JP2014052431A - Near-infrared absorption filter and solid-state image pickup device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、近赤外線遮蔽効果を有する近赤外線吸収フィルタ、固体撮像素子および撮像装置用レンズに関し、また、それらを用いた撮像装置に関する。 The present invention relates to a near-infrared absorbing filter having a near-infrared shielding effect, a solid-state imaging device, and a lens for an imaging apparatus, and also relates to an imaging apparatus using them.
近年、様々な用途に、可視波長領域(450〜600nm)の光は十分に透過するが、近赤外波長領域(700〜1100nm)の光は遮蔽する近赤外線吸収フィルタが使用されている。 In recent years, near-infrared absorption filters that sufficiently transmit light in the visible wavelength region (450 to 600 nm) but shield light in the near-infrared wavelength region (700 to 1100 nm) have been used for various applications.
例えば、固体撮像素子(CCD、CMOS等)を用いたデジタルスチルカメラ、デジタルビデオ等の撮像装置や、受光素子を用いた自動露出計等の表示装置においては、固体撮像素子または受光素子の感度を人間の視感度に近づけるため、撮像レンズと固体撮像素子または受光素子との間にそのような近赤外線吸収フィルタを配置している。また、PDP(プラズマディスプレイパネル)においては、近赤外線で作動する家電製品用リモコン装置の誤作動を防止するため、前面(視認側)に近赤外線吸収フィルタを配置している。 For example, in an imaging device such as a digital still camera and digital video using a solid-state image sensor (CCD, CMOS, etc.) and a display device such as an automatic exposure meter using a light-receiving element, the sensitivity of the solid-state image sensor or the light-receiving element is increased. In order to approach human visibility, such a near-infrared absorption filter is disposed between the imaging lens and the solid-state imaging device or light receiving device. In addition, in a PDP (plasma display panel), a near-infrared absorption filter is disposed on the front surface (viewing side) in order to prevent malfunction of a home appliance remote control device that operates in the near-infrared.
これらのうちでも撮像装置用の近赤外線吸収フィルタとしては、近赤外波長領域の光を選択的に吸収するように、フツリン酸塩系ガラスや、リン酸塩系ガラスにCuO等を添加したガラスフィルタが知られているが、光吸収型のガラスフィルタは、高価である上に、薄型化が困難であり、近年の撮像装置の小型化・薄型化要求に十分に応えることができないという問題があった。 Among these, as a near-infrared absorption filter for an imaging device, fluorophosphate glass or glass obtained by adding CuO or the like to phosphate glass so as to selectively absorb light in the near-infrared wavelength region. Although a filter is known, a light absorption type glass filter is expensive and difficult to reduce in thickness, and cannot sufficiently meet recent demands for downsizing / thinning imaging devices. there were.
そこで、上記問題を解決すべく、基板上に、例えば酸化シリコン(SiO2)層と酸化チタン(TiO2)層とを交互に積層し、光の干渉によって近赤外波長領域の光を反射して遮蔽する反射型の干渉フィルタ、透明樹脂中に近赤外波長領域の光を吸収する色素を含有させたフィルム等が開発されている。また、これらを組み合わせた近赤外線を吸収する色素を含有する樹脂層と近赤外線を反射する層とを積層した光学フィルタも開発されている。 Therefore, in order to solve the above problems, for example, a silicon oxide (SiO 2 ) layer and a titanium oxide (TiO 2 ) layer are alternately stacked on the substrate, and light in the near infrared wavelength region is reflected by light interference. A reflection type interference filter that shields light and a film containing a pigment that absorbs light in the near-infrared wavelength region in a transparent resin have been developed. In addition, an optical filter in which a resin layer containing a pigment that absorbs near-infrared rays and a layer that reflects near-infrared light is combined has been developed.
これらのうちでも透明樹脂中に近赤外波長領域の光を吸収する色素を含有させたフィルムにおいて、透明樹脂として、屈折率が高く、耐熱性に優れるフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂やポリカーボネート樹脂を用いる技術が開発されている(例えば、特許文献1および特許文献2参照)。また、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した反射防止膜の高屈折率層として、上記特性に加えて耐摩耗性や耐薬品性等を有するアクリル樹脂を用い、さらにこの高屈折率層に近赤外線吸収剤を含有させて近赤外線吸収フィルタの機能をもたせた反射防止複合機能フィルムの技術が開発されている(例えば、特許文献3参照)。
Among these, in a film containing a pigment that absorbs light in the near-infrared wavelength region in a transparent resin, a polyester resin or a polycarbonate resin having a fluorene skeleton having a high refractive index and excellent heat resistance is used as the transparent resin. Technologies have been developed (see, for example,
しかしながら、このような透明樹脂、特に高屈折率の透明樹脂に近赤外線吸収剤を含有させた樹脂層をガラス基板上に形成させて近赤外線吸収フィルタとした場合、特に高温高湿の環境下に長く曝された際に、接着耐久性の問題や、ガラス基板として汎用性の高いソーダライムガラスを用いた場合のアルカリ溶出による樹脂層の劣化等の問題があり、必ずしも十分な信頼性を有するとは言えなかった。また、上記樹脂層とガラス基板の接着性が十分でないと、製造上、大サイズで得られた母材をダイシングで切断して製品サイズに加工する際の歩留まりの低下を招く点で問題であった。 However, when a near-infrared absorbing filter is formed by forming a resin layer containing a near-infrared absorber in such a transparent resin, particularly a high-refractive-index transparent resin, on a glass substrate, particularly in a high-temperature and high-humidity environment. When exposed for a long time, there are problems such as adhesion durability and deterioration of the resin layer due to alkali elution when using highly versatile soda lime glass as a glass substrate, and it has sufficient reliability. I could not say. In addition, if the adhesiveness between the resin layer and the glass substrate is not sufficient, there is a problem in that the yield is reduced when the base material obtained in a large size is cut by dicing and processed into a product size. It was.
本発明は、ガラス基板上に透明樹脂、特にはフルオレン骨格を有する透明樹脂を用いた近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタにおいて、近赤外線吸収性に優れるとともに、ガラス基板と近赤外線吸収層との間の接着性が強固であり、特に高温高湿の環境下での使用においても高い信頼性を有する近赤外線吸収フィルタおよび、該近赤外線吸収フィルタを具備する信頼性の高い固体撮像装置の提供を目的とする。 The present invention provides a near-infrared absorbing filter having a near-infrared absorbing layer using a transparent resin, particularly a transparent resin having a fluorene skeleton, on a glass substrate. Providing a near-infrared absorption filter having high adhesion between the two and having high reliability even when used in a high-temperature and high-humidity environment, and a highly reliable solid-state imaging device including the near-infrared absorption filter With the goal.
本発明は、以下の構成を有する近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置を提供する。
[1]ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面上にガラス基板側から順に下地層および近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタであって、
前記近赤外線吸収層は、透明樹脂と近赤外線吸収色素を含有する層であり、
前記下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である近赤外線吸収フィルタ。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。
The present invention provides a near-infrared absorption filter and a solid-state imaging device having the following configuration.
[1] A near-infrared absorbing filter having a glass substrate and a base layer and a near-infrared absorbing layer in order from the glass substrate side on one main surface of the glass substrate,
The near infrared absorbing layer is a layer containing a transparent resin and a near infrared absorbing dye,
The underlayer is composed of the following components derived from the silicon oxide component (M1), the silicon oxide component (M2), and the silicon oxide component (M3), the component derived from the silane coupling agent (S1) and the component derived from the hydrolyzable silicon compound (S2). Underlayer containing a silicon oxide component selected and contained so that the mass ratio shown by [hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component / silane coupling agent (S1) -derived component] is 200/100 to 50/100 A near-infrared absorption filter, which is a layer mainly composed of silicon oxide, formed using a forming composition.
A silicon oxide component (M1); a silane coupling agent (S1) having a functional group and a hydrolyzable group reactive to the reactive group of the transparent resin and / or a partially hydrolyzed condensate thereof,
A silicon oxide component (M2); a tetrafunctional hydrolyzable silicon compound (S2) and / or a partially hydrolyzed condensate thereof;
Silicon oxide component (M3); Partial hydrolysis-condensation product of the silicon oxide component (M1) and the silicon oxide component (M2).
[2]前記下地層の膜厚が30〜100nmである[1]記載の近赤外線吸収フィルタ。
[3]前記近赤外線吸収層の膜厚が0.5〜100μmである[1]または[2]に記載の近赤外線吸収フィルタ。
[4]前記ガラス基板がソーダライムガラスからなる[1]〜[3]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[2] The near-infrared absorbing filter according to [1], wherein the underlayer has a thickness of 30 to 100 nm.
[3] The near-infrared absorption filter according to [1] or [2], wherein the film thickness of the near-infrared absorption layer is 0.5 to 100 μm.
[4] The near-infrared absorption filter according to any one of [1] to [3], wherein the glass substrate is made of soda lime glass.
[5]前記透明樹脂が、それぞれフルオレン骨格を有する、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂およびポリエステル樹脂から選ばれる[1]〜[4]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[6]前記透明樹脂がフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂である[1]〜[5]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[7]前記近赤外線吸収色素は、屈折率(n20d)が1.500未満の色素用溶媒に溶解して測定される波長域400〜1000nmの光の吸収スペクトルにおいて、ピーク波長が695〜720nmの領域にあり、半値全幅が60nm以下であり、かつ前記ピーク波長における吸光度を1として算出される630nmにおける吸光度と前記ピーク波長における吸光度の差を、630nmと前記ピーク波長との波長差で除した値が0.010〜0.050である最大吸収ピークを有する、近赤外線吸収色素(B1)を含有し、前記透明樹脂は、屈折率(n20d)が1.54以上である[1]〜[6]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[5] The near-infrared absorption filter according to any one of [1] to [4], wherein the transparent resin has a fluorene skeleton, and is selected from an acrylic resin, a polycarbonate resin, and a polyester resin.
[6] The near-infrared absorption filter according to any one of [1] to [5], wherein the transparent resin is a polyester resin having a fluorene skeleton.
[7] The near-infrared absorbing dye has a peak wavelength of 695 to 590 in the absorption spectrum of light having a wavelength range of 400 to 1000 nm measured by dissolving in a dye solvent having a refractive index (n 20 d) of less than 1.500. The difference between the absorbance at 630 nm and the absorbance at the peak wavelength calculated in the region of 720 nm, the full width at half maximum being 60 nm or less, and the absorbance at the peak wavelength as 1, is divided by the wavelength difference between 630 nm and the peak wavelength. The transparent resin contains a near-infrared absorbing dye (B1) having a maximum absorption peak of 0.010 to 0.050, and the transparent resin has a refractive index (n 20 d) of 1.54 or more [1. ] The near-infrared absorption filter in any one of [6].
[8]前記近赤外線吸収色素(B1)が、下記一般式(F1)で示されるスクアリリウム系化合物から選択される少なくとも1種からなる、[7]に記載の近赤外線吸収フィルタ。 [8] The near-infrared absorbing filter according to [7], wherein the near-infrared absorbing dye (B1) is composed of at least one selected from squarylium compounds represented by the following general formula (F1).
ただし、式(F1)中の記号は以下のとおりである。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基))を示す。
R1とR2、R2とR5、およびR1とR3は、それぞれ独立して、互いに連結して窒素原子と共に員数が5または6のそれぞれ複素環A、複素環B、および複素環Cを形成していてもよい。ただし、式(F1)は、複素環A、複素環B、および複素環Cから選ばれる少なくとも1以上の環構造を有する。
複素環Aが形成される場合のR1とR2は、これらが結合した2価の基−Q−としてアルキレン基、またはアルキレンオキシ基を示す。
複素環Bが形成される場合のR2とR5、および複素環Cが形成される場合のR1とR3は、これらが結合したそれぞれ2価の基−X1−Y1−および−X2−Y2−(窒素に結合する側がX1およびX2)として、X1およびX2がそれぞれ下記式(1x)または(2x)で示される基であり、Y1およびY2がそれぞれ下記式(1y)〜(5y)から選ばれるいずれかで示される基である。X1およびX2が、それぞれ下記式(2x)で示される基の場合、Y1およびY2はそれぞれ単結合であってもよい。
However, the symbols in formula (F1) are as follows.
R 4 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or —NR 7 R 8 (R 7 and R 8 are each independently hydrogen An atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or —C (═O) —R 9 (R 9 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 carbon atoms; To 11 aryl groups or araryl groups)).
R 1 and R 2 , R 2 and R 5 , and R 1 and R 3 are each independently linked to each other, and each of heterocyclic ring A, heterocyclic ring B, and heterocyclic ring having 5 or 6 members together with a nitrogen atom C may be formed. However, Formula (F1) has at least one or more ring structures selected from heterocyclic ring A, heterocyclic ring B, and heterocyclic ring C.
When the heterocyclic ring A is formed, R 1 and R 2 represent an alkylene group or an alkyleneoxy group as a divalent group -Q- to which these are bonded.
R 2 and R 5 when the heterocyclic ring B is formed, and R 1 and R 3 when the heterocyclic ring C is formed are each a divalent group —X 1 —Y 1 — and — X 2 —Y 2 — (the side bonded to nitrogen is X 1 and X 2 ), X 1 and X 2 are each a group represented by the following formula (1x) or (2x), and Y 1 and Y 2 are each It is a group represented by any one selected from the following formulas (1y) to (5y). When X 1 and X 2 are groups represented by the following formula (2x), Y 1 and Y 2 may each be a single bond.
