JP2014136804A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014136804A JP2014136804A JP2013004166A JP2013004166A JP2014136804A JP 2014136804 A JP2014136804 A JP 2014136804A JP 2013004166 A JP2013004166 A JP 2013004166A JP 2013004166 A JP2013004166 A JP 2013004166A JP 2014136804 A JP2014136804 A JP 2014136804A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- vacuum
- diffusion container
- internal space
- nozzles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 75
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 43
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 13
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 13
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 17
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 9
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 32
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 11
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】それぞれ蒸着材料Aを蒸発させて蒸発材料とする複数のるつぼ2と、これらるつぼ2の下流側に接続されたバルブ51と、これらバルブ51から導入管11を通じて蒸発材料を導入するとともに導入された蒸発材料を拡散させる拡散容器21と、この拡散容器の内部22で拡散された蒸発材料を基板Kに向けて放出する複数のノズル25とを備え、上記基板Kに真空下で蒸着を行う真空蒸着装置であって、上記導入管11の全てが分岐部を有しておらず、蒸着レートが0.1〜10Å/secであり、拡散容器の内部空間厚さ(D)が1m以下およびノズル間最大距離(L)が5m以下で、且つ、拡散容器の内部空間厚さ(D)とノズル間最大距離(L)との関係が、所定の式(1)〜(3)のいずれかを満たす。
【選択図】図1
Description
上記導入管の全てが分岐部を有していないものである。
100×D≧−1.22×L2+25L−0.51
を満たすものである。
拡散容器の内部空間厚さ(D)が1m以下およびノズル間最大距離(L)が5m以下で、
且つ、拡散容器の内部空間厚さ(D)とノズル間最大距離(L)との関係が、以下の式(1)〜(3)
100×D≧−1.22×L2+25L−0.51・・・(1)
100×D≦80×L+244 ・・・(2)
100×D≦−0.25×L+4.75 ・・・(3)
のいずれかを満たすものである。
以下、本発明の実施の形態1に係る真空蒸着装置を、図面に基づき説明する。
図1(a)に示すように、この真空蒸着装置1は、蒸着材料(例えばAlq3)Aを蒸発させる複数[図1(a)では2つ]のるつぼ2と、蒸発した蒸着材料Aである蒸発材料をるつぼ2からそれぞれ導入する複数本[図1(a)では2本]の導入管11と、これら導入管11で導入された蒸発材料を内部に配置された基板Kに導いて所定の真空度(負圧)で蒸着させる真空容器3と、この真空容器3の内部を所定の真空度(負圧)にする真空ポンプ(図示省略)とを具備する。また、この真空容器3には、導入管11で導入された蒸発材料を拡散させる拡散容器(マニホールドともいう)21と、下側に基板Kを固定した状態で保持する基板ホルダー31と、この基板ホルダー31の近傍で基板Kに対する蒸着レートを計測する水晶振動式膜厚計(QCMともいう)41とが配置されている。さらに、上記拡散容器21の基板対向面には、図1(a)および(b)に示すように、拡散させた蒸発容器を放出する放出孔23が前後左右に多数形成されるとともに、各放出孔23にノズル25が取り付けられている。なお、以下では、拡散容器21から見たるつぼ2の方向(図1上の左右方向)を左右方向という。
上記導入管11は、全長にわたって内径が一定の管である。したがって、上記導入管11は、導入する蒸発材料のコンダクタンスを低下させにくい構造である。
100×D≧−1.22×L2+25L−0.51・・・(1)
を満たすものである。
100×D≦80×L+244 ・・・(2)
100×D≦−0.25×L+4.75 ・・・(3)
を満たすものである。
まず、各るつぼ2に蒸着材料Aを投入し、真空容器3の内部を真空ポンプで所定の真空度(負圧)にしておく。そして、全てのバルブ51を閉じて、るつぼ2、バルブ51、導入管11、拡散容器21およびノズル25をヒータで加熱する。るつぼ2内の蒸着材料Aが加熱されると、この蒸着材料Aが蒸発する。その後、1つのバルブ51を開けることで、そのるつぼ2からの蒸発した蒸着材料A(つまり蒸発材料)は、コンダクタンスが殆ど低下することなくバルブ51および導入管11を通過し、拡散容器21に導入される。そして、蒸発材料は、拡散容器21の内部空間22で拡散し、ノズル25から基板Kに向けて放出される。放出された蒸発材料により蒸着が行われ、基板Kに蒸着膜を生成していく。また、基板Kの近傍で蒸着レートが水晶振動式膜厚計41により計測され、蒸着レートが所望の値になるように、バルブ51により蒸発材料の流量を適宜制御する。所望の厚さの蒸着膜が生成されると、上記バルブ51を閉じるとともに他の1つのバルブ51を開け、同様にして、上記蒸着膜に重ねて他の蒸着膜を生成していく。
[シミュレーション]
以下、上記実施の形態1における式(1)〜(3)を導出するに至ったシミュレーションについて説明する。
この実施例では、図1の通り、るつぼ2が2つ、導入管11が2本の真空蒸着装置1を使用した。また、一方のるつぼ2内の蒸着材料A(A1)をα−NPDとし、他方のるつぼ2内の蒸着材料A(A2)をAlq3とした。ここで、ノズル25のノズル間最大距離(L)が1.0m、内部空間22の厚さ(D)が0.25mの拡散容器21を用いた。
本実施の形態2に係る真空蒸着装置1は、上記実施の形態1に係る真空蒸着装置1と異なり、共蒸着を行い得るものである。
基板Kの近傍で複数の拡散容器21H,21M,21Lによる全体の蒸着レートが水晶振動式膜厚計41により計測され、拡散容器21H,21M,21Lの後方で当該拡散容器21H,21M,21Lによる各蒸着レートが水晶振動式膜厚計41によりそれぞれ計測される。そして、全体の蒸着レートおよび拡散容器21H,21M,21Lの各蒸着レートが所望の値になるように、バルブ51により蒸発材料の流量を適宜制御する。
さらに、上記実施の形態1および2では、拡散容器21が、その基板対向面にノズル25を取り付けたものとして説明したが、ノズル25を取り付けずに、放出孔23から蒸発材料を直接放出するものであってもよい。
また、上記実施の形態1における複数のるつぼ2内の蒸着材料Aを異なるものA(A1,A2)としてもよく、同一であってもよい。同一とすることで、蒸着材料Aの加熱温度を一層低く設定できる。
A 蒸着材料
2 るつぼ
11 導入管
21 拡散容器
22 内部空間
23 放出口
24 導入口
Claims (3)
- それぞれ蒸着材料を蒸発させて蒸発材料とする複数のるつぼと、これらるつぼの下流側に接続されたバルブと、これらバルブから導入管を通じて蒸発材料を導入するとともに導入された蒸発材料を拡散させる拡散容器と、この拡散容器の内部で拡散された蒸発材料を基板に向けて放出する複数の放出孔とを備え、上記基板に真空下で蒸着を行う真空蒸着装置であって、
上記導入管の全てが分岐部を有していないことを特徴とする真空蒸着装置。 - 拡散容器の内部空間厚さ(D)とノズル間最大距離(L)との関係が、以下の式
