JP2014160534A - 部分参照電圧を利用するメモリアクセス - Google Patents

部分参照電圧を利用するメモリアクセス Download PDF

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Abstract

【課題】部分参照電圧を利用してメモリアクセスするデバイス、システム、方法を提供する。
【解決手段】装置500は比較ロジック520を含む。比較ロジックは、メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較して、比較結果を生成する。装置は、比較結果に少なくとも部分的に基づいて、メモリセルのビット値を求める読み出しロジック530を含む。前記比較ロジックは、第1参照電圧および第2参照電圧を含む前記少なくとも一対の部分参照電圧を生成し、前記ビット値は、第1値または第2値のいずれかに対応しており、第1閾値電圧範囲にある閾値電圧は、前記第1値に関連付けられ、第2閾値電圧範囲にある閾値電圧は、前記第2値に関連付けられ、前記第1閾値電圧範囲と前記第2閾値電圧範囲とは重複しない。
【選択図】図5

Description

本願は、2008年8月8日出願の米国仮特許出願番号第61/087,417の恩恵享受しており、この内容の全体をここに、参照として組み込む。
デジタルデータは頻繁にメモリへの記憶、またはメモリからの取得が行われる。メモリはシリコンによる作製が可能である。シリコンにエッチングされた半導体材料により、多くのトランジスタがシリコンに実装されて、高密度のメモリが作製される。論理ゲート、インバータ、およびメモリを実装するのに用いられる他の機能を形成するよう、トランジスタが構成されてよい。
メモリ密度を増やす目的から現在では、単一のメモリセルに、2以上のデータビットを含ませている。例えば、コンデンサとして機能するフローティングゲートトランジスタを利用して、2データビットを表すセル電圧を格納させてよい。セル電圧は、電子をトランジスタのフローティングゲートに注入することでプログラミング可能である。2以上のビットをメモリセルに書き込むと、そのメモリセルに格納できるデータ密度が増える。
しかし、2以上のデータビットを読み出すのは、1データビットを読み出すのより難しい。例えば、メモリセルは、セル電圧が第1レベルである場合、00というビット値を格納する、とする。セル電圧が第2、第3、または第4電圧レベルである場合、メモリセルで表されるビット値はそれぞれ01、10、および11である、とする。セル電圧が表すビット値を求めるのに、今日では4以上の電圧の比較が必要となっている、というのもセル電圧が今日では4つの電圧レベルのいずれかを表しているからである。このように、メモリアクセスについては改善が望まれている。
一実施形態は装置を含む。装置は比較ロジックを含む。比較ロジックは、メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較して、比較結果を生成する。装置は、比較結果に少なくとも部分的に基づいて、メモリセルのビット値を求める読み出しロジックを含む。
一実施形態では、比較ロジックは、第1参照電圧および第2参照電圧を含む前記少なくとも一対の部分参照電圧を生成する。ビット値は、第1値または第2値のいずれかに対応する。第1閾値電圧範囲にある閾値電圧は、第1値に関連付けられる。第2閾値電圧範囲にある閾値電圧は、第2値に関連付けられる。第1閾値電圧範囲と第2閾値電圧範囲とは重複しない。
別の実施形態は方法を含む。方法は、メモリセル閾値電圧を、一対の部分参照電圧と比較して、比較結果を生成する。方法は、比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルで表されるビット値を求める。
一実施形態では、方法は、ビット値が関連付けられた1メモリページを生成する。方法は、1メモリページを、前記1メモリページからデータを要求した要求ロジックへ転送する。
別の実施形態は装置を含む。装置は、一対の部分参照電圧を生成する部分電圧生成器と、フラッシュメモリに関連付けられたメモリで表される電圧値を、メモリの電圧レベルを一対の部分参照電圧と比較することによって求め、ログ尤度比(LLR)を電圧値に応じて生成するアクセスロジックと、ログ尤度比(LLR)に少なくとも部分的に基づいて、ビット値を生成する結果生成ロジックと、を備える。
一実施形態では、メモリセルのビット値間の境界は、全体参照電圧に対応している。一対の部分参照電圧の電圧値それぞれは、全体参照電圧とは異なる電圧値である。
添付図面は、明細書の一部として組み込まれているが、様々な例示的なシステム、方法、および本発明の様々な側面における他の例示的な実施形態を示している。図面に示されている部材(例えばボックス、ボックス群、または他の形状)の境界は、境界の一例を示すに過ぎない。当業者であれば、例によっては、1つの部材が複数の部材を表すこともあり、反対に複数の部材が1つの部材を表すこともあることを理解しよう。例によっては、別の部材の内部にあるコンポーネントとして示されている部材を、外部のコンポーネントとして実装してもよく、その反対も可能である場合がある。さらに、部材は必ずしも実寸に比例して描かれていない場合がある。
メモリセルに関する全体参照電圧の一実施形態を示す。
メモリセルに関する部分参照電圧の一実施形態を示す。
メモリアクセスに関するメモリマップの一実施形態を示す。
メモリアクセスに関するメモリシステムの一実施形態を示す。
メモリセル内の2以上のビットへアクセスする装置の一実施形態を示す。
メモリセル内の2以上のビットへアクセスする装置の別の実施形態を示す。
メモリセル内の2以上のビットへのアクセス方法の一実施形態を示す。
メモリセル内の2以上のビットへのアクセス方法の別の実施形態を示す。
メモリセル内の2以上のビットへアクセスする例示的なシステムおよび方法、およびその均等物が動作しうるコンピューティング環境の一実施形態を示す。
以下で記載するのは、メモリセル内の2以上のビットへアクセスする例示的なシステム、方法、および他の実施形態である。一実施形態では、装置は、フラッシュメモリのマルチレベルセル(MLC)のアクセスを制御する。MLCは、最上位ビット(MSB)および最下位ビット(LSB)を表す電圧を含みうる。MSBとLSBとはトランジスタのフローティングゲートの単一セルの閾値電圧レベルとして表されてよい。
装置は、MLCセルにセル電圧を部分参照電圧(fractional reference voltage)と比較させることで、2ビット値を読み出す制御をするよう構成される。ビット値は、全体参照電圧(integral reference voltage)を用いることなく求められる。部分参照電圧と全体参照電圧とは、図1および2を参照しながら以下で定義する。MSBおよびLSBは連続して決定される。まずセル電圧を最初の部分参照電圧対と比較して、MSBを求める。MSBを決定した後で、セル電圧を2以上の第2の部分参照電圧対と比較することで、LSBを求める。一実施形態においては、以下で説明するように、MSBの値に基づいて第2の部分参照電圧対を決定する。
一実施形態においては、装置は、MLC、第1ビット検出ロジック、比較ロジック、制御ロジック、および第2ビット検出ロジックで実装される。装置は、第1ビット検出ロジックに、MLCに格納されている第1ビットの値を求めさせる。第1ビット検出ロジックは、ビット値を表すMLCの電圧レベルを、最初の部分参照電圧値の対と比較することで、第1ビットの値を求める。比較ロジックは、少なくとも1つの第2の部分参照電圧対の電圧レベルを、MLCの電圧レベルと比較して比較結果を生成することで、第2ビットを決定し始める。制御ロジックは、第1ビットが分かってから電圧レベルを比較するように、比較ロジックを制御する。第2ビット検出ロジックは、少なくとも部分的に比較結果に基づいて第2ビットを求める。値を閾値と比較する際に、様々な方法で、閾値がトリガされるところで、または、閾値が満たされるところで装置を実装してよい。例えば、比較値は、閾値より大きくても、閾値と同じでも、閾値以下でも、大きくても、未満でも、単に等しくてもよい。実装形態は、閾値として選択される値、および所望の比較の種類に応じて変化してよい。もちろん、他の実装形態を採用することもできる。
以下は、ここで利用する用語の定義である。定義は、用語の範囲内であり、実装例に利用することのできる様々なコンポーネントの例および/または形態を含む。例示は制限的であることを意図しない。用語の単数形および複数形はどちらも定義に含まれうる。
「一実施形態」、「一例」、「1つの例」等の言い回しは、記載されている実施形態または例が、特定の特徴、構造、特性、性質、部材、または限定を含みうるが、全ての実施形態または例がその特定の特徴、構造、特性、性質、部材、または限定を必ずしも含まなくてよい。さらに、「一実施形態では」といった言い回しを多用しているが、これは、必ずしも同じ実施形態を表す場合ばかりではないが、その場合もある。
記載される「コンピュータ可読媒体」という用語は、信号、命令、および/またはデータを格納する媒体のことを示す。コンピュータ可読媒体は、不揮発性媒体、および揮発性媒体を含む形態をとってよいが、それらに限定されない。不揮発性媒体は、例えば、光学ディスク、磁気ディスク、フラッシュメモリ等を含みうる。揮発性媒体は、例えば、半導体メモリ、動的メモリ等を含みうる。コンピュータ可読媒体の通常の形態は、フロッピディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、他の磁気媒体、特定用途向けIC(ASIC)、プログラマブルロジックデバイス、コンパクトディスク(CD)、他の光学媒体、ランダムアクセスメモリ(RAM)、読み出し専用メモリ(ROM)、メモリチップまたはカード、メモリスティック、および、コンピュータ、プロセッサ、または他の電子デバイスが読み出すことのできる他の媒体を含みうるが、これらに限定されない。
利用される「ロジック」といった用語は、機能(1または複数)または動作(1または複数)を行う、および/または、別のロジック、方法、および/またはシステムからの機能または動作を引き起こす、機械に格納されるまたは機械で実行されているハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、および/または各々の組み合わせを含むが、それらに限定されない。ロジックは、ソフトウェア制御マイクロプロセッサ、離散的ロジック(例えばASIC)、アナログ回路、デジタル回路、プログラムロジックデバイス、命令を含むメモリデバイス等を含みうる。ロジックは、1以上のゲート、ゲートの組み合わせ、または他の回路コンポーネントを含みうる。複数の論理ロジックを記載している場合、それら論理ロジックを1つの物理ロジックに組み込むことができる。同様に、単一の論理ロジックを記載している場合、その論理ロジックを複数の物理ロジックに分散することができる。
利用される「メモリアクセス」という用語は、書き込み、読み出し、コンテンツアドレス可能メモリ(CAM)整合、およびメモリセルまたはメモリ位置群のプログラミングを含むが、それらに限定されない。メモリアクセスは、同じメモリに対して2つの読み出しポートを用いたデュアル読み出しを含んでもよい。メモリアクセスは、当業者が理解するメモリとの他の種類の相互作用であってもよい。
