防止剤等を添加しても良い。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、パイオニンＤ−６５１２、Ｄ−６４１４、Ｄ−６１１２、Ｄ−６１１５、Ｄ−６１２０、Ｄ−６１３１、Ｄ−６１０８−Ｗ、Ｄ−６１１２−Ｗ、Ｄ−６１１５−Ｗ、Ｄ−６１１５−Ｘ、Ｄ−６１２０−Ｘ（竹本油脂（株）製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ナロアクティーＣＬ−９５、ＨＮ−１００（三洋化成工業（株）製）等が挙げられる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）、サンデッドＢＬ（三洋化成工業（株）製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は、ハードコート層の全質量に対して、０．００１質量％〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜１．０質量％である。
すべり剤としては、脂肪族ワックスを含有させることができる。脂肪族ワックスの具体例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスパルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス、フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリプロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックスを挙げることができる。この中でも、ハードコート層や粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルバナワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスが特に好ましい。これらは環境負荷の低減が可能であることおよび取扱いのし易さから水分散体として用いることも好ましい。市販品としては例えばセロゾール５２４（中京油脂（株）製）などが挙げられる。
マット剤としては、有機または無機微粒子のいずれも使用することができる。例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリコーン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等のポリマー微粒子や、シリカ、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム等の無機微粒子を用いることができる。これらの中でも、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリカは、すべり性改良効果やコストの観点から好ましく用いられる。
これらの粒子は、粒子単体で用いてもよく、コロイダルシリカのように、水等の分散媒に分散したコロイドとして用いてもよい。市販品としては、例えばスノーテックスＸＬ（日産化学工業（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ２５０（日本触媒（株）製）などが挙げられる。また、マット剤は２種類以上含んでいてもよい。
ハードコート層の厚さは特に限定されないが、１〜１５μｍの範囲が好ましい。
ハードコート層の屈折率は、１．５０〜２．１０が好ましく、１．６０〜２．００がより好ましく、１．６２〜１．９５がさらに好ましい。
＜易接着層＞
本発明のタッチパネル用積層体は、保護層とポリマー層との間、およびポリマー層とハードコート層との間の少なくとも一方に易接着層を有していてもよい。
易接着層の屈折率ｎは、隣接する層の屈折率ｎｐに対し、｜ｎ−ｎｐ｜≦０．０２であることが好ましい。即ち、保護層と易接着層の屈折率との屈折率差、ポリマー層の屈折率と易接着層の屈折率との屈折率差、ポリマー層の屈折率と易接着層の屈折率との屈折率差、ハードコート層の屈折率と易接着層の屈折率との屈折率差のうち、少なくとも１つが０．０２以下であることが好ましく、０．０１５以下であることがより好ましく、０．０１以下であることがさらに好ましい。本発明に用いられる易接着層の屈折率を上記の範囲とすることで、各層間の反射を防止でき、干渉ムラの発生を低減することができる。前記保護層と前記ポリマー層との間に有する易接着層の屈折率と、該易接着層に隣接する前記保護層および前記ポリマー層の屈折率との屈折率差が、０．０２以下であることが好ましい。また、前記ポリマー層と前記ハードコート層との間に有する易接着層の屈折率と、該易接着層に隣接する前記ポリマー層および前記ハードコート層の屈折率との屈折率差が、０．０２以下であることが好ましい。
本発明に用いられる易接着層の屈折率ｎは、具体的には１．６３以上１．６９以下であることが好ましく、１．６３以上１．６６以下であることがより好ましい。上記範囲とすることで、他の層に対して屈折率を調整しやすくすることができる。
本発明に用いられる易接着層の厚さは２００ｎｍ以下である。本発明に用いられる易接着層の厚さは、求められる光学性能や易接着性等により決定される。本発明に用いられる易接着層の厚さは５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましい。本発明に用いられる易接着層の厚さを上記範囲とすることで、易接着層が易接着層として機能する際に易接着性を高めることができる。また、本発明に用いられる易接着層の厚さは１８０ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。本発明に用いられる易接着層の厚さを上記範囲とすることで、易接着層の面状をより良好な状態とすることができ、また、干渉ムラを抑制できる。
＜＜ナフタレン骨格を有するポリエステル＞＞
本発明に用いられる易接着層は、ナフタレン骨格を有するポリエステルを含むことが好ましい。
ナフタレン骨格を有するポリエステルとは、ポリエステルを構成するモノマーとしてナフタレン骨格を有するモノマーが含まれることを表す。ナフタレン骨格を有するモノマーはジカルボン酸性分として含まれることが好ましく、２，６−ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。
ナフタレン骨格を有するポリエステルを構成するモノマーとしては、ナフタレン骨格を有さないモノマーも、屈折率の調整等必要に応じて含むことができる。本発明に用いられるナフタレン骨格を有さないモノマーは、ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられ、ジオール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール等が挙げられる。
ナフタレン骨格を有するモノマーがジカルボン酸成分の場合には、ナフタレン骨格を有するモノマー由来の構造単位がジカルボン酸成分中５０モル％以上１００モル％以下が好ましく、６０モル％以上８０モル％以下がより好ましい。
ナフタレン骨格を有するポリエステルの数平均分子量は１５０００〜４００００であることが好ましく、１７０００〜３００００であることがより好ましく、１８０００〜２５０００であることがさらに好ましい。本発明に用いられるナフタレン骨格を有するポリエステルの数平均分子量を上記範囲内とすることにより、ポリマー層とポリエステルフィルムとの密着性、特に湿熱経時後の密着性を高めることができる。
本発明において、数平均分子量はＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）にて標準物質をポリスチレンとして測定した数平均分子量を表す。
ナフタレン骨格を有するポリエステルの屈折率は１．６０以上１．７５以下であることが好ましく、１．６０以上１．７０以下であることがより好ましい。上記範囲とすることで、易接着層の屈折率を調整する際に、後述の粒子の添加量を少なくすることができ、ポリマー層が易接着層として機能する際の密着性を高めることができる。
ナフタレン骨格を有するポリエステルの、ポリマー層中の含有量は、ポリマー層に含まれる全固形分量に対して、５質量％以上８０質量％以下が好ましく、１０質量％以上６０質量％以下がより好ましい。
＜＜粒子＞＞
本発明に用いられる易接着層は粒子を含んでいてもよい。本発明に用いられる粒子によって、易接着層の屈折率を調整しやすくすることができる。本発明に用いられる粒子は１種類のみでもよく、２種類以上であってもよい。
粒子の屈折率は１．６０以上３．００以下であることが好ましく、１．８０以上２．８０以下がより好ましく、１．９０以上２．６０以下であることがさらに好ましい。上記範囲とすることで、易接着層の屈折率を調整しやすくすることができる。
粒子の平均粒子径は、易接着層の厚みに対して０．６５倍以下であることが好ましい。０．５０倍以下であることがより好ましく、０．４０倍以下であることがさらに好ましい。上記範囲とすることで、易接着層の表面に凹凸が形成されにくくなり、光の散乱を低減することができ、積層フィルムの色味を良好なものとすることができる。下限については特に限定されないが、０．０５倍以上であることが好ましい。
粒子の平均粒子径は、具体的には５ｎｍ以上１３０ｎｍ以下が好ましい。５ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましく、５ｎｍ以上８０ｎｍ以下がさらに好ましい。１３０ｎｍ以下とすることで、光が粒子で散乱される影響が小さくなり、５ｎｍ以上とすることで、粒子同士が凝集せず巨大化しにくくできる。
粒子の平均粒子径は、粒子の水分散物を用いて、レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置 ＬＡ９１０（株式会社 堀場製作所製）を用いて測定し、メジアン径で表記した。
また、本発明の積層体を製造した後に、本発明の積層体の易接着層に含まれる粒子の平均粒子径は、易接着層のみを溶媒に溶解させたのち、易接着層に含まれていた粒子の水分散物を調製してから、上記装置を用いて測定することができる。
粒子は、易接着層の固形分に対して、４０質量％から８０質量％含まれることが好ましい。４５〜７５質量％であることが好ましく、５０〜７０質量％であることがより好ましい。上記範囲とすることで、易接着層の屈折率を調整しやすくするとともに、易接着層から粒子があふれ出さず、ポリマー層の表面の凹凸を形成しにくくできる。
粒子としては、例えば、導電性の金属粒子や金属酸化物粒子等が挙げられ、金属酸化物粒子が好ましい。
導電性の金属粒子としては、アンチモン、セレン、チタン、タングステン、スズ、亜鉛、インジウム等の粒子が挙げられる。
金属酸化物粒子としては、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化チタンのいずれかを主成分として含む粒子を挙げることができる。ここで本発明における酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化チタンのいずれかを主成分として含む粒子とは、粒子に含まれる、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化チタンのいずれかの配合量が８０質量％以上である粒子をいう。
この中でも、酸化錫または酸化ジルコニウムを用いることが好ましい。
酸化錫としては、ＳｎＯ2の組成を持つ酸化錫（ＩＶ）が好ましく用いられる。酸化錫を用いる場合には、酸化錫にアンチモン等をドープしたものを使用すると、導電性を有するために積層フィルムの表面抵抗率を低下させてゴミ等の不純物が付着するのを防止する効果が得られるので好ましい。このようなアンチモンをドープした酸化錫は市販されているものも用いることができ、ＦＳ−１０Ｄ、ＳＮ−３８Ｆ、ＳＮ−８８Ｆ、ＳＮ−１００Ｆ、ＴＤＬ−Ｓ、ＴＤＬ−１（いずれも、石原産業（株）製）等が挙げられる。
一方、タッチパネルの誤動作を防ぐために、導電性を有さない無機酸化物微粒子が好ましく用いられる場合がある。たとえば、酸化錫にアンチモン等をドープせず、表面抵抗を低下させないように作製した酸化錫は好適に用いることができる。
また、リンをドープした酸化錫（例えば、三菱マテリアル電子化成株式会社製、ＥＰ ＳＰＤＬ−２、粒径１３０ｎｍのＰドープＳｎＯ2の水分散液）等が挙げられる。
これらの中でも、本発明では酸化錫として、アンチモンをドープしていない酸化錫を用いることが特に好ましい。
酸化ジルコニウムは、ＺｒＯ2の組成を持ち、例えば、ＮＺＳ−２０Ａ、ＮＺＳ−３０Ａ、ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（いずれも、日産化学工業（株）製）やＳＺＲ−ＣＷ（堺化学工業（株）製）が挙げられ、これらも本発明に好適に用いることができる。
酸化チタンとしては、ＴｉＯ2の組成を持つ酸化チタン（ＩＶ）が好ましく用いられる。酸化チタンは、結晶構造の違いによりルチル型（正方晶高温型）やアナターゼ型（正方晶低温型）等が存在するが、特に限定されるものではない。また、表面処理が施された酸化チタンであっても良い。本発明に用いられる酸化チタンとしては、例えば、ＩＴ−Ｓ、ＩＴ−Ｏ、ＩＴ−Ｗ（いずれも、出光興産（株）製）、ＴＴＯ−Ｗ−５（石原産業（株）製）等が挙げられ、本発明でも好適に用いることができる。
本発明に用いられる粒子の形状は、針状でも球状でもよいが、球状が好ましい。なお、本発明に用いられる粒子の形状が完全な球状ではない場合にも上述の方法で粒子の平均粒子径を測定することができるが、粒子の形状が完全な球状ではない場合であって上記測定方法で測定することが難しい場合は、本発明ではそのような形状の粒子に外接する円の直径をもって粒子径と判断することができる。
（その他の部材）
本発明に用いられる易接着層は、必要に応じて上述した部材以外の部材を含んでいてもよい。以下に例示して説明する。
（（第２のポリエステル））
本発明に用いられる易接着層は、前述したナフタレン骨格を有するポリエステル以外に、第２のポリエステルをさらに含んでいてもよい。
また、易接着層が第２のポリエステルを含む際には、ナフタレン骨格を有するポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ1を８０〜１３０℃とし、第２のポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ2を０〜８０℃とすることも好ましい。
Ｔｇ1とＴｇ2を上記範囲とすることで、ポリマー層と他の層、特に後述するハードコート層との密着性を高めることができる。
Ｔｇ1は、９０〜１２０℃であることが好ましく、１００〜１１５℃であることがより好ましい。また、Ｔｇ2は、２０〜７０℃であることが好ましく、３０〜６０℃であることがより好ましい。
Ｔｇ1−Ｔｇ2は、２０℃以上であることが好ましく、４０℃以上であることがより好ましい。Ｔｇ1−Ｔｇ2を上記下限値以上とすることにより、より効果的に密着性を高めることができる。
本発明において、ガラス転移温度は、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）にて以下のように測定したガラス転移温度を表す。
ポリエステルを１０ｍｇ秤量し、アルミパンにセットする。昇温速度１０℃／ｍｉｎで、室温から３００℃まで昇温し急冷、再び１０℃／ｍｉｎで昇温しＤＳＣ曲線を得る。得られたＤＳＣ曲線が屈曲する温度をガラス転移温度とする。