100×D≧−1.22×L2+25L−0.51
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着装置。 - 蒸着レートが0.1Å/sec以上10Å/sec以下であり、
拡散容器の内部空間厚さ(D)が1m以下およびノズル間最大距離(L)が5m以下で、
且つ、拡散容器の内部空間厚さ(D)とノズル間最大距離(L)との関係が、以下の式(1)〜(3)
100×D≧−1.22×L2+25L−0.51・・・(1)
100×D≦80×L+244 ・・・(2)
100×D≦−0.25×L+4.75 ・・・(3)
のいずれかを満たすことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013004166A JP6222929B2 (ja) | 2013-01-15 | 2013-01-15 | 真空蒸着装置 |
CN201310721942.4A CN103924195A (zh) | 2013-01-15 | 2013-12-24 | 真空蒸镀装置 |
CN201320858786.1U CN203768445U (zh) | 2013-01-15 | 2013-12-24 | 真空蒸镀装置 |
KR1020130163500A KR102180359B1 (ko) | 2013-01-15 | 2013-12-26 | 진공증착장치 |
TW103101449A TWI596224B (zh) | 2013-01-15 | 2014-01-15 | 真空蒸鍍裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013004166A JP6222929B2 (ja) | 2013-01-15 | 2013-01-15 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014136804A true JP2014136804A (ja) | 2014-07-28 |
JP6222929B2 JP6222929B2 (ja) | 2017-11-01 |
Family
ID=51142582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013004166A Active JP6222929B2 (ja) | 2013-01-15 | 2013-01-15 | 真空蒸着装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6222929B2 (ja) |
KR (1) | KR102180359B1 (ja) |
CN (2) | CN103924195A (ja) |
TW (1) | TWI596224B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019508571A (ja) * | 2017-01-31 | 2019-03-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 材料堆積装置、真空堆積システム、及び真空堆積を行う方法 |
CN110117770A (zh) * | 2018-02-06 | 2019-08-13 | 三星显示有限公司 | 有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法 |
US20200063253A1 (en) * | 2017-01-24 | 2020-02-27 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Crucible |
KR20200144098A (ko) | 2018-04-12 | 2020-12-28 | 가부시키가이샤 도쿠야마 | 포토크로믹 광학 물품 및 그 제조 방법 |
CN113373411A (zh) * | 2020-03-10 | 2021-09-10 | 株式会社昭和真空 | 蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104178734B (zh) * | 2014-07-21 | 2016-06-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸发镀膜装置 |
CN109321884A (zh) * | 2018-10-17 | 2019-02-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀装置 |
CN112877646B (zh) * | 2021-01-13 | 2023-01-31 | 嘉讯科技(深圳)有限公司 | 一种具有混镀的高效真空电镀装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53110973A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-28 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Method and apparatus for manufacturing compounds |
JPH03183762A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-09 | Nikon Corp | 真空蒸着装置 |
JP2006152326A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Tokyo Electron Ltd | 蒸着装置 |
JP2006225757A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
WO2007135870A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Ulvac, Inc. | 有機蒸着材料用蒸着装置、有機薄膜の製造方法 |
JP2009097044A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Canon Inc | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2010150662A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-08 | Veeco Instruments Inc | 直線状堆積供給源 |
WO2011074551A1 (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | 平田機工株式会社 | 真空蒸着方法及び装置 |
KR20140071821A (ko) * | 2012-12-04 | 2014-06-12 | 주식회사 선익시스템 | 믹싱 영역이 포함된 선형 증발원 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4570403B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2010-10-27 | 日立造船株式会社 | 蒸発装置、蒸着装置および蒸着装置における蒸発装置の切替方法 |
JP2007332458A (ja) | 2006-05-18 | 2007-12-27 | Sony Corp | 蒸着装置および蒸着源ならびに表示装置の製造方法 |
JP4551465B2 (ja) * | 2008-06-24 | 2010-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 蒸着源、成膜装置および成膜方法 |
JP4782219B2 (ja) * | 2009-07-02 | 2011-09-28 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