図1は、マルチレベルセル(MLC)に関する全体参照電圧の一実施形態を示す。MLCはフラッシュメモリに関してよい。図1は、MLCのセル電圧100が0からZボルトの範囲であることを示している。セル電圧100の範囲とは異なる電圧範囲は、異なるビット値を表す。MLCに与えられるセル電圧は、MLCに格納されているMSBおよびLSBの値を表す。電子をトランジスタのフローティングゲートに注入して、セル電圧を生成する。
セル電圧は、互いに重複しない電圧帯域に分割される。電圧帯域は、1以上のビット値に関する。例えば、図1のMLCにおいては、4つの電圧帯域1−4がある。電圧帯域1−4は、MSBおよびLSBの値に関するセル電圧100の範囲を表す。電圧帯域1は、「11」というビット値を表し、電圧帯域2−4は、それぞれ、「10」、「00」、および「01」というビット値を表す。
セル電圧は、MLCに格納されているビットに対応する電圧帯域1−4のいずれかの中央電圧値に設定されているのが理想である。例えば、セル電圧は、MLCに「11」というMLC値が格納されている際にV11に設定されている。MLCに格納されている「10」、「00」、および「01」という値に対しては、それぞれ、セル電圧がV10、V00、およびV01に設定されている。全体参照電圧IRV0−3は、電圧帯域1−4の間の電圧値である。図1は2ビットの例を示しているが、電圧帯域1−4、全体参照電圧IRV0−3、電圧範囲100、理想的な中央電圧値、ビット値等に関しては他の数が利用されてよい。
図2は、図1のMLCに関する部分参照電圧の一実施形態を示す。図2は、図1のセル電圧範囲100と類似したセル電圧範囲200を示す。セル電圧範囲200は、0からZボルトの範囲で取りうるセル電圧値を表す。セル電圧は、LSBおよびMSBという2ビットを表す。当業者であれば、他のMLCを異なる数のビットで格納してよく、セル電圧が異なる電圧範囲を表してもよいことを理解しよう。
部分参照電圧は、図1に示す電圧帯域0−3のいずれかの参照電圧である。例えば、図2の部分参照電圧V'1−xは、図1の電圧帯域2にある。図2の部分参照電圧V''は、図1の電圧帯域3にある。部分参照電圧V'およびV'1−xは、1対の部分参照電圧を形成する。対にされた部分参照電圧を利用して、セル電圧が電圧帯域の境界付近にあることを検出する。部分参照電圧対V'およびV'1−xを利用して、セル電圧が電圧帯域1と電圧帯域2との境界付近にあることを検出することができる。セル電圧が電圧帯域の境界付近にあるときにはセル電圧の値は確かな値ではないことがある。
セル電圧が境界付近にあることは、そのセル電圧を部分参照電圧対で表される電圧と比較することで判断される。例えば、部分参照電圧対V'およびV'1−xの間にあるとして求められたセル電圧は、電圧帯域1と2との間の境界付近にある。電圧帯域間の境界付近のセル電圧は、セル電圧がいずれの帯域に属しているかについて高い信頼度で分からない場合があるので不確実でありえる。不確実なセル電圧にはフラグを立て、ソフト復号器へ送り、不確実なセル電圧に基づきMLCに格納されている実際のビット値を求めてよい。以下で説明するように、不確実なセル電圧は、量子化して、ソフト復号器へ送ることで、正確なビット値を求める可能性を高めることができる。ソフト復号器は、誤り訂正ロジックを備えて、不確実なセル電圧に関して正確なビット値を求めることができる。
一実施形態では、部分参照電圧対VおよびV1−x(図2に示す)を利用して、MLCが表す2ビットのMSBを求める。セル電圧を比較してMSBを求めるには1対の部分参照電圧が必要である。1対のみが必要な理由は、セル電圧範囲200の左半分では、ビット値は、「1」であるMSBとグレイコード化されるからである。セル電圧範囲200の右半分では、MSBは「0」である。セル電圧がVの左にある場合、MSBは「1」であり、セル電圧がV1−xを超える場合には「0」である。セル電圧がVとV1−xとの間にあるときには、セル電圧は不確実である。
他の部分参照電圧対を利用することで他のビットを求めることができる。LSBを求めるには、セル電圧は、1を越える数の部分参照電圧対と比較される必要がありうる。図2のLSBを求めるには、V'、V'1−xおよびV''、V''1−xという部分参照電圧対を利用することができる。セル電圧がV'より小さい場合、またはV''1−xより大きい場合、LSBは「1」である。セル電圧がV'1−xとV''との間にある場合、LSBは「0」である。セル電圧がV'とV'1−xとの間にある、または、V''とV''1−xとの間にある場合には、セル電圧は不確実であるので上述の処理がなされる。
2ビットを格納するMLCと比べると、1ビットのメモリセルは1ビットを格納する。1ビットのメモリセルに格納される1ビットに対応する1ビットのソフト値を求めてよい。1ビットのソフト値は、部分参照電圧を、1ビットのメモリセルのセル電圧と比較することで求めてよい。ソフト値は、1ビットが対応する値の確率を表す。
例えば、1ビットのメモリセルのVthで表されるセル電圧を、図2の最初の参照電圧値対V、V1−xと比較して、1ビットのソフト値を求める。1ビットのソフト値は、VthがVより小さい場合、0として求められる。VthがVとV1−xとの間にある場合、1ビットのソフト値は、(V+V1−x)/2として求められる。VthがV1−xより大きい場合、1ビットのソフト値は、値Zとして求められる。以下で説明するように、ソフト値をソフト復号器に入力して、メモリに格納されているビットを表す値を生成することができる。
ログ尤度比(LLR)は、1ビットのメモリセルのセル電圧に応じて生成することができる。LLRは、ある値がメモリに第1の値として格納されている確率であってよい。例えば、メモリセル参照電圧がV未満の場合、1ビットのメモリセルのLLRは以下のように表すことができる。
Figure 2014160534
電圧分布の分散値は、SおよびSで表される。値mおよびmは、ガウス分布平均値を表す。メモリセル参照電圧がVとV1−xの間にある場合、1ビットのメモリセルのLLRは以下のように表すことができる。
Figure 2014160534
メモリセル参照電圧がV1−xより大きい場合、1ビットのメモリセルのLLRは以下のように表すことができる。
Figure 2014160534
以下で説明するように、LLRをソフト復号器に入力して、メモリに格納されているビットを表す値を生成することができる。
一実施形態においては、v'およびv''1−xを用いて、MLCのLSBを求める。これは、(MSBまたはLSBページに対応する)1ワードラインの一部であるMLCの全てのセルが、一度の単一の参照電圧(例えばv')を適用することができるからである。最初の比較が終わった後で、次の参照電圧(例えばv''1−x)を適用してよい。LSBは比較結果に基づいて求めることができる。LSBを求めるのに利用される部分参照電圧は、MSBを求めるのに利用された部分参照を比較することなく、比較することができる。これは、NANDデバイスのMLCが「ランダム」な読み出しをサポートしているからである。ランダムな読み出しにより、ホストは、MSBページを要求することなく、LSBページを要求することができるようになる。MSBは、MSBの要求を伴わずにLSBページが読み出される際、未知数として残る。
2ビットのMLCの例に戻ると、部分参照電圧V'/V'1−x、V/V1−x、およびV''/V''1−x3対は、図2に示すように、セル電圧のラインを7つの領域R1−7に分割する。概して、MSBを先ず決めてから、MSBの値に基づいてLSBを求めるといった条件付きの比較は、NANDデバイスであるMLCでは不可能である。しかし、面白いのは、MSBが1である場合にLSBを求めるには、部分参照電圧対V'、V'1−xで十分である、というのは、MSBが「1」である場合、LSBは領域1、2、または3にあるからである。LSBを求めるにはセル電圧を部分参照電圧対V'、V'1−xと比較することで十分である、というのは、MSBが「1」である場合LSBは領域R5−7にはないはずだからである。MSBが「0」のときにはLSBを求めるには、部分参照電圧対V''、V''1−xで十分である、というのは、MSBが「0」の場合、LSBは領域5、6、または7にあるからである。MSBが「0」の場合、LSBは領域R1−3にはないはずである。
図3は、メモリアクセスに関するメモリマップ300の一実施形態を示す。メモリマップ300は、MLCに実装されるフラッシュメモリ用のメモリマップを示してよい。図3は、MSBおよびLSBを表す値を格納する4096個のMLCからなる1アレイを示す。4096個のセルはワードラインと称される。異なるMLCからなるLSB群が組み合わせられて、メモリの第1ページ(ページ0)を形成する。MSB同士を組み合わせて、メモリの第2ページ(ページ1)を形成する。メモリにおける複数のページは、同時にアクセスされるセルの複数の群を表す(セル番号0から4095)。セル群は、シリコンで構成され、アレイとされて、セル群を単一のクロックサイクルでアクセスするのが理想である。第1ページ(ページ0)の4096ビットは、1クロックサイクルにおいて並行してアクセスされる。
LSBの値を求めるには、MSBの値を求めるよりも長い時間がかかることがある。例えば、図2を参照して述べたように、LSBまたはMSBの値を求める際には、MLCのセル電圧と、幾らかの部分参照電圧対との間で電圧比較を行う。場合によっては、LSBページは、2対の部分電圧の比較が要求されうる。LSB比較が追加されることにより、LSBのアクセス時間は、MSBのアクセス時間より長くかかる。こうして、図1の「ページ0」のLSBワードラインに関するアクセス時間は、「ページ1」のアクセス時間より長くかかる。
図4は、1メモリセルの2以上のビットへのアクセスに関するメモリシステム400の一実施形態を示す。システム400は、フラッシュデバイス1−Nへのページ要求を予定することで、メモリアクセスを制御するコントローラ410を含む。フラッシュデバイス1−Nは、1を超える数のデータビットを表すMLCと共に実装される。コントローラ410は、セル電圧を部分参照電圧対と比較して、ビット値を表すセル電圧を求めるよう、フラッシュデバイス1−Nに指示する。コントローラ410は、セル電圧を部分参照電圧と比較するようフラッシュデバイス1−Nを制御することで、フラッシュデバイス1−Nをより効率的に制御する。コントローラ410は、フラッシュデバイス1−Nに、セル電圧を全体参照電圧と比較させないようにする。コントローラ410の詳細および実施形態を、装置500、および他の図形を示している図5を参照して記載する。
図5は、メモリセル510のビット値を求める装置500の一実施形態を示す。装置500は、メモリセル510が部分参照電圧を利用してメモリセル510のデータにアクセスするようメモリセル510を制御する。メモリセル510のアレイとともに実装されたフラッシュメモリチップ内のフラッシュメモリのページにアクセスするよう、装置500を実装してよい。メモリセル510は、MLC格納セルであってよい。格納セルはNAND MLCであってよい。一実施形態においては、装置500は、チップ内のメモリコントローラとして実装される。チップは、半導体材料上に作製された1式の微細小型電子回路であってよい。