第２のポリエステルは、酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸およびスルホイソフタル酸ナトリウムのいずれか、またはその複数を含んでいてもよい。
第２のポリエステル樹脂は、ジオール成分としてトリエチレングリコールを含んでもよい。トリエチレングリコールは、第２のポリエステルを用いて形成した易接着層の接着性を高めることができる。
トリエチレングリコールの含有率は、第２のポリエステル樹脂の全ジオール成分に対して１０〜５０モル％である。トリエチレングリコールの含有率は、１０〜５０モル％であれば良く、１５〜４５モル％であることが好ましく、２０〜４０モル％であることがより好ましい。
第２のポリエステルの数平均分子量は、１５０００〜４００００であることが好ましい。第２のポリエステルの数平均分子量は、１７０００〜３００００であることが好ましく、１８０００〜２５０００であることがさらに好ましい。第２のポリエステルの数平均分子量を上記範囲内とすることにより、ポリマー層とポリエステルフィルムとの密着性、特に湿熱経時後の密着性を高めることができる。
易接着層中に含まれるナフタレン骨格を有するポリエステルの含有率をＰとし、第２のポリエステルの含有率をＱとした場合、Ｐ：Ｑ＝２０：８０〜８０：２０であることが好ましく、３０：７０〜７０：３０であることがより好ましく、４０：６０〜６０：４０であることがさらに好ましい。Ｐ：Ｑを上記範囲内とすることにより、良好な接着性を得ることができる。
（（バインダー））
本発明に用いられる易接着層は、ポリエステルフィルムに対する接着性をさらに良好なものにするために、バインダーとしてポリオレフィン、アクリル、ポリウレタンまたはゴム系樹脂等を含有しても良い。
本発明に用いられるバインダーの易接着層中の含有量としては、易接着層の全固形分に対し、０．５質量％以上４０質量％以下が好ましく、１．５質量％以上３０質量％以下がより好ましい。
ポリオレフィンは、極性基を有するポリオレフィンのアイオノマーとして、カルボキシル基等の極性基を有するものが好ましい。有機溶剤に溶解して用いても良いし、水分散物を用いてもよい。ただし、環境負荷が小さいことから、水分散物を用いて水系と付することが好ましい。水分散物としては市販のものを用いればよく、特に限定されるものではないが、本発明に好ましく用いることができるものとしては、例えば、ケミパールＳ７５Ｎ（三井化学（株）製）、アローベースＳＥ１２００、アローベースＳＢ１２００（以上、ユニチカ（株）製）、ハイテックＳ３１１１、Ｓ３１２１（以上、東邦化学（株）製）等が挙げられる。ポリオレフィンは１種類のみ含まれていてもよいし、２種類以上含まれていてもよい。
アクリルとしては、メタクリレートおよびエチルアクリレートおよびその他の共重合成分を含むアクリルが好ましく、特開２０１２−１０１４４９号公報の段落［０１４５］〜［０１４６］に記載のものなどを利用することができる。また、市販品を用いてもよく、具体的には、ダイセルファインケム（株）製ＡＳ−５６３Ａ、（会社名）製（製品名）等が挙げられる。
アクリルは、ガラス転移温度が−５０〜１２０℃であることが好ましく、−３０〜１００℃であることがより好ましい。アクリルの重量平均分子量は３０００〜１００００００のものが好ましい。
ポリウレタンとしては、ポリオール、ポリイソシアネート、鎖長延長剤、架橋剤等で構成されるものが好ましく、特開２０１２−０５６２２０号公報の段落［００３５］に記載のものなどを利用することができる。
（（架橋剤））
本発明に用いられる易接着層は、架橋剤を含有していてもよい。架橋剤の例としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等の架橋剤を挙げることができる。これらの中でも、カルボジイミド系架橋剤およびオキサゾリン系架橋剤が好ましい。
カルボジイミド系架橋剤としては、分子内にカルボジイミド構造を複数個有する化合物が好ましい。このような化合物を含むことにより、ハードコート層を設けたときの、ハードコート層と易接着層の密着性が向上する傾向にある。分子内に複数のカルボジイミド基を有する化合物は、特に制限なく使用することができる。ポリカルボジイミドは、通常、有機ジイソシアネートの縮合反応により合成されるが、この合成に用いられる有機ジイソシアネートの有機基は特に限定されず、芳香族系、脂肪族系のいずれか、あるいはそれらの混合系も使用可能である。反応性の観点からは脂肪族系が特に好ましい。合成原料としては、有機イソシアネート、有機ジイソシアネート、有機トリイソシアネート等が使用される。有機イソシアネートの例としては、特開２００９−２２０３１６号公報の段落［００２４］に記載のものなどを利用することができる。
また、本発明に用いられるカルボジイミド系架橋剤は市販品を用いてもよく、具体的には、日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２等があげられる。
オキサゾリン系架橋剤としては、特開２０１２−２３１０２９号公報の段落［００７８］等に記載のものを用いることができる。また、市販品を用いてもよく、日本触媒化学工業（株）製エポクロスＫ２０１０Ｅ、同Ｋ２０２０Ｅ、同Ｋ２０３０Ｅ、同ＷＳ５００、同ＷＳ７００等が挙げられる。
本発明に用いられる架橋剤は、易接着層の固形分の合計量に対して０．５〜５０質量％の範囲で添加することが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％の範囲で添加することである。添加量を１質量％以上とすることにより、易接着層に含まれる粒子の剥落を効果的に防止ができる。一方で、添加量を５０質量％以下とすると、面状がより向上する傾向にある。架橋剤は２種類以上を含んでいてもよく、２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
（（マット剤））
本発明に用いられる易接着層は、積層フィルムのすべり性改良のためにマット剤を含んでいてもよい。
マット剤としては、有機または無機微粒子のいずれも使用することができる。例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリコーン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等のポリマー微粒子や、シリカ、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム等の無機微粒子を用いることができる。これらの中で、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリカは、すべり性改良効果やコストの観点から好ましい。
これらの粒子は、粒子単体で用いてもよく、コロイダルシリカのように、水等の分散媒に分散したコロイドとして用いてもよい。市販品としては、例えばスノーテックスＸＬ（日産化学工業（株）製）などが挙げられる。
また、マット剤は２種類以上含んでいてもよい。
マット剤の平均粒子径は、０．０３〜１μｍが好ましく、０．０５〜０．５μｍがより好ましい。マット剤の平均粒子径を０．０３μｍ以上とすることにより、すべり性改良効果が効果的に発揮され、平均粒子径を１μｍ以下とすることにより、積層フィルムをタッチパネル等表示装置に組み込んだ際の表示品位の低下を抑制できる傾向にある。
また、マット剤の平均粒子径は、前述のポリマー層が有する粒子の平均粒子径と同様に、易接着層の厚さの０．６５倍以下とすることも好ましい。０．５０倍以下であることがより好ましく、０．４０倍以下であることがさらに好ましい。上記範囲とすることで、易接着層の表面に凹凸が形成されにくくなり、より光の散乱を低減することができ、積層フィルムの色味をさらに良好なものとすることができる。
なお、本発明におけるマット剤の平均粒子径は、前述のポリマー層が有する粒子の平均粒子径と同様の方法により測定される値である。
（（界面活性剤））
本発明に用いられる易接着層は、易接着層の表面にハードコート層等の機能層を塗布等した際の、ハジキ等を軽減するために界面活性剤を有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤を使用することができる。
（（帯電防止剤））
本発明に用いられる易接着層は、易接着層が静電気等により帯電すること防ぐために帯電防止剤を有していてもよい。
帯電防止剤の種類等は特に限定されるものではないが、例えば、ポリアニリン、ポリピロール等の電子伝導系のポリマー、分子鎖中にカルボキシル基やスルホン酸基を有するイオン伝導系ポリマー、導電性微粒子等が挙げられる。これらのうち、特に特開昭６１−２００３３号公報に記載されている導電性酸化錫微粒子は、導電性と透明性の観点から好ましく用いることができる。
帯電防止剤の添加量は、２５℃、相対湿度３０％雰囲気で測定した易接着層の表面抵抗率が、１×１０5Ω以上１×１０13Ω以下となるように添加することが好ましい。表面抵抗率を１×１０5Ω以上とすると帯電防止剤の添加量を低く抑えることができ、積層体の透明性が向上する傾向にあり、１×１０13Ω以下とすることにより、ゴミがより付着しにくくなる傾向にある。
（（すべり剤））
本発明に用いられる易接着層は、層表面の滑性を得るために、すべり剤として脂肪族ワックスを含有させることが好ましい。
脂肪族ワックスの具体例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスパルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス、フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリプロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックスを挙げることができる。この中でも、ハードコート層や粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスが特に好ましい。これらは環境負荷の低減が可能であることおよび取扱のし易さから水分散体として用いることも好ましい。市販品としては例えばセロゾール５２４（中京油脂（株）製）などが挙げられる。
＜反射防止層＞
本発明のタッチパネル用積層体は、透明電極層と保護層との間に反射防止層を有していてもよい。反射防止層を有することで透明電極層のパターン視認性が向上する。
反射防止層としては、屈折率が１．６以上であることが好ましく、１．６５以上であることが好ましい。上限値については特に制限はないが、１．７８以下であることが実用上好ましく、１．７４以下であってもよい。
反射防止層は、金属酸化物粒子、樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られたものではない。
反射防止層は、透明樹脂膜であっても、無機膜であってもよい。
前記無機膜としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報などに用いられている無機膜を用いることができ、これらの文献に記載されている低屈折率材料と高屈折率材料の積層構造の無機膜や、低屈折率材料と高屈折率材料の混合膜の無機膜を用いることが屈折率を制御する観点から好ましい。前記低屈折率材料と前記高屈折率材料は、上記の特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本明細書中に組み込まれる。
前記無機膜は、ＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5の混合膜であってもよく、その場合はスパッタによって形成されたＳｉＯ2とＮｂ2Ｏ5の混合膜であることがより好ましい。
本発明では、反射防止層が、透明樹脂膜であることが好ましい。
前記透明樹脂膜である反射防止層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂膜を単独で用いたり、金属微粒子や金属酸化物微粒子などの微粒子を添加した透明樹脂膜を用いたりすることができる。本発明では、前記反射防止層が粒子を含むことが好ましく、金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。
前記透明樹脂膜である反射防止層に用いられる樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れた組成物が得られる。
前記金属酸化物粒子は、当該粒子を除いた材料からなる樹脂組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましく、具体的には、前記反射防止層が、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率１．６０〜３．００である粒子を含むことが好ましく、屈折率が１．５０以上の粒子がより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子が更に好ましく、１．９０以上の粒子が特に好ましい。
ここで、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
なお、前記金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化錫、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化ジルコニウム粒子が最も好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
透明樹脂膜である反射防止層の透明性の観点から、前記金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
また、前記金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
前記透明樹脂膜である反射防止層における金属酸化物粒子の含有量は、樹脂組成物により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、前記透明樹脂膜である反射防止層の全固形分に対して、５〜９５質量％とすることができ、５〜８０質量％とすることが好ましく、４０〜８０質量％とすることがより好ましい。
前記透明樹脂膜である反射防止層が、ＺｒＯ2粒子およびＴｉＯ2粒子のうち少なくとも一方を有することが、反射防止層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ2粒子がより好ましい。
透明樹脂膜である反射防止層に用いられる樹脂（バインダー、ポリマーという言う）やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無い。前記反射防止層が透明樹脂膜である場合、前記反射防止層の前記粒子以外の成分は、前記保護層と同様のものを用いることができる。
反射防止層に用いられる樹脂（バインダー、ポリマーという言う）としてはアルカリ可溶性樹脂が好ましく、前記アルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落［００２５］、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落［００３３］〜［００５２］に記載のポリマーを用いることができる。