JP5549461B2 (ja) * | 2010-07-26 | 2014-07-16 | 富士通株式会社 | 電子部品の引き剥がし装置及び引き剥がし方法 |
KR20120010736A (ko) * | 2010-07-27 | 2012-02-06 | 히다치 조센 가부시키가이샤 | 증착장치 |
-
2013
- 2013-01-15 JP JP2013004166A patent/JP6222929B2/ja active Active
- 2013-12-24 CN CN201310721942.4A patent/CN103924195A/zh active Pending
- 2013-12-24 CN CN201320858786.1U patent/CN203768445U/zh not_active Expired - Lifetime
- 2013-12-26 KR KR1020130163500A patent/KR102180359B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-01-15 TW TW103101449A patent/TWI596224B/zh active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53110973A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-28 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Method and apparatus for manufacturing compounds |
JPH03183762A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-09 | Nikon Corp | 真空蒸着装置 |
JP2006152326A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Tokyo Electron Ltd | 蒸着装置 |
JP2006225757A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
WO2007135870A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Ulvac, Inc. | 有機蒸着材料用蒸着装置、有機薄膜の製造方法 |
JP2009097044A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Canon Inc | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2010150662A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-08 | Veeco Instruments Inc | 直線状堆積供給源 |
WO2011074551A1 (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | 平田機工株式会社 | 真空蒸着方法及び装置 |
KR20140071821A (ko) * | 2012-12-04 | 2014-06-12 | 주식회사 선익시스템 | 믹싱 영역이 포함된 선형 증발원 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200063253A1 (en) * | 2017-01-24 | 2020-02-27 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Crucible |
JP2019508571A (ja) * | 2017-01-31 | 2019-03-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 材料堆積装置、真空堆積システム、及び真空堆積を行う方法 |
CN110117770A (zh) * | 2018-02-06 | 2019-08-13 | 三星显示有限公司 | 有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法 |
KR20200144098A (ko) | 2018-04-12 | 2020-12-28 | 가부시키가이샤 도쿠야마 | 포토크로믹 광학 물품 및 그 제조 방법 |
CN113373411A (zh) * | 2020-03-10 | 2021-09-10 | 株式会社昭和真空 | 蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140092221A (ko) | 2014-07-23 |
CN103924195A (zh) | 2014-07-16 |
TW201428116A (zh) | 2014-07-16 |
KR102180359B1 (ko) | 2020-11-18 |
JP6222929B2 (ja) | 2017-11-01 |
CN203768445U (zh) | 2014-08-13 |
TWI596224B (zh) | 2017-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6222929B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP4767000B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
TWI467040B (zh) | 用於有機材料之蒸發器 | |
JP4966028B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
KR20140119655A (ko) | 증발원 어셈블리 | |
JP4545010B2 (ja) | 蒸着装置 | |
JP2018501405A5 (ja) | ||
KR20140098693A (ko) | 진공증착장치 및 진공증착방법 | |
US20120192793A1 (en) | Film forming apparatus | |
JP2005336527A (ja) | 蒸着装置 | |
JP2013189678A (ja) | 蒸着装置 | |
CN106560007B (zh) | 具备多个坩埚的薄膜沉积装置 | |
JP2012226838A (ja) | 真空蒸着装置 | |
US20110017135A1 (en) | Tomic layer film forming apparatus | |
JP6207319B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2009108375A (ja) | 蒸着装置及び蒸着源 | |
KR101422533B1 (ko) | 믹싱 영역이 포함된 선형 증발원 | |
JP2006111926A (ja) | 蒸着装置 | |
JP2009228090A (ja) | 蒸着装置及び蒸着源 | |
JP6382508B2 (ja) | コーティング装置 | |
KR20130042157A (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR102092251B1 (ko) | 증착시스템 | |
JP2020517818A (ja) | 蒸発した材料を基板の上に堆積するための蒸発源、堆積装置、蒸発した材料の蒸気圧を測定するための方法、及び蒸発した材料の蒸発速度を決定するための方法 | |
KR20090000953A (ko) | 증착장비의 기화기 | |
JPH0397693A (ja) | 有機金属化合物の気化供給装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171003 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6222929 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |