JP2014146636A - 照明方法及び装置、空間光変調器の制御方法、並びに露光方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】入射光の状態を制御可能な複数の光学要素を用いて被照射面を照明する場合に、光強度分布の変動を抑制する。
【解決手段】SLM面RPに反射面が配置される複数のミラー要素16を介して、光源10からパルス発光される照明光ILでレチクル面Raを照明する照明方法において、光源10における照明光ILのパルス発光を制御する発光制御信号CSを取得することと、発光制御信号CSに基づいて、SLM面RPに入射する照明光ILを制御可能な複数のミラー要素16の制御量を設定することと、を含む。
【選択図】図1
【解決手段】SLM面RPに反射面が配置される複数のミラー要素16を介して、光源10からパルス発光される照明光ILでレチクル面Raを照明する照明方法において、光源10における照明光ILのパルス発光を制御する発光制御信号CSを取得することと、発光制御信号CSに基づいて、SLM面RPに入射する照明光ILを制御可能な複数のミラー要素16の制御量を設定することと、を含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、被照射面を照明する照明技術、この照明技術で使用可能な空間光変調器の制御技術、その照明技術又は制御技術を用いる露光技術、及びこの露光技術を用いるデバイス製造技術に関する。
例えば半導体素子等の電子デバイス(マイクロデバイス)を製造するためのリソグラフィー工程で使用されるステッパー又はスキャニングステッパー等の露光装置は、レチクル(マスク)を様々な照明条件で、かつ均一な照度分布で照明するために照明光学装置を備えている。最近の照明光学装置としては、照明光学系の瞳面(射出瞳と共役な面)上での光強度分布の形状(以下、瞳形状という。)をレチクルのパターンに応じて様々な分布に最適化できるように、傾斜角可変の多数の微小なミラー要素を有する可動マルチミラー方式の空間光変調器(spatial light modulator)を用いる強度分布設定光学系を備えたタイプも提案されている(例えば特許文献1参照)。
従来の空間光変調器を有する照明光学装置を使用して露光を継続すると、空間光変調器の多数のミラー要素を介して設定される光強度分布、ひいては瞳形状が次第に変動することが分かった。これは、空間光変調器の各ミラー要素の駆動機構の剛性がこのミラー要素に対する露光用の照明光(露光光)の照射によって変化するためであると考えられる。
本発明の態様は、このような事情に鑑み、入射する光の状態を制御可能な複数の光学要素を用いて被照射面を照明する場合に、光強度分布の変動を抑制することを目的とする。
本発明の態様は、このような事情に鑑み、入射する光の状態を制御可能な複数の光学要素を用いて被照射面を照明する場合に、光強度分布の変動を抑制することを目的とする。
本発明の第1の態様によれば、第1面に配置される複数の光学要素を介して、光源からのパルス光で被照射面を照明する照明方法において、そのパルス光が発光する時間である発光時間の情報を取得することと、その発光時間の情報に基づいて、その第1面に入射するそのパルス光を制御可能なその複数の光学要素の制御量を設定することと、を含む照明方法が提供される。
また、第2の態様によれば、第1面に配置される複数の光学要素を介して、光源からのパルス光で被照射面を照明する照明方法において、そのパルス光の発光に関する情報である発光情報を取得することと、その第1面に入射する光を制御可能なその複数の光学要素の制御量として、その複数の光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量及びその複数の光学要素に共通の制御量を設定することと、その発光情報に基づいて、その複数の光学要素のその共通の制御量を補正することと、を含む照明方法が提供される。
また、第3の態様によれば、露光光源からの光でパターンを照明し、その露光光源からの光でそのパターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光方法において、第1又は第2の態様の照明方法を用いてその露光光源からの光でそのパターンの被照射面を照明することを含む露光方法が提供される。
また、第4の態様によれば、光源からのパルス光を用いて被照射面を照明する照明装置において、第1面に配置される複数の光学要素を備え、その第1面に入射するそのパルス光を制御可能な空間光変調器と、その複数の光学要素の制御量を設定する制御部と、を備え、その制御部は、そのパルス光が発光する時間である発光時間の情報を取得して、その発光時間の情報に基づいてその複数の光学要素の制御量を補正する照明装置が提供される。
また、第4の態様によれば、光源からのパルス光を用いて被照射面を照明する照明装置において、第1面に配置される複数の光学要素を備え、その第1面に入射するそのパルス光を制御可能な空間光変調器と、その複数の光学要素の制御量を設定する制御部と、を備え、その制御部は、そのパルス光が発光する時間である発光時間の情報を取得して、その発光時間の情報に基づいてその複数の光学要素の制御量を補正する照明装置が提供される。
また、第5の態様によれば、光源からのパルス光を用いて被照射面を照明する照明装置において、第1面に配置される複数の光学要素を備え、その第1面に入射するそのパルス光を制御可能な空間光変調器と、その複数の光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量及びその複数の光学要素に共通の制御量を設定する制御部と、を備え、その制御部は、そのパルス光が発光する発光情報を取得して、該発光情報に基づいて、その複数の光学要素のその共通の制御量を補正する照明装置が提供される。
また、第6の態様によれば、露光光でパターンを照明し、その露光光でそのパターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、第4又は第5の態様の照明装置を備え、その照明装置からの光をその露光光として用いる露光装置が提供される。
また、第7の態様によれば、それぞれ光を変調可能な複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、その複数の光学要素における光の変調量を規定する制御量のうち、その光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量を制御することと、その複数の光学要素における制御量のうち、その複数の光学要素に共通の制御量を制御することと、を含む制御方法が提供される。
また、第7の態様によれば、それぞれ光を変調可能な複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、その複数の光学要素における光の変調量を規定する制御量のうち、その光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量を制御することと、その複数の光学要素における制御量のうち、その複数の光学要素に共通の制御量を制御することと、を含む制御方法が提供される。
また、第8の態様によれば、露光光源からの光で、それぞれ光を変調可能な複数の光学要素を有する空間光変調器のその複数の光学要素を照明し、その複数の光学要素からの光で投影光学系を介して基板を露光する露光方法であって、第7の態様の空間光変調器の制御方法を用いて、その複数の光学要素における光の変調量を制御する露光方法が提供される。
また、第9の態様によれば、本発明の態様の露光方法又は露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成されたその基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
また、第9の態様によれば、本発明の態様の露光方法又は露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成されたその基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の態様によれば、複数の光学要素を介した光の光強度分布の変動を抑制することができる。
本発明の実施形態の一例につき図1〜図12を参照して説明する。
図1は本実施形態に係る露光装置EXの概略構成を示す。露光装置EXは、一例としてスキャニングステッパー(スキャナー)よりなる走査露光型の露光装置(投影露光装置)である。図1において、露光装置EXは、露光用の照明光(露光光)ILでレチクルR(マスク)のパターン面であるレチクル面Raを照明する照明装置8を備えている。照明装置8は、照明光ILをパルス発生する光源10と、光源10からの照明光ILでレチクル面Raを照明する照明光学系ILSと、照明条件の制御等を行う照明制御部36と、照明制御部36に接続された記憶装置33とを備えている。さらに、露光装置EXは、レチクルRを移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターンの像をウエハW(基板)の表面に投影する投影光学系PLと、ウエハWを移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータよりなる主制御系35と、各種制御系等とを備えている。
図1は本実施形態に係る露光装置EXの概略構成を示す。露光装置EXは、一例としてスキャニングステッパー(スキャナー)よりなる走査露光型の露光装置(投影露光装置)である。図1において、露光装置EXは、露光用の照明光(露光光)ILでレチクルR(マスク)のパターン面であるレチクル面Raを照明する照明装置8を備えている。照明装置8は、照明光ILをパルス発生する光源10と、光源10からの照明光ILでレチクル面Raを照明する照明光学系ILSと、照明条件の制御等を行う照明制御部36と、照明制御部36に接続された記憶装置33とを備えている。さらに、露光装置EXは、レチクルRを移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターンの像をウエハW(基板)の表面に投影する投影光学系PLと、ウエハWを移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータよりなる主制御系35と、各種制御系等とを備えている。
以下、投影光学系PLの光軸AXに平行にZ軸を設定し、Z軸に垂直な平面内において図1の紙面に平行な方向にX軸を、図1の紙面に垂直な方向にY軸を設定して説明する。本実施形態では、露光時のレチクルR及びウエハWの走査方向はY軸に平行な方向(Y方向)である。また、X軸、Y軸、及びZ軸に平行な軸の回りの回転方向(傾斜方向)をθx方向、θy方向、及びθz方向として説明する。
光源10としては、一例として波長193nmの直線偏光のレーザ光をパルス発光するArFエキシマレーザ光源が使用されている。なお、光源10として、波長248nmのレーザ光を供給するKrFエキシマレーザ光源、又は固体レーザ光源(YAGレーザ、半導体レーザ等)から出力されるレーザ光の高調波をパルス発生する高調波発生装置等も使用できる。
図1において、主制御系35から光源制御部34及び照明制御部36に、照明光ILの発光期間をオン(例えばハイレベル“1”)で示し、非発光期間をオフ(例えばローレベル“0”)で示す発光制御信号CSが供給される。主制御系35から光源制御部34には、照明光ILのパルスエネルギー及び発光周波数の情報等も供給されている。光源制御部34は、発光制御信号CSがオンの期間中に、一連のパルス光の発光タイミングを示す発光トリガーパルスTPを光源10に供給し、光源10は発光トリガーパルスTPに同期して照明光IL(ここではパルスレーザ光)を指定された周波数で発光する。光源10から射出された照明光ILは、ビームエキスパンダ11を含む伝達光学系、偏光方向及び偏光状態を調整するための偏光光学系12、及び光路折り曲げ用のミラー13を経て、空間光変調器(spatial light modulator:SLM)14のそれぞれ直交する2軸の回りの傾斜角が可変の多数の微小なミラー要素16の反射面に所定の小さい入射角で斜めに入射する。空間光変調器14(以下、SLM14という。)は、多数のミラー要素16のアレイと、各ミラー要素16を支持して駆動する駆動基板部15とを有する。以下では、ミラー要素16の2軸の回りの傾斜角(チルト角)を単にミラー要素16の角度とも呼ぶ。各ミラー要素16の角度はSLM制御系17によって制御される。
SLM14の全部のミラー要素16の反射面は、ミラー要素16の傾斜角が0の状態(又は電源オフの状態)で、ZY面に対して小さい角度で傾斜した平面(以下、SLM面という。)RPに設置されている。
図2(A)は、SLM14の一部を示す拡大斜視図である。図2(A)において、SLM14の駆動基板部15の表面には、ほぼY方向及びZ方向に一定ピッチで近接して配列された多数のミラー要素16のアレイが支持されている。
図2(A)は、SLM14の一部を示す拡大斜視図である。図2(A)において、SLM14の駆動基板部15の表面には、ほぼY方向及びZ方向に一定ピッチで近接して配列された多数のミラー要素16のアレイが支持されている。
図2(B)に示すように、p番目(pは1〜Pの整数)のミラー要素16の駆動機構は、一例としてミラー要素16を支柱41を介して支持するヒンジ部材43と、支持基板44と、支持基板44上にヒンジ部材43を支持する4つの絶縁性の支柱部材42と、支持基板44上に形成された4つの電極45A,45B,45C,45Dとを備えている。ミラー要素16の数Pは例えば数千〜数10万である。この構成例では、ミラー要素16はアルミニウム等の金属から形成されており、全部のミラー要素16は共通の信号ライン17aを介してSLM制御系17に接続されている(図2(A)参照)。また、ミラー要素16の4つの電極45A〜45Dは4本の信号ライン束17bpを介してSLM制御系17に接続されている。SLM制御系17は、信号ライン17aを介して全部のミラー要素16に複数段階で切り換え可能な電圧(以下、バイアス電圧VBという。)を印加する。さらに、SLM制御系17は、信号ライン束17bpを介してp番目のミラー要素16の4つの電極45A,45B,45C,45Dに、個別に所定範囲内で連続的に可変であり、かつ互いに独立に設定される電極電圧V1p,V2p,V3p.V4pを印加する。すなわち、各ミラー要素16の電極電圧Vkp(k=1〜4)は互いに独立に設定されるとともに、複数のミラー要素16間で互いに独立に設定される。電極電圧Vkp(k=1〜4)及びバイアス電圧VBが、各ミラー要素16の傾斜角を制御するための制御可能な電圧(制御量としての制御電圧)である。
このように全部のミラー要素16のバイアス電圧VBを共通に複数段階に切り換えることと、各ミラー要素16の電極45A〜45Dの電極電圧Vkpを個別に制御することとを組み合わせて、各ミラー要素16と対応する電極45A〜45Dとの間の電位差である駆動電圧を制御することで、ヒンジ部材43を介して可撓的に支持される支柱41を揺動及び傾斜させることができる。これによって、支柱41に固設された各ミラー要素16の反射面の直交する2軸の回りの傾斜角を所定の可変範囲内で連続的に制御することができる。
駆動基板部15に設けられたミラー要素16のアレイ及びこれらの駆動機構は、例えばMEMS(Microelectromechanical Systems:微小電気機械システム)技術を用いて製造することが可能である。また、ミラー要素16のアレイを有する空間光変調器としては、例えば欧州特許公開第779530号明細書、又は米国特許第6,900,915号明細書等に開示されているものを使用可能である。なお、ミラー要素16はほぼ正方形の平面ミラーであるが、その形状は矩形等の任意の形状であってもよい。
図1において、SLM14は、照明条件に応じて、多数のミラー要素16を介して後述のフライアイレンズ25の入射面25Iに所定の光強度分布(光量分布)を形成する。一例として、輪帯照明、通常照明、又は2極若しくは4極照明を行うときに、SLM14は、照明光ILを反射してその入射面25Iに、輪帯状の領域、円形の領域、又は2箇所若しくは4箇所の領域で強度が大きくなる光強度分布を形成する。主制御系35が、レチクルRに対する照明条件の情報を照明制御部36に供給し、これに応じて照明制御部36がSLM制御系17を介してSLM14の動作を制御する。さらに、照明制御部36は、必要に応じて主制御系35から供給される発光制御信号CSを用いて、SLM14の各ミラー要素16の角度を補正する。
SLM14の多数のミラー要素16で反射された照明光ILは、照明光学系ILSの光軸AXIに沿って照明光ILを平行光に変換する入射光学系18に入射する。入射光学系18は、入射面25Iに形成される光強度分布を入射面25Iと入射光学系18との間の面に形成する働きをも有する。入射光学系18を通過した照明光ILの一部がビームスプリッター(不図示)によって反射されて光電センサよりなるインテグレータセンサ(不図示)に入射する。照明制御部36内の積算部では、そのインテグレータセンサの検出信号を積算して照明光ILの積算エネルギーを求めることができる。
反射されて入射光学系18から光軸AXIに沿って進む照明光ILは、第1レンズ系24a及び第2レンズ系24bよりなるリレー光学系24を介してフライアイレンズ25の入射面25Iに入射する。フライアイレンズ25は、多数のレンズエレメントをZ方向及びY方向にほぼ密着するように配置したものであり、フライアイレンズ25の射出面が照明光学系ILSの瞳面(以下、照明瞳面という)IPP(射出瞳と共役な面)となる。フライアイレンズ25の射出面(照明瞳面IPP)には、波面分割によって多数の二次光源(光源像)よりなる面光源が形成される。
フライアイレンズ25は、多数の光学系を並列に配置したものであるため、入射面25Iにおける大局的な光強度分布がそのまま射出面である照明瞳面IPPに伝達される。言い換えると、入射面25Iに形成される大局的な光強度分布と、二次光源全体の大局的な光強度分布とが高い相関を示す。ここで、入射面25Iは照明瞳面IPPと等価な面であり、入射面25Iに形成される照明光ILの任意の光強度分布の形状(光強度が所定レベルとなる輪郭線で囲まれた領域の形状)がそのまま照明瞳面IPPにおける光強度分布の形状である瞳形状となる。また、入射面25Iは、ミラー要素16の反射面が設置されるSLM面RPに対してほぼ空間的にフーリエ変換の関係にある。
あるミラー要素16で反射されて入射面25I、ひいては実質的に照明瞳面IPPに入射する照明光ILのY方向及びZ方向の入射位置は、当該ミラー要素16の2軸の回りの傾斜角によって規定される。各ミラー要素16の温度が上昇していない状態における、各ミラー要素16の角度と入射面25I(照明瞳面IPP)上での照明光ILの入射位置との関係は予め記憶装置33に記憶されている。また、各ミラー要素16の角度と電極45A〜45Dの電極電圧Vkp及びバイアス電圧VBよりなる制御電圧との関係も予め記憶装置33に記憶されている。なお、フライアイレンズ25の代わりにマイクロレンズアレイを使用してもよい。また、フライアイレンズとして、例えば米国特許第6,913,373号明細書に開示されているシリンドリカルマイクロフライアイレンズを用いてもよい。
さらに、第1レンズ24aと第2レンズ24bとの間にビームスプリッター19が設置され、照明光ILからビームスプリッター19で分岐された光束が集光レンズ20を介してCCD又はCMOS型の2次元の撮像素子22の受光面に入射する。撮像素子22の受光面が配置されている検出面HPは、集光レンズ20によって、フライアイレンズ25の入射面25Iと共役に設定されている。言い換えると、検出面HPは照明瞳面IPPと等価な面でもある。ビームスプリッター19、集光レンズ20、及び撮像素子22を含んで瞳モニタ系23が構成されている。
撮像素子22の撮像信号を処理回路(不図示)で処理することによって、入射面25Iの光強度分布、ひいては照明瞳面IPPにおける光強度分布の形状(瞳形状)を計測できる。計測された照明瞳面IPPにおける瞳形状の情報(光強度分布の情報を含む)は、照明制御部36に供給される。なお、撮像素子22の画素数が多いため、撮像素子22の撮像信号から瞳形状の情報を求めるにはある程度の計算時間が必要である。また、検出面HPは、入射面25Iと共役な面の近傍の面でもよい。この近傍の面とは、一例として、その入射面25Iと共役な面の入射側の屈折力を持つ光学部材(図1では集光レンズ20)と、射出側の屈折力を持つ光学部材(図1では例えばその共役な面に対して集光レンズ20と対称な位置にある仮想的な光学部材)との間の空間に位置する面である。
また、照明瞳面IPPに形成された面光源からの照明光ILは、第1リレーレンズ28、レチクルブラインド(視野絞り)29、第2リレーレンズ30、光路折り曲げ用のミラー31、及びコンデンサー光学系32を介して、レチクル面Raの照明領域を均一な照度分布で照明する。レチクルブラインド29は、固定ブラインド及び走査露光時に開閉する可動ブラインドを有する。ビームエキスパンダ11からSLM14までの光学部材、入射光学系18、リレー光学系24、瞳モニタ系23、及びフライアイレンズ25からコンデンサー光学系32までの光学系を含んで照明光学系ILSが構成されている。照明光学系ILSの各光学部材は、不図示のフレームに支持されている。また、光源10、照明光学系ILS、SLM制御系17、開口計測系60、記憶装置33、光源制御部34、主制御系35、及び照明制御部36を含んで照明装置8が構成されている。
照明光学系ILSからの照明光ILのもとで、レチクルRの照明領域内のパターンは、両側(又はウエハ側に片側)テレセントリックの投影光学系PLを介して、ウエハWの一つのショット領域の露光領域に所定の投影倍率(例えば1/4、1/5等)で投影される。照明瞳面IPPは、投影光学系PLの瞳面(射出瞳と共役な面)と共役である。投影光学系PLの瞳面又はその近傍には開口絞り(不図示)が設置されている。ウエハW(基板)は、リシコン等の基材の表面にフォトレジスト(感光材料)を所定の厚さで塗布したものを含む。
また、レチクルRはレチクルステージRSTの上面に吸着保持され、レチクルステージRSTは、不図示のレチクルベースの上面(XY平面に平行な面)に、Y方向に一定速度で移動可能に、かつ少なくともX方向、Y方向、及びθz方向に移動可能に載置されている。レチクルステージRSTの2次元的な位置は不図示のレーザ干渉計によって計測され、この計測情報に基づいて主制御系35が、リニアモータ等を含む駆動系37を介してレチクルステージRSTの位置及び速度を制御する。
一方、ウエハWはウエハホルダ(不図示)を介してウエハステージWSTの上面に吸着保持され、ウエハステージWSTは、不図示のウエハベースの上面(XY平面に平行な面)でX方向、Y方向に移動可能であるとともに、Y方向に一定速度で移動可能である。ウエハステージWSTの2次元的な位置は不図示のレーザ干渉計によって計測され、この計測情報に基づいて、主制御系35がリニアモータ等を含む駆動系38を介してウエハステージWSTの位置及び速度を制御する。なお、レチクルR及びウエハWのアライメントを行うためのアライメント系(不図示)も備えられている。
また、本実施形態では、ウエハステージWSTに、投影光学系PLの瞳面の光強度分布、又は開口絞りの開口の形状をモニタするための開口計測系60が設けられている。開口計測系60は、一例として、図3に示すように、ウエハステージWSTに固定されたケース60cと、ケース60c内に投影光学系PL側から順に支持された集光レンズ60a及びCCD又はCMOS型の2次元の撮像素子60bとを有する。集光レンズ60aの焦点面に撮像素子60bの受光面が配置されている。開口計測系60を投影光学系PLの露光領域内に移動することで、撮像素子60bの受光面と図1の照明瞳面IPPとは共役(ほぼ共役でもよい)になる。この状態で、撮像素子60bの撮像信号を処理することによって、照明瞳面IPPの光強度分布及び瞳形状を計測できる。計測された光強度分布の情報は図1の照明制御部36に供給される。なお、ウエハステージWSTに固定される開口計測系60の代わりに、ウエハステージWST又はレチクルステージRSTに設けられる着脱式の開口計測系を使用することも可能である。
