JP2014162128A - 印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法 - Google Patents
印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014162128A JP2014162128A JP2013035572A JP2013035572A JP2014162128A JP 2014162128 A JP2014162128 A JP 2014162128A JP 2013035572 A JP2013035572 A JP 2013035572A JP 2013035572 A JP2013035572 A JP 2013035572A JP 2014162128 A JP2014162128 A JP 2014162128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing
- ink
- relief
- plate
- image line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【課題】高品質の機能性素子を高い生産性で製造するための印刷用凸版、及びそれを用いた機能性素子の製造方法の提供を目的としている。
【解決手段】画線部と非画線部とからなる印刷用凸版であって、前記画線部に隣接する非画線部に隔壁が形成され、また、前記隔壁の高さが、前記画線部の高さの5%以上95%以下で、またさらには前記画線部と前記隔壁との間隔が、前記画線部の高さの20%以上100%以下であることを特徴とする印刷用凸版である。
【選択図】 図4
【解決手段】画線部と非画線部とからなる印刷用凸版であって、前記画線部に隣接する非画線部に隔壁が形成され、また、前記隔壁の高さが、前記画線部の高さの5%以上95%以下で、またさらには前記画線部と前記隔壁との間隔が、前記画線部の高さの20%以上100%以下であることを特徴とする印刷用凸版である。
【選択図】 図4
Description
本発明は、高品質の機能性素子を高い生産性で製造するために用いられる印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法に関する。
近年、微細な薄膜パターニングによる機能性素子の製造方法として、製造コスト低減や大型化が可能であり生産性に優れる印刷法が用いられている。特にディスプレイ分野においては、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機半導体素子、およびカラーフィルター等の光学機能素子などの製造に印刷法を用いる試みがなされている。
具体的な印刷方式としては、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、インクジェット法などの各種の方式が用いられる。
これらの各種印刷方式の中で、弾性を有する樹脂やゴムなどの材料からなる印刷用凸版を用いた凸版印刷法は、非常に低い印圧での印刷が可能であることから、高い印圧をかけると破壊されやすいガラス基板、透明電極およびその他の機能性素子が作り込まれた基材への印刷に特に適している。
しかし、凸版印刷法を用いた機能性素子の製造においては書籍や包装材料などの一般的な凸版印刷よりも格段に高い精度が求められるため、要求される印刷精度を満たすことは容易ではなく、印刷精度を改善する種々の方法が提案されている。
例えば、印刷用凸版のパターンをストライプ形状とし、さらに印刷用凸版の画線部上にインキを供給するインキ供給手段として画線部の幅よりピッチの大きいアニロックスロールを用いることで、印刷精度を改善する提案がされている。(特許文献1)
また、インキの粘度を5〜200mPa・sと比較的低粘度にすることで、印刷用凸版上でのレベリングを促進し、印刷精度を改善する提案がされている。(特許文献1)
また、印刷用凸版のパターンをストライプ形状またはドット形状とし、さらに該パターンの長辺方向を印刷方向に対して一定の角度範囲内とすることで版から被印刷物へのインキ転移を安定化し、印刷精度を改善する提案がされている。(特許文献2)
しからながら、これらの方法を用いてもなお次に述べるような問題点が残り、要求される印刷精度や生産性を満たすことができない場合があった。
第一の問題点は、連続印刷における捨て刷りの発生である。高い生産性を実現するためには連続印刷が不可欠であるが、印刷装置の運転開始後1枚目から品質基準を満たす良品を製造することは難しく、通常は印刷品質が充分安定するまで捨て刷りしてから製品の製造を開始する。捨て刷り品は製品にならないため生産性が低下するほか、捨て刷りに用いられるインキや基材などの材料も無駄になる。