式(1x)中、4個のZは、それぞれ独立して水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR28R29(R28およびR29は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を示す)を示す。R21〜R26は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を、R27は炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を示す。
R7、R8、R9、R4、R6、R21〜R27、複素環を形成していない場合のR1〜R3、およびR5は、これらのうちの他のいずれかと互いに結合して5員環または6員環を形成してもよい。R21とR26、R21とR27は直接結合してもよい。
複素環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。複素環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。
In the formula (1x), four Z's are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or -NR 28 R 29 (R 28 and R 29 are each independently Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). R 21 to R 26 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 27 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. .
R 7 , R 8 , R 9 , R 4 , R 6 , R 21 to R 27 , R 1 to R 3 when not forming a heterocyclic ring, and R 5 are It may combine to form a 5-membered ring or a 6-membered ring. R 21 and R 26 , R 21 and R 27 may be directly bonded.
When not forming a heterocyclic ring, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or 6 to 6 carbon atoms. 11 aryl groups or araryl groups are shown. When no heterocyclic ring is formed, R 3 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
[9]前記シランカップリング剤(S1)が有する官能基がエポキシ基または(メタ)アクリロキシ基である[8]に記載の近赤外線吸収フィルタ。
[10]さらに、前記近赤外線吸収層のガラス基板側と反対側の面上に誘電体多層膜を有する[1]〜[9]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタ。
[11]被写体側または光源側から入射する光の光軸上にレンズ、[1]〜[10]のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像素子がその順に配置された固体撮像装置。
[9] The near-infrared absorbing filter according to [8], wherein the functional group of the silane coupling agent (S1) is an epoxy group or a (meth) acryloxy group.
[10] The near-infrared absorption filter according to any one of [1] to [9], further including a dielectric multilayer film on a surface opposite to the glass substrate side of the near-infrared absorption layer.
[11] A solid-state imaging device in which a lens, a near-infrared absorption filter according to any one of [1] to [10], and a solid-state imaging device are arranged in that order on the optical axis of light incident from the subject side or the light source side.
本発明によれば、ガラス基板上に透明樹脂、特にはフルオレン骨格を有する透明樹脂を用いた近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタにおいて、近赤外線吸収性に優れるとともに、ガラス基板と近赤外線吸収層との間の接着性が強固であり、特に高温高湿の環境下での使用においても高い信頼性を有する近赤外線吸収フィルタおよび、該近赤外線吸収フィルタを具備する信頼性の高い固体撮像装置が提供できる。 According to the present invention, a near-infrared absorbing filter having a near-infrared absorbing layer using a transparent resin, particularly a transparent resin having a fluorene skeleton, on a glass substrate, has excellent near-infrared absorptivity, and absorbs near-infrared light from the glass substrate. Near-infrared absorption filter having strong adhesion between layers and having high reliability even when used in a high-temperature and high-humidity environment, and a solid-state imaging device having high reliability comprising the near-infrared absorption filter Can be provided.
以下に本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、下記説明に限定して解釈されるものではない。
[近赤外線吸収フィルタ]
本発明の近赤外線吸収フィルタは、ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面上にガラス基板側から順に以下の構成の下地層および近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルタである。
Embodiments of the present invention will be described below. In addition, this invention is limited to the following description and is not interpreted.
[Near infrared absorption filter]
The near-infrared absorption filter of the present invention is a near-infrared absorption filter having a glass substrate and an underlayer and a near-infrared absorption layer having the following configuration in order from the glass substrate side on one main surface of the glass substrate.
上記近赤外線吸収層は、透明樹脂と近赤外線吸収色素を含有する層である。
上記下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。
The near infrared absorbing layer is a layer containing a transparent resin and a near infrared absorbing dye.
From the following silicon oxide component (M1), silicon oxide component (M2), and silicon oxide component (M3), the underlayer is composed of a silane coupling agent (S1) -derived component and a hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component. Underlayer containing a silicon oxide component selected and contained so that the mass ratio shown by [hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component / silane coupling agent (S1) -derived component] is 200/100 to 50/100 It is a layer mainly composed of silicon oxide formed by using a forming composition.
A silicon oxide component (M1); a silane coupling agent (S1) having a functional group and a hydrolyzable group reactive to the reactive group of the transparent resin and / or a partially hydrolyzed condensate thereof,
A silicon oxide component (M2); a tetrafunctional hydrolyzable silicon compound (S2) and / or a partially hydrolyzed condensate thereof;
Silicon oxide component (M3); Partial hydrolysis-condensation product of the silicon oxide component (M1) and the silicon oxide component (M2).
ガラス基板の表面に各種樹脂層を設ける場合、特にフルオレン骨格を有する透明樹脂に近赤外線吸収色素を含有するような光学特性を付与した樹脂層を設ける場合には、樹脂層の光学特性を十分に確保する点および強固な接着性を確保できる点から、ガラス基板の表面にシランカップリング剤による表面処理を施した後、樹脂層を設けることが行われている。しかしながら、このようなガラス基板の表面処理では、ある程度の接着性は得られるものの、さらに高い接着特性が要求されるスペックには対応できない現状があった。 When providing various resin layers on the surface of a glass substrate, especially when providing a resin layer with optical properties such as containing a near-infrared absorbing dye in a transparent resin having a fluorene skeleton, the optical properties of the resin layer are sufficiently From the viewpoint of securing and strong adhesiveness, a resin layer is provided after surface treatment with a silane coupling agent is performed on the surface of a glass substrate. However, the surface treatment of such a glass substrate can provide a certain degree of adhesiveness but cannot cope with specifications that require higher adhesive properties.
本発明においては、ガラス基板上に近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂、特にフルオレン骨格を有する透明樹脂を主体とする近赤外線吸収層を形成する際に、ガラス基板と近赤外線吸収層の間に、シランカップリング剤と4官能の加水分解性ケイ素化合物を上記本発明による特定の割合で組み合わせた組成物を用いて酸化ケイ素を主体とする下地層を形成することで、光学特性を十分に確保しながら、ガラス基板と近赤外線吸収層との間の接着性を、上記シランカップリング剤による表面処理に比べて、格段に高くすることを可能とした。 In the present invention, when forming a near-infrared absorbing layer mainly comprising a transparent resin containing a near-infrared absorbing dye on a glass substrate, particularly a transparent resin having a fluorene skeleton, between the glass substrate and the near-infrared absorbing layer. By using a composition in which a silane coupling agent and a tetrafunctional hydrolyzable silicon compound are combined at a specific ratio according to the present invention, a base layer mainly composed of silicon oxide is formed to sufficiently secure optical characteristics. However, the adhesion between the glass substrate and the near-infrared absorbing layer can be remarkably increased as compared with the surface treatment with the silane coupling agent.
さらに、このような下地層を設けることで、例えば、高温高湿の環境下において懸念されるガラス基板からのアルカリ溶出による近赤外線吸収層の劣化、さらに結果として起こる近赤外線吸収フィルタの信頼性の低下等の問題を解消できる。したがって、本発明によれば、近赤外線吸収フィルタの設計においてガラス基板の選択の自由度が増すとともに、特に高温高湿の環境下での使用においても高い信頼性を有する近赤外線吸収フィルタが提供できる。 Furthermore, by providing such a base layer, for example, the near-infrared absorption layer is deteriorated due to alkali elution from a glass substrate which is a concern in a high-temperature and high-humidity environment, and the reliability of the resulting near-infrared absorption filter is further improved. Problems such as degradation can be solved. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a near-infrared absorption filter having a high reliability even when used in a high-temperature and high-humidity environment, while increasing the degree of freedom in selecting a glass substrate in the design of a near-infrared absorption filter. .
以下、本発明の近赤外線吸収フィルタの実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は本発明の近赤外線吸収フィルタの実施形態の一例を概略的に示す断面図である。図1に示す近赤外線吸収フィルタ10Aは、ガラス基板1とその一方の主面上に形成された下地層2および下地層2上に形成された近赤外線吸収層3からなる。
Hereinafter, embodiments of the near-infrared absorption filter of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of an embodiment of a near-infrared absorption filter of the present invention. A near-
(1)ガラス基板
ガラス基板1としては、可視波長領域(450〜600nm)の光を、近赤外線吸収層3と組み合わせて近赤外線吸収フィルタ10Aとした際にその機能を果たせる程度に十分に、透過するものであれば、ガラスの種類は特に限定されるものではない。ガラスの材質としては、特に限定されず、通常のソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げられる。さらに、紫外領域および/または近赤外線領域の波長に対して吸収特性を有する、例えば、フツリン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラス等にCuO等を添加した吸収型のガラスであってもよい。
(1) Glass substrate As the
ガラス基板1は、可視域で透明な材料から、使用する装置、配置する場所等を考慮して、アルカリ成分の含有の有無や線膨張係数の大きさ等の特性を、適宜選択して使用できる。特に、ホウケイ酸ガラスは、加工が容易で、光学面における傷や異物等の発生が抑えられるため好ましい。アルカリ成分を含まない無アルカリガラスは、接着性、耐候性等が高く近赤外線吸収フィルタに信頼性を付与できる点で有利である。ソーダライムガラスは、経済性、入手性、化学強化の点で有利であり、上記下地層の存在により、近赤外線吸収フィルタに高い信頼性を付与できる点で無アルカリガラスと比べて遜色ないことから、特に好ましい。
The
ガラス基板1の大きさは、近赤外線吸収フィルタとして使用される大きさと同様とでき、使用する装置等に合わせて適宜調整される。ガラス基板1の厚みは、装置の小型化、薄型化、および取り扱い時の破損を抑制する点から、0.03〜5mmの範囲が好ましく、軽量化および強度の点から、0.05〜1mmの範囲がより好ましい。
The size of the
近赤外線吸収フィルタ10Aは、ガラス基板1側を、例えば撮像装置の固体撮像素子に直接貼着して使用されることがある。この場合、ガラス基板1の線膨張係数と被貼着部の線膨張係数との差が30×10−7/K以下が、貼着後の剥がれ等を抑制する観点から好ましい。例えば、被貼着部の材質がシリコンであれば、線膨張係数が30×10−7〜40×10−7/K近傍の材料、例えば、ショット社製のAF33、テンパックス、旭硝子社製のSW−3、SW−Y、SW−YY、AN100、EN―A1等(以上、商品名)のガラスがガラス基板1の材料として好適である。被貼着部の材質がアルミナ等のセラミックであれば、線膨張係数が50×10−7〜80×10−7/K近傍の材料、例えば、ショット社製のD263、B270、旭硝子社製のFP1、FP01eco(以上、商品名)等のガラスがガラス基板1の材料として好適である。
The near-
(2)下地層
下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。
(2) Underlayer The underlayer is composed of a silane coupling agent (S1) -derived component and a hydrolyzable silicon compound (S2) from the following silicon oxide component (M1), silicon oxide component (M2) and silicon oxide component (M3). The silicon oxide component is selected so that the derived component is 200/100 to 50/100 at a mass ratio indicated by [hydrolyzable silicon compound (S2) derived component / silane coupling agent (S1) derived component]. It is a layer mainly composed of silicon oxide formed using the contained underlayer forming composition.
A silicon oxide component (M1); a silane coupling agent (S1) having a functional group and a hydrolyzable group reactive to the reactive group of the transparent resin and / or a partially hydrolyzed condensate thereof,
A silicon oxide component (M2); a tetrafunctional hydrolyzable silicon compound (S2) and / or a partially hydrolyzed condensate thereof;
Silicon oxide component (M3); Partial hydrolysis-condensation product of the silicon oxide component (M1) and the silicon oxide component (M2).
以下、下地層形成用組成物がシランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)として上記の割合となるように含有する、酸化ケイ素成分(M1)〜(M3)について説明する。
<酸化ケイ素成分(M1)>
酸化ケイ素成分(M1)は、近赤外線吸収層が含有する透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物からなる。
Hereinafter, the silicon oxide components (M1) to (M3), which are contained so that the composition for forming the underlayer is in the above ratio as the component derived from the silane coupling agent (S1) and the hydrolyzable silicon compound (S2), will be described. To do.
<Silicon oxide component (M1)>
The silicon oxide component (M1) is a silane coupling agent (S1) having a functional group and a hydrolyzable group reactive to the reactive group of the transparent resin contained in the near-infrared absorbing layer and / or a portion thereof. Consists of hydrolysis condensate.
透明樹脂が有する反応性基とは、透明樹脂が以下に説明するような各原料成分を重合して製造された際に、重合に関与することなく主鎖または側鎖の末端等に残った残基をいう。透明樹脂が有する反応性基としては、上記各原料成分が有する重合に関与する官能基が挙げられ、したがって、用いるシランカップリング剤(S1)は透明樹脂との組合せとして選択される。 The reactive group possessed by the transparent resin refers to the residue remaining at the end of the main chain or side chain without being involved in the polymerization when the transparent resin is produced by polymerizing each raw material component as described below. Refers to the group. Examples of the reactive group possessed by the transparent resin include functional groups involved in the polymerization of the respective raw material components. Therefore, the silane coupling agent (S1) to be used is selected as a combination with the transparent resin.
