JP2014056990A - 露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液体を介して露光光で基板を露光する。露光光が射出される射出面を有する光学部材と、射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有して光学部材下を移動可能なステージと、物体と光学部材との間に液体を供給する第1液体供給装置と、ステージに少なくとも一部が配置されて、ギャップに液体を供給する第2液体供給装置と、を備える。
【選択図】図2
Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ELの光路の少なくとも一部が液体LQで満たされるように液浸空間LSが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分(空間、領域)をいう。基板Pは、液浸空間LSの液体LQを介して露光光ELで露光される。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
具体的には、制御装置8は以下に示すような方法で間隙Gaにおける液体の量の変動を減らす。
流体吸引装置26の作動により、間隙Gaにおける液体を吸引して回収するとともに回収した液体の量を第1センサーで検出し、第1センサーで検出した液体の量が、予め設定した範囲から外れた場合に、第1センサーで検出した液体の量が設定した範囲内となる量を液体供給装置50により供給させる。第1センサーとしては、例えば上述した流体吸引装置26に設けられる流量計が例示できる。この場合、制御装置8は、流体吸引装置26の動作と液体供給装置50の動作とを同期制御して、間隙Gaにおける液体のうち、例えば液体供給装置50からの液体の量が、液浸空間LSから間隙Gaへ流入する液体の量よりも相対的に多くすることにより、基板Pの表面Paを経て間隙Gaに流入する液体供給装置18からの液体に含まれる異物等の悪影響を抑制できる。
流体吸引装置26の作動により、間隙Gaにおける液体を吸引して回収するとともに回収した液体の温度を第2センサーで検出し、第2センサーで検出した液体の温度が、予め設定した範囲から外れた場合に、間隙Gaにおける液体の量が変動して基板ステージ2の温度変動が生じた可能性があるため、第2センサーで検出した液体の温度が設定した範囲内となる量を液体供給装置50により供給させる。この場合についても、制御装置8は、流体吸引装置26の動作と液体供給装置50の動作とを同期制御して、間隙Gaにおける液体のうち、液体供給装置50からの液体の量が、液浸空間LSから間隙Gaへ流入する液体の量よりも相対的に多くすることにより、基板Pの表面Paを経て間隙Gaに流入する液体供給装置18からの液体に含まれる異物等の悪影響を抑制できる。なお、上記各例において、流体吸引装置26による液体回収(吸引)量が一定となるのであれば、必ずしも液体供給装置50からの液体の量を、液浸空間LSから間隙Gaに流入する液体の量よりも相対的に多くしなくともよい。
温度センサTS1、TS2の少なくとも一方の計測結果が予め設定した範囲から外れた場合には、液浸空間LSから間隙Gaに流入する液体の量が変動して基板ステージ2の温度変動が生じたと推定できる。よって、制御装置8は、温度センサTS1、TS2で計測される温度が設定した範囲内となるように、液体供給装置50により供給口51aから空間部23へ液体を供給させるように制御する。
基板Pの露光条件によっては、例えば、上述した各種センサーを用いない場合でも、液浸空間LSから間隙Ga内に流入する液体の量を推定することが可能である。そのため、露光条件に応じて液体供給装置50から供給する液体の量を調整することも可能である。この種の露光条件としては、例えば、基板Pの形状、基板Pの液体に対する撥液性、基板ステージ2の移動条件等が挙げられる。
次に、露光装置EXの第2実施形態について説明する。
第2実施形態では、液体回収装置21の液体回収量に基づいて、液体供給装置50からの液体供給量を調整する。
これにより、空間部23から流体吸引装置26へ吸引される流体(液体)の量を調整することができ、上述した気化熱の変動を抑制することができる。
なお、このようなエンコーダシステムは、例えば米国特許出願公開第2007/0288121号明細書に開示されている。
Claims (36)
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有して前記光学部材下を移動可能なステージと、
前記物体と前記光学部材との間に液体を供給する第1液体供給装置と、
前記ステージに少なくとも一部が配置されて、前記ギャップに液体を供給する第2液体供給装置と、を備える露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第1液体供給装置から供給されて前記ギャップに流入する液体を含む前記ギャップ内の液体の量の変動を減らすように、該ギャップに液体を供給する
請求項1記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第1液体供給装置から供給される液体のうち、前記ギャップに流入する液体の量の変動を相殺するように液体を供給する
請求項1または2記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記ギャップ内の液体のうち前記第2液体供給装置からの液体の量が相対的に多くなるように、前記ギャップに液体を供給する
請求項1または2記載の露光装置。 - 前記ギャップ内の液体を回収する液体回収装置を備え、
前記第2液体供給装置は、前記液体回収装置が回収した液体に基づいて、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記液体回収装置が回収した液体の量を検出する第1センサーを備え、
前記第2液体供給装置は、前記第1センサーの検出結果に応じて、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項5記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第1センサーが検出した液体の量が予め設定された範囲から外れた場合に、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項6記載の露光装置。 - 前記液体回収装置が回収した液体の温度を検出する第2センサーを備え、