第二の問題点は、インキ転移量のばらつきによる膜厚や線幅のばらつきである。連続印刷による版へのインキ残留、基材のばらつき、インキの不均一性や経時変化、印刷装置の動作のばらつきなど様々な要因によってインキ転移量がばらつくため、印刷された機能性素子の膜厚や線幅にばらつきが生じる。
上記のような、本来求められる印刷品位が得られなくなる問題の要因の一つとして、特に低粘度のインキが用いられる機能性素子の作製においては、印刷用凸版の画線部に供給されたインキが濡れ広がり、さらに非画線部に流れ込むという現象がある。
本発明は上記のような問題を解決するためになされたものであり、高品質の機能性素子を高い生産性で製造するための印刷用凸版、及びそれを用いた機能性素子の製造方法の提供を目的としている。
本発明の請求項1に係る発明は、画線部と非画線部とからなる印刷用凸版であって、前記画線部に隣接する非画線部に隔壁が形成されていることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明の請求項2に係る発明は、前記隔壁の高さが、前記画線部の高さの5%以上95%以下であることを特徴とする請求項1に記載の印刷用凸版である。
本発明の請求項3に係る発明は、前記画線部と前記隔壁との間隔が、前記画線部の高さの20%以上100%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の印刷用凸版である。
本発明の請求項4に係る発明は、前記画線部のパターンがストライプ形状またはドット形状であることを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項に記載の印刷用凸版である。
本発明の請求項5に係る発明は、請求項1乃至4いずれか1項に記載の印刷用凸版を用いたことを特徴とする機能性素子の製造方法である。
本発明の請求項1によれば、前記画線部に隣接する非画線部に隔壁を形成することによって、凸状の画線部に供給されたインキ、特に低粘度のインキを用いた場合のインキの非画線部への濡れ広がりを一定範囲に制限することができる。これによって、インキ転移量のばらつきを低減することができ、高精度な画線の印刷が可能となる。
また、本発明の請求項2によれば、前記隔壁の高さを前記画線部の高さの5%以上95%以下にすることにより、画線部に供給されたインキが濡れ広がり、さらに前記隔壁を乗り越えて非画線部に侵入することを防止することができる。
また、本発明の請求項3によれば、前記画線部と前記隔壁との間隔を、前記画線部の高さの20%以上100%以下にすることにより、濡れ広がったインキを前記隔壁と画線部との間隙に閉じ込める事ができ、インキ転移量のばらつきを低減することができる。
また、本発明の請求項4によれば、前記画線部のパターンをストライプ形状にすることにより高精細な線状パターンを形成することができ、またドット形状にすることにより高精細な微細パターンを形成することができる。
また、本発明の請求項5によれば、本発明の印刷用凸版を用いることにより、微細パターンが要求される高精細な機能性素子を製造することができる。
上記で説明したように、本発明によれば、印刷用凸版の画線部に隣接する非画線部に隔壁を設けることにより、前記画線部に供給されたインキの非画線部への濡れ広がりを一定範囲に制限することができ、インキ転移量のばらつきが小さく、生産性のよい印刷が可能となる。特に低粘度インキが用いられる高精細な機能性素子の製造においては、優れた品質で且つ生産性のよい製造が可能となる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではなく、図示したものは概略図であり、一部分のみを抜き出して示したものである。
本発明の実施例で用いた凸版印刷装置の概略構成を図5に示した。版胴55に巻きつけられた印刷用凸版51の画線部(凸部)上にインキ供給手段によりインキを供給し、次いで定盤59上に設置された被印刷体53にインキを転移させて印刷を行う。印圧を安定させ印刷の均一性を高めるため、版胴55と印刷用凸版51の間には版下クッション54を設置することが望ましい。
インキ供給手段としては様々な方式が利用可能であるが、図5にはアニロックスロール56、ドクターロール57、インキチャンバー58を組み合わせた方式を示した。他にも各種インキングロールとドクターブレードを用いた方式やダイコートを用いた方式なども用いることができる。
また図5にはロール形状の版胴55に設置された印刷用凸版51と平面の定盤59上に設置された被印刷体53の組み合わせを例として示しているが、印刷装置の形式はこれに限定されるものではなく、平面形状の印刷用凸版やロールに支持された可撓性の被印刷体などを適宜組み合わせた種々の形式を用いることができる。
図3は従来の印刷用凸版を用いた場合の、画線部(凸部)上へのインキ供給後の濡れ上がり現象を説明する概念図である。印刷用凸版31は、版基材311上に画線部(凸部)312が形成されている。通常、印刷用凸版31はインキ32に対する濡れ性が充分良くなるように材料選定や表面処理がなされている。そのため、インキ供給手段によって画線部(凸部)312上に供給されたインキ32は、毛管力によって画線部(凸部)312の側面を這い上がり、さらに非画線部(平坦部)314にまで濡れ広がることがある。この現象は特にインキが低粘度である場合に顕著である。
凸版印刷法を用いた機能性素子の製造においては、一般的な凸版印刷用インキよりも低粘度なインキを用いることが多い。その理由は、一般に機能性素子の膜厚には最適値が存在し、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子中の発光層の場合は乾燥膜厚100nm
程度と非常に薄いが、一方で凸版印刷法に適した湿潤膜厚は2μm程度以上であるため、溶媒で大幅に希釈した低固形分率のインキを用いるためである。増粘剤などの添加は素子の機能低下を引き起こす可能性があり、また一般に機能性材料は溶解性が低い場合が多いため固形分率を高めることも難しいため、インキを高粘度に調製することが困難な場合が多い。
程度と非常に薄いが、一方で凸版印刷法に適した湿潤膜厚は2μm程度以上であるため、溶媒で大幅に希釈した低固形分率のインキを用いるためである。増粘剤などの添加は素子の機能低下を引き起こす可能性があり、また一般に機能性材料は溶解性が低い場合が多いため固形分率を高めることも難しいため、インキを高粘度に調製することが困難な場合が多い。
図3に示したようなインキ濡れ上がりが起こる場合、非画線部(平坦部)314での濡れ広がり方は常に一定ではなく、材質、形状および表面粗さのムラなどの影響を受ける。そのため、インキ転移量のばらつきが大きくなり、印刷された機能性素子の膜厚や線幅にばらつきが生じる。また、濡れ広がりに伴う接触線の移動は表面の濡れ履歴によっても異なるため、連続印刷で安定した印刷品質を得るためには捨て刷りが必要となる。
本発明の印刷用凸版は非画線部におけるインキの濡れ広がり範囲を制限する構造を備えるため、上記の膜厚や線幅のばらつきを低減することができ、さらに非画線部におけるインキの濡れ広がりが早期に安定するため、連続印刷における捨て刷り枚数を低減することができる。
非画線部におけるインキの濡れ広がり範囲を制限する構造としては、印刷パターンとしては転写されない隔壁、凹部または濡れ性の悪いインキはじき部などを画線部(凸部)に近接して配置して用いることができる。
図4は本発明の実施例1の印刷用凸版を用いた場合の、画線部(凸部)上へのインキ供給後の濡れ上がり現象を説明する概念図である。平坦部414におけるインキ42の濡れ広がり範囲を制限する構造として画線部(凸部)412に近接して配置された隔壁413を用いたものである。非画線部(平坦部)414におけるインキ42の濡れ広がり範囲が隔壁413によって一定範囲に制限されるため、上述した膜厚および線幅のばらつき低減や連続印刷の捨て刷り低減の効果が得られる。
前記隔壁の高さは、近接する画線部(凸部)の高さの5%以上95%以下であることが望ましく、近接する画線部(凸部)の高さの10%以上50%以下が特に好適である。これは前記隔壁の高さが低すぎるとインキの濡れ広がり範囲を制限する効果が不十分となり、前記隔壁の高さが高すぎると前記隔壁に付着したインキが被印刷体に付着して印刷品質が低下したり、印刷用凸版の洗浄性が悪化するなどの問題が生じやすくなるためである。
また画線部(凸部)と近接する隔壁との間隔は、前記画線部(凸部)の高さの20%以上100%以下であることが望ましい。これは、間隔が小さすぎるとインクが隔壁を乗り越えて濡れ広がりやすくなり、間隔が大きすぎるとインキの濡れ広がり範囲を制限する効果が不十分となるためである。
本発明の印刷用凸版は特定のパターンに限定されず利用可能であるが、代表的なパターンとしてはストライプ形状やドット形状で好適に利用可能である。またドット形状のドットひとつの形は線分状、矩形、円、楕円やそれらの組み合わせなど様々なものを利用可能である。
本発明の印刷用凸版を用いた機能性素子の製造方法は、E型粘度計で測定した剪断速度200/秒におけるインキの粘度が100mPa・s以下である場合に効果的であり、50mPa・s以下である場合に特に有用である。これは、インキが低粘度なほどインキの濡れ広がりが顕著になるためである。