近赤外線吸収層を構成する透明樹脂が複数の種類で構成される場合、用いるシランカップリング剤(S1)は、いずれの透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基を有するものであってもよい。好ましくは、透明樹脂全体に占める割合が最も多い透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基を有するシランカップリング剤(S1)が用いられる。この場合、透明樹脂全体に占める割合が少ない透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基を有するシランカップリング剤(S1)を追加的に用いてもよい。 When the transparent resin constituting the near-infrared absorbing layer is composed of a plurality of types, the silane coupling agent (S1) to be used has a functional group having reactivity with the reactive group of any transparent resin. It may be. Preferably, a silane coupling agent (S1) having a functional group reactive to the reactive group of the transparent resin having the largest proportion of the entire transparent resin is used. In this case, you may use additionally the silane coupling agent (S1) which has a functional group which has reactivity with respect to the reactive group which the transparent resin which has a small ratio for the whole transparent resin has.
このようなシランカップリング剤(S1)として好ましくは、下記一般式(S11)で表される化合物が挙げられる。以下、式(S11)で表される化合物を化合物(S11)ということもある。 The silane coupling agent (S1) is preferably a compound represented by the following general formula (S11). Hereinafter, the compound represented by the formula (S11) may be referred to as a compound (S11).
R31SiR32 nX31 3−n ……(S11)
(式(S11)中、R31は、末端に透明樹脂が有する反応性基と反応性を有する官能基をもつ炭素数1〜10の1価の有機基を、R32は炭素数1〜6の1価の炭化水素基を、nは0または1の整数を、X31は互い同一であっても異なってもよい加水分解性基を、それぞれ示す。)
R 31 SiR 32 n X 31 3-n (S11)
(In the formula (S11), R 31 is a monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms having a functional group having reactivity with the reactive group of the transparent resin at the end, and R 32 is 1 to 6 carbon atoms. And n represents an integer of 0 or 1, and X 31 represents a hydrolyzable group which may be the same as or different from each other.)
ここで、R31が末端に有する官能基として、具体的には、透明樹脂が有する反応性基によるが、例えば、アミノ基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基、ウレイド基、塩素原子等が挙げられる。なお、末端が塩素原子の場合、−CH2Clの形で官能基として扱うものとする。
Here, the functional group which R 31 has at the end specifically depends on the reactive group which the transparent resin has, but for example, amino group, epoxy group, acryloxy group, methacryloxy group, vinyl group, mercapto group, isocyanate group Ureido group, chlorine atom and the like. In the case end is a chlorine atom, intended to cover the functional groups in the form of -
例えば、透明樹脂が有する反応性基がエチレン性二重結合の場合、上記官能基としては、ビニル基、(メタ)アクリロキシ基等が挙げられる。透明樹脂が有する反応性基がカルボキシル基の場合、上記官能基としては、アミノ基、エポキシ基等が挙げられ、水酸基の場合、上記官能基として、イソシアネート基、エポキシ基、アミノ基等が挙げられる。 For example, when the reactive group that the transparent resin has is an ethylenic double bond, examples of the functional group include a vinyl group and a (meth) acryloxy group. When the reactive group of the transparent resin is a carboxyl group, examples of the functional group include an amino group and an epoxy group. In the case of a hydroxyl group, the functional group includes an isocyanate group, an epoxy group, an amino group, and the like. .
式(S11)中、R32は炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、炭素数は1〜4が好ましい。R32は、メチル基またはエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。 In the formula (S11), R 32 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably 1 to 4 carbon atoms. R 32 is more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
X31は、加水分解性基であり、具体的には、塩素原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、アシル基、アミノ基が挙げられる。これらのなかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。ケイ素原子に結合する加水分解性基は2個または3個であり、2個または3個の加水分解性基は同一であっても異なってもよいが、生産性の観点からは同一であることが好ましい。 X 31 is a hydrolyzable group, and specific examples include a chlorine atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an acyl group, and an amino group. Among these, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable. There are two or three hydrolyzable groups bonded to the silicon atom, and the two or three hydrolyzable groups may be the same or different, but are the same from the viewpoint of productivity. Is preferred.
式(S11)中、R31の炭素数は末端基の炭素数を含む炭素数であり、好ましい炭素数は末端基により異なる。末端がビニル基の場合、好ましい炭素数は2〜4であり、2がより好ましい。末端がエポキシ基の場合は、エポキシ基を含む末端基としてグリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基が好ましく、これらとケイ素原子を結合する連結基として、炭素数1〜6のアルキレン基を有する構造が好ましく、連結基はエチレン基、プロピレン基が特に好ましい。R31が、ビニル基、エポキシ基以外の末端基を有する場合は、末端基とケイ素原子を結合する連結基として、炭素数1〜10のアルキレン基を有する構造が好ましく、連結基はエチレン基、プロピレン基が特に好ましい。R31が末端に塩素原子を有する場合、塩素原子数は1が好ましく、R31としては2−クロロエチル基、3−クロロプロピル基が好ましい。 In formula (S11), the carbon number of R 31 is the carbon number including the carbon number of the terminal group, and the preferable carbon number varies depending on the terminal group. When the terminal is a vinyl group, the preferable carbon number is 2 to 4, and 2 is more preferable. When the terminal is an epoxy group, a terminal group containing an epoxy group is preferably a glycidyloxy group or an epoxycyclohexyl group, and a structure having an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms as a linking group for bonding a silicon atom thereto is preferable. The linking group is particularly preferably an ethylene group or a propylene group. When R 31 has a terminal group other than a vinyl group or an epoxy group, a structure having an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is preferable as the linking group for bonding the terminal group and the silicon atom, and the linking group is an ethylene group, A propylene group is particularly preferred. When R 31 has a chlorine atom at the terminal, the number of chlorine atoms is preferably 1, and R 31 is preferably a 2-chloroethyl group or a 3-chloropropyl group.
上記シランカップリング剤(S1)としては、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランのようなエポキシシラン類、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランのような(メタ)アクリロキシシラン類、ビニルトリメトキシシラン、N−2−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランのようなビニルシラン類、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−N’−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランのようなアミノシラン類、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシランのようなイソシアネートシラン類、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent (S1) include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3- Epoxysilanes such as glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, (meth) acryloxysilanes such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane Vinyltrimethoxysilane, vinylsilanes such as N-2- (N-vinylbenzylaminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoe ) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -N '-(2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl Aminosilanes such as methyldimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, isocyanate silanes such as 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane , 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like.
なお、具体的に、透明樹脂を構成する樹脂の種類とシランカップリング剤(S1)の組合せとしては、透明樹脂がアクリル樹脂の場合には、(メタ)アクリロキシシラン類、ビニルシラン類、エポキシシラン類、アミノシラン類、イソシアネートシラン類が挙げられる。透明樹脂がポリカーボネート樹脂の場合には、エポキシシラン類、アミノシラン類が挙げられる透明樹脂がポリエステル樹脂の場合には、エポキシシラン類、アミノシラン類、イソシアネートシラン類が挙げられる。 Specifically, the combination of the resin constituting the transparent resin and the silane coupling agent (S1) includes (meth) acryloxy silanes, vinyl silanes, epoxy silanes when the transparent resin is an acrylic resin. , Aminosilanes, and isocyanate silanes. When the transparent resin is a polycarbonate resin, epoxy silanes, aminosilanes, and isocyanate silanes are used when the transparent resin such as epoxy silanes and aminosilanes is a polyester resin.
ここで、シランカップリング剤(S1)としては、近赤外線吸収層が含有する後述のNIR吸収色素の光学特性を阻害しないものが好適に用いられる。用いるNIR吸収色素によるが、NIR吸収色素として、例えば、本発明に好ましく用いられる上記式(F1)で示されるNIR吸収色素(B1)を用いる場合には、上記シランカップリング剤(S1)はエポキシシラン類、(メタ)アクリロキシシラン類が好ましく、エポキシシラン類が特に好ましい。シランカップリング剤(S1)は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Here, as the silane coupling agent (S1), those that do not inhibit the optical characteristics of the NIR absorbing dye described later contained in the near-infrared absorbing layer are suitably used. Depending on the NIR absorbing dye used, for example, when the NIR absorbing dye (B1) represented by the formula (F1) preferably used in the present invention is used as the NIR absorbing dye, the silane coupling agent (S1) is an epoxy. Silanes and (meth) acryloxysilanes are preferred, and epoxysilanes are particularly preferred. A silane coupling agent (S1) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
酸化ケイ素成分(M1)は、上記シランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物からなる。シランカップリング剤(S1)の部分加水分解縮合物とは、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒などの触媒と水の存在下に該化合物が有する加水分解性基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成するシランカップリング剤(S1)のオリゴマー(多量体)をいう。ただし、この部分加水分解縮合物の縮合度(多量化度)は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。 The silicon oxide component (M1) is composed of the silane coupling agent (S1) and / or a partial hydrolysis condensate thereof. The partially hydrolyzed condensate of the silane coupling agent (S1) means that all or part of the hydrolyzable group of the compound is hydrolyzed in the presence of a catalyst such as an acid catalyst or an alkali catalyst and water in a solvent. Next, it refers to an oligomer (multimer) of the silane coupling agent (S1) produced by dehydration condensation. However, the degree of condensation (degree of multimerization) of this partially hydrolyzed condensate needs to be such that the product is dissolved in the solvent.
酸化ケイ素成分(M1)は、シランカップリング剤(S1)であっても、シランカップリング剤(S1)の部分加水分解縮合物であってもよく、シランカップリング剤(S1)とその部分加水分解縮合物との混合物、例えば、未反応のシランカップリング剤(S1)が含まれるシランカップリング剤(S1)の部分加水分解縮合物であってもよい。 The silicon oxide component (M1) may be a silane coupling agent (S1) or a partial hydrolysis condensate of the silane coupling agent (S1), and the silane coupling agent (S1) and its partial hydrolysis. It may be a mixture with the decomposition condensate, for example, a partial hydrolysis condensate of the silane coupling agent (S1) containing the unreacted silane coupling agent (S1).
<酸化ケイ素成分(M2)>
酸化ケイ素成分(M2)は、4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物からなる。
なお、4官能の加水分解性ケイ素化合物とは、ケイ素原子に4個の加水分解性基が結合した化合物をいう。また、上記シランカップリング剤(S1)は、通常、化合物(S11)に示されるようにケイ素原子に結合する加水分解性基の数は2個または3個であり、2官能または3官能の加水分解性ケイ素化合物である。
<Silicon oxide component (M2)>
The silicon oxide component (M2) is composed of a tetrafunctional hydrolyzable silicon compound (S2) and / or a partial hydrolysis condensate thereof.
The tetrafunctional hydrolyzable silicon compound refers to a compound in which four hydrolyzable groups are bonded to a silicon atom. In addition, the silane coupling agent (S1) usually has two or three hydrolyzable groups bonded to a silicon atom as shown in the compound (S11). It is a decomposable silicon compound.
加水分解性ケイ素化合物(S2)として、具体的には下記式(S21)で表される化合物が挙げられる。
Si(X41)4 …(S21)
上記式(S21)中、X41は、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のオキシアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアシロキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子またはイソシアネート基を示す。4個のX41は、互いに同一であっても異なってもよい。これらのうちでも、X41は、塩素原子、炭素原子数1〜4のアルコキシ基またはイソシアネート基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基またはイソシアネート基がより好ましい。また、4個のX41が同一であることが好ましい。
Specific examples of the hydrolyzable silicon compound (S2) include compounds represented by the following formula (S21).
Si (X 41 ) 4 (S21)
In the above formula (S21), X 41 is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an oxyalkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 10 carbon atoms, or an alkenyl having 2 to 10 carbon atoms. An oxy group, a halogen atom or an isocyanate group is shown. The four X 41 may be the same as or different from each other. Among these, X 41 is preferably a chlorine atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or an isocyanate group, and more preferably a methoxy group, an ethoxy group or an isocyanate group. Further, it is preferable that four X 41 are the same.
加水分解性シラン化合物(S2)として、具体的には、SiCl4、Si(NCO)4、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4が挙げられる。これらのうちでも、特にSi(OC2H5)4が好ましい。加水分解性シラン化合物(S2)は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of the hydrolyzable silane compound (S2) include SiCl 4 , Si (NCO) 4 , Si (OCH 3 ) 4 , and Si (OC 2 H 5 ) 4 . Of these, Si (OC 2 H 5 ) 4 is particularly preferable. A hydrolysable silane compound (S2) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
酸化ケイ素成分(M2)は、上記加水分解性シラン化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物からなる。加水分解性シラン化合物(S2)の部分加水分解縮合物とは、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒などの触媒と水の存在下に該化合物が有する加水分解性基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成する加水分解性シラン化合物(S2)のオリゴマー(多量体)をいう。ただし、この部分加水分解縮合物の縮合度(多量化度)は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。 A silicon oxide component (M2) consists of the said hydrolysable silane compound (S2) and / or its partial hydrolysis-condensation product. The hydrolyzable silane compound (S2) partially hydrolyzed condensate means that all or part of the hydrolyzable group of the compound is hydrolyzed in the presence of a catalyst such as an acid catalyst or an alkali catalyst and water in a solvent. And then an oligomer (multimer) of the hydrolyzable silane compound (S2) produced by dehydration condensation. However, the degree of condensation (degree of multimerization) of this partially hydrolyzed condensate needs to be such that the product is dissolved in the solvent.
酸化ケイ素成分(M2)は、加水分解性シラン化合物(S2)であっても、加水分解性シラン化合物(S2)の部分加水分解縮合物であってもよく、加水分解性シラン化合物(S2)とその部分加水分解縮合物との混合物、例えば、未反応の加水分解性シラン化合物(S2)が含まれる加水分解性シラン化合物(S2)の部分加水分解縮合物であってもよい。 The silicon oxide component (M2) may be a hydrolyzable silane compound (S2) or a partial hydrolysis condensate of the hydrolyzable silane compound (S2), and the hydrolyzable silane compound (S2) and A mixture with the partially hydrolyzed condensate, for example, a partially hydrolyzed condensate of hydrolyzable silane compound (S2) containing unreacted hydrolyzable silane compound (S2) may be used.
<酸化ケイ素成分(M3)>
酸化ケイ素成分(M3)は、酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物である。
酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解共縮合物とは、上記と同様に、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒などの触媒存在下に、これらの各成分を構成する上記各加水分解性シラン化合物および/またはその部分加水分解縮合物が有する加水分解性基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成するオリゴマー(多量体)をいう。ここでは、得られる部分加水分解縮合物は、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性シラン化合物(S2)由来成分の両方を必ず含むことから、部分加水分解共縮合物である。この部分加水分解共縮合物の縮合度(多量化度)は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。
<Silicon oxide component (M3)>
The silicon oxide component (M3) is a partial hydrolysis-condensation product of the silicon oxide component (M1) and the silicon oxide component (M2).
Similarly to the above, the partially hydrolyzed cocondensate of the silicon oxide component (M1) and the silicon oxide component (M2) constitutes each of these components in the presence of a catalyst such as an acid catalyst or an alkali catalyst in a solvent. It refers to an oligomer (multimer) produced by hydrolyzing and then dehydrating and condensing all or some of the hydrolyzable groups of the hydrolyzable silane compounds and / or partial hydrolysis condensates thereof. Here, the partially hydrolyzed condensate obtained is a partially hydrolyzed cocondensate because it necessarily contains both the silane coupling agent (S1) -derived component and the hydrolyzable silane compound (S2) -derived component. The degree of condensation (degree of multimerization) of this partially hydrolyzed cocondensate must be such that the product is soluble in the solvent.
本発明においては、下地層を形成するための組成物として、上記酸化ケイ素成分(M1)〜酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように各酸化ケイ素成分を選択して含有する下地層形成用組成物を用いる。[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比は、好ましくは175/100〜125/100である。 In the present invention, as the composition for forming the underlayer, from the silicon oxide component (M1) to the silicon oxide component (M3), the component derived from the silane coupling agent (S1) and the hydrolyzable silicon compound (S2). Each silicon oxide component is selected so that the derived component is 200/100 to 50/100 in a mass ratio represented by [hydrolyzable silicon compound (S2) derived component / silane coupling agent (S1) derived component]. Then, the composition for forming the underlayer is used. The mass ratio represented by [hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component / silane coupling agent (S1) -derived component] is preferably 175/100 to 125/100.
なお、下地層形成用組成物におけるシランカップリング剤(S1)由来成分および加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分の組成割合は、該組成物がこれら加水分解性ケイ素化合物の部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含む場合には、該組成物を製造するために使用した両化合物の割合で決めることができる。部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物をさらに部分加水分解(共)縮合させて下地層形成用組成物を製造した場合には、用いた部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を製造する際の原料組成で有効成分の組成割合を決めるものとする。 The composition ratio of the component derived from the silane coupling agent (S1) and the component derived from the hydrolyzable silicon compound (S2) in the composition for forming the underlayer is such that the composition is a partially hydrolyzed condensate of these hydrolyzable silicon compounds. Or a partially hydrolyzed cocondensate, it can be determined by the ratio of both compounds used to produce the composition. When a composition for forming an underlayer is produced by further subjecting a partially hydrolyzed condensate or partially hydrolyzed cocondensate to partial hydrolysis (co) condensation, the partially hydrolyzed condensate or partially hydrolyzed cocondensate used is produced. The composition ratio of the active ingredient shall be determined by the raw material composition when producing the product.
すなわち、下地層形成用組成物におけるシランカップリング剤(S1)由来成分および加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分の組成割合は、シランカップリング剤(S1)および4官能加水分解性ケイ素化合物(S2)の形態で用いた反応まで遡って、原料として使用した両化合物の量から組成割合を決めるものとする。 That is, the composition ratio of the silane coupling agent (S1) -derived component and the hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component in the underlayer-forming composition is the silane coupling agent (S1) and the tetrafunctional hydrolyzable silicon compound ( Going back to the reaction used in the form of S2), the composition ratio is determined from the amounts of both compounds used as raw materials.
下地層形成用組成物において、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比が、200/100〜50/100であれば、ガラス基板と近赤外線吸収層は下地層を介して強固に密着され、高温高湿の環境下においても高い密着性を保持できる。これは以下の理由によるものと考えられる。 If the mass ratio represented by [hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component / silane coupling agent (S1) -derived component] is 200/100 to 50/100 in the composition for forming an underlayer, a glass substrate The near-infrared absorbing layer is firmly adhered via the underlayer, and can maintain high adhesion even in a high temperature and high humidity environment. This is thought to be due to the following reasons.
シランカップリング剤(S1)は分子あたり通常2個〜3個の、加水分解性ケイ素化合物(S2)は分子あたり4個の加水分解性シリル基をそれぞれ有する。後述の方法で、下地層形成用組成物中の酸化ケイ素成分を硬化させて下地層を形成する際に、加水分解性シリル基は水分の存在下、加水分解によりシラノール基となる。シラノール基は分子間で脱水縮合して−Si−O−Si−で表されるシロキサン結合を生成する。
シラノール基はガラス基板付近では、ガラス基板の表面の水酸基(ガラス基板−OH)と脱水縮合反応して、化学結合(ガラス基板−O−Si)を形成する。また、シランカップリング剤(S1)が有する上記官能基は、透明樹脂が有する反応性基と反応することで、近赤外線吸収層付近では透明樹脂との化学結合が得られる。
The silane coupling agent (S1) usually has 2 to 3 per molecule, and the hydrolyzable silicon compound (S2) has 4 hydrolyzable silyl groups per molecule. When the silicon oxide component in the underlayer-forming composition is cured to form the underlayer by the method described later, the hydrolyzable silyl group becomes a silanol group by hydrolysis in the presence of moisture. Silanol groups are dehydrated and condensed between molecules to form siloxane bonds represented by -Si-O-Si-.
In the vicinity of the glass substrate, the silanol group reacts with a hydroxyl group (glass substrate-OH) on the surface of the glass substrate to form a chemical bond (glass substrate-O-Si). Moreover, the said functional group which a silane coupling agent (S1) has reacts with the reactive group which transparent resin has, and a chemical bond with transparent resin is obtained in the near-infrared absorption layer vicinity.
ここで、下地層とガラス基板との密着性および下地層自体の強度を得るためには、下地層形成用組成物中の酸化ケイ素成分におけるシラノール基の割合が多い方が好ましく、下地層と近赤外線吸収層との密着性を確保するためにはシランカップリング剤(S1)が有する上記官能基の割合が多い方が好ましい。従来のシランカップリング剤による表面処理では、シラノール基の量が不足するためにシランカップリング剤による処理層とガラス基板との密着性および該処理層自体の強度が十分でなく、結果として、近赤外線吸収フィルタにおいて近赤外線吸収層のガラス基板との密着性に問題があったと考えられる。 Here, in order to obtain the adhesion between the underlayer and the glass substrate and the strength of the underlayer itself, it is preferable that the ratio of the silanol group in the silicon oxide component in the underlayer forming composition is large, and close to the underlayer. In order to ensure adhesion with the infrared absorbing layer, it is preferable that the proportion of the functional group contained in the silane coupling agent (S1) is large. In the conventional surface treatment with a silane coupling agent, the amount of silanol groups is insufficient, so that the adhesion between the treatment layer and the glass substrate with the silane coupling agent and the strength of the treatment layer itself are not sufficient. It is considered that there was a problem in the adhesion between the near-infrared absorbing layer and the glass substrate in the infrared absorbing filter.
本発明においては、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]の質量比を指標として、その範囲を上記のように規定することで、下地層形成用組成物中の酸化ケイ素成分におけるシラノール基の量とシランカップリング剤(S1)が有する上記官能基の量を、ガラス基板と下地層の界面、および下地層と近赤外線吸収層の界面のいずれにおいても高い密着性を有し、さらに下地層自体も高強度とするように調整したものである。これにより、本発明の近赤外線吸収フィルタにおいては、ガラス基板と近赤外線吸収層との間の強固な接着性、および、特に高温高湿の環境下での高信頼性の獲得を実現可能とした。 In the present invention, by defining the range as described above using the mass ratio of [hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component / silane coupling agent (S1) -derived component] as an index, The amount of the silanol group in the silicon oxide component in the composition and the amount of the functional group possessed by the silane coupling agent (S1) are determined at any of the interface between the glass substrate and the underlayer and the interface between the underlayer and the near-infrared absorbing layer. And the base layer itself is adjusted to have high strength. As a result, in the near-infrared absorbing filter of the present invention, it is possible to achieve strong adhesion between the glass substrate and the near-infrared absorbing layer, and high reliability particularly in a high-temperature and high-humidity environment. .
下地層形成用組成物は、上記酸化ケイ素成分(M1)〜(M3)から選ばれる酸化ケイ素成分を[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]の質量比が上記範囲となるように含有する。下地層形成用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲であれば、酸化ケイ素成分(M1)〜(M3)が含有する加水分解性ケイ素化合物以外の加水分解性ケイ素化合物を任意に含有可能である。ただし、本発明においては、酸化ケイ素成分(M1)〜(M3)が含有する加水分解性ケイ素化合物以外の加水分解性ケイ素化合物を含まないことが好ましい。 In the composition for forming the underlayer, the silicon oxide component selected from the silicon oxide components (M1) to (M3) is a mass of [component derived from hydrolyzable silicon compound (S2) / component derived from silane coupling agent (S1)]. It contains so that ratio may become the said range. If the composition for base layer formation is a range which does not impair the effect of this invention, it can contain hydrolysable silicon compounds other than the hydrolysable silicon compound which silicon oxide component (M1)-(M3) contains arbitrarily. It is. However, in this invention, it is preferable not to contain hydrolysable silicon compounds other than the hydrolysable silicon compound which silicon oxide component (M1)-(M3) contains.
下地層形成用組成物は、さらに任意に各種機能を有する機能性添加剤を含んでいてもよい。機能性添加剤としては、必須成分との反応性または相溶性等を考慮して選択するのが好ましく、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物の超微粒子、染料または顔料等の着色用材料、硬化触媒、各種樹脂、レオロジー調整剤、レベリング剤等が挙げられる。機能性添加剤の添加量は、本発明の効果を損なわない範囲であればよく、具体的には、下地層形成用組成物が含有する酸化ケイ素成分の合計質量100質量部に対して、0.01〜20質量部が好ましい。 The underlayer forming composition may further optionally contain a functional additive having various functions. The functional additive is preferably selected in consideration of the reactivity or compatibility with essential components, and is used for coloring ultrafine particles of metal oxides such as silica, alumina, zirconia, and titania, and dyes or pigments. Examples include materials, curing catalysts, various resins, rheology modifiers, and leveling agents. The addition amount of the functional additive may be in a range that does not impair the effects of the present invention. Specifically, the addition amount of the functional additive is 0 with respect to 100 parts by mass of the total mass of the silicon oxide component contained in the composition for forming the underlayer. 0.01 to 20 parts by mass is preferable.
下地層形成用組成物は、上記酸化ケイ素成分(M1)〜(M3)から選ばれる酸化ケイ素成分を主成分として含む上記固形分のみから構成されてもよいが、経済性、作業性、得られる中間層の厚さ制御のしやすさ等を考慮し、通常は有機溶剤を含む。有機溶剤は、必須成分を含む固形分を溶解するものであれば特に制限されない。有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メトキシエタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−ブトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類;n−ヘキサン、n−ヘプタン、イソクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ガソリン、軽油、灯油等の炭化水素類;アセトニトリル、ニトロメタン等が挙げられる。有機溶剤は1種に限定されず、極性、蒸発速度等の異なる2種以上の有機溶剤を混合して使用してもよい。 The underlayer-forming composition may be composed only of the solid content containing, as a main component, a silicon oxide component selected from the silicon oxide components (M1) to (M3), but is economical and workable. In consideration of ease of controlling the thickness of the intermediate layer, an organic solvent is usually included. The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves a solid content containing essential components. Examples of organic solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and 1,2-dimethoxyethane; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and methoxyethyl acetate Methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-methoxyethanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-butoxyethanol, 1 -Alcohols such as methoxy-2-propanol and diacetone alcohol; hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, isoctane, benzene, toluene, xylene, gasoline, light oil, kerosene; acetonitrile, nitromethane and the like. The organic solvent is not limited to one kind, and two or more kinds of organic solvents having different polarities and evaporation rates may be mixed and used.