一実施形態においては、装置500は、比較ロジック520および読み出しロジック530とともに実装される。比較ロジック510は、メモリセル510のビット値を求める。図2を参照して上述したようにセル電圧を1対の部分参照電圧と比較して、比較結果を生成することで、ビット値を求めてよい。読み出しロジック530は、比較結果に基づいてビット値を求める。
ビット値は、メモリセル510に格納されている2ビットのMSBである第1ビットを表してよい。第1ビットおよび第2ビットは、バイナリグレイコードによりMLCに格納される。第2ビットはLSBである。グレイコードは二進値に対して、隣接する二進値間の1つのビットの値を変更するよう命令する。
LSBを求めるべく、比較ロジック520は、MLCのセル電圧を、他の部分参照電圧対と比較して、比較結果を生成するよう構成される。比較結果は、ログ尤度比(LLR)で表されてよい。LLRは、あるセル値がメモリセル510に格納されている確率である。以下で説明するように、復号器は、LLR、隣接するビット同士の値、および誤り訂正アルゴリズムに基づいて実際のセル値を求める。
一実施形態においては、第2ビットを求めやすくするべく、比較ロジック520は、第1参照電圧および第2参照電圧を含む別の部分参照電圧対を生成するよう構成される。第1および第2参照電圧は、互いに重複しない異なるMLC閾値電圧範囲内の異なる電圧値である。重複しないMLC閾値電圧範囲はそれぞれ、異なる第2ビット値に対応する。第1参照電圧および第2参照電圧は、互いに異なるMLC閾値電圧範囲内の異なる電圧値であるので図2を参照して上述した部分参照電圧対の定義に当てはまり、1つの部分参照電圧対を形成する。
比較ロジック520は、第2ビットを格納するMLCのトランジスタのゲートに、第1参照電圧を加えることで、メモリセル510の電圧レベルと第1参照電圧とを比較するよう構成される。読み出しロジック530は、トランジスタに電流の流れがあるか否かを判断するよう構成される。読み出しロジック530は、トランジスタでドレインからソースへ電流が流れる場合に、電圧レベルが第1参照電圧より低いと判断する。メモリセル510は、セル電圧を格納するトランジスタゲートに電子を注入することで、予めプログラミングしておいてもよい。
読み出しロジック530は、第2ビットの値を、比較結果に応じて求める。第2ビットの値は、図2を参照して説明したように、セル電圧が部分参照電圧対より大きいか小さいか比較することで求められる。第1ビットおよび第2ビットは任意の順序で読み出されてよく、第2ビットは第1ビットの読み出しを伴わず読み出されてもよく、その逆であってもよい。
一実施形態においては、比較ロジック520は、2対の部分参照電圧を利用して第2ビット値を求める。図2を参照して上述したように部分参照電圧対をセル電圧と比較する。別の例においては、比較ロジック520は、1対の部分参照電圧を利用して、2ビットを格納するメモリセル510の第2ビット値を求める。
1実装例においては、第1ビットおよび第2ビットは、MLC閾値電圧値に対応し、ここで、MLC閾値電圧値はそれぞれ、異なっており互いに重複しないMLC閾値電圧範囲に対応している。閾値電圧範囲はそれぞれ、図1の電圧帯域1−4に対応している。例えば、閾値電圧範囲が図1の電圧帯域1または電圧帯域2にあるとき、MSBは「1」である。
部分参照電圧対は、図2に示す互いに異なる電圧領域R1−7にある第1参照電圧および第2参照電圧を含む。異なる電圧領域同士は互いに重複しない。他の実施形態においては、電圧範囲数が異なっていてよく、また、部分参照電圧対の数も異なっていてよい。
1つの構成においては、MLC閾値電圧範囲間の境界は、全体参照電圧に対応している。第1参照電圧は、全体参照電圧の電圧値と異なっている。第2参照電圧は、全体参照電圧の電圧値と異なっている。
一実施形態においては、比較ロジック520は、ソフトビット値を表す電圧比較結果をソフト復号器に提供してよい。ソフトビット値は、ソフトビット値が特定のビット値に対応する確率である。ソフト復号器は、関連ビットのソフト値同士を比較して、他の隣接する510個のメモリセルにおけるソフトビット値を分析してよい。ソフト復号器は、実際の第1ビット値と実際の第2ビット値とを、関連するソフト値の分析および比較に基づいて求める。ソフト復号器は、ビット値が誤りを含む場合、誤り訂正ロジックを用いてビット値を訂正してよい。例えば、ソフト復号器は、低密度パリティチェック(LDPC)復号器またはターボ復号器であってよく、第1ビットおよび第2ビットに関連するパリティチェックビットを利用してビット誤りを訂正してよい。
一例においては、比較ロジック520は、メモリセル510のセル電圧Vthを参照電圧対V、V1−xと比較することで、第1ビットのソフト値(2ビットのメモリセルのMSB)を求める。参照電圧対を図2に示す。可能性ある比較の結果を以下の表1に示す。表1の出力Yは、3つの有効な比較結果に対応するソフト値である。1つの比較結果は現実に可能ではない、というのも、Vthが、Vより小さくV1−xより大きいという条件を同時に満たすことができないからである。
Figure 2014160534
出力Yは閾値電圧のソフト値である。V00、V01、V10、およびV11は、図2に示す理想的な二進ビット値00、01、10、および11を表す電圧であってよい。閾値電圧が閾値参照電圧対の間にあるとき、ソフト値は(V+V1−x)/2である。閾値参照電圧対の間の閾値電圧は、低い信頼度のソフト値を示しうる。ソフト復号器は、信頼度が低い場合、より注意を払って関連する隣接ソフトビット値を観察する。ソフト復号器は、低い信頼度のソフトビット値に隣接するソフトビット値に対して、より大きな重きを置いてよい。
比較ロジック520は、第2部分参照電圧と閾値電圧との間で同様な比較を行い、第2ビットに関連するソフトビット値(例えば、2ビットのメモリセルのLSB)を求めるよう構成される。読み出しロジック530は、少なくとも部分的に第2部分参照電圧の比較結果に基づくソフト値であってよい第2ビット値を求める。比較結果および比較結果から求められた第2ビット値を以下の表2に示す。
Figure 2014160534
図6は、メモリセル内のデータビットへアクセスする装置600の一実施形態を示す。装置600は、メモリセルのビット値を、全体参照電圧の利用によるのではなく、部分参照電圧を利用することにより求める。メモリセルは、2以上のビット値を格納するマルチレベルセル(MLC)であってよい。装置600は、MLCの他のビット値を求めるのではなく、部分参照電圧を利用することでMLCの1ビット値を求めることができる。部分参照電圧および全体参照電圧は、図1および2を参照しながら上述した。装置600は、フラッシュメモリに実装されているMLCにアクセスするよう実装されてよい。装置600は、フラッシュメモリを制御するコントローラに実装されうる。
一実施形態においては、装置600は、部分電圧生成器610、アクセスロジック620、および結果生成ロジック630とともに実装される。装置600は、メモリアクセス命令を受信してよい。メモリアクセス命令は、フラッシュメモリの第1ページおよび第2ページへのアクセスを要求してよい。一実施形態においては、命令復号ロジックを、受信されたメモリアクセス命令を復号するよう構成してよい。命令は、組合せ論理で実装される命令復号ロジックにより復号してよい。
部分電圧生成器610は、部分参照電圧対を生成する。部分参照電圧対は、アクセスロジック620がメモリ640に表される電圧値を求めることのできるよう、生成される。電圧値は、フラッシュメモリの第1ページのビット値を表してよく、メモリ640はフラッシュメモリセルであってよい。アクセスロジック620は、メモリ640の電圧レベルを、部分参照電圧対と比較して比較結果を生成することで電圧値を求める。
例えば、部分参照電圧対は、図2に示す部分参照電圧対V、Vx−1であってよい。結果生成ロジック630は、比較結果に基づき、電圧値を表1の出力Yの値に設定する。例えば、結果生成ロジック630は、メモリセル640電圧レベルがVとVx−1との間にある場合、電圧値を適切な値(V+Vx−1)/2に設定する。適切な値は後に、復号器に対して、適切な値が低信頼度の値であり、第1値を高い信頼度で求めるには誤り訂正を行う必要がありえることを示してよい。
一実施形態においては、ビット値は、MLCのMSBを表しうる。結果生成ロジック630は、MSBのログ尤度比(LLR)を、比較結果に応じて生成するよう構成される。LLRは、ある値がメモリセル640に電圧値として格納されている確率であってよい。例えば、MSBのLLRは以下のように表されうる。
Figure 2014160534
第2ビットMLCの第2ビット(LSB)のLLRは以下のように表されうる。
Figure 2014160534
変数yは読み出されたセル電圧である。変数v11、v10、v01、およびv10は、それぞれ、図1および2のセル電圧範囲100および200に示されている電圧V11、V10、V00、およびV10である。変数σ11、σ10、σ01、およびσ00は、それぞれ、電圧V11、V10、V00、およびV10の分布関数の標準偏差である。
結果生成ロジック630はMSBを量子化する。量子化は、メモリセル640の電圧レベル等の連続する値の範囲を、1式の離散シンボルまたは離散値に近似する処理である。デジタル信号処理においては、多次元信号は、連続する値の範囲を離散シンボルまたは整数値に近似することで量子化される。これに対して、離散的信号は量子化される必要がない。
一実施形態においては、アクセスロジック610は、メモリセル640の電圧レベルを読み出す。結果生成ロジック630は、電圧レベルを量子化値に量子化することで、量子化値を生成する。そして、結果生成ロジック630は、ログ尤度比(LLR)を、量子化値に応じて生成する。結果生成ロジック630は、LLR値を特定のビットに変換する復号器とともに実装される。
別の実施形態においては、結果生成ロジック630は、ビット値を非二進数に量子化してよい。装置600は、非二進量子化値であるビット値を二進値に復号するビット復号ロジックとともに実装されよい。
例えば、サンプリング回路は、メモリ640の電圧のアナログサンプルを採ってよい。ビット復号ロジックは、アナログ電圧サンプルを二進値に量子化してよい。ビット復号ロジックは、1を超える数のビットを一度に復号する低密度パリティチェック(LDPC)復号器またはターボ復号器であってよい。例えば、8個の異なるメモリ640からの8個のデータビットが一緒に復号されてよい。LDPC復号器は、LDPCアルゴリズムを利用して、8データビットのビット誤りを訂正してよい。ビット復号ロジックは、他の誤り訂正方法で誤りを訂正してもよく、誤り訂正にパリティビットを利用してもよい。
一実施形態においては、制御ロジックは、メモリページの1データ値ページを決定するよう結果生成ロジック630を制御するよう構成される。ビット値は、該データ値ページの1ビットを表す。該ページは、フラッシュメモリセルのバンクから読み出されたビット列であってよい。該ビット列は、1ワードラインのラインに関するビット列に対応してよい。例えば、第1ページは4096(4K)データビットを含んでよい。ビット値は、第1ページの4096ビットのうちいずれかを表す。他の4096ビットは、装置600がビット値を決定したのと同様に並行して決定されてよい。