本発明の印刷用凸版を用いた機能性素子の製造方法は、有機半導体や、液晶カラーフィ
ルターを始めとする光学素子の製造に用いることができるが、特に有機エレクトロルミネッセンス素子に用いると効果が大きい。これは、有機エレクトロルミネッセンス素子を凸版印刷法で作る際には、通常、比較的低粘度のインキを用いて、精度良く、不純物の混入なく、高価な材料を無駄なく印刷する必要があるためである。
ルターを始めとする光学素子の製造に用いることができるが、特に有機エレクトロルミネッセンス素子に用いると効果が大きい。これは、有機エレクトロルミネッセンス素子を凸版印刷法で作る際には、通常、比較的低粘度のインキを用いて、精度良く、不純物の混入なく、高価な材料を無駄なく印刷する必要があるためである。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
<実施例1>
<印刷用凸版の作製>
感光性樹脂を用いて、図1に示すようなストライプ形状の印刷用凸版を作製した。なお、作製した印刷用凸版は、画線部(凸部)112の幅は40μm、高さは40μmである。また、隔壁113は画線部112から20μmの間隔で、幅は20μm、高さは10μmで形成した。
<印刷用凸版の作製>
感光性樹脂を用いて、図1に示すようなストライプ形状の印刷用凸版を作製した。なお、作製した印刷用凸版は、画線部(凸部)112の幅は40μm、高さは40μmである。また、隔壁113は画線部112から20μmの間隔で、幅は20μm、高さは10μmで形成した。
<被印刷体>
被印刷体としては下記構成のものを用いた。
図6に示すような、隔壁616(ポリイミド)、画素電極617および正孔輸送層618(膜厚40nmの酸化モリブデン膜)をTFT基板615上に作製し、被印刷体63とした。
被印刷体としては下記構成のものを用いた。
図6に示すような、隔壁616(ポリイミド)、画素電極617および正孔輸送層618(膜厚40nmの酸化モリブデン膜)をTFT基板615上に作製し、被印刷体63とした。
<発光層の印刷>
図5に示すような凸版印刷装置を用いて、上記で作製した印刷用凸版51を版下クッション54に挟んで、ストライプ形状が印刷方向と平行になるよう版胴55に巻きつけ、アニロックスロール56、ドクターロール57およびインキチャンバー58を組み合わせたインキ供給手段によって、印刷用凸版51の画線部(凸部)上に下記の発光層インキを供給し、被印刷体53上で版胴55を転動させて印刷を行った。
図5に示すような凸版印刷装置を用いて、上記で作製した印刷用凸版51を版下クッション54に挟んで、ストライプ形状が印刷方向と平行になるよう版胴55に巻きつけ、アニロックスロール56、ドクターロール57およびインキチャンバー58を組み合わせたインキ供給手段によって、印刷用凸版51の画線部(凸部)上に下記の発光層インキを供給し、被印刷体53上で版胴55を転動させて印刷を行った。
<発光層インキ>
ポリ[2−メトキシ−5−(2’−エチル−ヘキシロキシ)−1,4−フェニレンビニレン](MEHPPV)溶液を用いた。E型粘度計で測定した剪断速度200/秒における発光層インキの粘度は42mPa・sであった。
ポリ[2−メトキシ−5−(2’−エチル−ヘキシロキシ)−1,4−フェニレンビニレン](MEHPPV)溶液を用いた。E型粘度計で測定した剪断速度200/秒における発光層インキの粘度は42mPa・sであった。
図6に示すように、上記で形成された発光層619の上に、さらに対向電極620を形成し、図示しない封止キャップおよび接着剤を用いて密閉封止し有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
<実施例2>
図2に示すドットパターン(長辺70μm、短辺40μm、高さ50μm)の印刷用凸版を用い、ドットパターンの長辺が印刷方向と平行になるよう、版下クッション54を挟んで版胴55に巻きつけた以外は、実施例1と同様にして有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
図2に示すドットパターン(長辺70μm、短辺40μm、高さ50μm)の印刷用凸版を用い、ドットパターンの長辺が印刷方向と平行になるよう、版下クッション54を挟んで版胴55に巻きつけた以外は、実施例1と同様にして有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
<比較例1>
印刷用凸版に隔壁を設けないこと以外は、実施例1と同様にして有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