前記重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落［００２３］〜［００２４］に記載の重合性化合物を用いることができる。
前記重合開始剤または重合開始系としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の［００３１］〜［００４２］に記載の重合性化合物を用いることができる。
さらに、反射防止層には、添加剤を用いてもよい。前記添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、特開２００９−２３７３６２号公報の段落［００６０］〜［００７１］に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落［００５８］〜［００７１］に記載のその他の添加剤が挙げられる。
反射防止層の厚みとして、５００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。反射防止層の厚みが５５〜１００ｎｍであることが特に好ましく、６０〜９０ｎｍであることがより特に好ましく、７０〜９０ｎｍであることがさらにより特に好ましい。
［タッチパネル用積層体の製造方法］
本発明のタッチパネル用積層体の製造方法は、本発明のタッチパネル用積層体であって、ガラス基板と透明電極層を有する透明電極層付き前面板の該透明電極層側の表面に対し、保護層とポリマー層と、をこの順で有する積層材料の該保護層側の表面を積層する工程を含み、前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなることを特徴とする。
本発明のタッチパネル用積層体の製造方法は、保護層、およびポリマー層を少なくとも有する積層材料を、透明導電層を形成したガラス基板の透明導電層側に積層することで製造することができる。
＜積層工程＞
前記転写工程は、保護層とポリマー層と、をこの順で有する積層材料を後述する透明電極パターン上に積層する工程である。
この際、保護層とポリマー層とをこの順で有する積層材料を透明電極パターンにラミネート後、ポリマー層を取り除く必要はない。
前記保護層および前記ポリマー層のガラス基板表面への積層（貼り合わせ）は、前記保護層および前記ポリマー層を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
＜ガラス基板の表面処理＞
後の転写工程におけるラミネートによる各層の密着性を高めるために、予めガラス基板（前面板）の非接触面に表面処理を施すことができる。前記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基板予備加熱でも反応を促進できる。
＜透明電極パターンの製膜＞
前記透明電極パターンは、後述する本発明の静電容量型入力装置の説明における、第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６の形成方法などを用いて、ガラス基板上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。
−転写工程−
前記転写工程は、後述する、保護フィルムが除去された転写フィルムの前記第一のエッチング用光硬化性樹脂層および前記第二のエッチング用光硬化性樹脂層（以下、まとめて光硬化性樹脂層ともいう）を透明電極層上に転写する工程である。
この際、転写フィルムの前記光硬化性樹脂層を透明電極パターンにラミネート後、仮支持体を取り除く工程を含む方法が好ましい。
前記光硬化性樹脂層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、前記光硬化性樹脂層を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
＜転写フィルム＞
転写フィルムは、仮支持体と前記第一のエッチング用光硬化性樹脂層または前記第二のエッチング用光硬化性樹脂層を有する。
前記仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも２ 軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
仮支持体の厚みには、特に制限はなく、５〜２００μｍの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に１０〜１５０μｍの範囲が好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、前記仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
＜＜熱可塑性樹脂層＞＞
転写フィルムは、仮支持体と前記第一のエッチング用光硬化性樹脂層または前記第二のエッチング用光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層が設けられることが好ましい。前記熱可塑性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、光硬化性樹脂層を転写して透明積層体を形成すると、転写して形成した各要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
前記熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸（既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。）を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種を含む態様が特に好ましい。
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルまたはそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルまたはそのケン化物との共重合体、ポリ塩化ビニルや塩化ビニルと酢酸ビニルまたはそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂などの有機高分子が挙げられる。
熱可塑性樹脂層の層厚は、３〜３０μｍが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚が３μｍ未満の場合には、ラミネート時の追随性が不十分で、下地表面の凹凸を完全に吸収できないことがある。また、層厚が３０μｍを超える場合には、仮支持体への熱可塑性樹脂層の形成時の乾燥（溶剤除去）に負荷がかかったり、熱可塑性樹脂層の現像に時間を要したりし、プロセス適性を悪化させることがある。前記熱可塑性樹脂層の層厚としては、４〜２５μｍが更に好ましく、５〜２０μｍが特に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性の有機高分子を含む調製液を塗布等して形成することができ、塗布等の際に用いる調製液は溶媒を用いて調製できる。溶媒には、該層を構成する高分子成分を溶解し得るものであれば特に制限なく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、２−プロパノール等が挙げられる。
（熱可塑性樹脂層および光硬化性樹脂層の粘度）
前記熱可塑性樹脂層の１００℃で測定した粘度が１０００〜１００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、光硬化性樹脂層の１００℃で測定した粘度が２０００〜５００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、さらに次式（Ａ）を満たすことが好ましい。
式（Ａ）：熱可塑性樹脂層の粘度＜光硬化性樹脂層の粘度
ここで、各層の粘度は、次のようにして測定できる。大気圧および減圧乾燥により、熱可塑性樹脂層あるいは光硬化性樹脂層用塗布液から溶剤を除去して測定サンプルとし、例えば、測定器として、バイブロン（ＤＤ−ＩＩＩ型：東洋ボールドウィン（株）製）を使用し、測定開始温度５０℃、測定終了温度１５０℃、昇温速度５℃／分および振動数１Ｈｚ／ｄｅｇの条件で測定し、１００℃の測定値を用いることができる。
＜中間層＞
転写フィルムは、前記光硬化性樹脂層と前記熱可塑性樹脂との間に、さらに中間層を含むことが、複数層を塗布する際および塗布後の保存の際における成分の混合を防止する観点から、好ましい。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜が好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し得、生産性が向上する。
転写フィルムは、前記光硬化性樹脂層の表面に保護フィルム（保護剥離層）などを更に設けることが好ましい。
前記中間層および保護フィルムとしては、特開２００６−２５９１３８号公報の段落［００８３］〜［００８７］および［００９３］に記載のものを適宜使用することができる。
［転写フィルムの製造方法］
転写フィルムは、特開２００６−２５９１３８号公報の段落［００９４］〜［００９８］に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。
−露光工程、現像工程、およびその他の工程−
前記露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００３５］〜［００５１］に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
前記露光工程は、透明電極層上に転写された前記光硬化性樹脂層を露光する工程である。
具体的には、前記透明電極層上に形成された前記光硬化性樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスク、熱可塑性樹脂層、および中間層を介してマスク上方から前記光硬化性樹脂層を露光する方法や、マスクを用いずに熱可塑性樹脂層、および中間層を介して前記光硬化性樹脂層を全面露光する方法が挙げられる。
ここで、前記露光の光源としては、前記光硬化性樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
前記現像工程は、露光されたエッチング用光硬化性樹脂層を現像する工程である。
本発明では、前記現像工程は、パターン露光された前記光硬化性樹脂層を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程ではなく、全面露光後に熱可塑性樹脂層や中間層を除去するのみで前記光硬化性樹脂層自体はパターンを形成しない場合も含む現像工程である。
前記現像は、現像液を用いて行うことができる。前記現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。一方、前記光硬化性樹脂層自体はパターンを形成しない場合の現像液は前記非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。また、前記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
前記現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等のいずれでもよい。ここで、前記シャワー現像について説明すると、露光後の前記光硬化性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層や中間層を設けた場合には、現像の前に光硬化性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
前記静電容量型入力装置の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。前記第一のエッチング用光硬化性樹脂層および前記第二のエッチング用光硬化性樹脂層が、熱硬化性透明樹脂層である場合は、ポストベーク工程を行うことが好ましい。
尚、パターニング露光や全面露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクを介した露光でも良いし、レーザー等を用いたデジタル露光でも良い。
［静電容量型入力装置］
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の積層体を有することを特徴とする。
本発明の静電容量型入力装置は、透明電極パターンと、該透明電極パターンに隣接して配置された反射防止層と、該反射防止層に隣接して配置された保護層とを有し、前記反射防止層の屈折率が前記保護層の屈折率よりも高く、前記反射防止層の屈折率が１．６以上であることが好ましい。
以下、本発明の静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
本発明の静電容量型入力装置は、前面板（本発明の積層体における前記ガラス基板に相当する）と、前記前面板の非接触側に少なくとも下記（３）〜（５）、（７）および（８）の要素を有し、本発明の積層体を有することが好ましい。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（４）前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
（５）前記第一の透明電極パターンと前記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
（７） 前記（３）〜（５）の要素の全てまたは一部を覆うように形成された反射防止層
（８） 前記（７）の要素を覆うように隣接して形成された保護層
ここで、前記（７）反射防止層が、本発明の積層体における前記反射防止層に相当する。また、前記（８）保護層が、本発明の積層体における前記保護層に相当する。なお、前記保護層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、前記（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであってもよい、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、さらに下記（６）の要素を有していてもよい。
（６）前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
ここで、前記（７）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前記（８）別の導電性要素を有さない場合は、前記（７）第一の透明電極パターンが、本発明の積層体における透明電極パターンに相当する。
前記（７）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前記（６）別の導電性要素を有さない場合は、前記（３）第一の透明電極パターンおよび前記（７）第二の電極パターンのうち少なくとも一つが、本発明の積層体における透明電極パターンに相当する。