下地層形成用組成物は、部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含有する場合、これらを製造するために使用した溶媒を含んでもよく、またこの溶媒と下地層形成用組成物の有機溶剤は同じものであってもよい。さらに下地層形成用組成物は、部分加水分解縮合で用いた触媒などの成分を含んでいてもよい。特に、部分加水分解共縮合物を含む下地層形成用組成物は、部分加水分解共縮合物の製造で得られた部分加水分解共縮合物の溶液そのものが好ましい。 When the composition for forming an underlayer contains a partially hydrolyzed condensate or a partially hydrolyzed cocondensate, it may contain a solvent used for producing these, and the solvent and the composition for forming an underlayer The same organic solvent may be used. Further, the underlayer-forming composition may contain components such as a catalyst used in the partial hydrolysis condensation. In particular, the composition for forming an underlayer containing a partially hydrolyzed cocondensate is preferably a solution of the partially hydrolyzed cocondensate obtained by the production of the partially hydrolyzed cocondensate.
下地層形成用組成物における有機溶剤の割合は、酸化ケイ素成分の合計質量の100質量部に対して、100,000質量部以下が好ましく、特に10,000質量部以下が好ましい。100,000質量部を超える量を用いると、得られる下地層に処理ムラが発生する場合がある。なお、下地層形成用組成物に用いる有機溶剤の量の下限については特に制限されないが、上記の通り、経済性、作業性、処理層の厚さ制御のしやすさ等を考慮すると、該組成物が含有する酸化ケイ素成分の合計質量100質量部に対して、500質量部程度の量を下限とすることが好ましい。 The proportion of the organic solvent in the composition for forming the underlayer is preferably 100,000 parts by mass or less, particularly preferably 10,000 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the total mass of the silicon oxide component. If an amount exceeding 100,000 parts by mass is used, processing unevenness may occur in the obtained underlayer. The lower limit of the amount of the organic solvent used in the underlayer-forming composition is not particularly limited, but as described above, considering the economy, workability, ease of controlling the thickness of the treatment layer, etc., the composition The lower limit is preferably about 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of silicon oxide components contained in the product.
さらに、下地層形成用組成物においては、部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含まないものであっても、シランカップリング剤(S1)および加水分解性ケイ素化合物(S2)の加水分解共縮合反応を促進させるために、上記と同様の酸触媒等の触媒を配合しておくことも好ましい。部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含む場合であっても、それらの製造に使用した触媒が組成物中に残存していない場合は、触媒を配合することが好ましい。触媒としては、酸触媒が好ましい。触媒を存在させておくことにより、加水分解共縮合反応が促進され上記下地層としての機能を十分に具備する下地層が形成できる。触媒の量としては、酸化ケイ素成分の合計質量100質量部に対して、0.01〜5質量部が好ましい。 Further, the underlayer-forming composition does not contain a partially hydrolyzed condensate or a partially hydrolyzed cocondensate, but the hydrolyzed silane coupling agent (S1) and hydrolyzable silicon compound (S2). In order to promote the decomposition co-condensation reaction, it is also preferable to add a catalyst such as an acid catalyst similar to the above. Even when a partially hydrolyzed condensate or a partially hydrolyzed cocondensate is included, when the catalyst used for the production thereof does not remain in the composition, it is preferable to add a catalyst. As the catalyst, an acid catalyst is preferable. By allowing the catalyst to be present, a hydrolysis co-condensation reaction is promoted, and a base layer having a sufficient function as the base layer can be formed. As a quantity of a catalyst, 0.01-5 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total mass of a silicon oxide component.
下地層形成用組成物は、酸化ケイ素成分の加水分解共縮合反応のための水を含んでいてもよい。下地層形成用組成物における水の含有量は、酸化ケイ素成分の合計質量の100質量部に対して、1〜50質量部が好ましい。なお、下地層形成用組成物は水を含有しなくとも、以下の下地層を形成する過程において雰囲気中の水分を利用して酸化ケイ素成分の加水分解共縮合反応を行わせることができる。 The underlayer-forming composition may contain water for hydrolysis cocondensation reaction of the silicon oxide component. The content of water in the underlayer-forming composition is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of the silicon oxide component. In addition, even if the composition for base layer formation does not contain water, the hydrolysis cocondensation reaction of a silicon oxide component can be performed using the water | moisture content in atmosphere in the process of forming the following base layers.
<下地層の形成>
下地層形成用組成物を用いて下地層2を形成する方法としては、加水分解性ケイ素化合物を含む被膜形成用組成物における公知の方法が挙げられる。例えば、下地層形成用組成物をガラス基板1上に塗工後、大気中または窒素雰囲気中において、必要に応じて乾燥した後、硬化させることで、下地層2を形成できる。
<Formation of underlayer>
Examples of the method for forming the
塗工の方法としては、浸漬コーティング法、キャストコーティング法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、カーテンコーティング法、スリットダイコーター法、グラビアコーター法、スリットリバースコーター法、マイクログラビア法、またはコンマコーター法等のコーティング法を使用できる。その他、バーコーター法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法等も使用できる。 Coating methods include dip coating, cast coating, spray coating, spinner coating, bead coating, wire bar coating, blade coating, roller coating, curtain coating, slit die coater, and gravure. A coating method such as a coater method, a slit reverse coater method, a micro gravure method, or a comma coater method can be used. In addition, a bar coater method, a screen printing method, a flexographic printing method, etc. can also be used.
乾燥および硬化の条件は、用いる組成物の種類、濃度等により適宜制御される。乾燥は揮発成分、主に有機溶剤の除去を目的として行われ、通常、硬化すなわち酸化ケイ素成分の加水分解共縮合反応と同時に行われる。乾燥および硬化の好ましい条件として、温度;100〜180℃、の条件が挙げられる。乾燥および硬化のための時間は、用いる組成物の種類、濃度、硬化条件等によるが、概ね0.5〜2.0時間が好ましい。 Drying and curing conditions are appropriately controlled depending on the type and concentration of the composition used. Drying is performed for the purpose of removing volatile components, mainly organic solvents, and is usually performed simultaneously with curing, that is, hydrolysis cocondensation reaction of silicon oxide components. Preferable conditions for drying and curing include conditions of temperature; 100 to 180 ° C. The time for drying and curing depends on the type, concentration, curing conditions and the like of the composition to be used, but approximately 0.5 to 2.0 hours are preferable.
下地層2の膜厚は特に限定されないが、25〜100nmが好ましく、30〜50nmがより好ましい。なお、下地層2の膜厚は用いる下地層形成用組成物の固形分濃度、塗布条件、加熱条件等によって適宜制御しうる。下地層2の膜厚が該範囲にあればガラス基板と近赤外線吸収層との間の強固な密着性が確保できる。
Although the film thickness of the
(3)近赤外線吸収層
近赤外線吸収層3は、ガラス基板1の主面上に形成された下地層2の上記特性を有する表面上に形成される。近赤外線吸収層3は本発明の近赤外線吸収フィルタが近赤外線吸収フィルタとして機能するための主要構成要素であり、透明樹脂(A)と近赤外線吸収色素(B)を含有する層である。具体的には、近赤外線吸収色素が透明樹脂中に分散した層である。
(3) Near-infrared absorption layer The near-
<透明樹脂(A)>
近赤外線吸収層3が含有する透明樹脂(A)は、近赤外線吸収色素を均一に分散可能な透明な樹脂であれば、特に制限されない。透明樹脂(A)は、近赤外線吸収層とした際に優れた光学特性を発揮できる観点から、屈折率(n20d)が1.54以上の高屈折率の透明樹脂が好ましい。透明樹脂(A)の屈折率は、1.55以上がより好ましく、1.56以上が特に好ましい。透明樹脂(A)の屈折率の上限は特にないが、入手のしやすさ等から1.72程度が挙げられる。
なお、本明細書において屈折率(n20d)とは、20℃において波長589nmの光線を用いて測定される屈折率をいう。また、本明細書において特に断りのない限り、屈折率とは屈折率(n20d)をいう。
<Transparent resin (A)>
The transparent resin (A) contained in the near infrared
In this specification, the refractive index (n 20 d) refers to a refractive index measured using a light beam having a wavelength of 589 nm at 20 ° C. Further, in this specification, unless otherwise specified, the refractive index means a refractive index (n 20 d).
このような、透明樹脂(A)として、具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂等の熱可塑性樹脂、エン・チオール樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化型アクリル樹脂、光硬化型アクリル樹脂、シリコーン樹脂、シルセスキオキサン樹脂等の熱もしくは光により硬化させる樹脂等が挙げられる。これらのなかでも、透明性の点から、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エン・チオール樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。 As such a transparent resin (A), specifically, a thermoplastic resin such as polyester resin, acrylic resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polyamide resin, alkyd resin, ene-thiol resin, epoxy resin, thermosetting type Examples thereof include resins that are cured by heat or light, such as acrylic resins, photocurable acrylic resins, silicone resins, and silsesquioxane resins. Among these, acrylic resin, polyester resin, polycarbonate resin, ene / thiol resin, epoxy resin and the like are preferably used from the viewpoint of transparency.
さらに、屈折率が高いことから、下記式(F2)で示されるフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の透明樹脂(A)が好ましく用いられる。これらのなかでも、本発明においてはフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂が特に好ましい。フルオレン骨格を有するこれらの透明樹脂(A)は、通常、該透明樹脂の原料成分として、フルオレン骨格を有する成分を含む原料成分を用いてこれを重合することで製造される。なお、フルオレン骨格を有する成分のうちでも、より高い屈折率および耐熱性が得られる点で、下記式(F21)で示される9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を有する成分が好ましい。 Furthermore, since the refractive index is high, a transparent resin (A) such as an acrylic resin, a polyester resin, or a polycarbonate resin having a fluorene skeleton represented by the following formula (F2) is preferably used. Among these, in the present invention, a polyester resin having a fluorene skeleton is particularly preferable. These transparent resins (A) having a fluorene skeleton are usually produced by polymerizing a raw material component containing a fluorene skeleton as a raw material component of the transparent resin. Among the components having a fluorene skeleton, a component having a 9,9-bisphenylfluorene skeleton represented by the following formula (F21) is preferable in that a higher refractive index and heat resistance can be obtained.
上記フルオレン骨格を有する透明樹脂(A)のうちでも、アクリル樹脂としては、例えば、少なくとも、9,9−ビスフェニルフルオレンの2個のフェニル基に、末端に(メタ)アクリロイル基を有する置換基を各1個導入した9,9−ビスフェニルフルオレン誘導体を含む原料成分を重合させて得られるアクリル樹脂が挙げられる。 Among the transparent resins (A) having the fluorene skeleton, as the acrylic resin, for example, at least two phenyl groups of 9,9-bisphenylfluorene have a substituent having a (meth) acryloyl group at the terminal. An acrylic resin obtained by polymerizing a raw material component containing a 9,9-bisphenylfluorene derivative introduced one by one.
また、上記(メタ)アクリロイル基を有する9,9−ビスフェニルフルオレン誘導体に水酸基を導入した化合物と、ウレタン(メタ)アクリレート化合物を重合させて得られるアクリル樹脂を用いてもよい。ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物の反応生成物として得られる化合物や、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とポリオール化合物の反応生成物として得られる化合物が挙げられる。 Moreover, you may use the acrylic resin obtained by polymerizing the compound which introduce | transduced the hydroxyl group into the 9,9-bisphenyl fluorene derivative which has the said (meth) acryloyl group, and a urethane (meth) acrylate compound. As a urethane (meth) acrylate compound, a compound obtained as a reaction product of a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group and a polyisocyanate compound, or a reaction product of a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, a polyisocyanate compound and a polyol compound The compound obtained is mentioned.
ポリカーボネート樹脂としては、ポリカーボネート樹脂の一般的な原料成分であるカーボネート形成成分とジオール成分のいずれかに9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を有する化合物を用いて重合させて得られるポリカーボネート樹脂が挙げられる。好ましくは、ジオール成分として9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)フルオレン類を用い、カーボネート形成成分として、通常用いられるホスゲン類、ジフェニルカーボネート等のカーボネート類を用いて重合させて得られるポリカーボネート樹脂が挙げられる。 Examples of the polycarbonate resin include polycarbonate resins obtained by polymerizing a compound having a 9,9-bisphenylfluorene skeleton with either a carbonate-forming component or a diol component, which is a general raw material component of a polycarbonate resin. Preferably, a polycarbonate resin obtained by polymerizing 9,9-bis (hydroxyalkoxyphenyl) fluorenes as the diol component and using carbonates such as phosgenes or diphenyl carbonate that are usually used as the carbonate-forming component. It is done.
ポリエステル樹脂としては、ポリエステル樹脂の一般的な原料成分であるジカルボン酸成分とジオール成分のいずれかに9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を有する化合物を用いて重縮合させて得られるポリエステル樹脂が挙げられる。好ましくは、ジオール成分として9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)フルオレン類を用い、ジカルボン酸成分として、通常用いられるジカルボン酸やエステル形成性ジカルボン酸誘導を用いて重縮合させて得られるポリエステル樹脂が挙げられる。 Examples of the polyester resin include a polyester resin obtained by polycondensation using a compound having a 9,9-bisphenylfluorene skeleton in any of a dicarboxylic acid component and a diol component, which are general raw material components of a polyester resin. . Preferably, a polyester resin obtained by polycondensation using 9,9-bis (hydroxyalkoxyphenyl) fluorenes as a diol component and a dicarboxylic acid or ester-forming dicarboxylic acid derivative as a dicarboxylic acid component is used. Can be mentioned.
