JP2014075520A - 荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置は、荷電粒子光学系を内蔵する光学鏡筒2bと、開口部2a1が上面に形成された真空容器2aと、光学鏡筒2bが固定され、開口部2a1を塞ぐための蓋体34と、真空容器2a内に設けられ、その真空容器2aの内部空間を真空容器2aの上面側の第1内部空間K1と真空容器2aの底面側の第2内部空間K2に区分し、貫通孔31aが形成されたベース体31と、ベース体31に固定されて真空容器2aの第1内部空間K1内に設けられ、蓋体34を支持する複数の支持部材35と、真空容器2aと蓋体34とを接続して真空容器2aを密閉する伸縮可能な伸縮部材36とを備える。
【選択図】図2
Description
2 描画部
2a 真空容器
2a1 開口部
2b 光学鏡筒
3 制御部
3a 描画データ記憶部
3b ショットデータ生成部
3c 描画制御部
11 ステージ
11a ミラー
12 移動機構
13 レーザ干渉計
14 駆動部
21 出射部
22 照明レンズ
23 第1の成形アパーチャ
24 投影レンズ
25 成形偏向器
26 第2の成形アパーチャ
27 対物レンズ
28 副偏向器
29 主偏向器
31 ベース板
31a 貫通孔
32 第1筐体
32a 側面壁
32b 上面壁
33 第2筐体
33a 側面壁
33b 底面壁
34 蓋体
34a 貫通孔
35 支持部材
36 伸縮部材
36a 接合部
36a1 凹部
37 支持台
41 固定部材
42 Oリング
B 電子ビーム
M1 第1面
M2 第2面
K1 第1内部空間
K2 第2内部空間
W 試料
Claims (5)
- 荷電粒子光学系を内蔵する光学鏡筒と、
開口部が上面に形成された真空容器と、
前記光学鏡筒が固定され、前記開口部を塞ぐための蓋体と、
前記真空容器内に設けられ、その真空容器の内部空間を前記真空容器の上面側の第1内部空間と前記真空容器の底面側の第2内部空間に区分し、貫通孔が形成されたベース体と、
前記ベース体に固定されて前記真空容器の第1内部空間内に設けられ、前記蓋体を支持する複数の支持部材と、
前記真空容器と前記蓋体とを接続して前記真空容器を密閉する伸縮可能な伸縮部材と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記支持部材に固定されたレーザ干渉計をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記伸縮部材は、前記蓋体に溶接により固定されており、前記真空容器に固定部材により固定されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記伸縮部材は、前記固定部材により前記真空容器に接合される接合部を有しており、
前記接合部は、前記伸縮部材の他の部分よりリン及び硫黄の濃度が低い材料により形成されていることを特徴とする請求項3に記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記ベース体及び前記複数の支持部材は、室温で2×10−6/K以下の線膨張係数を有する材料により形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
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2012
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