前記（７）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前記（６）別の導電性要素を有する場合は、前記（３）第一の透明電極パターンおよび前記（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本発明の積層体における透明電極パターンに相当する。
前記（７）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前記（６）別の導電性要素を有する場合は、前記（３）第一の透明電極パターン、前記（７）第二の電極パターンおよび前記（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本発明の透明積層体における透明電極パターンに相当する。
本発明の静電容量型入力装置は、さらに必要に応じて（１）マスク層および／または加飾層を有することが好ましい。前記マスク層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、透明電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。前記加飾層は、加飾のために設けられ、例えば白色の加飾層を設けることが好ましい。
前記（１）マスク層および／または加飾層は、前記（２）透明膜と前記前面板の間、前記（３）第一の透明電極パターンと前記前面板の間、前記（４）第二の透明電極パターンと前記前面板の間、または、前記（６）別の導電性要素と前記前面板の間に有することが好ましい。前記（１）マスク層および／または加飾層は、前記前面板に隣接して設けられることがより好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、このような様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された前記反射防止層と、前記反射防止層に隣接して配置された前記保護層を含むことによって、透明電極パターンを目立たなくすることができ、透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。さらに、上述のとおり、前記屈折率１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜と前記反射防止層を用いて、透明電極パターンを挟みこむ構成とすることによって、より透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。
＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、本発明の製造方法によって形成される静電容量型入力装置の構成について説明する。図２は、本発明の静電容量型入力装置の中でも好ましい構成を示す断面図である。図２において静電容量型入力装置は、本発明の積層体を有し、具体的には、前面板１と、加飾層２ａと、マスク層２ｂと、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、透明保護層７と、から構成されている。また、透明保護板７の前面板１側の面の反対側には、図示しないポリマー層を有する。
また、前面板１の非接触面上にはマスク層２ｂが設けられている。マスク層２ｂは、タッチパネル前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
本発明の静電容量型入力装置には、図１に示すように、前面板１の一部の領域（図１においては入力面以外の領域）を覆うようにマスク層２が設けられている。更に、前面板１には、図１に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧によるメカニカルなスイッチを設置することができる。
前面板１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。前記第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、本発明の積層体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができ、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
また、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面およびマスク層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図２においては、第二の透明電極パターンが、前面板１の非接触面およびマスク層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。このように、一定の厚みが必要なマスク層と前面板裏面とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、後述する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
図４を用いて第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４について説明する。図４は、本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図４に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図４における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、前記パッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図４に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
図２において、マスク層２の前面板１とは逆側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の要素である。図２においては、導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。
また、図２においては、各構成要素の全てを覆うように保護層７が設置されている。保護層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と保護層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、本発明の積層体における反射防止層または保護層の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。
＜静電容量型入力装置の製造方法＞
本発明の静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、図５〜９の態様を挙げることができる。図５は、開口部８が形成された強化処理ガラス１１の一例を示す上面図である。図６は、マスク層２が形成された前面板の一例を示す上面図である。図７は、第一の透明電極パターン３が形成された前面板の一例を示す上面図である。図８は、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４が形成された前面板の一例を示す上面図である。図９は、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素６が形成された前面板の一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
静電容量型入力装置の製造方法において、前記反射防止層１２、前記保護層７およびポリマー層を形成する場合、積層材料を用いて、各要素が任意に形成された前記前面板１の表面に前記反射防止層を積層することで形成することができる。
静電容量型入力装置の製造方法においては、マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６の少なくとも一要素が、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する前記感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
前記各要素を、転写フィルムや前記感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、特に前面板の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しがないため基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層／軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
前記マスク層、絶縁層、導電性光硬化性樹脂層を用いた場合の第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターンおよび導電性要素などの永久材を、前記感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、基材にラミネートされた後、必要に応じてパターン様に露光され、ネガ型材料の場合は非露光部分、ポジ型材料の場合は露光部分を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。
（感光性フィルム）
本発明の静電容量型入力装置を製造するときに好ましく用いられる、転写フィルム以外の前記感光性フィルムについて説明する。前記感光性フィルムは、仮支持体と光硬化性樹脂層を有し、仮支持体と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。前記熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、マスク層等を形成すると、光硬化性樹脂層を転写して形成した要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
前記感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
−光硬化性樹脂層以外の層、作製方法−
前記感光性フィルムにおける前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。また、前記感光性フィルムの作製方法としても、転写フィルムの作製方法と同様の方法を用いることができる。
−光硬化性樹脂層−
前記感光性フィルムは、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加物を加える。即ち、マスク層の形成に前記感光性フィルムを用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を含有させる。また、前記感光性フィルムが導電性光硬化性樹脂層を有する場合は、前記光硬化性樹脂層に導電性繊維等が含有される。
前記感光性フィルムがネガ型材料である場合、光硬化性樹脂層には、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系、を含むことが好ましい。さらに、導電性繊維、着色剤、その他の添加剤、などが用いられるがこれに限られたものではない。
−−アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、前記重合開始剤または重合開始系−−
前記感光性フィルムに含まれるアルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、前記重合開始剤または重合開始系としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。
−−導電性繊維（導電性光硬化性樹脂層として用いる場合）−−
前記導電性光硬化性樹脂層を積層した前記感光性フィルムを透明電極パターン、あるいは別の導電性要素の形成に用いる場合には、以下の導電性繊維などを光硬化性樹脂層に用いることができる。
導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造および中空構造のいずれかが好ましい。
ここで、中実構造の繊維を「ワイヤー」と称することがあり、中空構造の繊維を「チューブ」と称することがある。また、平均短軸長さが５ｎｍ〜１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ〜１００μｍの導電性繊維を「ナノワイヤー」と称することがある。
また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ〜１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と称することがある。
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属およびカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、およびカーボンナノチューブの少なくともいずれかが特に好ましい。
前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、および第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、および第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀を主に含有するもの、または銀と銀以外の金属との合金を含有するものが好ましい。
前記銀を主に含有するとは、金属ナノワイヤー中に銀を５０質量％以上、好ましくは９０質量％以上含有することを意味する。
前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウムおよびイリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
前記金属ナノワイヤーの断面の角とは、断面の各辺を延長し、隣り合う辺から降ろされた垂線と交わる点の周辺部を意味する。また、「断面の各辺」とはこれらの隣り合う角と角を結んだ直線とする。この場合、前記「断面の各辺」の合計長さに対する前記「断面の外周長さ」との割合を鋭利度とした。鋭利度は、例えば図１０に示したような金属ナノワイヤー断面では、実線で示した断面の外周長さと点線で示した五角形の外周長さとの割合で表すことができる。この鋭利度が７５％以下の断面形状を角の丸い断面形状と定義する。前記鋭利度は６０％以下が好ましく、５０％以下がより好ましい。前記鋭利度が７５％を超えると、該角に電子が局在し、プラズモン吸収が増加するためか、黄色みが残るなどして透明性が悪化してしまうことがある。また、パターンのエッジ部の直線性が低下し、ガタツキが生じてしまうことがある。前記鋭利度の下限は、３０％が好ましく、４０％がより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、１５０ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ〜４０ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍが更に好ましく、１５ｎｍ〜３５ｎｍが特に好ましい。