印刷用凸版に隔壁を設けないこと以外は、実施例1と同様にして有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
<比較例2>
印刷用凸版に隔壁を設けないこと以外は、実施例2と同様にして有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
印刷用凸版に隔壁を設けないこと以外は、実施例2と同様にして有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを作製した。
<評価>
実施例1,2及び比較例1,2で作製した有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを用いて、発光ムラ及び画素部の膜厚を評価した。評価結果を以下の表1に記す。
・発光ムラ〜連続印刷での点灯による発光ムラの目視確認により評価した。
・画素部の膜厚〜画素内の膜厚を測定し、平均値及び標準偏差を評価した。
実施例1,2及び比較例1,2で作製した有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを用いて、発光ムラ及び画素部の膜厚を評価した。評価結果を以下の表1に記す。
・発光ムラ〜連続印刷での点灯による発光ムラの目視確認により評価した。
・画素部の膜厚〜画素内の膜厚を測定し、平均値及び標準偏差を評価した。
<比較結果>
以上に示したように、実施例1と比較例1、および実施例2と比較例2の結果から、本発明の印刷用凸版を用いることにより、連続印刷における捨て刷り枚数低減および膜厚と線幅のばらつき低減の効果が得られ、発光ムラのない有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを生産性良く製造することが可能となった。
以上に示したように、実施例1と比較例1、および実施例2と比較例2の結果から、本発明の印刷用凸版を用いることにより、連続印刷における捨て刷り枚数低減および膜厚と線幅のばらつき低減の効果が得られ、発光ムラのない有機エレクトロルミネッセンス素子パネルを生産性良く製造することが可能となった。
本発明の印刷用凸版を用いた機能性素子の製造方法は、連続印刷の生産性を向上させ、かつ膜厚や線幅のばらつきの少ない高精度な素子を製造することができるので、有機半導体素子およびカラーフィルター等の光学機能素子の製造などに用いることができ、特に有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に有用である。
31、41、51…印刷用凸版
111、211、311、411…版基材
112、212、312、412…画線部(凸部)
113、213、413…隔壁
114、214、314、414…非画線部(平坦部)
32、42…インキ
53、63…被印刷体
54…版下クッション
55…版胴
56…アニロックスロール
57…ドクターロール
58…インキチャンバー
59…定盤
615…TFT基板
616…隔壁
617…画素電極
618…正孔輸送層
619…発光層
620…対向電極
111、211、311、411…版基材
112、212、312、412…画線部(凸部)
113、213、413…隔壁
114、214、314、414…非画線部(平坦部)
32、42…インキ
53、63…被印刷体
54…版下クッション
55…版胴
56…アニロックスロール
57…ドクターロール
58…インキチャンバー
59…定盤
615…TFT基板
616…隔壁
617…画素電極
618…正孔輸送層
619…発光層
620…対向電極
Claims (5)
- 画線部と非画線部とからなる印刷用凸版であって、前記画線部に隣接する非画線部に隔壁が形成されていることを特徴とする印刷用凸版。
- 前記隔壁の高さが、前記画線部の高さの5%以上95%以下であることを特徴とする請求項1に記載の印刷用凸版。
- 前記画線部と前記隔壁との間隔が、前記画線部の高さの20%以上100%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の印刷用凸版。
- 前記画線部のパターンがストライプ形状またはドット形状であることを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項に記載の印刷用凸版。
- 請求項1乃至4いずれか1項に記載の印刷用凸版を用いたことを特徴とする機能性素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013035572A JP2014162128A (ja) | 2013-02-26 | 2013-02-26 | 印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013035572A JP2014162128A (ja) | 2013-02-26 | 2013-02-26 | 印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014162128A true JP2014162128A (ja) | 2014-09-08 |
Family
ID=51613205
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013035572A Pending JP2014162128A (ja) | 2013-02-26 | 2013-02-26 | 印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014162128A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017183153A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社デンソー | 有機el素子の製造方法 |
-
2013
- 2013-02-26 JP JP2013035572A patent/JP2014162128A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017183153A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社デンソー | 有機el素子の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Blayo et al. | Printing processes and their potential for RFID printing | |
KR100634327B1 (ko) | 롤-투-롤 윤전인쇄방식을 이용한 전자소자의 제조방법 및그 제조장치 | |
KR101847110B1 (ko) | 다색 그라비어 오프셋 인쇄 장치 및 인쇄 방법 | |
JP6241029B2 (ja) | 印刷装置および印刷方法 | |
KR20170122625A (ko) | 다색 그라비어 오프셋 인쇄 장치 및 인쇄 방법 | |
JP2010058330A (ja) | 画像パターン形成方法および画像パターン並びに半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子 | |
JP2014162128A (ja) | 印刷用凸版及びそれを用いた機能性素子の製造方法 | |
US11001051B2 (en) | Multi-color gravure offset printing device and printing method | |
Deganello | Printing techniques for the fabrication of OLEDs | |
JP2013123836A (ja) | 凸版印刷装置 | |
JP6115018B2 (ja) | 薄膜印刷方法および薄膜印刷装置 | |
KR20180021052A (ko) | 다색 그라비어 오프셋 인쇄 장치 및 인쇄 방법 | |
JP2015223813A (ja) | 印刷版、印刷装置、印刷法、及び電子デバイス | |
JP2014051038A (ja) | スクリーン印刷機およびスクリーン印刷方法 | |
CN108698425A (zh) | 印刷版 | |
JP2016041479A (ja) | フレキソ版 | |
JP4423916B2 (ja) | 可撓性金属平板状の凹版を用いたパターン印刷装置 | |
JP2015160397A (ja) | グラビアオフセット印刷用ブランケット及びこれを用いた配線パターンの形成方法 | |
JP2015088363A (ja) | 印刷法を用いた機能性素子の製造方法および製造装置 | |
JPH034395B2 (ja) | ||
JP2015191789A (ja) | 印刷法を用いた機能性素子の製造方法および製造装置 | |
JP2012206308A (ja) | 印刷装置及びそれを用いた機能性薄膜の製造方法 | |
JP2008159561A (ja) | 有機機能性素子の製造方法 | |
JPH0216228B2 (ja) | ||
JP6106938B2 (ja) | 有機el素子の製造方法及び有機el素子 |