さらに、本発明に用いるフルオレン骨格を有する透明樹脂(A)のガラス転移点(Tg)としては、特に制限されないが、上に例示したいずれの透明樹脂についても、100〜200℃が好ましく、130〜170℃がより好ましい。ガラス転移点(Tg)が上記範囲の下限を下回ると耐熱性が低下し、後述の任意に設けられる誘電体多層膜成膜時に変形を生じるおそれがあり、上限を上回ると溶融流動性が低くなり成形加工性が低下するおそれがある。 Furthermore, the glass transition point (Tg) of the transparent resin (A) having a fluorene skeleton used in the present invention is not particularly limited, but for any of the transparent resins exemplified above, 100 to 200 ° C. is preferable, and 130 to 170 ° C. is more preferable. If the glass transition point (Tg) is below the lower limit of the above range, the heat resistance is lowered, and there is a risk of deformation during the formation of a dielectric multilayer film that will be described later, and if it exceeds the upper limit, the melt fluidity becomes low. There is a risk that molding processability is lowered.
なお、上記フルオレン骨格を有する透明樹脂(A)においては、原料成分中のフルオレン骨格を有する成分の配合量を、製造上可能な範囲で適宜調整する等の方法により屈折率を調整可能である。このようなフルオレン骨格を有する透明樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、透明樹脂(A)として、フルオレン骨格を有する透明樹脂とそれ以外の透明樹脂、好ましくは高屈折率の透明樹脂を併用してもよい。 In addition, in the transparent resin (A) having the fluorene skeleton, the refractive index can be adjusted by a method such as appropriately adjusting the blending amount of the component having the fluorene skeleton in the raw material components within a range that can be manufactured. Such transparent resins having a fluorene skeleton may be used alone or in combination of two or more. Further, as the transparent resin (A), a transparent resin having a fluorene skeleton and another transparent resin, preferably a transparent resin having a high refractive index may be used in combination.
本発明の近赤外線吸収フィルタにおいて、このような透明樹脂(A)としては、市販品を用いてもよい。フルオレン骨格を有する透明樹脂(A)の市販品として、具体的には、アクリル樹脂については、オグソールEA−F5503(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.60)、オグソールEA−F5003(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.60)等が挙げられる。
フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂の市販品としては、OKP4HT(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.64)、OKPH4(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.61)、B−OKP2(商品名、大阪ガスケミカル社製、屈折率;1.64)等が挙げられる。
In the near-infrared absorbing filter of the present invention, a commercially available product may be used as such a transparent resin (A). As a commercial product of the transparent resin (A) having a fluorene skeleton, specifically, for acrylic resin, Ogsol EA-F5503 (trade name, manufactured by Osaka Gas Chemical Company, refractive index: 1.60), Ogsol EA-F5003 (Trade name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., refractive index: 1.60).
As a commercially available polyester resin having a fluorene skeleton, OKP4HT (trade name, manufactured by Osaka Gas Chemical Company, refractive index: 1.64), OKPH4 (trade name, manufactured by Osaka Gas Chemical Company, refractive index: 1.61), And B-OKP2 (trade name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., refractive index: 1.64).
また、フルオレン骨格を有しない透明樹脂(A)の市販品として、具体的には、ポリエステル樹脂として、バイロン103(商品名、東洋紡社製、屈折率;1.55)等が挙げられる。 Further, as a commercially available product of the transparent resin (A) having no fluorene skeleton, specifically, Byron 103 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.55) and the like can be given as a polyester resin.
<近赤外線吸収色素(B)>
近赤外線吸収層が含有する近赤外線吸収色素(B)は、可視波長領域(450〜600nm)の光を十分に透過し、近赤外波長領域(700〜1100nm)の光を十分に吸収する能力を有する近赤外線吸収色素であれば特に制限されない。
<Near-infrared absorbing dye (B)>
The near-infrared absorbing dye (B) contained in the near-infrared absorbing layer is capable of sufficiently transmitting light in the visible wavelength region (450 to 600 nm) and sufficiently absorbing light in the near-infrared wavelength region (700 to 1100 nm). If it is a near-infrared absorption pigment | dye which has, it will not restrict | limit in particular.
本発明の近赤外線吸収フィルタの用途、すなわち求められる近赤外線吸収特性によるが、近赤外線吸収色素(B)として、屈折率が1.50未満の色素用溶媒に溶解して測定される波長域400〜1000nmの光の吸収スペクトルにおいて、ピーク波長が695〜720nmの領域にあり、半値全幅が60nm以下であり、かつ上記ピーク波長における吸光度を1として算出される630nmにおける吸光度と上記ピーク波長における吸光度の差を、630nmと上記ピーク波長との波長差で除した値が0.010〜0.050である最大吸収ピークを有する、近赤外線吸収色素(B1)の使用が好ましい。
Depending on the use of the near-infrared absorption filter of the present invention, that is, the required near-infrared absorption characteristics, the
本明細書において、近赤外線吸収色素をNIR吸収色素ともいう。また、NIR吸収色素(B1)を、上記既定の色素用溶媒に最大吸収ピークのピーク波長における吸光度が1となる濃度で溶解して測定される波長域400〜1000nmの光の吸収スペクトルを、単にNIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルという。さらに、NIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルにおける最大吸収ピークのピーク波長をNIR吸収色素(B1)のλmaxまたは、λmax(B1)という。NIR吸収色素(B1)以外のNIR吸収色素(B)についても同様である。 In the present specification, the near-infrared absorbing dye is also referred to as an NIR absorbing dye. Further, an absorption spectrum of light having a wavelength range of 400 to 1000 nm measured by dissolving the NIR absorbing dye (B1) in the predetermined dye solvent at a concentration at which the absorbance at the peak wavelength of the maximum absorption peak is 1, is simply obtained. This is referred to as an absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B1). Further, the peak wavelength of the maximum absorption peak in the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B1) is referred to as λmax or λmax (B1) of the NIR absorbing dye (B1). The same applies to NIR absorbing dyes (B) other than the NIR absorbing dye (B1).
NIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルλmax(B1)における吸光度を1として算出される630nmにおける吸光度(B1b630)とλmax(B1)における吸光度の差を、630nmとλmax(B1)との波長差で除した値を、以下、「吸収スペクトル傾き」という。NIR吸収色素(B1)以外のNIR吸収色素(B)についても同様である。なお、吸収スペクトル傾きを式で示すと以下のとおりである。
吸収スペクトル傾き=(1−B1b630)/(λmax(B1)−630)
The difference between the absorbance at 630 nm (B1b 630 ) and the absorbance at λmax (B1) calculated with the absorbance in the absorption spectrum λmax (B1) of the NIR absorbing dye (B1) as 1, is the wavelength difference between 630 nm and λmax (B1). The value divided is hereinafter referred to as “absorption spectrum slope”. The same applies to NIR absorbing dyes (B) other than the NIR absorbing dye (B1). In addition, it is as follows when absorption spectrum inclination is shown by a type | formula.
Absorption spectrum slope = (1−B1b 630 ) / (λmax (B1) −630)
NIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルを測定するために用いる色素用溶媒としては、屈折率が1.50未満であり、測定されるNIR吸収色素(B1)に対して規定の色素用溶媒であれば特に制限されない。なお、使用する色素用溶媒とは、室温付近において色素を十分溶解せしめ吸光度が測定できる溶媒をいう。NIR吸収色素(B1)の種類によるが、具体的には、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン系溶媒、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、トルエン等の芳香族溶媒、シクロヘキサンノン等の脂環族溶媒が挙げられる。 The dye solvent used for measuring the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B1) has a refractive index of less than 1.50 and is a specified dye solvent for the NIR absorbing dye (B1) to be measured. There is no particular limitation. In addition, the solvent for pigment | dye to use means the solvent which can fully melt | dissolve a pigment | dye at room temperature vicinity, and can measure an absorbance. Depending on the type of NIR absorbing dye (B1), specifically, alcohols such as methanol and ethanol, ketone solvents such as acetone, halogen solvents such as dichloromethane, aromatic solvents such as toluene, and fats such as cyclohexanenone A cyclic solvent is mentioned.
NIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルの最大吸収ピークにおけるλmaxは、695〜720nmの領域にあるが、700〜720nmが好ましい。NIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルの最大吸収ピークにおける半値全幅は60nm以下であるが、50nm以下が好ましく、35nm以下がより好ましい。NIR吸収色素(B1)の吸収スペクトルの最大吸収ピークにおける吸収スペクトル傾きは、0.010〜0.050であるが、0.010〜0.030が好ましく、0.010〜0.014がより好ましい。 Λmax at the maximum absorption peak of the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B1) is in the region of 695 to 720 nm, and preferably 700 to 720 nm. The full width at half maximum at the maximum absorption peak of the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B1) is 60 nm or less, preferably 50 nm or less, and more preferably 35 nm or less. The absorption spectrum slope at the maximum absorption peak of the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B1) is from 0.010 to 0.050, preferably from 0.010 to 0.030, more preferably from 0.010 to 0.014. .
また、NIR吸収色素(B1)としては、その吸収スペクトルが上記特徴を有する以外に、その吸収スペクトルにおいて、上記最大吸収ピーク以外に半値全幅が100nm以下の、形状がシャープな吸収ピークを有しないことが好ましい。NIR吸収色素(B1)の上記吸光特性は、近赤外線吸収フィルタに求められる波長630〜700nm付近の間で急峻に吸光度が変化する光学特性に合致する。 In addition, the NIR absorbing dye (B1) has no absorption peak with a sharp shape with a full width at half maximum of 100 nm or less other than the maximum absorption peak in the absorption spectrum, in addition to the absorption spectrum having the above characteristics. Is preferred. The light absorption characteristics of the NIR absorbing dye (B1) match the optical characteristics in which the absorbance changes steeply in the vicinity of the wavelength of 630 to 700 nm required for the near infrared absorption filter.
本発明の近赤外線吸収フィルタにおいて、NIR吸収色素(B)が、このようなNIR吸収色素(B1)を含有すれば、NIR吸収色素(B)を用いて得られる近赤外線吸収層において、450〜600nmの可視波長帯域を高透過とし、695〜720nmの近赤外波長帯域を低透過(遮光)とし、その境界領域を急峻にできる。 In the near-infrared absorbing filter of the present invention, if the NIR absorbing dye (B) contains such an NIR absorbing dye (B1), in the near-infrared absorbing layer obtained using the NIR absorbing dye (B), 450 to The visible wavelength band of 600 nm can be made highly transmissive, and the near infrared wavelength band of 695 to 720 nm can be made low transmissive (light shielding), and the boundary region can be made steep.
具体的には、NIR吸収色素(B1)を含むNIR吸収色素(B)を用い、これを上記透明樹脂(A)、特には屈折率が1.54以上の高屈折率の透明樹脂(A)に分散させて、近赤外線吸収層を形成することで、該近赤外線吸収層は以下の(i)から(iii)の全ての吸光特性の達成が可能となる。
(i)450〜600nmの可視光の透過率が70%以上である。
(ii)695〜720nmの波長域における光の透過率が10%以下である。
(iii)下式(1)で表わされる透過率の変化量Dが−0.8以下である。
D(%/nm)=[T700(%)−T630(%)]/[700(nm)−630(nm)] …(1)
式(1)中、T700は、上記近赤外線吸収層の透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、T630は、上記近赤外線吸収層の透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。なお、近赤外線吸収層の透過率は、紫外可視分光光度計を用いて測定できる。以下、近赤外線吸収層における上記式(1)で表わされる透過率の変化量Dを、単に透過率の変化量Dともいう。
Specifically, the NIR absorbing dye (B) including the NIR absorbing dye (B1) is used, and this is used as the transparent resin (A), particularly a high refractive index transparent resin (A) having a refractive index of 1.54 or more. By forming the near-infrared absorbing layer by dispersing in, the near-infrared absorbing layer can achieve all of the light absorption characteristics (i) to (iii) below.
(i) The visible light transmittance of 450 to 600 nm is 70% or more.
(ii) The light transmittance in the wavelength range of 695 to 720 nm is 10% or less.
(iii) The transmittance change amount D represented by the following formula (1) is −0.8 or less.
D (% / nm) = [T700 (%) − T630 (%)] / [700 (nm) −630 (nm)] (1)
In formula (1), T700 is the transmittance at a wavelength of 700 nm in the transmission spectrum of the near infrared absorption layer, and T630 is the transmittance at a wavelength of 630 nm in the transmission spectrum of the near infrared absorption layer. In addition, the transmittance | permeability of a near-infrared absorption layer can be measured using an ultraviolet visible spectrophotometer. Hereinafter, the transmittance change amount D represented by the above formula (1) in the near-infrared absorbing layer is also simply referred to as the transmittance change amount D.
ここで、本明細書において、特定の波長領域の透過率について、透過率が例えば70%以上とは、その波長領域の全波長において透過率が70%を下回らないことをいい、同様に透過率が例えば10%以下とは、その波長領域の全波長において透過率が10%を超えないことをいう。 Here, in the present specification, for the transmittance in a specific wavelength region, the transmittance of 70% or more means that the transmittance does not fall below 70% at all wavelengths in the wavelength region, and similarly the transmittance For example, 10% or less means that the transmittance does not exceed 10% at all wavelengths in the wavelength region.