前記平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、１５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子（株）製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ〜４０μｍが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
前記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子（株）製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、および曲率から算出される値を長軸長さとした。
導電性光硬化性樹脂層の層厚は、塗布液の安定性や塗布時の乾燥やパターニング時の現像時間などのプロセス適性の観点から、０．１〜２０μｍが好ましく、０．５〜１８μｍが更に好ましく、１〜１５μｍが特に好ましい。前記導電性光硬化性樹脂層の全固形分に対する前記導電性繊維の含有量は、導電性と塗布液の安定性の観点から、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０５〜３０質量％が更に好ましく、０．１〜２０質量％が特に好ましい。
−−着色剤（マスク層として用いる場合）−−
また、前記感光性フィルムをマスク層として用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を用いることができる。本発明に用いる着色剤としては、公知の着色剤（有機顔料、無機顔料、染料等）を好適に用いることができる。尚、本発明においては、黒色着色剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。
前記光硬化性樹脂層を黒色のマスク層として用いる場合には、光学濃度の観点から、黒色着色剤を含むことが好ましい。黒色着色剤としては、例えば、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
前記光硬化性樹脂層を白色のマスク層として用いる場合には、特開２００５−７７６５公報の段落［００１５］や［０１１４］に記載のホワイト顔料を用いることができる。その他の色のマスク層として用いるためには、特許第４５４６２７６号公報の段落［０１８３］〜［０１８５］などに記載の顔料、あるいは染料を混合して用いてもよい。具体的には、特開２００５−１７７１６号公報の段落番号［００３８］〜［００５４］に記載の顔料および染料、特開２００４−３６１４４７号公報の段落番号［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報の段落番号［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤等を好適に用いることができる。
前記着色剤（好ましくは顔料、より好ましくはカーボンブラック）は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記着色剤と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。
前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
前記着色剤は、分散安定性の観点から、数平均粒径０．００１μｍ〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１μｍ〜０．０８μｍのものが好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について前記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
着色剤を含む光硬化性樹脂層の層厚は、他層との厚み差の観点から、０．５〜１０μｍが好ましく、０．８〜５μｍが更に好ましく、１〜３μｍが特に好ましい。前記着色感光性樹脂組成物の固形分中の着色剤の含有率としては、特に制限はないが、十分に現像時間を短縮する観点から、１５〜７０質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％であることがより好ましく、２５〜５０質量％であることが更に好ましい。
本明細書でいう全固形分とは着色感光性樹脂組成物から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
尚、前記感光性フィルムを用いて絶縁層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、絶縁性の維持の観点から、０．１〜５μｍが好ましく、０．３〜３μｍが更に好ましく、０．５〜２μｍが特に好ましい。
−−その他の添加剤−−
さらに、前記光硬化性樹脂層は、その他の添加剤を用いてもよい。前記添加剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。
また、前記感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様のものを用いることができる。
以上、前記感光性フィルムがネガ型材料である場合を中心に説明したが、前記感光性フィルムは、ポジ型材料であってもよい。前記感光性フィルムがポジ型材料である場合、光硬化性樹脂層に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られたものではない。
−熱可塑性樹脂層および光硬化性樹脂層の粘度−
前記熱可塑性樹脂層の１００℃で測定した粘度が１０００〜１００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、光硬化性樹脂層の１００℃で測定した粘度が２０００〜５００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、さらに次式（Ａ）を満たすことが好ましい。
式（Ａ）：熱可塑性樹脂層の粘度＜光硬化性樹脂層の粘度
ここで、各層の粘度は、次のようにして測定できる。大気圧および減圧乾燥により、熱可塑性樹脂層あるいは光硬化性樹脂層用塗布液から溶剤を除去して測定サンプルとし、例えば、測定器として、バイブロン（ＤＤ−ＩＩＩ型：東洋ボールドウィン（株）製）を使用し、測定開始温度５０℃、測定終了温度１５０℃、昇温速度５℃／分および振動数１Ｈｚ／ｄｅｇの条件で測定し、１００℃の測定値を用いることができる。
（感光性フィルムによるマスク層、絶縁層の形成）
前記マスク層２、絶縁層５は、前記感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を前面板１などに転写することで形成することができる。例えば、黒色のマスク層２を形成する場合には、前記光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する前記感光性フィルムを用いて、前記前面板１の表面に前記黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。絶縁層５を形成する場合には、前記光硬化性樹脂層として絶縁性の光硬化性樹脂層を有する前記感光性フィルムを用いて、第一の透明電極パターンが形成された前記前面板１の表面に前記光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
さらに、遮光性が必要なマスク層２の形成に、光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する前記感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、光モレのない高品位なマスク層２等を形成することができる。
（感光性フィルムによる第一および第二の透明電極パターン、別の導電性要素の形成）
前記第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６は、エッチング処理または導電性光硬化性樹脂層を有する前記感光性フィルムを用いて、あるいは感光性フィルムをリフトオフ材として使用して形成することができる。
−エッチング処理−
エッチング処理によって、前記第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６を形成する場合、まずマスク層２等が形成された前面板１の非接触面上にＩＴＯ等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、前記透明電極層上に前記光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する前記感光性フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の透明電極パターン３等を形成することができる。
前記感光性フィルムをエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いる場合にも、前記方法と同様にして、レジストパターンを得ることができる。前記エッチングは、特開２０１０−１５２１５５公報の段落［００４８］〜［００５４］等に記載の公知の方法でエッチング、レジスト剥離を適用することができる。
例えば、エッチングの方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法が挙げられる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性タイプまたはアルカリ性タイプのものを適宜選択すればよい。酸性タイプのエッチング液としては、塩酸、硫酸、フッ酸、リン酸等の酸性成分単独の水溶液、酸性成分と塩化第２鉄、フッ化アンモニウム、過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせたものを使用してもよい。また、アルカリ性タイプのエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのような有機アミンの塩等のアルカリ成分単独の水溶液、アルカリ成分と過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせたものを使用してもよい。
エッチング液の温度は特に限定されないが、４５℃以下であることが好ましい。本発明でエッチングマスク（エッチングパターン）として使用される樹脂パターンは、上述した光硬化性樹脂層を使用して形成されることにより、このような温度域における酸性およびアルカリ性のエッチング液に対して特に優れた耐性を発揮する。したがって、エッチング工程中に樹脂パターンが剥離することが防止され、樹脂パターンの存在しない部分が選択的にエッチングされることになる。
前記エッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により１０〜３００秒間基材を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧（０．１〜５ｋｇ／ｃｍ2程度）を適宜調整し行えばよい。
次いで、樹脂パターンの剥離方法としては、特に限定されないが、例えば、３０〜８０℃、好ましくは５０〜８０℃にて攪拌中の剥離液に基材を５〜３０分間浸漬する方法が挙げられる。本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、上述のように４５℃以下において優れた薬液耐性を示すものであるが、薬液温度が５０℃以上になるとアルカリ性の剥離液により膨潤する性質を示す。このような性質により、５０〜８０℃の剥離液を使用して剥離工程を行うと工程時間が短縮され、樹脂パターンの剥離残渣が少なくなるという利点がある。すなわち、前記エッチング工程と剥離工程との間で薬液温度に差を設けることにより、本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、エッチング工程において良好な薬液耐性を発揮する一方で、剥離工程において良好な剥離性を示すことになり、薬液耐性と剥離性という、相反する特性を両方とも満足することができる。
剥離液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分や、第３級アミン、第４級アンモニウム塩等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、またはこれらの混合溶液に溶解させたものが挙げられる。前記の剥離液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により剥離してもよい。
−導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルム−
導電性光硬化性樹脂層を有する前記感光性フィルムを用いて、前記第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６を形成する場合、前記前面板１の表面に前記導電性光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
前記第一の透明電極パターン３等を、前記導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層／軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
さらに、第一の透明電極パターン３等の形成に、導電性光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する前記感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、導電性に優れ抵抗の少ないに第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６を形成することができる。
−感光性フィルムのリフトオフ材としての使用−
また、前記感光性フィルムをリフトオフ材として用いて、第一の透明電極層、第二の透明電極層およびその他の導電性部材を形成することもできる。この場合、前記感光性フィルムを用いてパターニングした後に、基材全面に透明導電層を形成した後、堆積した透明導電層ごと前記光硬化性樹脂層の溶解除去を行うことにより所望の透明導電層パターンを得ることができる（リフトオフ法）。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、上述した本発明の積層体を含む。
本発明のタッチパネルは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、電子ペーパー等の表示装置等に組み込むことで、入力デバイスとして利用することができる。本発明のタッチパネルを利用することで、干渉ムラの発生が抑制され、かつ、良好な色味のタッチパネルとすることができる。