前記第2液体供給装置は、前記第2センサーの検出結果に応じて、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項5〜7のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第2センサーが検出した液体の温度が予め設定された範囲から外れた場合に、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項8記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、予め設定された数の前記基板を露光するたびに、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を制御する制御装置を備える
請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記ギャップ内から回収された液体に基づいて、前記第2液体供給置を制御する
請求項11記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記ステージの温度を検出した結果に基づいて、前記第2液体供給装置を制御する
請求項11または12記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記第1液体供給装置から供給されて前記ギャップに流入する液体の量を推定した推定結果に基づいて、前記第2液体供給装置を制御する
請求項11〜13のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記基板の露光条件に基づいて、前記第2液体供給装置を制御する
請求項11〜14のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記基板の露光条件は、前記基板の形状と前記液体に対する撥液性との少なくともいずれか一方の条件を含む
請求項15記載の露光装置。 - 前記基板の露光条件は、前記ステージの移動条件を含む
請求項15または16記載の露光装置。 - 前記ステージの移動条件は、前記基板上の露光領域の分布に応じて設定される
請求項17記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記基板の露光の少なくとも一部において前記ギャップに液体を供給する
請求項1〜18のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記基板の露光前と露光後との少なくとも一方において前記ギャップに液体を供給する
請求項1〜19のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージは、前記基板を保持している間の少なくとも一部において、前記第1液体供給装置から供給された液体が前記ギャップを跨ぐように移動する
請求項1〜20のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージは、前記物体を保持する第1保持部と、前記部材を保持する第2保持部とを備え、
前記ギャップは、前記第1保持部および前記第2保持部との間の空間の少なくとも一部を含む
請求項1〜21のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージは、前記ギャップに配置された多孔部材を備え、
前記第2液体供給装置により供給された液体が前記多孔部材と接触する
請求項22記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記ギャップに臨んで前記ステージに設けられた供給口を介して、前記ギャップに液体を供給する
請求項1〜23のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記物体は、前記基板を含み、
前記第2液体供給装置は、前記基板の代わりに第2の物体を前記ステージに配置することで、前記第1液体供給装置から供給される液体のうち前記ギャップに流入する液体の量を調整する
請求項1〜23のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージに配置された前記第2の物体と前記部材との間隔は、前記ステージに保持された基板と前記部材との間隔と異なる
請求項25記載の露光装置。 - 前記ステージに配置された前記第2の物体のうち前記ギャップに隣接する部分と前記液体との撥液性は、前記ステージに保持された前記基板のうち前記ギャップに隣接する部分と前記液体との撥液性と異なる
請求項25または26記載の露光装置。 - 前記ステージに配置された前記第2の物体のうち前記ギャップに隣接する部分の形状は、前記ステージに保持された前記基板のうち前記ギャップに隣接する部分の形状と異なる
請求項25〜27のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記物体は、前記基板を含み、
前記部材は、前記ステージが前記基板を保持する位置を規定する規定部材を含む
請求項1〜28のいずれか一項記載の露光装置 - 前記物体は、前記ステージが前記基板を保持する位置を規定する規定部材を含む
請求項1〜28のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記部材は、前記ステージを計測するための計測部材を含む
請求項30記載の露光装置。 - 前記部材は、前記露光光を計測するための計測部材を含む
請求項30または31記載の露光装置。 - 請求項1から32のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記光学部材に対向する基板との間に第1液体供給装置によって液体を供給することと、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して部材を配置し、前記部材および前記基板を移動することと、
前記移動する基板と前記光学部材との間の液体を介して前記基板を露光することと、
前記ステージに少なくとも一部を配置した第2液体供給装置によって前記ギャップに液体を供給することと、
を含む露光方法。 - 前記第2液体供給装置は、前記光学部材と前記基板との間に供給されて前記ギャップに流入する液体を含む前記ギャップ内の液体の量の変動を減らすように、前記ギャップに液体を供給する請求項34記載の露光方法。
- 請求項34または35記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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