一実施形態において、装置600は、互いに異なる部分参照電圧対を生成する部分電圧生成器610によってMLCの他のビット値から独立して第2ビットを決定してよい。アクセスロジック620は、互いに異なる部分参照電圧対を、メモリセル640の閾値電圧と比較する。一例においては、第2の部分参照電圧対は、図2の部分参照電圧対V'、V'x−1およびV''、V''x−1に対応していてよい。メモリセル640の電圧レベルを、異なる部分参照電圧対と比較することで、第2ページに対応する第2値をメモリセル640から読み出す。結果生成ロジック630は、第2値を量子化して、第2量子化ビット値を生成するよう構成されてよい。結果生成ロジック630は、第2量子化ビット値に基づいて第2LLR値を生成してよい。第2LLR値は、上述のソフト復号器で実際のビット値に変換されてよい。
図7は、メモリセル内のデータビットへのアクセス方法700の一実施形態を示す。方法700は、部分参照電圧同士を比較して、全体参照電圧同士の比較を行わずビット値を求めることで、複数のビットを有するメモリセルを読み出す方法を改良している。メモリセルはマルチレベルセル(MLC)であってよい。部分参照電圧対は、図2、5、および6を参照して上述した。方法700は、フラッシュメモリチップに実装されてよい。方法は、ハードウェア(例えばチップ)、ソフトウェア、またはハードウェアとソフトウェアとの組み合わせで実装されうる。
方法700は、710で、メモリセル閾値電圧を1対の部分参照電圧と比較して、比較結果を生成する。メモリセルは、1以上のビット値を、メモリセル閾値電圧として格納する。比較はコンパレータを用いて行われてよい。コンパレータは、部分参照電圧を、メモリセルのトランジスタのゲートに供給することで、電圧レベルを第1参照電圧と比較する。トランジスタでドレインからソースへ電流が流れる場合、電圧レベルは部分参照電圧より低い。他の部分参照電圧をメモリセルに供給して、他の比較結果を生成してもよい。
720で、メモリセルに表されるビット値を生成する決定がなされる。720の決定は、少なくとも部分的に、全体参照電圧を利用しない比較結果に基づく。ビット値は、先ず上述の表1および表2により量子化ビット値を生成することで求められてよい。後述するように、量子化ビット値はログ尤度比(LLR)に変換されて、ソフト復号器に送られてよい。ソフト復号器は、少なくとも部分的に量子化値に基づいてメモリセル閾値電圧で表されるビット値を求める。
図8は、メモリセル内のデータビットへのアクセス方法800の一実施形態を示す。方法800は、部分参照電圧同士を比較して、全体参照電圧同士の比較を行わずビット値を求めることで、ビットを格納するメモリセルを読み出す方法を改良している。方法800は、ハードウェア(例えばチップ)、メモリに格納されている実行可能な命令、またはハードウェアと命令との組み合わせを用いて実装されうる。
方法800は、810で、メモリセル閾値電圧を一対の部分参照電圧と比較して、比較結果を生成する。ビット値の量子化値を生成する(820)。一実施形態においては、ビット値は、(V11+V10)/2、(V+V1−x)/2、および(V00+V01)/2という3つの値の1つに量子化される。値VとV1−xとは、部分参照電圧対の電圧値である。セル電圧は、上述の表1により量子化されてよい。ビット値は、メモリセルが2ビットマルチレベルセル(MLC)である場合、上述の表2により量子化されてよい。ビット値は他の方法での量子化も可能であることは当業者が理解するところである。
830で、量子化されたビット値がログ尤度比(LLR)に変換されうる。LLRは、メモリセル閾値電圧に対応していて、ビット値と関連付けられている。LLRは、ある値がメモリセルに第1の値として格納されている確率であってよい。1セルにつき2データビットを格納するメモリセルにおいては、1つのメモリ電圧がMSBおよびLSBを表す。LSBおよびMSBのLLRは、以下のように計算される。
Figure 2014160534
値LLRMSBおよびLLRLSBは、それぞれ、第1ビット値および第2ビット値のLLR値である。変数yはセル電圧である。変数v11、v10、v01、およびv10は、それぞれ、図1および2のセル電圧範囲100および200に示されている中央電圧V11、V10、V00、およびV10である。変数σ11、σ10、σ01、およびσ00は、それぞれ、電圧V11、V10、V00、およびV10の分布関数の標準偏差である。
方法800は、840で、LLRをソフト復号器に送る。ソフト復号器は、実際の第1ビット値をLLRに応じて求める。ソフト復号器は、少なくとも部分的にLLRに基づいて第1ビット値を求める低密度パリティチェック(LDPC)復号器またはターボ復号器であってよい。上述のように、ソフト復号器は、少なくとも部分的にLLR、他のMLCビット値、および誤り訂正アルゴリズムに基づいて、実際の第1ビット値を求める。
別の実施形態においては、1メモリページを生成する(850)。ビット値は、該メモリページのビットのうちいずれかを表す。1メモリページは、4096個のデータビットであってよく、フラッシュメモリアレイのデータの1ビットラインに対応していてよい。該メモリページの他のビットは、他のMLCの他のビット値に対応していてよい。他のビット値は、ビット値同様に求められてよい。該メモリページは、4096ビットとは異なる数のビット数である他のサイズであってよい。該メモリページのサイズは、他の規格同様にメモリセルアレイのアーキテクチャによって変わる。
一実施形態では、本方法は、コンピュータ可読媒体に具体化および格納されるコンピュータ実行可能な命令として実装されうる。機械(プロセッサ、デバイス)により実行されると、命令は、機械に、本方法およびその均等物を行わせる。方法はさらに、回路とともに実装されることもできる。
図9は、ここで記載される例示的なシステム、方法および均等物が実装される例示的なコンピュータ900を示す。例示的なコンピュータ900は、プロセッサ910、メモリ920、およびバス940により接続された入出力ポート930を含む。一例においては、コンピュータ900は、メモリセルの1以上のビットにアクセスするメモリアクセスロジック950を含む。メモリアクセスロジック950は、メモリセル電圧を部分参照電圧と比較することで、メモリセル内の1以上のビットを求めるよう構成される。メモリアクセスロジック950は、メモリセルの1ビットに、該メモリセルに格納されうる他のビットとは独立して、アクセスするよう構成される。
メモリアクセスロジック950は、フラッシュメモリ、固体メモリ、メモリ920、および別のメモリのメモリセルのデータに選択的にアクセスする手段(例えばハードウェア、格納されているソフトウェア、およびファームウェア)を提供する。メモリアクセスロジック950は、装置500および600、および/またはこれらフィーチャの組み合わせと同様の実装が可能である。メモリアクセスロジック950は、例えば、ASICまたは他の種類の回路として実装されたロジックを含みうる。
コンピュータ900の例示的な構成を概説すると、プロセッサ910は、デュアルマイクロプロセッサおよび他のマルチプロセッサアーキテクチャを含む様々な種類のプロセッサであってよい。メモリ920は、揮発性メモリおよび/または不揮発性メモリを含みうる。不揮発性メモリは、例えば、読み出し専用メモリ(ROM)、書き込み可能ROM(PROM)、消去可能書き込み可能ROM(EPROM)、電気的消去可能書き込み可能ROM(EEPROM(登録商標))等を含みうる。揮発性メモリは、例えば、ランダムアクセスメモリ(RAM)、スタティックRAM(SRAM)、ダイナミックRAM(DRAM)等を含みうる。
ディスク960は、例えば入出力インタフェース(例えばカード、デバイス)970および入出力ポート930を介して、コンピュータ900に接続されうる。ディスク960は、例えば、磁気ディスクドライブ、固体ディスクドライブ、フロッピーディスクドライブ、テープドライブ、ジップドライブ、フラッシュメモリカード、メモリスティック等であってよい。さらに、ディスク960は、コンパクトディスク読み取り専用メモリ(CD−ROM)ドライブ、コンパクトディスク書き込み可能な(CD−R)ドライブ、書き換え可能なコンパクトディスク(CD−RW)ドライブ、デジタルビデオディスク読み取り専用メモリ(DVD ROM)等であってよい。メモリ920は、例えば、処理980および/または990を格納してよい。ディスク960および/またはメモリ920は、コンピュータ900のリソースを制御し、割り当てるオペレーティングシステムを格納してよい。
バス940は、単一の内部バスインターコネクトアーキテクチャ(single internal bus interconnect architecture)および/または他のバスまたはメッシュアーキテクチャであってよい。単一のバスを例示してはいるが、コンピュータ900は、他のバス(例えば、PCIE(PCI Express)、1394、ユニバーサルシリアルバス(USB)、イサーネット)を利用して、様々なデバイス、ロジック、および周辺装置と通信してよい。バス940は、例えば、メモリバス、メモリコントローラ、周辺バス、外部バス、クロスバースイッチ、および/または、ローカルバスを含む種類であってよい。
コンピュータ900は、メモリアクセスロジック950と入出力ポート930とを含む入出力(I/O)インタフェース970を介して、入出力デバイスと相互作用してよい。入出力デバイスは、例えば、キーボード、マイクロフォン、ポインティングデバイスおよび選択デバイス、カメラ、ビデオカード、ディスプレイ、ディスク960、ネットワークデバイス999、等であってよい。入出力ポート930は、例えば、シリアルポート、パラレルポート、およびUSBポートを含みうる。
コンピュータ900は、ネットワーク環境下で動作しうるので、入出力インタフェース970、および/または、入出力ポート930を介してネットワークデバイス999に接続されることができる。ネットワークデバイス999を介して、コンピュータ900はネットワークと相互作用する。ネットワークを介して、コンピュータ900は遠隔のコンピュータと論理接続しうる。コンピュータ900が相互作用しうるネットワークは、ローカルエリアネットワーク(LAN)、ワイドローカルエリアネットワーク(WLAN)、ワイドエリアネットワーク(WAN)、および他のネットワークを含むが、これらに限定されない。
例示的なシステム、方法等をかなり詳細な例示により説明してきたが、出願人は、そのような詳細に添付請求項の範囲を限定する意図はない。もちろん、ここでシステム、方法等を示す目的から全ての想到可能なコンポーネントまたは方法を記載するのは不可能である。故に、本発明は特定の詳細に限定されず、代表的な装置および例示を示し、説明した。故に、本願は、添付請求個の範囲内にある全ての代替例、変更例、および変形例を含むことを意図する。
例示的なシステム、方法等をかなり詳細な例示により説明してきたが、出願人は、そのような詳細に添付請求項の範囲を限定する意図はない。もちろん、ここでシステム、方法等を示す目的から全ての想到可能なコンポーネントまたは方法を記載するのは不可能である。故に、本発明は特定の詳細に限定されず、代表的な装置および例示を示し、説明した。故に、本願は、添付請求個の範囲内にある全ての代替例、変更例、および変形例を含むことを意図する。
[項目1]
メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較することによって、前記少なくとも一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、全体参照電圧を利用せずに比較結果を生成する比較ロジックと、
前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルのビット値を求める読み出しロジックと、
を備え、
前記読み出しロジックは、低密度パリティチェック(LDPC)復号器またはターボ復号器のいずれかである軟判定復号器と関連付けられた誤り訂正符号(ECC)復号器で復号されうる1ワードラインのデータの一部である前記メモリセルのビット値を求める、装置。
[項目2]
メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較することによって、前記少なくとも一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、全体参照電圧を利用せずに比較結果を生成する比較ロジックと、
前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルのビット値を求める読み出しロジックと、
を備え、
グレイコード化されたビット値を格納する前記メモリセルを読み出す、装置。
[項目3]
前記読み出しロジックは、前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にある場合に、軟判定復号器によって前記ビット値を復号する、項目2に記載の装置。
[項目4]
前記比較ロジックは、第1参照電圧および第2参照電圧を含む前記少なくとも一対の部分参照電圧を生成し、
前記ビット値は、第1値または第2値のいずれかに対応しており、
第1閾値電圧範囲にある閾値電圧は、前記第1値に関連付けられ、
第2閾値電圧範囲にある閾値電圧は、前記第2値に関連付けられ、
前記第1閾値電圧範囲と前記第2閾値電圧範囲とは重複しない、項目1から3のいずれか一項に記載の装置。
[項目5]
前記比較ロジックは、第1参照電圧を含む前記少なくとも一対の部分参照電圧を生成し、
前記比較ロジックは、前記第1参照電圧を前記メモリセル内のトランジスタのゲートに供給して前記トランジスタで電流が流れるか否かを判断することで、前記メモリセルの前記閾値電圧を前記第1参照電圧と比較し、
前記比較ロジックは、前記トランジスタで電流がドレインからソースへ流れている場合、前記閾値電圧が前記第1参照電圧より低いと判断する、項目1から3のいずれか一項に記載の装置。
[項目6]
前記メモリセルは、同時にアクセスされる1ワードラインのメモリセルのなかの1つのセルであり、
前記1ワードラインのメモリセルは、1ワードラインのデータを読み出すべくアクセスされ、
前記1ワードラインのデータは、誤り訂正符号(ECC)で符号化されている、項目1から5のいずれか一項に記載の装置。
[項目7]
前記少なくとも一対の部分参照電圧は、第2参照電圧より低い第1参照電圧を含む、項目1から6のいずれか一項に記載の装置。
[項目8]
前記少なくとも一対の部分参照電圧は、前記セル全体の閾値電圧範囲を、複数の互いに重複しない電圧範囲に分割し、
前記読み出しロジックは、前記比較結果に基づいて量子化値を求める、項目1から7のいずれか一項に記載の装置。
[項目9]
前記メモリセルは、シングルレベルセル(SLC)またはマルチレベルセル(MLC)のいずれかであり、
前記シングルレベルセル(SLC)は1データビットを格納し、
前記マルチレベルセル(MLC)は2以上のデータビットを格納する、項目1から8のいずれか一項に記載の装置。
[項目10]
前記比較ロジックは更に、前記メモリセルの前記閾値電圧を少なくとも一対の第2部分参照電圧と比較し、
前記読み出しロジックは更に、前記メモリセルの前記閾値電圧と前記少なくとも一対の第2部分参照電圧との第2の比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルの第2のビット値を求める、項目1から8のいずれか一項に記載の装置。
[項目11]
前記比較ロジックは更に、前記メモリセルの第2のビット値を求めるための第1の一対の第2部分参照電圧および第2の一対の第2部分参照電圧の中から、前記比較結果に少なくとも部分的に基づき求められた前記ビット値に基づいて選択された1つの一対の第2部分参照電圧と、前記メモリセルの前記閾値電圧を比較し、
前記読み出しロジックは更に、前記メモリセルの前記閾値電圧と前記選択された前記1つの前記一対の第2部分参照電圧との比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルの第2のビット値を求める、項目1から8のいずれか一項に記載の装置。
[項目12]
メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較することによって、前記少なくとも一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、全体参照電圧を利用せずに比較結果を生成する比較ロジックと、
前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルのビット値を求める読み出しロジックと、
を備え、
前記読み出しロジックは、少なくとも部分的に、前記メモリセルの前記閾値電圧に対応するログ尤度比(LLR)に応じて前記ビット値を求める、装置。
[項目13]
方法であって、
メモリセルの閾値電圧を、一対の部分参照電圧と比較することによって、前記一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、前記メモリセルの前記閾値電圧を全体参照電圧と比較することなく比較結果を生成する段階と、
前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルで表されるビット値を求める段階と、
を備え、
前記方法は、
前記メモリセルの前記閾値電圧に対応し、前記ビット値に関連付けられたログ尤度比(LLR)を生成する段階
をさらに備える、方法。
[項目14]
前記ビット値が関連付けられた1メモリページを生成する段階と、
前記1メモリページを、前記1メモリページからデータを要求した要求ロジックへ転送する段階と、
をさらに備える、項目13に記載の方法。
[項目15]
互いに異なるメモリ値同士は、互いに異なり重複しないメモリセル閾値電圧範囲に対応しており、
前記一対の部分参照電圧は、互いに異なるメモリセル閾値電圧範囲にある互いに異なる電圧値である第1参照電圧と第2参照電圧とを含み、
前記互いに異なるメモリセル閾値電圧範囲に少なくとも部分的に基づいて前記ビット値を求める、項目13または14に記載の方法。
[項目16]
前記ビット値を求める段階は、
前記ログ尤度比を軟判定復号器へ送る段階を有し、
前記軟判定復号器は、少なくとも部分的に、前記ビット値を前記ログ尤度比に応じて求める、項目13から15のいずれか一項に記載の方法。
[項目17]
前記ビット値を求める段階は、前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にある場合に、軟判定復号器によって前記ビット値を復号する、項目13から15のいずれか一項に記載の方法。
[項目18]
前記メモリセルの前記閾値電圧を少なくとも一対の第2の部分参照電圧と比較して、前記メモリセルで表される第2のビット値を求めるよう、前記メモリセルを制御する段階
をさらに備え、
前記ビット値はメモリの第1ページ内のビットの値を表し、前記第2のビット値は前記メモリの第2ページ内のビットの値を表す、項目13から17のいずれか一項に記載の方法。
[項目19]
前記メモリセルの第2のビット値を求めるための第1の一対の第2部分参照電圧および第2の一対の第2部分参照電圧の中から、前記比較結果に少なくとも部分的に基づき求められた前記ビット値に基づいて、1つの一対の第2部分参照電圧を選択する段階と、
前記メモリセルの前記閾値電圧を、前記選択された前記1つの一対の第2部分参照電圧と比較する段階と、
前記メモリセルの前記閾値電圧と前記選択された前記1つの前記一対の第2部分参照電圧との比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルで表される第2のビット値を求める段階と、
をさらに備える項目13から17のいずれか一項に記載の方法。
[項目20]
一対の部分参照電圧を生成する部分電圧生成器と、
フラッシュメモリに関連付けられたメモリセルの電圧レベルを前記一対の部分参照電圧と比較することによって、前記一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの電圧レベルがビット値間の境界を含む電圧範囲内にあるか否かを検出するとともに、前記メモリセルの前記電圧レベルと全体参照電圧とを比較することなく、前記メモリセルで表される電圧値を求め、ログ尤度比(LLR)を前記電圧値に応じて生成するアクセスロジックと、
前記ログ尤度比(LLR)に少なくとも部分的に基づいて、ビット値を生成する結果生成ロジックと、
を備える、装置。
[項目21]
前記メモリセルの前記ビット値間の境界は、前記全体参照電圧に対応しており、
前記一対の部分参照電圧の電圧値は、前記全体参照電圧とは異なる電圧値である、項目20に記載の装置。
[項目22]
前記結果生成ロジックは、前記メモリセルの前記電圧レベルを量子化して、量子化電圧を生成し、前記量子化電圧に少なくとも部分的に基づいて前記ビット値を生成する、項目20または21に記載の装置。
[項目23]
前記結果生成ロジックは、前記メモリセルの前記電圧レベルがビット境界に対応する電圧範囲内にある場合に、軟判定復号器で誤り訂正により前記ビット値を求める、項目20から22のいずれか一項に記載の装置。
[項目24]
前記メモリセルは、シングルレベルセル(SLC)またはマルチレベルセル(MLC)のいずれかであるフラッシュメモリセルであり、
前記シングルレベルセル(SLC)は1データビットを格納し、
前記マルチレベルセル(MLC)は2以上のデータビットを格納する、項目20から23のいずれか一項に記載の装置。
[項目25]
前記部分電圧生成器は更に、一対の第2部分参照電圧を生成し、
前記アクセスロジックは、前記メモリセルの前記電圧レベルを前記少なくとも一対の第2部分参照電圧と更に比較することによって、前記メモリセルで表される電圧値を求め、第2のログ尤度比(LLR)を前記電圧値に応じて生成し、
前記結果生成ロジックは更に、前記第2のログ尤度比(LLR)に少なくとも部分的に基づいて、第2のビット値を生成する、項目20から23のいずれか一項に記載の装置。

Claims (25)

  1. メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較することによって、前記少なくとも一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、全体参照電圧を利用せずに比較結果を生成する比較ロジックと、
    前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルのビット値を求める読み出しロジックと、
    を備え、
    前記読み出しロジックは、低密度パリティチェック(LDPC)復号器またはターボ復号器のいずれかである軟判定復号器と関連付けられた誤り訂正符号(ECC)復号器で復号されうる1ワードラインのデータの一部である前記メモリセルのビット値を求める、装置。