露光装置EXによるウエハWの露光時に、主制御系35は、内部の記憶装置中の露光データファイルからレチクルRのパターンに応じて定められている照明条件(ここでは照明瞳面IPPにおける光強度分布又は瞳形状)を読み出し、読み出した照明条件を照明制御部36に設定する。照明制御部36は、SLM制御系17を介してSLM14の各ミラー要素16の角度を個別に制御する。なお、実際には照明条件には照明光ILの偏光状態も含まれており、主制御系35は偏光光学系12を介して照明光ILの偏光状態を設定する。続いて、ウエハステージWSTの移動(ステップ移動)によってウエハWが走査開始位置に移動する。その後、光源10の発光を開始して、レチクルRのパターンの投影光学系PLによる像でウエハWを露光しつつ、レチクルステージRST及びウエハステージWSTを介してレチクルR及びウエハWを投影倍率を速度比としてY方向に同期して移動することで、ウエハWの一つのショット領域にレチクルRのパターンの像が走査露光される。このようにウエハWのステップ移動と走査露光とを繰り返すステップ・アンド・スキャン動作によって、ウエハWの全部のショット領域にレチクルRのパターンの像が露光される。ここで、レチクルR及びウエハWの走査方向を図1におけるX方向とすることもできる。
さて、このような露光を継続していくと、SLM14の多数のミラー要素16を介してフライアイレンズ25の入射面25Iに形成される光強度分布、ひいては照明瞳面IPPに形成される光強度分布又は瞳形状が次第に変動することが分かった。この変動の要因につき図4(A)〜(C)及び図5(A)、(B)を参照して説明する。
先ず、照明瞳面IPPにおける目標とする光強度分布は、図5(A)に示すように内半径r1及び外半径r2の輪帯状の領域51で光強度(光量)が所定レベル以上の一定値になり、これ以外の領域では光強度が0になる分布であるとする。このとき、目標とする瞳形状は、輪帯状の領域51である。このとき、露光開始直後のSLM14のあるミラー要素16の直交する2軸のうちの第1軸の回りの傾斜角をθty1、このミラー要素16で反射される照明光ILの反射角をφ1とする。その後、露光が継続されると、照明光ILの照射エネルギーによってミラー要素16及びその駆動機構の温度が次第に高くなり、その駆動機構(特に図2(B)のヒンジ部材43)の剛性が低下する。そのため、ミラー要素16を駆動するための制御電圧(例えば電極45A等の電極電圧)が同じであると、図4(B)に示すように、ミラー要素16の傾斜角θty2はθty1よりも大きくなり、照明光ILの反射角φ2もφ1より大きくなる。同様に、ミラー要素16の温度上昇によって、ミラー要素16の直交する2軸のうちの第2軸の回りの傾斜角も次第に大きくなり、反射光の反射角も大きくなる。
この結果、瞳形状は、図5(B)に示すように内半径r1A及び外半径r2Aがそれぞれ前の半径r1及びr2よりも大きい輪帯状の領域51Aとなる。従って、露光を継続した場合に、ミラー要素16の制御電圧を同じ値に設定しておくと、ミラー要素16及びその駆動機構の温度が上昇して、瞳形状が次第に大きくなることが分かる。
この場合、ミラー要素16の制御電圧DS(V)と第1軸の回りの傾斜角θtyとの関係は、ミラー要素16の温度T(以下、ミラー温度Tという。)が上昇する前の初期値Taのときには、図4(C)の直線C1のようになる。そして、ミラー温度TがTb,Tcと上昇するにつれて、制御電圧DSと傾斜角θtyとの関係は、直線C2及びC3のように傾きが大きくなる。従って、ミラー温度TがTaのときに直線C1に沿って制御電圧DSをDS1(傾斜角はθty1とする)に設定していたとすると、ミラー温度TがTb,Tcに上昇すると、ミラー要素16の角度はθty2,θty3と大きくなる。従って、ミラー要素16の傾斜角を最初の傾斜角θty1に維持しておくためには、温度Tb,Tcのときに直線C2,C3に沿って制御電圧DSをそれぞれ(DS1−α)及び(DS1−β)(β>α)に小さくすればよい。即ち、ミラー温度Tが高くなるのに応じて制御電圧DSを小さくすることによって、ミラー要素16の傾斜角の変動を抑制できる。
また、SLM14の全部のミラー要素16の平均的な温度は、発光制御信号CSがオンになってからの時間(発光時間)及び発光制御信号CSがオフになってからの時間(非発光時間)にほぼ対応して変化する。そこで、本実施形態では、露光中の瞳形状の変動を抑制するために、露光中に発光制御信号CSがオン又はオフになってからの経過時間に基づいて、SLM14の各ミラー要素16の電極45A〜45Dの電極電圧Vkp及びバイアス電圧VBを補正する。このためには、その経過時間に応じて各ミラー要素16の角度を設定する電極電圧Vkp及びバイアス電圧VBの値が記録されたファイル(以下、電極電圧指定ファイルという。)BNFを作成しておくことが好ましい。電極電圧指定ファイルBNFに記録されたデータは、複数のミラー要素16の角度を補正するための角度補正テーブルとも呼ぶことができる。
そこで、図8のフローチャートを参照してレチクルRのパターンに応じて電極電圧指定ファイルBNFを作成する動作(作成方法)の一例につき説明する。この動作は主制御系35によって制御される。先ず、照明制御部36は、上記の露光データファイルに記録されているレチクルRの照明条件である照明瞳面IPP上での目標とする光強度分布(瞳形状)を得るためのSLM14の全部のミラー要素16の2軸の回りの傾斜角を計算する。さらに、照明制御部36は、その傾斜角を設定するための各ミラー要素16の第1段階(ミラー要素16の温度が上昇していない初期状態)の制御電圧の組BNF1(ここでは電極電圧Vkp)を計算し、計算結果をSLM制御系17に出力する。これによって、SLM14の全部のミラー要素16の角度が目標とする光強度分布を得るための角度に設定される(図8のステップ102)。なお、一例として、この段階ではバイアス電圧VBは図7(A)に示す可変範囲ΔVBの最大値に設定されている。
このとき一例として、レチクルRに対して定められている照明条件は、瞳形状が図5(A)の外半径r2で内半径r1の輪帯状の領域51となる輪帯照明であるとする。また、外半径r2を瞳形状の大きさを表す半径iNAとも呼ぶ。そして、主制御系35が図6(A)の時点t01で発光制御信号CSをオンにして(ステップ104)、光源制御部34が光源10に照明光ILのパルス発光を開始させて、照明制御部36は発光時間の計時を開始し、計時単位を示すパラメータnを1に設定する(ステップ106)。なお、図6(A)〜(E)の横軸は時間tである。以下では、光源10がパルス発光を開始してからの発光時間を加熱モードでの経過時間thとも呼び、瞳モニタ系23によって照明瞳面IPP上の瞳形状(光強度分布)と等価な画像(以下、瞳画像とも呼ぶ。)を表す画像フレームを取り込むサンプリング間隔をΔtsとする。なお、照明制御部36は、経過時間thがほぼ0の時点でも瞳モニタ系23を介して瞳画像を取り込む。
そして、照明制御部36は、経過時間thがnΔts(ここではn=1)に達したときに(ステップ108)、瞳モニタ系23によってn番目の瞳画像を取り込んで記憶装置33に記憶する(ステップ110)。その経過時間thに応じて、ミラー要素16に照射される照明光IL(パルス光)によってミラー温度Tが一度上昇する。ただし、SLM14の周囲には一定温度に制御された気体(例えばドライエアー)が供給されている。そのため、照明光ILが継続して照射されていてもミラー温度Tは次第に低下してある一定の温度(初期状態より高い温度)に収束する。従って、瞳モニタ系23から取り込まれた瞳画像の大きさを表す半径iNAは、図6(B)に示すように、初期値である目標値iNAtから経過時間thに応じて一度最大値まで増加した後、次第に小さくなって目標値iNAtよりも大きい一定値になる。
そこで、照明制御部36は例えば瞳形状(輪帯の半径iNA)の前回の計測値と今回の計測値との撮像素子22の画素毎の差分の自乗和を瞳形状の変化量として求める。そして、この変化量が所定値以下であるかどうか、すなわちその瞳形状の変化が飽和したかどうかを判定する(ステップ112)。その変化量が所定値より大きいときには、パラメータnに1を加算した後(ステップ114)、動作はステップ108に戻り、経過時間thが次のnΔtsに達したときに、瞳モニタ系23によってn番目の瞳画像を取り込んで記憶するという動作を繰り返す(ステップ110)。その後、ステップ112で、瞳形状の変化量が所定値以下となったときに、動作はステップ116に移行して、主制御系35は発光制御信号CSをオフにする。そして、光源制御部34が光源10にパルス発光を停止させ、照明制御部36は非発光時間の計時を開始し、計時単位を示すパラメータnを1に設定する(ステップ118)。以下では、光源10がパルス発光を停止してから経過した時間をミラー要素16の冷却モードでの経過時間tcとも呼ぶ。
そして、照明制御部36は、経過時間tcがnΔts(ここではn=1)に達したときに(ステップ120)、瞳モニタ系23によって冷却モードでのn番目の瞳画像を取り込んで記憶装置33に記憶する(ステップ122)。その経過時間tcに応じて、ミラー温度Tは最初は急激に低下し、次第に照明光ILが照射されていなかったときの温度に収束する。従って、瞳モニタ系23を介して計測される瞳形状の半径iNAは、経過時間tcに応じて急激に小さくなった後、次第に目標値iNAt(初期値)に近い一定の値になる。
そこで、ステップ112と同様に、照明制御部36は瞳形状(半径iNA)の前回の計測値と今回の計測値との変化量を求め、この変化量が所定の設定値以下であるかどうか、すなわちその瞳形状がほぼ目標値に戻ったかどうかを判定する(ステップ124)。その変化量がその設定値より大きいときには、パラメータnに1を加算した後(ステップ126)、動作はステップ120に戻り、経過時間tcが次のnΔtsに達したときに、瞳モニタ系23によってn番目の瞳画像を取り込んで記憶するという動作を繰り返す(ステップ122)。その後、ステップ124で、瞳形状の変化量がその設定値以下となったときに、動作はステップ128に移行する。
ステップ128において、照明制御部36は、図6(B)の実際の瞳形状の半径iNAの目標値iNAtに対する誤差を図6(C)に示すiNA誤差(設定誤差)として求め、iNA誤差の経過時間th中の最大値をわずかに超える値までを一例として等間隔のI個(Iは2以上の整数)の段階に区分する。なお、本実施形態では一例としてIは11であるが、I段階の数は任意であり、I個の段階を互いに不等間隔に区分してもよい。さらに、照明制御部36は、第i段階(i=1〜I)のiNA誤差をそれぞれ一例としてほぼ等間隔のJ個(Jは2以上の整数)の部分段階に区分する。本実施形態では一例としてJは4であるが、J部分段階の数は任意であり、J個の部分段階を互いに不等間隔に区分してもよい。また、図7(A)の折れ線C2で示すように、第j部分段階(j=1〜4)では、SLM14の全部のミラー要素16のバイアス電圧VBを所定の最大値に対してほぼ(j−1)ΔVB/3だけ低い電圧に設定するものとする。ΔVBはバイアス電圧VBの可変範囲である。
そして、iNA誤差が第i段階から第(i+1)段階の間にあり、かつ第j部分段階(j=1〜4)の近傍にあるときに、そのiNA誤差をほぼ0にするようにSLM14の全部のミラー要素16の2軸の回りの傾斜角を補正するための、全部のミラー要素16の補正後の制御電圧(電極45A〜45Dの電極電圧Vkp)を算出して電極電圧指定ファイルBNFに記録する。電極電圧指定ファイルBNFは、第i段階(i=1〜I)毎に全部のミラー要素16に関して電極45A〜45Dの電極電圧Vkpの設定値の組BNFiを記録したファイルであり、電極電圧指定ファイルBNFは記憶装置33に記憶される。また、電極電圧指定ファイルBNFには、第j部分段階(j=1〜J)におけるバイアス電圧VBの値VBjも記録される。なお、電極電圧指定ファイルBNFの第1段階の制御電圧の組BNF1は、上記のミラー温度Tが上昇していない初期状態での制御電圧であり、最も高い第I段階(図6(B)では第11段階)の制御電圧の組BNFIは、iNA誤差が最大のときにそのiNA誤差をほぼ0にするための各ミラー要素16の制御電圧である。
次のステップ130において、照明制御部36は、ステップ110で取り込まれた瞳画像の大きさの変化を例えば補間によって加熱期間の経過時間thの関数として表す。そして、ミラー要素16の加熱時に、図6(C)の瞳形状の目標値からの誤差(iNA誤差)が電極電圧指定ファイルBNFの第i段階で第j部分段階になるときの経過時間th(i,j)(i=1〜I,j=1〜J)を決定する。さらに、ステップ132において、ステップ122で取り込まれた瞳画像の大きさの変化を例えば補間によって冷却期間の経過時間tcの関数として表す。そして、ミラー要素16の冷却時に、瞳形状の目標値からの誤差が電極電圧指定ファイルBNFの第i1段階で第j1部分段階になるときの経過時間tc(i1,j1)(i1=1〜I,j1=1〜J)を決定する。なお、より正確には、iNA誤差が最大値の近傍になったときに発光制御信号CSをオフにした状態での経過時間tcを0として、その後の経過時間tcを計時してもよい。上記の経過時間th(i,j)、経過時間tc(i1,j1)を記憶装置33に記憶しておく。これで電極電圧指定ファイルBNFが作成されたことになる。