なお、NIR吸収色素(B)が、NIR吸収色素(B1)を含有する場合、その効果を最大限に発揮するためには、NIR吸収色素(B)が、実質的に、NIR吸収色素(B1)のλmax(B1)の最小値である695nmより短波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)を含有しないことが好ましい。この観点から、NIR吸収色素(B)はNIR吸収色素(B1)のみで構成されてもよい。 In the case where the NIR absorbing dye (B) contains the NIR absorbing dye (B1), the NIR absorbing dye (B) substantially has the NIR absorbing dye (B1) in order to exhibit the effect to the maximum. It is preferable that no NIR absorbing dye (B) having λmax on the shorter wavelength side than 695 nm which is the minimum value of λmax (B1). From this viewpoint, the NIR absorbing dye (B) may be composed of only the NIR absorbing dye (B1).
ここで、本実施形態の近赤外線吸収フィルタにおいては、近赤外波長領域の透過率を広範囲に抑制することが好ましく、そのために、好ましい態様として、上記近赤外線吸収層と、例えば、低屈折率の誘電体膜と高屈折率の誘電体膜を交互に積層した誘電体多層膜からなる選択波長遮蔽層が組み合わせて用いられることがある。 Here, in the near-infrared absorption filter of the present embodiment, it is preferable to suppress the transmittance in the near-infrared wavelength region over a wide range. Therefore, as a preferable aspect, for example, the near-infrared absorption layer and, for example, a low refractive index. In some cases, a selective wavelength shielding layer composed of a dielectric multilayer film in which a dielectric film and a dielectric film having a high refractive index are alternately laminated is used in combination.
ところが、誘電体多層膜等からなる選択波長遮蔽層は、視線角度により分光スペクトルが変動することが知られている。このため、近赤外線吸収フィルタの実使用においては、近赤外線吸収層と選択波長遮蔽層の組合せにおいて、このような分光スペクトルの変動に配慮する必要がある。このような選択波長遮蔽層との組合せを考慮すると、近赤外線吸収層は上記吸光特性を有する限り、さらに長波長域の光を遮光することが好ましい。そのために、NIR吸収色素(B)がNIR吸収色素(B1)を含有する場合には、その吸収スペクトルにおいて、NIR吸収色素(B1)のλmax(B1)の最大値である720nmを超え800nm以下の波長領域にピーク波長があり半値全幅が100nm以下である最大吸収ピークを有する、NIR吸収色素(B2)をさらに含有することが好ましい。 However, it is known that the selective wavelength shielding layer made of a dielectric multilayer film or the like has a spectrum that varies depending on the viewing angle. For this reason, in actual use of the near-infrared absorption filter, it is necessary to consider such fluctuations in the spectral spectrum in the combination of the near-infrared absorption layer and the selective wavelength shielding layer. In consideration of such a combination with the selective wavelength shielding layer, it is preferable that the near-infrared absorbing layer further shields light in a longer wavelength region as long as it has the light absorption characteristics. Therefore, when the NIR absorbing dye (B) contains the NIR absorbing dye (B1), the absorption spectrum exceeds 720 nm which is the maximum value of λmax (B1) of the NIR absorbing dye (B1) and is 800 nm or less. It is preferable to further contain an NIR absorbing dye (B2) having a peak wavelength in the wavelength region and a maximum absorption peak having a full width at half maximum of 100 nm or less.
すなわち、NIR吸収色素(B)は、好ましくは、これを含有する近赤外線吸収層に、可視波長帯域と近赤外波長帯域の境界領域で光の吸収曲線の傾斜を急峻とする作用が求められ、さらに好ましくは、近赤外波長帯域の長波長側まで十分に吸光する性質を付与することが求められる。そこで、NIR吸収色素(B)として好ましくは、近赤外線吸収層において可視波長帯域と近赤外波長帯域の境界領域で光の吸収曲線の傾斜が急峻となるように、NIR吸収色素(B1)を用い、さらに好ましくは近赤外波長帯域の長波長側まで十分に吸光させるために、NIR吸収色素(B1)に加えてNIR吸収色素(B2)を組み合わせて用いる。 That is, the NIR absorbing dye (B) is preferably required to have a function of steepening the slope of the light absorption curve in the boundary region between the visible wavelength band and the near infrared wavelength band in the near infrared absorbing layer containing the NIR absorbing dye (B). More preferably, it is required to impart a property of sufficiently absorbing light to the long wavelength side of the near infrared wavelength band. Therefore, preferably as the NIR absorbing dye (B), the NIR absorbing dye (B1) is preferably used so that the slope of the absorption curve of light becomes steep in the boundary region between the visible wavelength band and the near infrared wavelength band in the near infrared absorbing layer. In order to sufficiently absorb light to the long wavelength side of the near-infrared wavelength band, NIR absorbing dye (B2) is used in combination with NIR absorbing dye (B1).
NIR吸収色素(B2)の吸収スペクトルの最大吸収ピークにおけるλmaxは、720nmを超え800nm以下の領域にあるが、720を超え760nmが好ましい。NIR吸収色素(B2)の吸収スペクトルの最大吸収ピークにおける半値全幅は100nm以下であり60nm以下が好ましい。半値全幅の下限としては30nmが好ましく、40nmがより好ましい。NIR吸収色素(B2)の吸収スペクトルの最大吸収ピークにおける吸収スペクトル傾きは、0.007〜0.011が好ましく、0.008〜0.010がより好ましい。 Λmax at the maximum absorption peak of the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B2) is in the region of more than 720 nm and not more than 800 nm, preferably more than 720 and 760 nm. The full width at half maximum at the maximum absorption peak of the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B2) is 100 nm or less, and preferably 60 nm or less. The lower limit of the full width at half maximum is preferably 30 nm, and more preferably 40 nm. The absorption spectrum slope at the maximum absorption peak of the absorption spectrum of the NIR absorbing dye (B2) is preferably 0.007 to 0.011 and more preferably 0.008 to 0.010.
また、NIR吸収色素(B2)としては、その吸収スペクトルが上記特徴を有する以外に、その吸収スペクトルにおいて、上記最大吸収ピーク以外に半値全幅が100nm以下の、形状がシャープな吸収ピークを有しないことが好ましい。
以下、このようなNIR吸収色素(B1)およびNIR吸収色素(B2)のそれぞれについて説明し、続いてこれらを含むNIR吸収色素(B)について説明する。
In addition, the NIR absorbing dye (B2) has no absorption peak with a sharp shape with a full width at half maximum of 100 nm or less in addition to the maximum absorption peak in the absorption spectrum, in addition to the absorption spectrum having the above characteristics. Is preferred.
Hereinafter, each of the NIR absorbing dye (B1) and the NIR absorbing dye (B2) will be described, and then the NIR absorbing dye (B) containing them will be described.
(NIR吸収色素(B1))
NIR吸収色素(B1)としては、上記吸光特性を有する化合物であれば、特に制限されない。一般にNIR吸収色素として用いられるシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、ジイモニウム系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール系化合物、スクアリリウム系化合物等から、上記吸光特性を有する化合物を適宜選択して使用できる。これらのうちでも、特にスクアリリウム系化合物は、化学構造を調整することで上記NIR吸収色素(B1)として求められる波長帯で急峻な吸収傾きが得られるとともに、保存安定性および光に対する安定性を確保できる点で好ましい。
(NIR absorbing dye (B1))
The NIR absorbing dye (B1) is not particularly limited as long as it is a compound having the above light absorption characteristics. Cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, dithiol metal complex compounds, diimonium compounds, polymethine compounds, phthalide compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, indophenol compounds, generally used as NIR absorbing dyes, A compound having the above light absorption characteristics can be appropriately selected from squarylium compounds and the like. Among these, in particular, the squarylium compound has a steep absorption slope in the wavelength band required as the NIR absorbing dye (B1) by adjusting the chemical structure, and also ensures storage stability and stability to light. It is preferable in that it can be performed.
NIR吸収色素(B1)として、具体的には、下記式(F1)で示されるスクアリリウム系化合物から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。本明細書において、式(F1)で示される化合物を化合物(F1)ともいう。他の化合物についても同様である。
化合物(F1)は、スクアリリウム骨格の左右にベンゼン環が結合し、さらにベンゼン環の4位に窒素原子が結合するとともに該窒素原子を含む飽和複素環が形成された構造を有するスクアリリウム系化合物であり、上記NIR吸収色素(B1)としての吸光特性を有する化合物である。化合物(F1)においては、近赤外線吸収層を形成する際に用いる溶媒(以下、「ホスト溶媒」ということもある。)や透明樹脂への溶解性を高める等のその他の要求特性に応じて、以下の範囲でベンゼン環の置換基を適宜調整できる。
Specific examples of the NIR absorbing dye (B1) include at least one selected from squarylium compounds represented by the following formula (F1). In this specification, the compound represented by the formula (F1) is also referred to as a compound (F1). The same applies to other compounds.
Compound (F1) is a squarylium compound having a structure in which a benzene ring is bonded to the left and right sides of the squarylium skeleton, and a nitrogen atom is bonded to the 4-position of the benzene ring and a saturated heterocyclic ring containing the nitrogen atom is formed. And a compound having light absorption characteristics as the NIR absorbing dye (B1). In the compound (F1), depending on other required characteristics such as increasing the solubility in a solvent (hereinafter also referred to as “host solvent”) and a transparent resin used for forming the near infrared absorption layer, The substituent of a benzene ring can be adjusted suitably in the following ranges.
ただし、式(F1)中の記号は以下のとおりである。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基))を示す。
However, the symbols in formula (F1) are as follows.
R 4 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or —NR 7 R 8 (R 7 and R 8 are each independently hydrogen An atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or —C (═O) —R 9 (R 9 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 carbon atoms; To 11 aryl groups or araryl groups)).
R1とR2、R2とR5、およびR1とR3は、それぞれ独立して、互いに連結して窒素原子と共に員数が5または6のそれぞれ複素環A、複素環B、および複素環Cを形成していてもよい。ただし、式(F1)は、複素環A、複素環B、および複素環Cから選ばれる少なくとも1以上の環構造を有する。
複素環Aが形成される場合のR1とR2は、これらが結合した2価の基−Q−として、水素原子が炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基で置換されてもよいアルキレン基、またはアルキレンオキシ基を示す。
複素環Bが形成される場合のR2とR5、および複素環Cが形成される場合のR1とR3は、これらが結合したそれぞれ2価の基−X1−Y1−および−X2−Y2−(窒素に結合する側がX1およびX2)として、X1およびX2がそれぞれ下記式(1x)または(2x)で示される基であり、Y1およびY2がそれぞれ下記式(1y)〜(5y)から選ばれるいずれかで示される基である。X1およびX2が、それぞれ下記式(2x)で示される基の場合、Y1およびY2はそれぞれ単結合であってもよい。
R 1 and R 2 , R 2 and R 5 , and R 1 and R 3 are each independently linked to each other, and each of heterocyclic ring A, heterocyclic ring B, and heterocyclic ring having 5 or 6 members together with a nitrogen atom C may be formed. However, Formula (F1) has at least one or more ring structures selected from heterocyclic ring A, heterocyclic ring B, and heterocyclic ring C.
R 1 and R 2 in the case where the heterocyclic ring A is formed are a divalent group -Q- in which these are bonded, and a hydrogen atom is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. An alkylene group which may be substituted, or an alkyleneoxy group is shown.
R 2 and R 5 when the heterocyclic ring B is formed, and R 1 and R 3 when the heterocyclic ring C is formed are each a divalent group —X 1 —Y 1 — and — X 2 —Y 2 — (the side bonded to nitrogen is X 1 and X 2 ), X 1 and X 2 are each a group represented by the following formula (1x) or (2x), and Y 1 and Y 2 are each It is a group represented by any one selected from the following formulas (1y) to (5y). When X 1 and X 2 are groups represented by the following formula (2x), Y 1 and Y 2 may each be a single bond.
式(1x)中、4個のZは、それぞれ独立して水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR28R29(R28およびR29は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を示す)を示す。R21〜R26は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を、R27は炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を示す。 In the formula (1x), four Z's are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or -NR 28 R 29 (R 28 and R 29 are each independently Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). R 21 to R 26 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 27 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. .
R7、R8、R9、R4、R6、R21〜R27、複素環を形成していない場合のR1〜R3、およびR5は、これらのうちの他のいずれかと互いに結合して5員環または6員環を形成してもよい。R21とR26、R21とR27は直接結合してもよい。
複素環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。複素環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。
以下、複素環Aは単に環Aということもある。複素環B、複素環Cについても同様である。
R 7 , R 8 , R 9 , R 4 , R 6 , R 21 to R 27 , R 1 to R 3 when not forming a heterocyclic ring, and R 5 are It may combine to form a 5-membered ring or a 6-membered ring. R 21 and R 26 , R 21 and R 27 may be directly bonded.
When not forming a heterocyclic ring, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or 6 to 6 carbon atoms. 11 aryl groups or araryl groups are shown. When no heterocyclic ring is formed, R 3 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
Hereinafter, the heterocycle A may be simply referred to as ring A. The same applies to the heterocycle B and heterocycle C.