  2. メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較することによって、前記少なくとも一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、全体参照電圧を利用せずに比較結果を生成する比較ロジックと、
    前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルのビット値を求める読み出しロジックと、
    を備え、
    グレイコード化されたビット値を格納する前記メモリセルを読み出す、装置。
  3. 前記読み出しロジックは、前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にある場合に、軟判定復号器によって前記ビット値を復号する、請求項2に記載の装置。
  4. 前記比較ロジックは、第1参照電圧および第2参照電圧を含む前記少なくとも一対の部分参照電圧を生成し、
    前記ビット値は、第1値または第2値のいずれかに対応しており、
    第1閾値電圧範囲にある閾値電圧は、前記第1値に関連付けられ、
    第2閾値電圧範囲にある閾値電圧は、前記第2値に関連付けられ、
    前記第1閾値電圧範囲と前記第2閾値電圧範囲とは重複しない、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
  5. 前記比較ロジックは、第1参照電圧を含む前記少なくとも一対の部分参照電圧を生成し、
    前記比較ロジックは、前記第1参照電圧を前記メモリセル内のトランジスタのゲートに供給して前記トランジスタで電流が流れるか否かを判断することで、前記メモリセルの前記閾値電圧を前記第1参照電圧と比較し、
    前記比較ロジックは、前記トランジスタで電流がドレインからソースへ流れている場合、前記閾値電圧が前記第1参照電圧より低いと判断する、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
  6. 前記メモリセルは、同時にアクセスされる1ワードラインのメモリセルのなかの1つのセルであり、
    前記1ワードラインのメモリセルは、1ワードラインのデータを読み出すべくアクセスされ、
    前記1ワードラインのデータは、誤り訂正符号(ECC)で符号化されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の装置。
  7. 前記少なくとも一対の部分参照電圧は、第2参照電圧より低い第1参照電圧を含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の装置。
  8. 前記少なくとも一対の部分参照電圧は、前記セル全体の閾値電圧範囲を、複数の互いに重複しない電圧範囲に分割し、
    前記読み出しロジックは、前記比較結果に基づいて量子化値を求める、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
  9. 前記メモリセルは、シングルレベルセル(SLC)またはマルチレベルセル(MLC)のいずれかであり、
    前記シングルレベルセル(SLC)は1データビットを格納し、
    前記マルチレベルセル(MLC)は2以上のデータビットを格納する、請求項1から8のいずれか一項に記載の装置。
  10. 前記比較ロジックは更に、前記メモリセルの前記閾値電圧を少なくとも一対の第2部分参照電圧と比較し、
    前記読み出しロジックは更に、前記メモリセルの前記閾値電圧と前記少なくとも一対の第2部分参照電圧との第2の比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルの第2のビット値を求める、請求項1から8のいずれか一項に記載の装置。
  11. 前記比較ロジックは更に、前記メモリセルの第2のビット値を求めるための第1の一対の第2部分参照電圧および第2の一対の第2部分参照電圧の中から、前記比較結果に少なくとも部分的に基づき求められた前記ビット値に基づいて選択された1つの一対の第2部分参照電圧と、前記メモリセルの前記閾値電圧を比較し、
    前記読み出しロジックは更に、前記メモリセルの前記閾値電圧と前記選択された前記1つの前記一対の第2部分参照電圧との比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルの第2のビット値を求める、請求項1から8のいずれか一項に記載の装置。
  12. メモリセルの閾値電圧を、少なくとも一対の部分参照電圧と比較することによって、前記少なくとも一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、全体参照電圧を利用せずに比較結果を生成する比較ロジックと、
    前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルのビット値を求める読み出しロジックと、
    を備え、
    前記読み出しロジックは、少なくとも部分的に、前記メモリセルの前記閾値電圧に対応するログ尤度比(LLR)に応じて前記ビット値を求める、装置。
  13. 方法であって、
    メモリセルの閾値電圧を、一対の部分参照電圧と比較することによって、前記一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にあるか否かを検出し、前記メモリセルの前記閾値電圧を全体参照電圧と比較することなく比較結果を生成する段階と、
    前記比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルで表されるビット値を求める段階と、
    を備え、
    前記方法は、
    前記メモリセルの前記閾値電圧に対応し、前記ビット値に関連付けられたログ尤度比(LLR)を生成する段階
    をさらに備える、方法。
  14. 前記ビット値が関連付けられた1メモリページを生成する段階と、
    前記1メモリページを、前記1メモリページからデータを要求した要求ロジックへ転送する段階と、
    をさらに備える、請求項13に記載の方法。
  15. 互いに異なるメモリ値同士は、互いに異なり重複しないメモリセル閾値電圧範囲に対応しており、
    前記一対の部分参照電圧は、互いに異なるメモリセル閾値電圧範囲にある互いに異なる電圧値である第1参照電圧と第2参照電圧とを含み、
    前記互いに異なるメモリセル閾値電圧範囲に少なくとも部分的に基づいて前記ビット値を求める、請求項13または14に記載の方法。
  16. 前記ビット値を求める段階は、
    前記ログ尤度比を軟判定復号器へ送る段階を有し、
    前記軟判定復号器は、少なくとも部分的に、前記ビット値を前記ログ尤度比に応じて求める、請求項13から15のいずれか一項に記載の方法。
  17. 前記ビット値を求める段階は、前記メモリセルの前記閾値電圧がビット境界に対応する電圧範囲内にある場合に、軟判定復号器によって前記ビット値を復号する、請求項13から15のいずれか一項に記載の方法。
  18. 前記メモリセルの前記閾値電圧を少なくとも一対の第2の部分参照電圧と比較して、前記メモリセルで表される第2のビット値を求めるよう、前記メモリセルを制御する段階
    をさらに備え、
    前記ビット値はメモリの第1ページ内のビットの値を表し、前記第2のビット値は前記メモリの第2ページ内のビットの値を表す、請求項13から17のいずれか一項に記載の方法。
  19. 前記メモリセルの第2のビット値を求めるための第1の一対の第2部分参照電圧および第2の一対の第2部分参照電圧の中から、前記比較結果に少なくとも部分的に基づき求められた前記ビット値に基づいて、1つの一対の第2部分参照電圧を選択する段階と、
    前記メモリセルの前記閾値電圧を、前記選択された前記1つの一対の第2部分参照電圧と比較する段階と、
    前記メモリセルの前記閾値電圧と前記選択された前記1つの前記一対の第2部分参照電圧との比較結果に少なくとも部分的に基づいて、前記メモリセルで表される第2のビット値を求める段階と、
    をさらに備える請求項13から17のいずれか一項に記載の方法。
  20. 一対の部分参照電圧を生成する部分電圧生成器と、
    フラッシュメモリに関連付けられたメモリセルの電圧レベルを前記一対の部分参照電圧と比較することによって、前記一対の部分参照電圧を利用して前記メモリセルの電圧レベルがビット値間の境界を含む電圧範囲内にあるか否かを検出するとともに、前記メモリセルの前記電圧レベルと全体参照電圧とを比較することなく、前記メモリセルで表される電圧値を求め、ログ尤度比(LLR)を前記電圧値に応じて生成するアクセスロジックと、
    前記ログ尤度比(LLR)に少なくとも部分的に基づいて、ビット値を生成する結果生成ロジックと、
    を備える、装置。
  21. 前記メモリセルの前記ビット値間の境界は、前記全体参照電圧に対応しており、
    前記一対の部分参照電圧の電圧値は、前記全体参照電圧とは異なる電圧値である、請求項20に記載の装置。
  22. 前記結果生成ロジックは、前記メモリセルの前記電圧レベルを量子化して、量子化電圧を生成し、前記量子化電圧に少なくとも部分的に基づいて前記ビット値を生成する、請求項20または21に記載の装置。
  23. 前記結果生成ロジックは、前記メモリセルの前記電圧レベルがビット境界に対応する電圧範囲内にある場合に、軟判定復号器で誤り訂正により前記ビット値を求める、請求項20から22のいずれか一項に記載の装置。
  24. 前記メモリセルは、シングルレベルセル(SLC)またはマルチレベルセル(MLC)のいずれかであるフラッシュメモリセルであり、
    前記シングルレベルセル(SLC)は1データビットを格納し、
    前記マルチレベルセル(MLC)は2以上のデータビットを格納する、請求項20から23のいずれか一項に記載の装置。
  25. 前記部分電圧生成器は更に、一対の第2部分参照電圧を生成し、
    前記アクセスロジックは、前記メモリセルの前記電圧レベルを前記少なくとも一対の第2部分参照電圧と更に比較することによって、前記メモリセルで表される電圧値を求め、第2のログ尤度比(LLR)を前記電圧値に応じて生成し、
    前記結果生成ロジックは更に、前記第2のログ尤度比(LLR)に少なくとも部分的に基づいて、第2のビット値を生成する、請求項20から23のいずれか一項に記載の装置。
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Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100097456A (ko) * 2009-02-26 2010-09-03 삼성전자주식회사 메모리 시스템 및 그것의 플래시 변화 계층의 주소 할당 방법
JP4818381B2 (ja) * 2009-03-02 2011-11-16 株式会社東芝 半導体メモリ装置
US8675783B1 (en) * 2010-12-02 2014-03-18 Marvell International Ltd. Low complexity distance metrics for maximum likelihood receivers