本実施形態において、電極電圧指定ファイルBNFは、照明条件に応じて定まる瞳形状(例えば小さい円形、通常の円形、輪帯状、2極状、4極状等の形状)に対応してそれぞれ個別に作成される。
また、一例としてバイアス電圧VBを最大値に固定して、iNA誤差が図6(B)のように変化するのを補正するように、ミラー要素16の制御電圧中の電極45A〜45Dの電極電圧Vkpを第i段階のいずれかに設定することによって、瞳形状の実際の半径iNAと目標値との差であるiNA誤差は、図6(D)のように小さくなる。さらに、その電極45A〜45Dの電極電圧Vkpに加えてバイアス電圧VBを第j部分段階のいずれかに設定することによって、iNA誤差を、図6(E)のようにきわめて小さくできる。
また、一例としてバイアス電圧VBを最大値に固定して、iNA誤差が図6(B)のように変化するのを補正するように、ミラー要素16の制御電圧中の電極45A〜45Dの電極電圧Vkpを第i段階のいずれかに設定することによって、瞳形状の実際の半径iNAと目標値との差であるiNA誤差は、図6(D)のように小さくなる。さらに、その電極45A〜45Dの電極電圧Vkpに加えてバイアス電圧VBを第j部分段階のいずれかに設定することによって、iNA誤差を、図6(E)のようにきわめて小さくできる。
なお、仮にミラー温度Tが上昇していない状態で、ミラー要素16の制御電圧を第1段階の第1部分段階から次第に第4部分段階に設定し、次に第2段階の第1部分段階から次第に第4部分段階に設定することを繰り返すと、照明瞳面IPPに形成される瞳形状の半径iNAである半径の設定値iNAsは、図7(A)の実線の折れ線C3のように微細間隔で滑らかに変化する。図7(A)において、横軸は時間tであり、右側の縦軸はミラー要素16のバイアス電圧VB、左側の縦軸は設定値iNAsである。また、バイアス電圧VBは第1部分段階から次第に第4部分段階に設定することが繰り返されており、バイアス電圧VBは折れ線C2のように折れ線C3と同じ時間間隔で変化する。
一方、バイアス電圧VBを最大値に固定して、ミラー要素16の電極45A〜45Dの電極電圧Vkpのみを第1段階から次第に第2段階、第3段階、…に設定していく場合には、図7(A)に示すように、瞳形状の半径の設定値iNAsは点線の折れ線C1のように比較的大まかに変化する。
本実施形態では、ミラー要素16の電極45A〜45Dの電極電圧Vkpの第i段階への切り換えと、バイアス電圧VBの第j部分段階への切り換えとを組み合わせることによって、電極電圧Vkpのみを切り換える場合に比べて、比較的少ないデータ量で瞳形状の半径の設定値iNAsをより滑らかに変化させることができ、iNA誤差をより高精度に補正できる。さらに、照明光学系ILSの照明条件を例えばコヒーレンスファクタの小さい小σ照明から4極照明に切り換える場合のように大きく変化させる場合には、SLM14のミラー要素16の傾斜角の変化量Δθを、図7(B)の比較的緩やかに変化する折れ線C5に沿って目標値Δθtに設定できる。これに対して、照明条件を大きく変化させる場合に、バイアス電圧VBを固定して、電極45A〜45Dの電極電圧Vkpのみを切り換えるときには、折れ線C4で示すようにミラー要素16の傾斜角の変化量Δθにオーバーシュートが発生し、このオーバーシュートが大きくなると、ミラー要素16が駆動基板部15に接触して固着したりする恐れがある。従って、バイアス電圧VBの切り換えを組み合わせることによって、ミラー要素16の角度のオーバーシュートを防止して、ミラー要素16の動作不良が発生する割合を低減できる。
次に、本実施形態の露光装置EXによる照明方法を含む露光動作の一例につき、図9のフローチャートを参照して説明する。この動作の前にレチクルRの照明条件に応じた電極電圧指定ファイルBNFが既に作成されているものとする。この露光動作は主制御系35によって制御される。
先ず、レチクルRが図1のレチクルステージRSTにロードされ、レチクルRのアライメントが行われる(図9のステップ140)。また、必要に応じて電極電圧指定ファイルBNFが修正又は校正される(ステップ142)。この電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正については後述する。そして、ステップ144において、主制御系35から供給されるレチクルRに対する照明条件の情報に応じて、照明制御部36はその照明条件用の電極電圧指定ファイルBNFを記憶装置33から読み出して、ファイルBNF中のデータをSLM制御系17に設定する。照明制御部36は、この段階では、そのファイルBNFの第1段階で第1部分段階の制御電圧を出力するようにSLM制御系17を制御する。これにより、SLM14の各ミラー要素16の制御電圧(電極45A〜45Dの電極電圧Vkp及びバイアス電圧VB)はその第1段階で第1部分段階(初期値)に設定され、各ミラー要素16の角度が照明瞳面IPPに目標とする瞳形状を形成するための初期値に設定される。さらに、この段階ではSLM14は冷却時であり、かつミラー温度Tは一定であるため、照明制御部36は、冷却モードでの経過時間tcを0に初期化する。
先ず、レチクルRが図1のレチクルステージRSTにロードされ、レチクルRのアライメントが行われる(図9のステップ140)。また、必要に応じて電極電圧指定ファイルBNFが修正又は校正される(ステップ142)。この電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正については後述する。そして、ステップ144において、主制御系35から供給されるレチクルRに対する照明条件の情報に応じて、照明制御部36はその照明条件用の電極電圧指定ファイルBNFを記憶装置33から読み出して、ファイルBNF中のデータをSLM制御系17に設定する。照明制御部36は、この段階では、そのファイルBNFの第1段階で第1部分段階の制御電圧を出力するようにSLM制御系17を制御する。これにより、SLM14の各ミラー要素16の制御電圧(電極45A〜45Dの電極電圧Vkp及びバイアス電圧VB)はその第1段階で第1部分段階(初期値)に設定され、各ミラー要素16の角度が照明瞳面IPPに目標とする瞳形状を形成するための初期値に設定される。さらに、この段階ではSLM14は冷却時であり、かつミラー温度Tは一定であるため、照明制御部36は、冷却モードでの経過時間tcを0に初期化する。
そして、ステップ146において、ウエハステージWSTにフォトレジストが塗布された未露光のウエハWがロードされる。以下のステップ160〜170のSLM14のミラー要素16の角度を補正する動作と、ステップ146〜155のウエハWの露光動作とは実質的に並行に実行される。
一方の動作のステップ160において、照明制御部36は、冷却モードでの経過時間tcに応じてステップ132で求められた第i1段階で第j1部分段階の制御電圧を出力するようにSLM制御系17を制御する。この予測制御によって、その後で照明光ILがパルス発光されるときには、ミラー温度Tが変化していても照明瞳面IPPの瞳形状が目標とする形状になるようにミラー要素16の角度が切り換えられている。なお、まだウエハWの露光が開始されていない段階では、ミラー要素16の角度は初期値である。
一方の動作のステップ160において、照明制御部36は、冷却モードでの経過時間tcに応じてステップ132で求められた第i1段階で第j1部分段階の制御電圧を出力するようにSLM制御系17を制御する。この予測制御によって、その後で照明光ILがパルス発光されるときには、ミラー温度Tが変化していても照明瞳面IPPの瞳形状が目標とする形状になるようにミラー要素16の角度が切り換えられている。なお、まだウエハWの露光が開始されていない段階では、ミラー要素16の角度は初期値である。
そして、照明制御部36は、主制御系35から供給される発光制御信号CSがオンになったかどうかを調べ(ステップ161)、図10(A)に示すように時点t1(又はt5)で発光制御信号CSがオンになったときには、所定の遅延時間後の時点t2で(図10(C)参照)、加熱モードでの経過時間th(発光時間)の計時を開始する(ステップ163)。なお、主制御系35は、発光制御信号CSをオンにした後で、光源10がパルス発光を開始した直後に、瞳モニタ系23によって照明瞳面IPPにおける瞳画像のデータ(撮像信号)を取得させる(ステップ162)。瞳モニタ系23の撮像素子22の撮像信号を処理回路(不図示)によって処理することで、瞳形状が求められる。この瞳形状を求めるための処理(計算)は、ステップ163以降の動作と並列に実行される。求められる瞳画像の情報は記憶装置33に記憶される。なお、ステップ162の実行は、ステップ163の後でもよい。
ステップ163の実行時には、発光制御信号CSがオンであるため、図10(B)に示すように、光源制御部34から光源10に発光トリガーパルスTPが出力され、光源10がパルス発光を開始している。
そして、照明制御部36は、ステップ130で求めてある経過時間th(i,j)のうち現在の経過時間thの直前となる経過時間th(i,j)の段階i及び部分段階jを特定する(ステップ164)。これは、照明光ILがSLM14のミラー要素16に照射されてミラー温度Tが上昇したことによって、照明瞳面IPPの光強度分布(瞳形状)は電極電圧指定ファイルBNF中の第i段階で第j部分段階の制御電圧に対応する状態に変化していると予測されることを意味する。そこで、照明制御部36は、ミラー要素16の制御電圧を第i段階で第j部分段階に設定するようにSLM制御系17を制御する(ステップ165)。
そして、照明制御部36は、ステップ130で求めてある経過時間th(i,j)のうち現在の経過時間thの直前となる経過時間th(i,j)の段階i及び部分段階jを特定する(ステップ164)。これは、照明光ILがSLM14のミラー要素16に照射されてミラー温度Tが上昇したことによって、照明瞳面IPPの光強度分布(瞳形状)は電極電圧指定ファイルBNF中の第i段階で第j部分段階の制御電圧に対応する状態に変化していると予測されることを意味する。そこで、照明制御部36は、ミラー要素16の制御電圧を第i段階で第j部分段階に設定するようにSLM制御系17を制御する(ステップ165)。
そのように経過時間thによって求められた第i段階で第j部分段階のミラー要素16の制御電圧で補正される照明瞳面IPPの瞳形状の半径を、図10(D)の予測される半径iNApと呼ぶこととする。その予測される半径iNApの目標値iNAtからの変化は、ミラー要素16の角度を初期値に設定しておいた場合に、照明瞳面IPPに形成される瞳形状の変化を予測したものである。このため、そのステップ163〜165の動作を加熱モードでの予測制御と呼ぶことができ、図10(C)の期間TPCU1,TPCU2が加熱モードでの予測制御期間である。この予測制御によって、ミラー要素16の角度は、照明瞳面IPPの瞳形状の目標とする形状に対する誤差(iNA誤差)が小さくなるように逐次補正される。
本実施形態では、一例として、ステップ165に続いて、瞳モニタ系23を用いて計測される瞳画像が目標となる形状に維持されるようにミラー要素16の角度を制御する制御方法(以下、「リアルタイム制御」という。)を実施する。このために、ステップ166において、照明制御部36は、撮像素子22の処理回路(不図示)が撮像素子22の撮像信号から瞳画像(リアルタイム制御用の画像)を求めるための計算を実行中であるかどうかを判定する。その計算を実行中であるときには、リアルタイム制御を行うことなく、動作はステップ167に移行する。一方、ステップ166において、瞳画像を求めるための計算が終了している場合には、動作はステップ180に移行してリアルタイム制御を行う。
ステップ180において、照明制御部36は、瞳モニタ系23で取得された瞳画像(取得画像)と参照画像とを比較して、参照画像に対する取得画像の誤差(例えば画像毎の光強度の差の積算値)を求める。参照画像としては、例えば照明瞳面IPPにおける目標とする瞳画像を使用できる。なお、参照画像として、ステップ162で最初(光源10の発光直後)に取得された撮像信号から求めた瞳画像を用いることも可能である。そして、取得画像の誤差が許容範囲内である場合には、瞳画像の修正は不要と判定して(ステップ181)、動作はステップ167に移行し、取得画像の誤差が許容範囲を超えた場合には、瞳画像の修正が必要と判定して動作はステップ182に移行する。
ステップ182において、照明制御部36は、ミラー要素16の制御電圧を、電極電圧指定ファイルBNF中の他の第i1段階の電極電圧V1p等で第j1部分段階のバイアス電圧VBに切り替えることで、取得画像の誤差が許容範囲内になるように瞳形状を調整できるかどうかを判定する。電極電圧及びバイアス電圧の切り替えで、取得画像の誤差を許容範囲内にできる場合、動作はステップ183に移行して、照明制御部36は、SLM制御系17に電極電圧及びバイアス電圧を切り替えるように指示を行う。これによって、瞳形状を調整するように複数のミラー要素16が駆動される。そして、瞳モニタ系23によって次の瞳画像のデータの取得を行い(ステップ184)、動作はステップ167に移行する。
一方、ステップ182において、電極電圧及びバイアス電圧の切り替えでは、取得画像の誤差を許容範囲内にできない場合、動作はステップ185に移行して、照明制御部36は、集光チェックを行う。集光チェックとは、本実施形態では、SLM14のミラー要素16のアレイで反射された照明光ILがフライアイレンズ25の入射面25Iで、予め定められている所定の小さい領域(例えばフライアイレンズ25の一つのレンズエレメントの断面程度の領域)に集光されていないかどうかを例えば取得画像を用いてチェックすることを意味する。
このように小さい領域に照明光ILが集光されるとフライアイレンズ25の反射防止用のコーティング等が損傷を受ける恐れがあるため、このような集光が発生したときには例えばアラームを発生して光源10の発光が停止される(ステップ187)。一例として、ミラー温度Tがある温度程度に低下するまで露光が停止される。このような集光は、例えばSLM14及び/又はSLM制御系17を含む部分の誤作動等で生ずる恐れがある。また、ステップ185で照明光ILの集光が発生してない場合には、ステップ186に移行して、ステップ142と同様に電極電圧指定ファイルBNFの修正を行った後、動作はステップ167に移行する。なお、例えばSLM14及びSLM制御系17を含む部分の誤作動の恐れがない場合には、ステップ185の集光チェックは省略してもよい。
そして、ステップ167で、照明制御部36は、主制御系35から供給される発光制御信号CSがオフになったかどうかを調べ、発光制御信号CSがオンのままである場合には、動作はステップ163に戻り、経過時間thの計時が行われる。そして、ステップ164〜166、及びステップ180〜187の動作が繰り返される。
一方、ステップ167において、図10(A)に示すように時点t3(又はt9)で発光制御信号CSがオフになったときには、発光制御信号CSがオフになってから所定の遅延時間td(例えばパルス発光周期よりも長い時間)が経過したかどうかを判定する(ステップ168)。そして、その遅延時間tdが経過する前に発光制御信号CSがオンに戻ったときには、動作はステップ167に戻り、発光制御信号CSがオフになったかどうかを判定する。
また、ステップ168で遅延時間tdが経過した時点t4(又はt10)では(図10(C)参照)、動作はステップ169に移行して、加熱モードでの経過時間thの計時を停止し、冷却モードでの経過時間tc(非発光時間)の計時を開始する。このときには、発光制御信号CSがオフであるため、発光トリガーパルスTPが出力されなくなり、光源10の発光は停止している(図10(B)参照)。このように発光制御信号CSがオフになってから遅延時間td経過したかどうかを確認するのは、本実施形態の照明光ILはパルス光であるため、図10(A)の時点t7及びt8で示すように、発光制御信号CSの変化が遅延時間tdよりも短い期間だけであり、パルス発光がほぼ継続しているときには、発光制御信号CSの変化がなかったものとみなすためである。ただし、ステップ166の遅延時間tdだけ待つ動作は省略してもよい。
その後、同じレチクルRを使用する例えば1ロット又は数ロットのウエハの露光が終了したかどうかを判定し(ステップ170)、その露光が終了していない場合には、動作はステップ160に戻り、冷却モードでの経過時間tcの計時を継続して行うとともに、経過時間tcに応じて電極電圧指定ファイルBNFを用いて複数のミラー要素16の角度の制御(切り換え)を行う。そして、ステップ161以降の動作を繰り返す。また、ステップ170で目標とするロット数のウエハの露光が終了したときに露光工程を終了する。
そのステップ169,160の動作を冷却モードでの予測制御と呼ぶことができ、図10(C)の期間TPCD1,TPCD2が冷却モードでの予測制御期間である。この予測制御によって、光源10の非発光期間の後の露光開始時刻には、照明瞳面IPPの瞳形状は目標とする形状に設定されており、高精度に露光を開始できる。
次に、図9のステップ146に続くステップ147〜155の露光動作につき説明する。本実施形態では、ステップ147において、光源10にダミー発光をさせるかどうかを判定する。ダミー発光を行う場合には、ステップ148で図1のレチクルブラインド29中の可動ブラインドを走査方向に閉じてから、ステップ149で発光制御信号CSをオンにして光源10にパルス発光を開始させる。この状態では、照明光ILはSLM14の全部のミラー要素16には照射されているが、ウエハWには照射されない。そして、所定時間経過後に可動ブラインドを走査方向に次第に開きながら(ステップ150)、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハWの各ショット領域にレチクルRのパターンの像を露光する(ステップ152)。
従って、ダミー露光とは、ウエハWに照明光ILを照射することなくSLM14の全部のミラー要素16には照明光ILを照射する状態で光源10に発光させることをいう。本実施形態では、図10(D)の照明瞳面IPPにおける瞳形状の予測される半径iNApは、発光期間中の初期の期間TDEでは変化率が大きく、後の期間TRCでは変化率が小さくなっている。これは、初期の期間TDEでは、予測制御によってSLM14を介して設定される瞳形状の目標とする形状に対する誤差(iNA誤差)が大きくなる恐れがあることを意味している。そこで、その初期の期間TDEを含む時間(所定時間)ではダミー発光を行うことによって、その後のウエハWに対する露光時にiNA誤差を小さくして、より高精度にレチクルRのパターンの像をウエハWに露光できる。このダミー露光は、例えば1ロットの先頭のウエハに対してだけ実行するようにしてもよい。さらに、いわゆる小σ照明のように光強度が小さくiNA誤差が小さい場合には、ダミー露光を省略することも可能である。
ステップ147でダミー露光を行わないときには、動作はステップ151に移行して、主制御系35は発光制御信号CSをオンにして、光源制御部34は光源10に照明光ILの発光を開始させる。そして、ステップ152でウエハWの露光が行われる。そして、ウエハWの露光終了時に主制御系35が発光制御信号CSをオフにして、光源10の発光が停止され(ステップ153)、露光済みのウエハWがアンロードされる(ステップ154)。その後、動作はステップ155に移行して、次のウエハへの露光を行う場合には動作はステップ146に戻る。また、ステップ155で次に露光するウエハがないときに、露光工程が終了する。
この照明方法を含む露光方法によれば、照明光ILの発光時間(経過時間th)及び非発光時間(経過時間tc)とSLM14の各ミラー要素16の平均温度(ミラー温度T)との間に対応関係があることに基づいて、経過時間th,tcに応じて電極電圧指定ファイルBNFを用いてSLM14のミラー要素16の角度を補正している。従って、露光中にミラー要素16の温度が次第に変化しても、照明瞳面IPPにおける瞳形状が常にほぼ目標とする形状に維持される。このため、常にレチクルRのパターンの像を高精度に例えば所定ロット数のウエハに露光できる。
次に、図9のステップ142又は186の電極電圧指定ファイルBNFを修正又は校正(キャリブレーション)する動作の一例につき図11(A)〜(C)を参照して説明する。この際に、図1の露光装置EXのSLM14の各ミラー要素16の制御電圧(電極45A〜45Dの電極電圧Vkp及びバイアス電圧VB)は、レチクルRの照明条件に応じた電極電圧指定ファイルBNFの第1段階で第1部分段階(初期値)に設定される。その後、図11(A)の時点t21で光源10に照明光ILの発光を開始させて、照明制御部36では発光開始からの経過時間thの計時を開始する。そして、経過時間thがステップ130で求めた経過時間th(i,j)中で中央の段階よりも高い第im段階(例えば図6(C)の第9又は第10段階等)で第1部分段階の経過時間を超えた直後と予測される時点t22で、照明制御部36は瞳モニタ系23によって照明瞳面IPPの瞳画像を取得する。このとき取得された画像から得られる瞳形状の半径の誤差(iNA誤差)をiNAmとする。この第im段階の制御電圧の組BNFimを、電極電圧指定ファイルBNF中の基準の組と呼ぶ。
瞳モニタ系23からは、図11(B)に示すように、所定のサンプリング周期stで、瞳画像が記録された一連の画像フレームFk(k=1,2,…)が照明制御部36に供給されている。照明制御部36では、瞳形状の誤差(iNA誤差)が第im段階(図11(B)では第j段階で表されている)の制御電圧の組BNFimに対応する誤差を超えた直後の画像フレームFkを取り込み、この画像フレームFkの画像から誤差iNAmを求める。そして、照明制御部36は、その組BNFim(図11(B)の組BNFj)の制御電圧(電極45A〜45Dの電極電圧Vkp)を、その計測された誤差iNAmを0にするように補正する。この際に、一例として、その誤差iNAmの、補正前の制御電圧の組BNFimで補正することが予定されていた誤差iNAimに対する倍率をαとしてもよい。そして、その基準となる組BNFimよりも小さい番号の組(図11(B)のBNFj−1,BNFj−2,…,BNFj−5)の制御電圧については、補正することが予定されていた誤差にαを乗算して得られる誤差を補正するように制御電圧を補正してもよい。同様に、その基準となる組BNFimよりも大きい番号の組(例えば図11(C)の第11段階等)の制御電圧についても、一例として、補正することが予定されていた誤差にαを乗算して得られる誤差を補正するように制御電圧を補正してもよい。
この場合、本実施形態では、比較的大きいiNA誤差を補正する制御電圧の組BNFimを基準としているため、実際に瞳モニタ系23で計測される瞳形状に基づいて、かつ短時間に、電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正を高精度に行うことができる。また、例えば1ロットのウエハの露光終了後に次の1ロットのウエハに対する露光を開始する場合等に再び電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正を行う場合には、ミラー要素16の制御電圧を初期値に設定して照明光ILの発光を開始した後、図11(A)に実線の曲線C11Aで表されるように、iNA誤差がほぼ0に戻ってから照明光の発光を開始した時点t23の後で、瞳形状の誤差が前回の誤差iNAmと同じ誤差になったと予測される時点t24で瞳モニタ系23を介して瞳画像を取り込む。そして、この取り込まれた画像を用いて、この際の経過時間から使用されることになっている電極電圧指定ファイルBNF中の組の制御電圧を補正し、この組を基準として他の組の制御電圧を補正する。これによって、同じ条件で高精度に電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正を行うことができる。なお、iNA誤差が図11(A)の点線の曲線C11Bのように変化する場合にも、同様のタイミングで画像を取り込むことで、高精度に電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正を行うことができる。
また、瞳形状の誤差(iNA誤差)が第im段階(図11(B)では第j段階)の制御電圧の組BNFimに対応する誤差を超えた直後の画像フレームFkを取り込む際に、サンプリング周期st分の遅れから、図11(C)に示すように、バイアス電圧VBが4つの部分段階中の第1部分段階(バイアス3で表されている)ではなく、他の第2〜第4部分段階(バイアス2〜0)中のkm部分段階に設定されている場合に相当する画像フレームを取り込む場合もある。この場合には、電極電圧指定ファイルBNF中の基準となる制御電圧の組を第im段階で第km部分段階として、つまりバイアス電圧VBが第km部分段階に設定されている場合を基準として、電極45A〜45Dの電極電圧Vkpの補正値を算出してもよい。これによって、より高精度に電極電圧指定ファイルBNFの修正又は校正を行うことができる場合がある。
次に、ステップ142又は186の電極電圧指定ファイルの修正又は校正を行うために瞳モニタ系23から照明瞳面IPPの画像を取り込むときに、開口計測系60を用いて得られる画像を基準として、瞳モニタ系23で得られる画像の経年変化等による誤差の補正を行うようにしてもよい。この場合には、図1においてレチクルステージRSTからレチクルRを除いた状態で、ウエハステージWSTを駆動して開口計測系60の受光部を投影光学系PLの露光領域に移動する。そして、光源10からの照明光ILが照明瞳面IPPのコヒーレンスファクタ(σ値)が1の領域の内部をほぼ均一な照度分布で照明するように、SLM14の全部のミラー要素16の角度を設定する。次に、光源10の発光を開始させて、照明制御部36は、瞳モニタ系23を介して照明瞳面IPPの光強度分布の画像(図12の画像23I)を取得するのと同時に、開口計測系60を介して照明瞳面IPPの光強度分布の画像(図12の画像60I)を取得し、画像60Iの大きさを画像23Iに合わせて補正する。さらに、画像23I及び60Iをそれぞれ複数の画素の光強度を平均化する等の方法でスムージングしてもよい。なお、図12中のX方向、Y方向はそれぞれ照明瞳面IPPのZ方向、Y方向に対応している。
次に、照明制御部36は、瞳モニタ系23の撮像素子22の画素に対応する画素領域54a毎に、画像60Iの値を画素23Iの対応する値で割って得られる係数k1n(nは画素領域の番号で、n=1,2,…)を求める。σ値が1の円周内で画素領域54a毎に係数k1nを割り当てたテーブルを初期状態の光強度感度テーブル54Aとして記憶装置33に記憶する。
その後、瞳モニタ系23で得られる画像の経年変化等の状態を計測するときには、同様に、瞳モニタ系23を介して照明瞳面IPPの光強度分布の画像23Iを取得するのと同時に、開口計測系60を介して照明瞳面IPPの光強度分布の画像60Iを取得し、画素領域54a毎に係数k2n(=画像60Iの値/画素23Iの対応する値)を割り当てた光強度感度テーブル54を求め、このテーブル54を記憶装置33に記憶する。さらに、照明制御部36は、画素領域54a毎に、今回計測された係数k2nを初期状態の係数k1nで割って得られる係数k3nを割り当てた光強度補正テーブル54Bを求める。そして、例えば画素領域54a毎の係数k3nの平均値が1に対して所定の許容範囲を超えてシフトしている場合に、この光強度補正テーブル54Bを記憶装置33に記憶する。この場合、瞳モニタ系23は常時使用されているのに対して、開口計測系60の使用頻度はかなり低いため、開口計測系60によって計測される画像60Iの経年変化は瞳モニタ系23によって計測される画像23Iの経年変化に比べて大幅に低いと考えられる。そこで、開口計測系60によって計測される画像60Iを基準として、瞳モニタ系23によって計測される画像23Iの経年変化を係数k3nで表していることになる。
この後、瞳モニタ系23を介して照明瞳面IPPの光強度分布(瞳形状)を計測する場合には、瞳モニタ系23で計測された画像を基準としてその瞳形状の計測結果を補正するために、瞳モニタ系23を介して計測された画像23Iに関して、画素領域54a毎に光強度補正テーブル54Bの係数k3nを乗算して画像を補正する。この補正後の画像を用いることによって、瞳モニタ系23によって計測される画像23Iが経年変化で変化していても、その変化を相殺して高精度に照明瞳面IPPにおける光強度分布を計測できる。
本実施形態の効果等は以下のとおりである。
本実施形態の照明装置8は照明光学系ILSを備え、照明装置8は、光源10からパルス発光される照明光IL(パルス光)を用いてレチクル面Ra(被照射面)を照明する。また、照明装置8は、SLM面RPに反射面が配置される複数のミラー要素16を備え、SLM面RPに入射する照明光ILを制御するSLM(空間光変調器)14と、複数のミラー要素16の入射光を制御するための制御電圧(制御量)を設定するSLM制御系17及び照明制御部36(制御部)と、を備え、SLM制御系17及び照明制御部36は、照明光ILの発光タイミングを指示する発光制御信号CS(発光時間の情報)を取得し、この信号CSに基づいて複数のミラー要素16の制御電圧を補正している。
本実施形態の照明装置8は照明光学系ILSを備え、照明装置8は、光源10からパルス発光される照明光IL(パルス光)を用いてレチクル面Ra(被照射面)を照明する。また、照明装置8は、SLM面RPに反射面が配置される複数のミラー要素16を備え、SLM面RPに入射する照明光ILを制御するSLM(空間光変調器)14と、複数のミラー要素16の入射光を制御するための制御電圧(制御量)を設定するSLM制御系17及び照明制御部36(制御部)と、を備え、SLM制御系17及び照明制御部36は、照明光ILの発光タイミングを指示する発光制御信号CS(発光時間の情報)を取得し、この信号CSに基づいて複数のミラー要素16の制御電圧を補正している。
また、照明装置8を用いる照明方法は、SLM面RPに反射面が配置されるSLM14の複数のミラー要素16を介して、光源10からパルス発光される照明光IL(パルス光)でレチクル面Raを照明する方法である。この照明方法は、光源10における照明光ILの発光制御信号CSを取得するステップ152と、発光制御信号CSに基づいて、SLM面RPに入射する光を制御可能な複数のミラー要素16の制御電圧を設定するステップ160と、を有する。
本実施形態によれば、複数のミラー要素16を介してレチクル面Raを照明するときに、照明光ILの発光制御信号CSに基づいて複数のミラー要素16の制御電圧を補正している。この際に、発光制御信号CSがオン又はオフになってからの経過時間はその複数のミラー要素16の温度情報を表しているため、ミラー要素16の温度が変化した場合にも、ミラー要素16の角度をほぼ目標とする角度に維持できる。従って、照明光学系ILSのフライアイレンズ25の入射面25I(ひいては照明瞳面IPP)における照明光ILの光強度分布をほぼ一定に維持することができ、照明瞳面IPPにおける瞳形状の変動を抑制できる。
なお、本実施形態では、発光時間の情報として発光制御信号CSが使用されているが、その発光時間の情報としては、主制御系35又は光源制御部34から光源10に送信されてパルス光が発振される情報、パルス光の発振を例えばインテグレータセンサ(不図示)で受信してSLM制御系17及び照明制御部36(制御部)に送信される情報を含む。
さらに、本実施形態では、ミラー要素16を駆動する際に全部のミラー要素16に関して共通にバイアス電圧VBを複数段階に切り換えているため、少ないデータ量で照明瞳面IPPにおける光強度分布をより高精度に補正できる。なお、バイアス電圧VBは、全部のミラー要素16に関して共通に切り換える他に、例えばミラー要素16のアレイの複数のブロック毎に共通に切り換えてもよい。
さらに、照明瞳面IPPにおける光強度分布の瞳形状によっては、バイアス電圧VBを切り換える必要がないこともある。この場合には、バイアス電圧VBは例えば可変範囲の最大値等に固定しておいてもよい。
また、本実施形態の露光装置EXは、露光用の照明光IL(露光光)でレチクルRのパターンを照明し、照明光ILでそのパターン及び投影光学系PLを介してウエハWを露光する露光装置において、照明装置8を備え、照明装置8からの照明光を照明光ILとして使用している。また、露光装置EXによる露光方法は、本実施形態の照明方法を用いてウエハWを照明している。この露光装置EX又は露光方法によれば、露光を継続して行っても瞳形状がほぼ目標とする形状に維持されるため、レチクルRのパターンの像を常に高精度にウエハWに露光できる。
また、本実施形態の露光装置EXは、露光用の照明光IL(露光光)でレチクルRのパターンを照明し、照明光ILでそのパターン及び投影光学系PLを介してウエハWを露光する露光装置において、照明装置8を備え、照明装置8からの照明光を照明光ILとして使用している。また、露光装置EXによる露光方法は、本実施形態の照明方法を用いてウエハWを照明している。この露光装置EX又は露光方法によれば、露光を継続して行っても瞳形状がほぼ目標とする形状に維持されるため、レチクルRのパターンの像を常に高精度にウエハWに露光できる。
なお、本実施形態において、例えば図10(D)の期間TRCのように照明瞳面IPPにおける瞳形状の変化率が小さい場合には、瞳モニタ系23を用いて所定周期で瞳形状を計測し、この計測される瞳形状が目標となる形状に維持されるようにリアルタイム制御によってSLM14の各ミラー要素16の制御電圧を補正してもよい。また、上記の予測制御中に定期的にリアルタイム制御を行うようにしてもよい。
また、別の観点では、本実施形態の照明光IL(パルス光)でレチクル面Raを照明する照明装置8は、SLM面RPに反射面が配置される複数のミラー要素16(光学要素)を備え、SLM面RPに入射する照明光ILを制御可能なSLM14と、複数のミラー要素16の入射光を制御するための個別に制御可能な電極電圧Vkp(k=1〜4)(個別の制御量)及び共通のバイアス電圧VB(共通の制御量)を設定するSLM制御系17及び照明制御部36(制御部)と、を備え、SLM制御系17及び照明制御部36は、照明光ILの発光タイミングを制御する発光制御信号CS(パルス光の発光情報)を取得して、この信号CSに基づいて複数のミラー要素16に共通のバイアス電圧VBを補正している。
この場合、照明装置8を用いて照明光IL(パルス光)によるレチクル面Raを照明する照明方法は、光源10における照明光ILの発光制御信号CSを取得するステップ152と、SLM面RPに入射する光を制御可能なSLM14の複数のミラー要素16の入射光を制御するための個別に制御可能な電極電圧Vkp(k=1〜4)及び共通のバイアス電圧VBを設定するステップ144と、発光制御信号CSに基づいて複数のミラー要素16に共通のバイアス電圧VBを補正するステップ160と、を有する。
本実施形態によれば、複数のミラー要素16に関して個別に制御可能な電極電圧Vkp及び共通のバイアス電圧VBを設定することで、ミラー要素16の角度、ひいては反射される照明光ILの角度をより微細な間隔で多くの状態に制御できる。そのため、複数のミラー要素16を介した光の光強度分布を大きく切り換えるような場合に、その光強度分布のオーバーシュートのような急激な変動を抑制することができる。そのため、ミラー要素16の角度を大きく変化させる場合に、角度を滑らかに変化させていくことによって、ミラー要素16の駆動基板部15に対する固着等を防止することもできる。
なお、このようにミラー要素16の共通のバイアス電圧VBを制御してSLM14を制御する照明装置8又は照明方法においては、バイアス電圧VBを補正するときに、複数のミラー要素16の個別の電極電圧Vkpを補正してもよい。
なお、この観点の実施形態では、パルス光の発光情報として発光制御信号CSが使用されているが、その発光情報としては、パルス光の発光が開始される開始時間、パルス光が所定の位置(例えば不図示のインテグレータセンサ)に到達する到達時間、パルス光が発光している間の期間である発光期間、パルス光の積算エネルギー、又はパルス光の熱エネルギーの少なくとも一つを使用できる。
なお、この観点の実施形態では、パルス光の発光情報として発光制御信号CSが使用されているが、その発光情報としては、パルス光の発光が開始される開始時間、パルス光が所定の位置(例えば不図示のインテグレータセンサ)に到達する到達時間、パルス光が発光している間の期間である発光期間、パルス光の積算エネルギー、又はパルス光の熱エネルギーの少なくとも一つを使用できる。
言い換えると、その発光情報は、主制御系35及び光源制御部34から光源10に送信されてパルス光が発振される情報、パルスの発振を受信してSLM制御系17及び照明制御部36に送信される情報を含んでいる。
さらにバイアス電圧VBを補正する際に、瞳モニタ系23で計測される光強度分布が目標となる分布になるようにリアルタイム制御を行うようにしてもよい。また、バイアス電圧VBは、複数のミラー要素16のアレイの複数のブロック毎に共通にその値を制御するようにしてもよい。
さらにバイアス電圧VBを補正する際に、瞳モニタ系23で計測される光強度分布が目標となる分布になるようにリアルタイム制御を行うようにしてもよい。また、バイアス電圧VBは、複数のミラー要素16のアレイの複数のブロック毎に共通にその値を制御するようにしてもよい。
また、そのようにミラー要素16の共通のバイアス電圧VBを制御してSLM14を制御する照明装置8又は照明方法においては、照明制御部36は、例えばインテグレータセンサ(不図示)によって計測される照明光ILの積算照射エネルギーに基づいてバイアス電圧VBの補正量を設定してもよい。このときにも、ミラー要素16の個別の電極電圧Vkpを補正してもよい。積算照射エネルギーも複数のミラー要素16の温度と相関があるため、積算照射エネルギーに基づいてミラー要素16の角度を補正することで、瞳形状の変動を抑制できる。
また、さらに別の観点では、本実施形態のSLM(空間光変調器)14の制御方法は、それぞれ入射する光の反射角を制御するように変調可能な複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法である。この制御方法は、その複数の光学要素における光の変調量に対応するミラー要素16の傾斜角を規定する制御電圧(制御量)のうち、ミラー要素16毎に個別に制御可能な電極電圧V1p〜V4pを制御することと、複数のミラー要素16に共通のバイアス電圧VBを制御することと、を含むものである。
この制御方法によれば、例えば複数のミラー要素16及びこの駆動部の温度変化によって、複数のミラー要素16で反射された光の被照射面における光強度分布がわずかにほぼ同じ方向に変化したような場合、例えば複数のミラー要素16に共通のバイアス電圧VBを補正することで、その光強度分布の変化を補正することが可能である。従って、複数のミラー要素16に関して共通のバイアス電圧VBを制御するという簡単な制御によって、複数のミラー要素16を介した光の光強度分布の変動を簡単な制御で抑制することができる。さらに、例えばミラー要素16の傾斜角を大きく切り換える場合に、バイアス電圧VBの制御を組み合わせて、電極電圧とバイアス電圧との差(駆動電圧)の変化を緩やかにすることで、ミラー要素16の傾斜角のオーバーシュートを防止して、SLM14の故障発生率を低減できる。
また、SLM14は、駆動基板部15と、複数のミラー要素16と、駆動基板部15にミラー要素16を傾斜角可変な状態で支持する弾性変形可能なヒンジ部材43と、ミラー要素16毎に駆動基板部15に設けられた複数(本実施形態では2対)の電極45A〜45Dと、を備え、ミラー要素16は、バイアス電圧VBが印加される電極としても使用される。バイアス電圧VBに対し電極45A〜45Dの電圧(電極電圧V1p〜V4p)を制御することで、ミラー要素16の直交する2軸の回りの傾斜角を制御できる。なお、駆動基板部15側にバイアス電圧VBが印加される電極を設け、ミラー要素16の裏面に電極45A〜45Dを設けてもよい。
また、本実施形態の露光方法は、露光用の光源10からの光で、それぞれ光を変調可能な複数の光学要素を有するSLM14のその複数の光学要素を照明し、その複数の光学要素からの光で投影光学系PLを介してウエハWを露光する露光方法であって、上記のSLM14の制御方法を用いて、その複数の光学要素における光の変調量を制御している。従って、光強度分布の変動を抑制できるため、常に高精度に露光を行うことができる。
なお、本実施形態では、SLM14は照明瞳面IPPの光強度分布を形成するために使用されているが、SLM14をレチクルRの代わりに使用することで、マスクレス露光を行うようにしてもよい。この場合には、ウエハWの移動(走査)に応じてSLM14によって形成される反射光のパターンを走査方向に対応する方向に移動させるときに、複数のミラー要素16のバイアス電圧VBを共通に変化させてもよい。
なお、上記の実施形態では、入射面25I又は照明瞳面IPPにおける光強度分布(光量分布)を設定するために複数のミラー要素16の直交する2軸の回りの傾斜角を制御可能なSLM14が使用されている。しかしながら、SLM14の代わりに、それぞれ反射面の法線方向の位置が制御可能な複数のミラー要素のアレイを有する空間光変調器を使用する場合にも、上記の実施形態の照明方法が適用可能である。このような空間光変調器としては、たとえば米国特許第5,312,513号明細書、並びに米国特許第6,885,493号明細書の図1dに開示される空間光変調器を用いることができる。これらの空間光変調器では、二次元的な高さ分布を形成することで回折面と同様の作用を入射光に与えることができる。なお、上述した二次元的に配列された複数の反射面を持つ空間光変調器を、たとえば米国特許第6,891,655号明細書や、米国特許公開第2005/0095749号明細書の開示に従って変形しても良い。さらに、SLM14の代わりに、例えばそれぞれ入射する光の状態(反射角、屈折角、透過率等)を制御可能な複数の光学要素を備える任意の光変調器を使用する場合にも、本発明が適用可能である。
また、上記の実施形態ではオプティカルインテグレータとして図1の波面分割型のインテグレータであるフライアイレンズ25が使用されている。しかしながら、オプティカルインテグレータとしては、内面反射型のオプティカルインテグレータとしてのロッド型インテグレータを用いることもできる。
また、上記の実施形態の照明装置8及び照明方法は例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハW上に形成することによって、ウエハW上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置(リソグラフィシステム)に適用することができる。
また、上記の実施形態の照明装置8及び照明方法は例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハW上に形成することによって、ウエハW上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置(リソグラフィシステム)に適用することができる。
また、上述の実施形態では、露光装置においてマスク(又はウェハ)を照明する照明光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスク(又はウェハ)以外の被照射面を照明する一般的な照明光学系に対して本発明を適用することもできる。
また、上記の実施形態の露光装置EX又は露光方法を用いて半導体デバイス等の電子デバイス(マイクロデバイス)を製造する場合、この電子デバイスは、図13に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ222、デバイスの基材である基板(ウエハ)を製造するステップ223、前述した実施形態の露光装置EX又は露光方法によりマスクのパターンを基板に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱(キュア)及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。
また、上記の実施形態の露光装置EX又は露光方法を用いて半導体デバイス等の電子デバイス(マイクロデバイス)を製造する場合、この電子デバイスは、図13に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ222、デバイスの基材である基板(ウエハ)を製造するステップ223、前述した実施形態の露光装置EX又は露光方法によりマスクのパターンを基板に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱(キュア)及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。
言い換えると、上記のデバイスの製造方法は、上記の実施形態の露光装置EX又は露光方法を用いて、マスクのパターンを介して基板(ウエハW)を露光する工程と、その露光された基板を処理する工程(即ち、基板のレジストを現像し、そのマスクのパターンに対応するマスク層をその基板の表面に形成する現像工程、及びそのマスク層を介してその基板の表面を加工(加熱及びエッチング等)する加工工程)と、を含んでいる。
このデバイス製造方法によれば、露光装置EXの瞳形状の変動を防止して、レチクルのパターンの像を常に高精度にウエハに露光できるため、電子デバイスを高精度に製造できる。
なお、本発明は、例えば米国特許出願公開第2007/242247号明細書、又は欧州特許出願公開第1420298号明細書等に開示されている液浸型露光装置にも適用できる。さらに、本発明は、コンデンサー光学系を使用しない照明光学装置にも適用可能である。さらに、本発明は、投影光学系を用いないプロキシミティ方式等の露光装置にも適用することができる。
なお、本発明は、例えば米国特許出願公開第2007/242247号明細書、又は欧州特許出願公開第1420298号明細書等に開示されている液浸型露光装置にも適用できる。さらに、本発明は、コンデンサー光学系を使用しない照明光学装置にも適用可能である。さらに、本発明は、投影光学系を用いないプロキシミティ方式等の露光装置にも適用することができる。
また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、液晶表示素子、プラズマディスプレイ等の製造プロセスや、撮像素子(CMOS型、CCD等)、マイクロマシーン、MEMS(Microelectromechanical Systems:微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイス(電子デバイス)の製造プロセスにも広く適用できる。
このように本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
EX…露光装置、ILS…照明光学系、R…レチクル、PL…投影光学系、W…ウエハ、IPP…照明瞳面、8…照明装置、10…光源、14…空間光変調器(SLM)、16…ミラー要素、17…SLM制御系、23…瞳モニタ系、25…フライアイレンズ、35…主制御系、36…照明制御部、60…開口計測系
Claims (45)
- 第1面に配置される複数の光学要素を介して、光源からのパルス光で被照射面を照明する照明方法において、
前記パルス光が発光する時間である発光時間の情報を取得することと、
前記発光時間の情報に基づいて、前記第1面に入射する前記パルス光を制御可能な前記複数の光学要素の制御量を設定することと、
を含む照明方法。 - 前記発光時間の情報は、前記パルス光の発光が開始される開始時間、前記パルス光が所定の位置に到達する到達時間、及び前記パルス光が発光している間の期間である発光期間のうち少なくとも一つの情報を含む請求項1に記載の照明方法。
- 前記制御量を補正することは、前記複数の光学要素の制御量のうちの前記光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量と、前記複数の光学要素に共通の制御量とを用いて補正することを含む請求項1又は2に記載の照明方法。
- 前記制御量を設定することは、前記複数の光学要素の制御量を複数の単位制御量に分けて、前記被照射面に形成される照明光の照明条件を切り替えることを含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の照明方法。
- 補正された前記複数の光学要素の制御量に基づいて、前記複数の光学要素のうちの少なくとも一つを駆動することさらに含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の照明装置。
- 前記複数の光学要素を駆動せずに、前記被照射面に形成する照明光の所望の照明条件における前記複数の光学要素の制御量を計算することをさらに備える請求項5に記載の照明装置。
- 前記複数の光学要素からの前記パルス光を前記被照射面に導く光学系の瞳面、該瞳面と共役な面、前記瞳面と等価な面、又はこれらの面の近傍の面に、受光面が配置された第1モニタ装置を用いて、前記複数の光学要素を通過した前記パルス光の強度分布を検出することをさらに含み、
前記制御量を補正することは、前記発光時間の情報及び前記第1モニタ装置の検出結果に基づいて、前記制御量を補正することを含む請求項1〜6のいずれか一項に記載の照明方法。 - 前記発光時間の情報と、前記第1モニタ装置の受光面における前記複数の光学要素を通過した光の強度分布との対応関係を求めることと、
前記対応関係に基づいて前記発光時間の情報と前記複数の光学要素の前記制御量の補正量とを対応させて制御テーブルとして記憶しておくことと、を含み、
前記制御量を補正することは、前記制御テーブルを用いることを含む請求項7に記載の照明方法。 - 前記制御テーブルは、前記パルス光の複数の発光量又は発光時間と前記複数の光学要素の前記制御量の補正量とを対応させた複数のテーブルを含み、
前記対応関係を求めることは、前記複数のテーブルのうち、前記パルス光の発光量又は発光時間が最小値よりも大きいときのテーブルを基準として他のテーブルを求めることを含む請求項8に記載の照明方法。 - 前記第1モニタ装置の受光面は、前記光学系の前記瞳面と等価な面又はこの面の近傍の面に配置され、
前記パルス光の強度分布を検出することは、前記被照射面側に配置されて、前記光学系の前記瞳面と共役な面又はこの面の近傍の面に受光面が配置された第2モニタ装置で前記パルス光の強度分布を検出することと、
前記第2モニタ装置の検出結果に基づいて、前記第1モニタ装置の検出結果を補正することと、
を含む請求項7〜9のいずれか一項に記載の照明方法。 - 前記パルス光の強度分布を検出することは、前記第1モニタ装置の複数の画素の検出信号中に所定値を超える信号があるかどうかを判定することを含む請求項7〜10のいずれか一項に記載の照明方法。
- 前記被照射面を照明する前に、前記被照射面を照明することなく、前記光源に前記パルス光をダミー発光させることを含む請求項1〜11のいずれか一項に記載の照明方法。
- 第1面に配置される複数の光学要素を介して、光源からのパルス光で被照射面を照明する照明方法において、
前記パルス光の発光に関する情報である発光情報を取得することと、
前記第1面に入射する光を制御可能な前記複数の光学要素の制御量として、前記複数の光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量及び前記複数の光学要素に共通の制御量を設定することと、
前記発光情報に基づいて、前記複数の光学要素の前記共通の制御量を補正することと、
を含む照明方法。 - 前記発光情報は、前記パルス光が発光する時間である発光時間の情報又は前記パルス光を受光することによって観測される受光情報の少なくとも一つを含む請求項13に記載の照明方法。
- 前記発光情報は、前記パルス光の発光が開始される開始時間、前記パルス光が所定の位置に到達する到達時間、前記パルス光が発光している間の期間である発光期間、パルス光の積算エネルギー、パルス光の熱エネルギーの少なくとも一つを含む請求項13に記載の照明方法。
- 前記発光情報に基づいて、前記複数の光学要素の前記個別の制御量を補正することを含む請求項13〜15のいずれか一項に記載の照明方法。
- 前記共通の制御量を複数の単位制御量に分けて、前記被照射面の照明条件を切り替えることをさらに含む請求項13〜16のいずれか一項に記載の照明方法。
- 補正された前記複数の光学要素の制御量に基づいて、前記複数の光学要素のうちの少なくとも一つを駆動することさらに含む請求項13〜17のいずれか一項に記載の照明方法。
- 前記光学要素は入射する光を反射する反射面を有する反射要素であり、
前記光学要素の前記入射する光の制御量は、前記反射面の法線方向の位置及び傾斜角の少なくとも一方を設定するための駆動信号である請求項1〜18のいずれか一項に記載の照明方法。 - 露光光源からの光でパターンを照明し、前記露光光源からの光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光方法において、
請求項1〜19のいずれか一項に記載の照明方法を用いて前記露光光源からの光で前記パターンの被照射面を照明することを含む露光方法。 - 前記基板を露光する前に、前記複数の光学要素に前記パルス光を照射することをさらに含む請求項20に記載の露光方法。
- 光源からのパルス光を用いて被照射面を照明する照明装置において、
第1面に配置される複数の光学要素を備え、前記第1面に入射する前記パルス光を制御可能な空間光変調器と、
前記複数の光学要素の制御量を設定する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記パルス光が発光する時間である発光時間の情報を取得して、該発光時間の情報に基づいて前記複数の光学要素の制御量を補正する照明装置。 - 前記発光時間の情報は、前記パルス光の発光が開始される開始時間、前記パルス光が所定の位置に到達する到達時間、及び前記パルス光が発光している間の期間である発光期間のうち少なくとも一つの情報を含む請求項22に記載の照明装置。
- 前記制御部は、前記光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量と、前記複数の光学要素に共通の制御量とを用いて、前記複数の光学要素の前記制御量を補正する請求項22又は23に記載の照明装置。
- 前記制御部は、前記複数の光学要素の制御量を複数の単位制御量に分けて、前記被照射面に形成される照明光の照明条件を切り替える請求項22〜24のいずれか一項に記載の照明装置。
- 前記制御部によって補正された前記複数の光学要素の制御量に基づいて、前記複数の光学要素のうちの少なくとも一つを駆動する駆動部をさらに備える請求項22〜25のいずれか一項に記載の照明装置。
- 前記制御部は、前記複数の光学要素を駆動せずに、前記被照射面に形成する照明光の所望の照明条件における前記複数の光学要素の制御量を算出する請求項26に記載の照明装置。
- 前記複数の光学要素からの前記パルス光を前記被照射面に導く光学系の瞳面、該瞳面と共役な面、前記瞳面と等価な面、又はこれらの面の近傍の面に受光面が配置された第1モニタ装置を備え、
前記制御部は、前記第1モニタ装置によって検出される前記パルス光の強度分布に基づいて前記制御量を補正する請求項22〜27のいずれか一項に記載の照明装置。 - 前記制御部は、
前記発光時間の情報と、前記第1モニタ装置の受光面における前記複数の光学要素を通過した光の強度分布との対応関係を求め、
前記対応関係に基づいて前記発光時間の情報と前記複数の光学要素の前記制御量の補正量とが対応づけられた制御テーブルを用いて、前記複数の光学要素の前記制御量を補正する請求項28に記載の照明装置。 - 前記第1モニタ装置の受光面は、前記光学系の前記瞳面と等価な面又はこの面の近傍の面に配置され、
前記光学系の前記瞳面と共役な面又はこの面の近傍の面に受光面が配置された第2モニタ装置を備え、
前記制御部は、前記第1モニタ装置を用いて前記複数の光学要素を通過した前記パルス光の強度分布を検出するときに、前記第2モニタ装置でも前記パルス光の強度分布を検出させ、
前記第2モニタ装置の検出結果に基づいて前記第1モニタ装置の検出結果を補正する請求項28又は29に記載の照明装置。 - 光源からのパルス光を用いて被照射面を照明する照明装置において、
第1面に配置される複数の光学要素を備え、前記第1面に入射する前記パルス光を制御可能な空間光変調器と、
前記複数の光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量及び前記複数の光学要素に共通の制御量を設定する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記パルス光が発光する発光情報を取得して、該発光情報に基づいて、前記複数の光学要素の前記共通の制御量を補正する照明装置。 - 前記発光情報は、前記パルス光が発光する時間である発光時間の情報又は前記パルス光を受光することによって観測される受光情報の少なくとも一つを含む請求項31に記載の照明装置。
- 前記発光情報は、前記パルス光の発光が開始される開始時間、前記パルス光が所定の位置に到達する到達時間、前記パルス光が発光している間の期間である発光期間、前記パルス光の積算エネルギー、及び前記パルス光の熱エネルギーのうち少なくとも一つを含む請求項32に記載の照明装置。
- 前記制御部は、前記発光情報に基づいて、前記複数の光学要素の前記個別の制御量を補正する請求項31〜33のいずれか一項に記載の照明装置。
- 前記制御部は、前記共通の制御量を複数の単位制御量に分け、前記被照射面の照明条件を切り替えるために前記共通の制御量を前記複数の単位制御量のいずれかに設定する請求項31〜34のいずれか一項に記載の照明装置。
- 前記光学要素は入射する光を反射する反射面を有する反射要素であり、
前記光学要素の前記入射する光の制御量は、前記反射面の法線方向の位置及び傾斜角の少なくとも一方を設定するための駆動信号である請求項31〜35のいずれか一項に記載の照明装置。 - 露光光源からの光でパターンを照明し、前記露光光源からの光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、
請求項31〜35のいずれか一項に記載の照明装置を備え、
前記照明装置を用いて前記露光光源からの光で前記パターンの被照射面を照明する露光装置。 - 前記照明装置の前記制御部は、前記基板を露光する前に、前記複数の光学要素に前記パルス光を照射することを特徴とする請求項37に記載の露光装置。
- それぞれ光を変調可能な複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、
前記複数の光学要素における光の変調量を規定する制御量のうち、前記光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量を制御することと、
前記複数の光学要素における制御量のうち、前記複数の光学要素に共通の制御量を制御することと、
を含むことを特徴とする制御方法。 - 前記複数の光学要素に共通の制御量を制御することは、前記複数の光学要素における光の変調量と該変調量を規定する制御量との関係の変化を補正するために行われることを特徴とする請求項39に記載の制御方法。
- 前記複数の光学要素に共通の制御量は、予め定められた複数の制御量のうちのいずれかに設定されるように制御されることを特徴とする請求項39又は40に記載の制御方法。
- 前記光学要素は、入射する光を反射するために傾斜角が可変の反射部であり、前記空間光変調器は、固定部と、前記反射部と前記固定部とを連結する弾性ヒンジ部と、前記反射部及び前記固定部の一方に設けられて個別に電圧が制御可能な複数の第1電極と、前記反射部及び前記固定部の他方に設けられて前記複数の光学要素に関して共通に電圧が制御可能な第2電極と、を有し、
前記光学要素毎に個別に制御可能な個別の制御量を制御することは、前記光学要素の複数の前記第1電極の電圧を制御することであり、
前記複数の光学要素に共通の制御量を制御することは、前記光学要素の前記第2電極の電圧を制御することであることを特徴とする請求項39〜41のいずれか一項に記載の制御方法。 - 露光光源からの光で、それぞれ光を変調可能な複数の光学要素を有する空間光変調器の前記複数の光学要素を照明し、前記複数の光学要素からの光で投影光学系を介して基板を露光する露光方法であって、
請求項39〜42のいずれか一項に記載の空間光変調器の制御方法を用いて、前記複数の光学要素における光の変調量を制御することを特徴とする露光方法。 - 請求項20、21、又は43に記載の露光方法を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、
前記パターンが形成された前記基板を処理することと、
を含むデバイス製造方法。 - 請求項37又は38に記載の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、
前記パターンが形成された前記基板を処理することと、
を含むデバイス製造方法。
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