タッチパネルの構成については、抵抗膜型、静電容量型などがあり、静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点があるため、静電容量型であることが好ましい。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、前記透明電極層として互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものを好ましく用いることができる。このようなタッチパネルの構成については、例えば、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報、特開２０１０−２５７４９２号公報等の記載を参酌できる。
タッチパネルを構成要素として備えた画像表示装置の構成については、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
また、タッチパネルを組み込むことができる液晶ディスプレイの構成については、特開２００２−４８９１３号公報等の記載も参酌できる。
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
［実施例１］
＜加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１の調製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記処方Ｋ１からなる黒色光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、光学濃度が４．０となるように乾燥膜厚が２．２μｍの黒色光硬化性樹脂層を設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と黒色光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料を作製し、サンプル名を加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１とした。
（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール ：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ：６．３６質量部
・メチルエチルケトン ：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃） ：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）：９．１質量部
・フッ素系ポリマー ：０．５４質量部
（Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ４０部とＨ（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ５５部とＨ（ＯＣＨＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ５部との共重合体、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）
なお、熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１の溶剤除去後の１２０℃の粘度は１５００Ｐａ・ｓであった。
（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール ：３２．２質量部
（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ：１４．９質量部
（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水 ：５２４質量部
・メタノール ：４２９質量部
（黒色光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｋ１）
・Ｋ顔料分散物１ ：３１．２質量部
（Ｋ顔料分散物１の組成）
・カーボンブラック（商品名：Ｎｉｐｅｘ３５、デグッサ社製） ：１３．１質量％
・下記分散剤１ ：０．６５質量％
・バインダー１（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万） ：６．７２質量％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ：７９．５３質量％
・Ｒ顔料分散物１（下記の組成） ：３．３質量部
・ＭＭＰＧＡｃ（ダイセル化学（株）製） ：６．２質量部
・メチルエチルケトン（東燃化学（株）製） ：３４．０質量部
・シクロヘキサノン（関東電化工業（株）製） ：８．５質量部
・バインダー２（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．８万） ：１０．８質量部
・フェノチアジン（東京化成（株）製） ：０．０１質量部
・ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（７６質量％） ：５．５質量部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン ：０．４質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．１質量部
なお、黒色光硬化性樹脂層用塗布液Ｋ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は１００００Ｐａ・ｓであった。
Figure 2014178922
（Ｒ顔料分散物１の組成）
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７） ：１８質量％
・バインダー１（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）
：１２質量％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ：７０質量％
＜ガラス基板上の加飾パターン形成＞
ガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をしたガラス基板（厚み０．７ｍｍ、Ｇｏｒｉｌｌａガラス、コーニング社製）に対し、以下の方法でシランカップリング処理をした。
２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基材を基材予備加熱装置で１４０℃２分間加熱した。得られたシランカップリング処理ガラス基材に、上述から得られた加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した黒色光硬化性樹脂層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基材の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１４０℃で加熱した基材に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）で、基材と露光マスク（額縁パターンを有す石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該黒色光硬化性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を３３℃で６０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基材の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基材上の液だまりを減らした。
その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用いて３２℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、４５秒現像し、純水で洗浄した。
引き続き、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．１ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、更にやわらかいナイロン毛を有する回転ブラシにより、形成されたパターン像を擦って残渣除去を行った。さらに、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で超純水を噴射して残渣除去を行い、次いで大気下にて露光量１３００ｍＪ／ｃｍ2にてポスト露光を行い、さらに２４０℃８０分間のポストベーク処理を行って、光学濃度４．０、膜厚２．０μｍの加飾パターンを、強化処理をしたガラス基板上に形成した。
＜透明電極パターンの形成＞
＜＜透明電極層の形成＞＞
加飾パターンが形成された基板を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ2含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した基板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。
（感光性フィルムＥ１の調製）
前記加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１の調製において、黒色光硬化性樹脂層用塗布液を、下記処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液に代えた以外は加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１の調製と同様にして、エッチング用感光性フィルムＥ１を得た（エッチング用光硬化性樹脂層の膜厚は２．０μｍであった）。
（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、質量平均分子量：６００００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物
：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート
：２．８質量部
・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ：０．４２質量部
・２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール ：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩 ：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット ：０．２６質量部
・フェノチアジン ：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．０３質量部
・メチルエチルケトン ：４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール ：２０質量部
なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓであった。
（第一の透明電極パターンの形成）
加飾パターンの形成と同様にして、透明電極層を形成した基板を洗浄し、カバーフィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした（基材温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、さらに１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した基板を得た。
透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した基板を、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の基板を得た。
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の基板を、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、日信化学工業株式会社製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、マスク層と第一の透明電極パターンとを形成した基板を得た。
＜＜絶縁層の形成＞＞
（絶縁層形成用感光性フィルムＷ１の調製）
加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１の調製において、黒色光硬化性樹脂層用塗布液を、下記処方Ｗ１からなる絶縁層用光硬化性樹脂層用塗布液に代えた以外は加飾パターン形成用感光性フィルムＫ１の調製と同様にして、絶縁層形成用感光性フィルムＷ１を得た（絶縁層用光硬化性樹脂層の膜厚は１．４μｍ）。
（絶縁層形成用塗布液：処方Ｗ１）
・バインダー３（シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物（ｄ）（組成（質量％）：ａ／ｂ／ｃ／ｄ＝４６／１／１０／４３、質量平均分子量：３６０００、酸価６６ｍｇＫＯＨ／ｇ）の１−メトキシ−２−プロパノール、メチルエチルケトン溶液（固形分：４５％）） ：１２．５質量部
・ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（７６質量％）
：１．４質量部
・ウレタン系モノマー（商品名：ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ、新中村化学（株）製：不揮発分７５％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：２５％）
：０．６８質量部
・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート
（商品名：Ｖ＃８０２、大阪有機化学工業（株）製） ：１．８質量部
・ジエチルチオキサントン ：０．１７質量部
・２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、ＢＡＳＦ製）
：０．１７質量部
・分散剤（商品名：ソルスパース２００００、アビシア製） ：０．１９質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ製）
：０．０５質量部
・メチルエチルケトン ：２３．３質量部
・ＭＭＰＧＡｃ（ダイセル化学（株）製） ：５９．８質量部
なお、絶縁層形成用塗布液Ｗ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は４０００Ｐａ・ｓであった。
加飾パターンの形成と同様にして、前記第一の透明電極パターン付の前面板を洗浄、シランカップリング処理し、カバーフィルムを除去した絶縁層形成用感光性フィルムＷ１をラミネートした（基材温度：１００℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．３ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（絶縁層用パターンを有す石英露光マスク）面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を１００μｍに設定し、露光量３０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を３３℃で６０秒間、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を２５℃で５０秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、さらに２３０℃６０分間のポストベーク処理を行って、加飾パターン、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した基板を得た。
＜＜第二の透明電極パターンの形成＞＞
（透明電極層の形成）
前記第一の透明電極パターンの形成と同様にして、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板をＤＣマグネトロンスパッタリング処理し（条件：基材の温度５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）、厚さ８０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した基板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は１１０Ω／□であった。
第一の透明電極パターンの形成の形成と同様にして、エッチング用感光性フィルムＥ１を用いて、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た（ポストベーク処理；１３０℃３０分間）。
さらに、第一の透明電極パターンの形成の形成と同様にして、エッチング（３０℃５０秒間）、エッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃２００秒間）することにより、加飾パターン、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した基板を得た。
（第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の形成）
前記第一、および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板をＤＣマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ２００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）薄膜を形成した前面板を得た。
前記第一、および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用感光性フィルムＥ１を用いて、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た。（ポストベーク処理；１３０℃３０分間）。
さらに、第一の透明電極パターンの形成の形成と同様にして、エッチング（３０℃５０秒間）、エッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃２００秒間）することにより、加飾パターン、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した基板を得た。
＜積層材料の作製＞
厚さ７５μｍ、屈折率１．６６のＰＥＴフィルムを搬送速度８０ｍ／分で搬送しながら、両面に対して真空条件でグロー放電処理を行った。グロー放電処理の条件は４．０ＫＪ／ｍ2、グロー放電処理前のＰＥＴフィルムの表面温度は、１５０℃であった。また、ＰＥＴフィルムの表面に得られた表面改質層の厚みは６０ｎｍ、非晶度（非結晶度／結晶度）は６％であった。
＜易接着層の作製＞
ポリマー層塗布液は、以下の処方を用いた。
酸化スズ微粒子分散液 固形分として８質量部
（平均粒径６０ｎｍ）
ポリウレタン ２．８質量部
（三井化学（株）製、タケラックＷＳ−５１００）
架橋剤 ４．２質量部
（日清紡ケミカル（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２の１０％希釈液）
界面活性剤Ａ ０．２質量部
（三洋化成工業（株）製、サンデッドＢＬの１０％水溶液、アニオン性）
界面活性剤Ｂ ０．２質量部
（三洋化成工業（株）、ナロアクティーＣＬ−９５の１０％希釈液、ノニオン性）
水 ８４．６質量部
上記処方は塗布乾燥後の易接着層の屈折率が１．５８となるように調整したものである。グロー放電処理を行ったＰＥＴフィルムの表面に、易接着層塗布液をバーコート法により塗布した。そして、これを１５０℃で２分乾燥させた。ＰＥＴフィルムの両面に易接着層が塗布された積層フィルムを得た。なお、積層フィルムを、透過型電子顕微鏡（ＪＥＭ２０１０（日本電子化（株））製）を用いて倍率２０００００倍で観察することにより、易接着層の膜厚を測定した。膜厚は、１００ｎｍであった。
＜ハードコート層の作製＞
上記のようにして得られた易接着層にコロナ処理を施した後、ハードコート層形成用水性組成物を塗布した。そしてこれを１５０℃で２分乾燥させ、アルコキシシランの加水分解縮合物を含むハードコート層を形成した。ハードコート層の膜厚は１μｍであった。この方法で作製したハードコート層を、下記表には「ゾルゲル」と記載した。
水性組成物は、以下の処方を用いた。
酢酸水溶液 １００質量部
（ダイセル化学工業（株）製、工業用酢酸の１％水溶液）
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン ８０質量部
（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ−４０３）
テトラエトキシシラン ２０質量部
（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ−０４）
アルミニウムキレート錯体 ２２．１質量部
（川研ファインケミカル製、アルミキレートＤ）
無機微粒子 ２００質量部
（日産化学工業（株）製、スノーテックスＯ−３３）
界面活性剤Ａ ０．２質量部
（三洋化成工業（株）製、サンデッドＢＬの１０％水溶液、アニオン性）
界面活性剤Ｂ ０．２質量部
（三洋化成工業（株）、ナロアクティーＣＬ−９５の１０％希釈液、ノニオン性）
マット剤 ０．０２質量部
（日本触媒（株）製、シーホスターＫＥ−Ｐ２５０）
調液は以下の手順で行った。１００質量部の１％酢酸に３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−４０３）を添加して十分に加水分解した後、テトラアルコキシシラン（ＫＢＥ−０４）を添加した。アルミニウムキレート錯体をエポキシ基含有アルコキシシランに対して必要な質量部添加し、ここに無機微粒子（スノーテックスＯ−３３）を添加した。界面活性剤Ａ（サンデットＢＬ）の１０％希釈液と界面活性剤Ｂ（ナロアクティーＣＬ−９５）の１０％希釈液を０．２質量部ずつ添加し、マット剤（シーホスターＫＥ−Ｐ２５０）を添加し、固形分濃度が１５％になるように水を添加し水性組成物とした。
＜保護層の形成＞
ハードコート層を形成しない面に、下記の組成によって調製した保護層用塗布液を、塗布量を変更しながら、１０μｍの膜厚になるように調整し、塗布、乾燥させて、保護層を形成し、カバーフイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
以上のようにして、ハードコート層/易接着層/ＰＥＴフィルム/易接着層/保護層/カバーフイルムからなる飛散防止機能付き、積層材料を作製した。
（保護層の塗布液組成）
Figure 2014178922
Figure 2014178922
＜積層体の作製＞
前述の、加飾パターン、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基材予備加熱装置で１４０℃２分間加熱した。得られたシランカップリング処理基板に、あらかじめ基板の所望の形状に裁断した、上述の飛散防止機能付き積層材料からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した硬化性透明樹脂層の表面と前記シランカップリング処理基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１４０℃で加熱した基材に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートし、１５０℃６０分加熱硬化処理を実施した。
［実施例２］
保護層を製膜後、ＵＶランプ照射（露光量３００ｍＪ／ｃｍ2、メタンハライドランプ）を照射した。その後、下記材料−８の組成の塗布液（屈折率１．７２）を膜厚５２ｎｍとなるように保護層の上に反射防止層を製膜した。
これ以外は実施例１と同様に積層材料を作製した。
Figure 2014178922
［実施例３］
実施例１のＰＥＴフィルムを厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、フジタック）に変えた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
［実施例４］
実施例１のＰＥＴフィルムを厚み４０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、フジタック）に変えた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
［実施例５］
実施例１のＰＥＴフィルムを延伸し、厚さ５０μｍで３０００ｎｍのリタデーション（Ｒｅ／Ｒｔｈ＝１．０３）のフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。なお、リタデーションは、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより測定した。
［実施例６］
実施例１のＰＥＴフィルムを延伸し、厚さ１００μｍで１２０００ｎｍのリタデーション（Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０．７８）を有するフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
［実施例７］
実施例１のＰＥＴフィルムを厚み６６μｍのポリカーボネートフィルム（カネカ社製、エルメック）に変えた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
［実施例８］
実施例１において、ハードコート層を形成していない積層材料を用いた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
［実施例９］
以下のように作製したアクリル樹脂を含むハードコート層を形成した積層材料を用いた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。なお、下記表には、「アクリル」と記載した。
＜硬化性アクリルポリマーの合成＞
特許第２５７４２０１号の記載に準じて、還流冷却機、攪拌機、温度計、温度調節装置、及び水分離機を備えた反応機に、多分岐ポリマー（ＨＢ−１）としてベルストルプ アー・ベー社製ＢＯＬＴＯＲＮ Ｈ２０（ＯＨ価：５１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）５５．０ｇと、アクリル酸３９．６ｇ（０．５５モル）、反応溶媒としてトルエン６３．４ｇ、重合禁止剤としてハイドロキノン０．１４３ｇ、酸触媒としてメタンスルホン酸０．９５３ｇを仕込み、反応温度１００〜１１５℃で生成水を溶媒と共沸除去しながら反応させ、生成水が１．３５ｍｌに達したところで反応を終了した。反応混合物をトルエン４０ｇに溶解し、２５％苛性ソーダ水溶液で中和した後、１５％食塩水２０ｇで３回洗浄した。溶媒を減圧留去して硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）を得た。硬化性多分岐ポリマー（ＲＨＢ−１）のＯＨ価は４３４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、反応性基である水酸基から硬化性反応基への変換率は１５モル％であった。
＜塗布液の調整＞
上記ポリマー（ＲＨＢ−１） ４０質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 日本化薬（株）製）
１０質量部
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製） ２．５質量部
メチルエチルケトン ２０質量部
メチルイソブチルケトン ３０質量部
上記の組成に従い、十分に混合した各液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して調整した。
＜ハードコート層の塗設＞
バーコート法により、膜厚１μｍになるように塗布し、３０℃１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥させ、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布膜を硬化させて、ポリマー層上にハードコート層を形成した。
［実施例１０］
易接着層を形成していない積層材料を用いた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
［実施例１１］
ハードコート層として以下の方法で形成したジルコニウムを含む屈折率１．６４のハードコート層を用い、かつ、以下の表の組成を有する塗布液から作製した屈折率１．６５の易接着層を形成した、ハードコート層との屈折率差が０．０２以下であり、かつ、ポリマー層との屈折率差が０．０２以下である易接着層を有する積層材料を用いた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。
＜ジルコニウムを含むハードコート層の形成＞
下記組成のハードコート層用塗布液をバーコート法によりＷＥＴ厚さが約２μｍとなるように塗布した。９０℃で１分乾燥した後に、高圧水銀灯を用いて照射量１６００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線を照射することにより樹脂を硬化させた。これにより下記に記述する易接着層の表面上にハードコート層を作製した。ハードコート層の厚さは１μｍ、屈折率は１．６４であった。
紫外線硬化樹脂（ＪＳＲ（株）製、Ｚ７４１０Ｂ） １００質量部
無機微粒子（酸化ジルコニウム 日産化学工業（株）製 ＯＺ−Ｓ３０Ｋ ２０質量部
＜易接着層の組成＞
Figure 2014178922
Figure 2014178922
［実施例１２］
実施例１のＰＥＴフィルムを厚み６０μｍで、リタデーションが１４０ｎｍであるシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン社製、ゼオノアフイルムＺＤ１４）に変えた以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。また、この透明積層体を、液晶表示装置（液晶セルが２枚の偏光板にはさまれた構成を有する）の上に、偏光板の吸収軸とポリマーフイルムの遅相軸とが４５度の角度になるようにおき、サングラスなどの偏光板を通して画像を視認したときの、視認性は良好であった。
［比較例１］
ポリマー層を形成せず、実施例１で用いたものと同様の組成の保護層を塗布により形成し、易接着層をバーコーターを用いて表記載の膜厚になるように塗布し１５０℃２分乾燥して形成し、ハードコート層をバーコート法により１μｍの膜厚になるように塗布し１５０℃２分乾燥して形成し、積層体を作製した。
［評価］
＜飛散防止性能＞
ガラス基板に積層して得られた各実施例および比較例の透明積層体を、ＪＩＳ Ｋ ７２１１の落鐘衝撃試験方法に準じて、耐衝撃強度の測定を行い衝撃エネルギー（Ｅ５０）として算出した。（ただし、使用した重鐘の先端部分の直径は４ｍｍである。）
Ａ：（良好） ：衝撃エネルギー（Ｅ５０）≧１.００（Ｊ）
Ｂ：（使用可） ：１.００＞衝撃エネルギー（Ｅ５０）≧０.４５（Ｊ）
Ｃ：（使用不可） ：衝撃エネルギー（Ｅ５０）＜０.４５（Ｊ）
＜ヘイズ＞
ガラス基板に転写する前の積層材料に対して、ヘイズの１５０℃1０分加熱処理前後での変化量を測定し、この測定結果より評価した。ヘイズは、ヘイズメーター（ＮＤＨ−２０００、日本電色工業(株)）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じて測定した。
ヘイズの加熱処理前後での変化量（単位：％）については、所定条件での加熱処理の前（つまり加熱処理無し）と後との両方につきヘイズをそれぞれ測定し、加熱処理前のヘイズをＨ１、加熱処理後のヘイズをＨ２とするときに、
｜Ｈ２−Ｈ１｜／Ｈ１ ×１００ の式で求めた。
ヘイズ測定における加熱処理は、サンプルを内部の温度を１５０℃に設定したオーブンの中に入れて、１０分間保持することにより行った。なお、加熱処理後のヘイズ測定は、オーブンから取り出したサンプルを冷却してから実施した。
Ａ：(良好)：０．５％以下
Ｂ：(好ましく使用可)：０．５〜１％未満
Ｃ：（使用可）：１％以上
＜透明性（透過率）＞
ガラス基板に転写する前の積層材料に対して、４４０ｎｍの透過率を評価した。分光光度計（ＵＶ２１００、島津製作所社製）を用いて測定した。
Ａ：(良好)：９５％以上
Ｂ：(好ましく使用可)：９０〜９５％未満
Ｃ：（使用可）：９０％未満
＜鉛筆硬度＞
耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。ガラス基板に転写製膜して得られた各実施例および比較例の透明積層体を、温度２５℃、相対湿度６０％で１時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する２Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にてｎ＝７の評価を行った。
Ａ：傷が３つ未満である。
Ｂ：傷が３つ以上、５つ未満である。
Ｃ：傷が５つ以上、６つ未満である。
Ｄ：傷が６つ以上である。
＜透明電極パターン視認性＞
各実施例および比較例の透明積層体を、透明接着テープ（３Ｍ社製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、透明積層体と黒色ＰＥＴ材と接着させ、基板全体を遮光した。
透明電極パターン視認性は、暗室において、蛍光灯（光源）と作成した基板を、ガラス面側から光を入射させ、ガラス表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。
Ａ：透明電極パターンが全く見えない。
Ｂ：透明電極パターンがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
Ｃ：透明電極パターンが見える（分かりにくい）。
Ｄ：透明電極パターンが見えるが、実用上許容できる。
Ｅ：透明電極パターンがはっきり見える（分かりやすい）。
＜偏光サングラスでの視認性＞
各実施例および比較例の透明積層体を、白色ＬＥＤ光源を用いた液晶表示装置（液晶セルが２枚の偏光板にはさまれた構成を有する）の上におき、サングラスなどの偏光板を通して画像を視認した。
Ａ：表示画面の視認性が良好
Ｂ：干渉色が認識される
Ｃ：偏光サングラスの向きにより、全面が暗くなる
＜密着性＞
各実施例および比較例の透明積層体の表面に片刃カミソリを用いて縦、横それぞれ１１本のキズをつけて１００個の桝目を形成した。次いで、この上にセロハンテープ（ニチバン（株）製４０５番、２４ｍｍ幅）を貼り付けて、その上からケシゴムでこすって完全に付着させた後、９０度方向に剥離させて、剥離した桝目の数を求めることにより、下記のランク付けを行って密着性を評価した。なお、上記のキズの幅は、縦、横とも１ｍｍとした。
Ａ： 剥れなしの場合
Ｂ： 剥離した桝目数が５未満の場合
Ｃ： 剥離した桝目数が５以上１０未満の場合
Ｄ： 剥離した桝目数が１０以上３０未満の場合
Ｅ： 剥離した桝目数が３０以上の場合
＜干渉ムラ＞
各実施例および比較例の透明積層体を、黒色ドスキン布を張り合わせた机上においてから、乳白色のアクリル板を通した三波長蛍光灯の拡散光を、積層体のガラス基板と反対側の面に照射し、発生する反射光を目視により観察した。そして、このとき観察される虹色の干渉ムラを目視で観察することにより、下記の評価基準でランク付けを行い、積層体の干渉ムラを評価した。また、目視観察にあたり、強制条件として各積層体に対して黒化処理を行い、５００ｎｍ光の透過率を１％以下となるように調整したものも別途評価した。なお、黒化処理としては、観察する面とは反対面（ガラス基板面）にマジックインキ（ａｒｔｌｉｎｅ 油性マーカー補充インキ ＫＲ−２０クロ、ｓｈａｃｈｉｈａｔａ（株）製）を塗工したあと、これを乾燥させた。
Ａ：黒化処理後の試料および未処理の試料の双方において、虹色干渉ムラが目視で観察されない。
Ｃ：黒化処理後の試料および未処理の試料の双方において、虹色干渉ムラが目視で観察される。
Figure 2014178922
表５から、本発明のタッチパネル用積層体は、ガラス飛散を防止できることがわかった。
また、本発明のタッチパネル用積層体の好ましい実施態様では、ヘイズ、透明性、鉛筆硬度、および視認性も優れる性質を持たせられたことがわかる。
１ 前面板
１ａ 前面板の非接触側
２ａ 加飾層
２ｂ マスク層
３ 第一の透明電極パターン
３ａ パッド部分
３ｂ 接続部分
４ 第二の透明電極パターン
５ 絶縁層
６ 導電性要素
７ 透明保護層
８ 開口部
１０ 静電容量型入力装置
１１ 強化処理ガラス
Ｃ 第１の方向
Ｄ 第２の方向
１００ ガラス基板
１０１ 透明導電層
１０２ 保護層
１０３ ポリマー層
１０４ 易接着層
１０５ ハードコート層
１０６ 易接着層
１０７ 加飾層

Claims (39)

  1. ガラス基板と、
    透明電極層と、
    前記透明電極層を覆う保護層と、
    ポリマー層と、
    をこの順で有し、
    前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなることを特徴とするタッチパネル用積層体。
  2. さらに、前記ポリマー層の前記保護層が形成されている面の反対側の面にハードコート層を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  3. 前記保護層と前記ポリマー層との間、および前記ポリマー層と前記ハードコート層との間の少なくとも一方に易接着層を有する、請求項２に記載のタッチパネル用積層体。
  4. 前記透明電極層と前記保護層との間に、反射防止層を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  5. 前記ハードコート層が、硬化性樹脂またはアルコキシシランの加水分解縮合物を含む、請求項２に記載のタッチパネル用積層体。
  6. 前記保護層が、アクリル系ポリマーを含む、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  7. 厚みが０．３〜１ｍｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載のタッチパネル用積層体。
  8. 前記反射防止層の厚みが、５００ｎｍ以下である、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  9. 前記反射防止層の屈折率が、１．６以上である、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  10. 前記保護層と前記ポリマー層との間に有する易接着層の屈折率と、該易接着層に隣接する前記保護層および前記ポリマー層の屈折率との屈折率差が、０．０２以下である、請求項３に記載のタッチパネル用積層体。
  11. 前記ポリマー層の厚みが、２０〜１５０μｍである、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  12. 前記ポリマー層と前記ハードコート層との間に有する易接着層の屈折率と、該易接着層に隣接する前記ポリマー層および前記ハードコート層の屈折率との屈折率差が、０．０２以下である、請求項３に記載のタッチパネル用積層体。
  13. 前記ポリマー層が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、または、シクロオレフィンポリマーを含む、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  14. 前記ポリマー層のリタデーションが３０００〜１２０００ｎｍである、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  15. 前記ポリマー層のリタデーションが１００から２００ｎｍである、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  16. 前記ポリマー層の屈折率が１．６０〜１．７５である、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  17. 前記ポリマー層の表面から４０〜３３０ｎｍの範囲内のいずれかの深さまでの厚みの表面改質層を有す、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  18. 前記表面改質層が、前記ポリマー層の表面にグロー放電処理を施して形成されてなる、請求項１７に記載のタッチパネル用積層体。
  19. 前記表面改質層が、Ｔｇ以上に加熱された前記ポリマー層の表面にグロー放電処理を施して形成されてなる、請求項１７に記載のタッチパネル用積層体。
  20. 前記ハードコート層に含まれる前記アルコキシシランの加水分解縮合物は、エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランの加水分解縮合物である、請求項５に記載のタッチパネル用積層体。
  21. 前記ハードコート層がアルコキシシランを加水分解し、加水分解したアルコキシシランを縮合して形成してなる、請求項５に記載のタッチパネル用積層体。
  22. 前記ハードコート層の屈折率が、１．６４以上２．１０以下である、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  23. 前記反射防止層が粒子を含む、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  24. 前記反射防止層が屈折率１．６０〜３．００である粒子を含む、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  25. 前記反射防止層が金属酸化物粒子を含む、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  26. 前記反射防止層が酸化錫または酸化ジルコニウム粒子を含む、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  27. 前記反射防止層が前記反射防止層に含まれる固形分に対し、４０〜８０質量％の粒子を含む、請求項４に記載のタッチパネル用積層体。
  28. 前記透明電極層として、下記（３）〜（５）の要素を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
    （３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
    （４）前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
    （５）前記第一の透明電極パターンと前記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
  29. （６）前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の電極パターンとは別の導電性要素を有する、請求項２８に記載のタッチパネル用積層体。
  30. 前記第二の電極パターンが透明電極パターンである、請求項２８に記載のタッチパネル用積層体。
  31. （１）加飾層を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  32. 厚みが１〜４０μｍである（１）加飾層を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  33. （２）マスク層を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  34. 前記ガラス基板の表面が表面処理を施してなる、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  35. 前記ガラス基板の表面がシラン化合物を用いて表面処理を施してなる、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  36. 前記ガラス基板が、少なくとも一部に開口部を有する、請求項１に記載のタッチパネル用積層体。
  37. ガラス基板と透明電極層を有する透明電極層付き前面板の該透明電極層側の表面に対し、保護層とポリマー層と、をこの順で有する積層材料の該保護層側の表面を積層する工程を含み、
    前記ガラス基板がガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなることを特徴とする請求項１〜３６のいずれか１項に記載のタッチパネル用積層体の製造方法。
  38. 前記透明電極層を、硬化性樹脂組成物によって形成されたエッチングパターンを用いて透明導電材料をエッチング処理することによって形成する、請求項３７に記載のタッチパネル用積層体の製造方法。
  39. 前記透明電極層を、導電性硬化性樹脂組成物を用いて形成する、請求項３７に記載のタッチパネル用積層体の製造方法。
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