US8549385B2 (en) * 2009-12-15 2013-10-01 Marvell World Trade Ltd. Soft decoding for quantizied channel
WO2011113034A2 (en) * 2010-03-12 2011-09-15 Sandforce, Inc. Ldpc erasure decoding for flash memories
US8427875B2 (en) 2010-12-07 2013-04-23 Silicon Motion Inc. Method and memory controller for reading data stored in flash memory by referring to binary digit distribution characteristics of bit sequences read from flash memory
US8446786B2 (en) 2011-01-20 2013-05-21 Micron Technology, Inc. Outputting a particular data quantization from memory
US9053804B2 (en) * 2011-02-25 2015-06-09 Seagate Technology Llc Reduced complexity reliability computations for flash memories
US8681564B2 (en) * 2011-05-23 2014-03-25 Marvell World Trade Ltd. Systems and methods for generating soft information in NAND flash
US8549380B2 (en) * 2011-07-01 2013-10-01 Intel Corporation Non-volatile memory error mitigation
CN103917964A (zh) * 2011-11-02 2014-07-09 国立大学法人东京大学 存储控制器和数据存储装置
US8644067B2 (en) 2011-11-30 2014-02-04 Sandisk Technologies Inc. Systems and methods of decoding data using soft bits at a non-binary decoder that uses probabilistic decoding
CN107240419B (zh) * 2012-02-22 2020-04-07 慧荣科技股份有限公司 读取快闪存储器中所储存的数据的方法、存储器控制器与***
US9286972B2 (en) * 2012-02-22 2016-03-15 Silicon Motion, Inc. Method, memory controller and system for reading data stored in flash memory
TWI571885B (zh) * 2012-02-24 2017-02-21 慧榮科技股份有限公司 讀取快閃記憶體中所儲存之資料的方法、記憶體控制器與系統
US9355026B1 (en) 2012-04-17 2016-05-31 Micron Technology, Inc. Searching using multilevel cells and programming multilevel cells for searching
US9064575B2 (en) 2012-08-03 2015-06-23 Micron Technology, Inc. Determining whether a memory cell state is in a valley between adjacent data states
US8793558B2 (en) * 2012-08-27 2014-07-29 Freescale Semiconductor, Inc. Adaptive error correction for non-volatile memories
US8804421B2 (en) * 2012-10-31 2014-08-12 Intel Corporation Center read reference voltage determination based on estimated probability density function
US9190174B2 (en) 2012-11-30 2015-11-17 Micron Technology, Inc. Determining soft data from a hard read
US9116822B2 (en) 2012-12-07 2015-08-25 Micron Technology, Inc. Stopping criteria for layered iterative error correction
US9229848B2 (en) 2013-01-21 2016-01-05 Micron Technology, Inc. Determining soft data for fractional digit memory cells
US9065483B2 (en) 2013-01-21 2015-06-23 Micron Technology, Inc. Determining soft data using a classification code
JP6367562B2 (ja) * 2013-01-31 2018-08-01 エルエスアイ コーポレーション 選択的なバイナリ復号および非バイナリ復号を用いるフラッシュ・メモリ内の検出および復号
US8929134B2 (en) * 2013-02-08 2015-01-06 Macronix International Co., Ltd. Method of programming a flash memory by enhancing the channel voltage of a program-inhibit bit line with a boosted inhibit scheme
KR102081415B1 (ko) * 2013-03-15 2020-02-25 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치의 llr 최적화 방법 및 비휘발성 메모리 장치의 에러 정정 방법
US9450619B2 (en) * 2013-03-22 2016-09-20 Seagate Technology Llc Dynamic log likelihood ratio quantization for solid state drive controllers
CN103365738B (zh) * 2013-07-29 2016-02-17 忆正科技(武汉)有限公司 多层次闪存器件的轻量级软信息获取方法
US9164828B2 (en) 2013-09-26 2015-10-20 Seagate Technology Llc Systems and methods for enhanced data recovery in a solid state memory system
US9236099B2 (en) 2013-12-10 2016-01-12 Seagate Technology Llc Multiple retry reads in a read channel of a memory
KR102174030B1 (ko) 2014-05-13 2020-11-05 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 저장 장치 및 그것의 읽기 방법
CN105468471A (zh) * 2014-09-12 2016-04-06 光宝科技股份有限公司 固态存储装置及其错误更正方法
KR20160046467A (ko) * 2014-10-21 2016-04-29 에스케이하이닉스 주식회사 컨트롤러, 반도체 메모리 시스템, 데이터 저장 시스템 및 그것의 동작 방법
KR20160052278A (ko) * 2014-11-04 2016-05-12 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 이의 동작 방법
GB201502809D0 (en) * 2015-02-19 2015-04-08 Oxford Nanopore Tech Ltd Mutant pore
KR20160102738A (ko) 2015-02-23 2016-08-31 에스케이하이닉스 주식회사 컨트롤러, 반도체 메모리 시스템 및 그것의 동작 방법
US10204006B2 (en) * 2015-10-28 2019-02-12 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Systems and methods for side data based soft data flash memory access
US10198316B2 (en) * 2015-10-28 2019-02-05 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Systems and methods for efficient flash memory access
US10108489B2 (en) * 2015-10-28 2018-10-23 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Systems and methods for efficient soft data based flash memory data recovery
KR20170083386A (ko) * 2016-01-08 2017-07-18 에스케이하이닉스 주식회사 데이터 저장 장치 및 그것의 동작 방법
CN106843771B (zh) * 2017-01-26 2019-11-19 合肥兆芯电子有限公司 存储器重读方法、存储器控制电路单元及存储器存储装置
US10469103B1 (en) * 2017-04-19 2019-11-05 Seagate Technology Llc Adaptive read retry optimization
KR102257050B1 (ko) * 2017-05-26 2021-05-27 에스케이하이닉스 주식회사 컨트롤러, 반도체 메모리 시스템 및 그것의 동작 방법
JP2019053798A (ja) 2017-09-14 2019-04-04 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置
US10566052B2 (en) * 2017-12-22 2020-02-18 Micron Technology, Inc. Auto-referenced memory cell read techniques
US10431301B2 (en) 2017-12-22 2019-10-01 Micron Technology, Inc. Auto-referenced memory cell read techniques
CN108761170B (zh) * 2018-05-18 2020-08-11 广东工业大学 一种nand参考电压测量方法、***、设备及存储介质
US10726922B2 (en) * 2018-06-05 2020-07-28 Sandisk Technologies Llc Memory device with connected word lines for fast programming
CN109669806B (zh) * 2018-12-24 2020-06-30 西南交通大学 一种用于nand闪存的译码似然比软值的生成方法和装置
US10897267B1 (en) * 2019-12-31 2021-01-19 Texas Instruments Incorporated Multi-output digital to analog converter
WO2021189177A1 (zh) * 2020-03-23 2021-09-30 中国科学院微电子研究所 Ldpc软译码方法、存储器及电子设备
US11973516B2 (en) * 2022-07-06 2024-04-30 Innogrit Technologies Co., Ltd. Soft decoding correctable page assisted LLR estimation

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1011979A (ja) * 1996-06-19 1998-01-16 Sony Corp 半導体不揮発性記憶装置
JP2001093288A (ja) * 1999-09-20 2001-04-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2003203435A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Fujitsu Ltd データ再生装置
JP2005032431A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Samsung Electronics Co Ltd マルチレベルセルを有するフラッシュメモリ装置とその読み出し方法及びプログラム方法
JP2005078721A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 誤り訂正方法およびメモリ回路
US20080055990A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor storage device and non-volatile storage system
WO2008042593A1 (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Sandisk Corporation Nonvolatile memory with error correction based on the likehood the error may occur
WO2008140171A1 (en) * 2007-05-14 2008-11-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for reading data and method using the same
JP2009158043A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Elpida Memory Inc 半導体集積回路及びその不安定ビットの検出方法
JP2009537935A (ja) * 2006-05-15 2009-10-29 アップル インコーポレイテッド 多値データ記憶セルの保守動作
JP2010505200A (ja) * 2006-09-28 2010-02-18 サンディスク コーポレイション ソフト入力ソフト出力(siso)復号器を有する不揮発性メモリにおける統計ユニットおよび適応操作

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09320289A (ja) * 1996-05-30 1997-12-12 Toshiba Corp 半導体不揮発性メモリ
US7174429B2 (en) 2001-12-28 2007-02-06 Intel Corporation Method for extending the local memory address space of a processor
US6751766B2 (en) * 2002-05-20 2004-06-15 Sandisk Corporation Increasing the effectiveness of error correction codes and operating multi-level memory systems by using information about the quality of the stored data
JP2004348803A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Sharp Corp 不揮発性メモリ素子のプログラム検証方法および半導体記憶装置とそれを備えた携帯電子機器
US7023735B2 (en) 2003-06-17 2006-04-04 Ramot At Tel-Aviv University Ltd. Methods of increasing the reliability of a flash memory
US7372731B2 (en) * 2003-06-17 2008-05-13 Sandisk Il Ltd. Flash memories with adaptive reference voltages
JP4322686B2 (ja) * 2004-01-07 2009-09-02 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US8055979B2 (en) * 2006-01-20 2011-11-08 Marvell World Trade Ltd. Flash memory with coding and signal processing
US7796802B2 (en) 2006-09-26 2010-09-14 The Boeing Company System for recording and displaying annotated images of object features
JP5177991B2 (ja) * 2006-10-25 2013-04-10 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
KR100766042B1 (ko) * 2006-12-06 2007-10-12 삼성전자주식회사 연접 부호화를 이용한 멀티 레벨 셀 메모리 장치
US7814401B2 (en) 2006-12-21 2010-10-12 Ramot At Tel Aviv University Ltd. Soft decoding of hard and soft bits read from a flash memory
US7904793B2 (en) * 2007-03-29 2011-03-08 Sandisk Corporation Method for decoding data in non-volatile storage using reliability metrics based on multiple reads
US7751237B2 (en) * 2007-09-25 2010-07-06 Sandisk Il, Ltd. Post-facto correction for cross coupling in a flash memory
JP5193830B2 (ja) * 2008-12-03 2013-05-08 株式会社東芝 不揮発性半導体メモリ

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1011979A (ja) * 1996-06-19 1998-01-16 Sony Corp 半導体不揮発性記憶装置
JP2001093288A (ja) * 1999-09-20 2001-04-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2003203435A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Fujitsu Ltd データ再生装置
JP2005032431A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Samsung Electronics Co Ltd マルチレベルセルを有するフラッシュメモリ装置とその読み出し方法及びプログラム方法
JP2005078721A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 誤り訂正方法およびメモリ回路
JP2009537935A (ja) * 2006-05-15 2009-10-29 アップル インコーポレイテッド 多値データ記憶セルの保守動作
US20080055990A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor storage device and non-volatile storage system
JP2008059679A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及び不揮発性記憶システム
WO2008042593A1 (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Sandisk Corporation Nonvolatile memory with error correction based on the likehood the error may occur
JP2010505200A (ja) * 2006-09-28 2010-02-18 サンディスク コーポレイション ソフト入力ソフト出力(siso)復号器を有する不揮発性メモリにおける統計ユニットおよび適応操作
WO2008140171A1 (en) * 2007-05-14 2008-11-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for reading data and method using the same
JP2009158043A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Elpida Memory Inc 半導体集積回路及びその不安定ビットの検出方法

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