化合物(F1)において、R4およびR6は、それぞれ独立して、上記の原子または基を示す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよい。R4およびR6は、いずれか一方が水素原子であって、他方が−NR7R8である組合せが好ましい。 In the compound (F1), R 4 and R 6 each independently represent the above atom or group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. The alkyl group may be linear, branched or cyclic. R 4 and R 6 are preferably a combination in which either one is a hydrogen atom and the other is —NR 7 R 8 .
化合物(F1)が、環A〜環Cのうち、環Aのみ、環Bと環Cのみ、環A〜環Cをそれぞれ有する場合、−NR7R8は、R4とR6のいずれに導入されてもよい。化合物(F1)が、環Bのみ、環Aと環Bのみをそれぞれ有する場合、−NR7R8は、R4に導入されるのが好ましい。同様に、環Cのみ、環Aと環Cのみをそれぞれ有する場合、−NR7R8は、R6に導入されるのが好ましい。 In a case where the compound (F1) has only ring A, ring B and ring C, or ring A to ring C among ring A to ring C, -NR 7 R 8 is either R 4 or R 6 . May be introduced. When compound (F1) has only ring B and only ring A and ring B, —NR 7 R 8 is preferably introduced into R 4 . Similarly, when it has only ring C and only ring A and ring C, —NR 7 R 8 is preferably introduced into R 6 .
−NR7R8としては、ホスト溶媒や透明樹脂(A)への溶解性の観点から、−NH−C(=O)−R9が好ましい。R9としては、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数6〜10のアリール基が好ましい。置換基としては、フッ素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフロロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアシルオキシ基等が挙げられる。これらのうちでも、フッ素原子で置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル基、および炭素数1〜6のフロロアルキル基および/または炭素数1〜6のアルコキシ基で置換されてもよいフェニル基から選ばれる基が好ましい。 As —NR 7 R 8 , —NH—C (═O) —R 9 is preferable from the viewpoint of solubility in the host solvent or the transparent resin (A). R 9 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms. Among these, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and a phenyl which may be substituted with a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms and / or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. A group selected from groups is preferred.
化合物(F1)において、R1とR2、R2とR5、およびR1とR3が、それぞれ互いに連結して形成される員数5または6の環A、環B、および環Cは、少なくともこれらのいずれか1個が形成されていればよく、2個または3個が形成されていてもよい。 In compound (F1), R 1 and R 2 , R 2 and R 5 , and R 1 and R 3 are connected to each other to form 5 or 6 members of ring A, ring B, and ring C, At least any one of these may be formed, and two or three may be formed.
環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。置換基としては、ヒドロキシ基、炭素数1〜3のアルコキシ基、アシルオキシ基が挙げられる。環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。これらのなかでも、R1、R2、R3、R5としては、ホスト溶媒や透明樹脂(A)への溶解性の観点から、炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 When not forming a ring, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or 6 to 11 carbon atoms. An aryl group or an araryl group. Examples of the substituent include a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and an acyloxy group. When no ring is formed, R 3 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Among these, as R 1 , R 2 , R 3 , and R 5 , an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is particularly preferable from the viewpoint of solubility in a host solvent or a transparent resin (A). preferable.
また、化合物(F1)において、スクアリリウム骨格の左右に結合するベンゼン環が有する基R1〜R6は、左右で異なってもよいが、左右で同一が好ましい。
なお、化合物(F1)は、上記一般式(F1)で示される構造の共鳴構造を有する式(F1−1)で示される化合物(F1−1)を含む。
In the compound (F1), the groups R 1 to R 6 possessed by the benzene rings bonded to the left and right of the squarylium skeleton may be different on the left and right, but are preferably the same on the left and right.
The compound (F1) includes the compound (F1-1) represented by the formula (F1-1) having a resonance structure having the structure represented by the general formula (F1).
化合物(F1)として、より具体的には、環Bのみを環構造として有する下記式(F11)で示される化合物、環Aのみを環構造として有する下記式(F12)で示される化合物、環Bおよび環Cの2個を環構造として有する下記式(F13)で示される化合物が挙げられる。なお、下記式(F11)で示される化合物は、化合物(F1)において環Cのみを環構造として有しR6が−NR7R8である化合物と同じ化合物である。また、下記式(F11)で示される化合物および下記式(F13)で示される化合物は、米国特許第5,543,086号明細書に記載された化合物である。 More specifically, as compound (F1), a compound represented by the following formula (F11) having only ring B as a ring structure, a compound represented by the following formula (F12) having only ring A as a ring structure, ring B And a compound represented by the following formula (F13) having two of ring C as a ring structure. Note that the compound represented by the following formula (F11) is the same compound as the compound (F1) in which only the ring C is included as a ring structure and R 6 is —NR 7 R 8 . The compound represented by the following formula (F11) and the compound represented by the following formula (F13) are compounds described in US Pat. No. 5,543,086.
化合物(F11)において、X1としては、上記(2x)で示される水素原子が炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基で置換されてもよいエチレン基が好ましい。この場合、置換基としては炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。X1として、具体的には、−(CH2)2−、−CH2−C(CH3)2−、−CH(CH3)−C(CH3)2−、−C(CH3)2−C(CH3)2−等が挙げられる。化合物(F11)における−NR7R8としては、−NH−C(=O)−CH3、−NH−C(=O)−C6H13、−NH−C(=O)−C6H5等が好ましい。化合物(F11)として、例えば、下記式(F11−1)で示される化合物等が挙げられる。
In the compound (F11), X 1 is preferably an ethylene group in which the hydrogen atom represented by the above (2x) may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. In this case, the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group. As X 1, specifically, - (CH 2) 2 - , - CH 2 -C (CH 3) 2 -, - CH (CH 3) -C (CH 3) 2 -, - C (CH 3) 2 -C (CH 3) 2 - and the like. The -NR 7 R 8 in the compound (F11), -NH-C ( = O) -
化合物(F12)において、Qは、水素原子が炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基に置換されてもよい炭素数4または5のアルキレン基、炭素数3または4のアルキレンオキシ基である。アルキレンオキシ基の場合の酸素の位置はNの隣以外が好ましい。なお、Qとしては、炭素数1〜3のアルキル基、特にはメチル基に置換されてもよいブチレン基が好ましい。
化合物(F12)において、−NR7R8は、−NH−C(=O)−(CH2)m−CH3(mは、0〜19)、−NH−C(=O)−Ph−R10(R10は、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、または炭素数1〜3のパーフロロアルキル基を示す。)等が好ましい。
In the compound (F12), Q is an alkylene group having 4 or 5 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or 3 or 4 carbon atoms. An alkyleneoxy group; In the case of an alkyleneoxy group, the position of oxygen is preferably other than next to N. In addition, as Q, a C1-C3 alkyl group, especially the butylene group which may be substituted by the methyl group is preferable.
In the compound (F12), —NR 7 R 8 is —NH—C (═O) — (CH 2 ) m —CH 3 (m is 0 to 19), —NH—C (═O) —Ph—. R 10 (R 10 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms) is preferable.
ここで、化合物(F12)は、そのλmaxが700〜720nmの間にあり、これを含有する近赤外線吸収層における透過率の変化量Dを−0.86以下とできる、NIR吸収色素(B1)として好ましい化合物である。λmaxを上記範囲とすることで、可視波長帯の透過領域を広げることが可能となる。
化合物(F12)として、例えば、下記式(F12−1)で示される化合物、下記式(F12−2)で示される化合物等が挙げられる。
Here, the compound (F12) has a λmax between 700 and 720 nm, and the NIR absorbing dye (B1) that can change the transmittance change D in the near-infrared absorbing layer containing the compound to −0.86 or less. As a preferable compound. By setting λmax within the above range, it is possible to widen the transmission region in the visible wavelength band.
Examples of the compound (F12) include a compound represented by the following formula (F12-1), a compound represented by the following formula (F12-2), and the like.
化合物(F13)において、X1およびX2としては、独立して上記(2x)で示される水素原子が炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基で置換されてもよいエチレン基が好ましい。この場合、置換基としては炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。X1およびX2として、具体的には、−(CH2)2−、−CH2−C(CH3)2−、−CH(CH3)−C(CH3)2−、−C(CH3)2−C(CH3)2−等が挙げられる。Y1およびY2としては、独立して−CH2−、−C(CH3)2−、−CH(C6H5)−、−CH((CH2)mCH3)−(mは0〜5)等が挙げられる。化合物(F13)において、−NR7R8は、−NH−C(=O)−CmH2m+1(mは1〜20であり、CmH2m+1は直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよい。)、−NH−C(=O)−Ph−R10(R10は、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、または炭素数1〜3のパーフロロアルキル基を示す。)等が好ましい。
化合物(F13)として、例えば、下記式(F13−1)で示される化合物、下記式(F13−2)で示される化合物等が挙げられる。
In the compound (F13), as X 1 and X 2 , the hydrogen atom independently represented by (2x) above may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. An ethylene group is preferred. In this case, the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group. As X 1 and X 2 , specifically, — (CH 2 ) 2 —, —CH 2 —C (CH 3 ) 2 —, —CH (CH 3 ) —C (CH 3 ) 2 —, —C ( CH 3 ) 2 —C (CH 3 ) 2 — and the like. Y 1 and Y 2 are each independently —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —CH (C 6 H 5 ) —, —CH ((CH 2 ) m CH 3 ) — (m is 0-5) and the like. In the compound (F13), —NR 7 R 8 is —NH—C (═O) —C m H 2m + 1 (m is 1 to 20, and C m H 2m + 1 is linear, branched, or cyclic. Which may be any one), —NH—C (═O) —Ph—R 10 (R 10 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. 3 is a perfluoroalkyl group).
Examples of the compound (F13) include a compound represented by the following formula (F13-1), a compound represented by the following formula (F13-2), and the like.
上記化合物(F11−1)、化合物(F12−1)、化合物(F12−2)、化合物(F13−1)および化合物(F13−2)の吸光特性を表1に示す。 Table 1 shows the light absorption characteristics of the compound (F11-1), the compound (F12-1), the compound (F12-2), the compound (F13-1), and the compound (F13-2).
なお、上記化合物(F11)、化合物(F12)、化合物(F13)等の化合物(F1)は、従来公知の方法で製造可能である。
化合物(F11−1)等の化合物(F11)は、例えば、米国特許第5,543,086号明細書に記載された方法で製造できる。
また、化合物(F12)は、例えば、J.Org.Chem.2005,70(13),5164−5173に記載の方法で製造できる。
The compound (F1) such as the compound (F11), the compound (F12), and the compound (F13) can be produced by a conventionally known method.
Compound (F11) such as compound (F11-1) can be produced, for example, by the method described in US Pat. No. 5,543,086.
In addition, the compound (F12) is, for example, J.I. Org. Chem. 2005, 70 (13), 5164-5173.
これらのうちでも、化合物(F12−1)、化合物(12−2)等は、例えば以下の反応式(F3)に示す合成経路にしたがって製造できる。
反応式(F3)によれば、1−メチル−2−ヨード−4−アミノベンゼンのアミノ基に所望の置換基R9を有するカルボン酸塩化物を反応させてアミドを形成する。次いで、ピロリジンを反応させ、さらに3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン(以下、スクアリン酸という。)と反応させることで、化合物(F12−1)、化合物(12−2)等が得られる。
Among these, a compound (F12-1), a compound (12-2), etc. can be manufactured according to the synthetic pathway shown, for example in the following reaction formula (F3).
According to reaction formula (F3), the carboxylic acid chloride having the desired substituent R 9 is reacted with the amino group of 1-methyl-2-iodo-4-aminobenzene to form an amide. Next, pyrrolidine is reacted, and further reacted with 3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione (hereinafter referred to as squaric acid), whereby compound (F12-1) and compound (12-2) Etc. are obtained.
また、化合物(F13−1)、化合物(F13−2)等は、例えば以下の反応式(F4)に示す合成経路にしたがって製造できる。
反応式(F4)では、まず、8−ヒドロキシジュロリジンにトリフルオロメタンスルホン酸無水物(Tf2O)を反応させ、8−トリフルオロメタンスルホン酸ジュロリジンとし、次いで、これにベンジルアミンを反応させ8−ベンジルアミノジュロリジンを得、さらにこれを還元して8−アミノジュロリジンを製造する。次いで、8−アミノジュロリジンのアミノ基に所望の置換基R9(化合物(F13−1)の場合、−C7H15)を有するカルボン酸塩化物を反応させてジュロリジンの8位に−NH−C(=O)R9を有する化合物を得る。次いで、この化合物の2モルをスクアリン酸1モルと反応させることで、化合物(F13−1)、化合物(F13−2)等が得られる。
Moreover, a compound (F13-1), a compound (F13-2), etc. can be manufactured according to the synthetic pathway shown, for example in the following reaction formula (F4).
In the reaction formula (F4), first, 8-hydroxyjulolidine is reacted with trifluoromethanesulfonic anhydride (Tf 2 O) to form 8-trifluoromethanesulfonic acid julolidine, and then this is reacted with benzylamine. Benzylaminojulolidine is obtained and further reduced to produce 8-aminojulolidine. Next, a carboxylate chloride having the desired substituent R 9 (in the case of compound (F13-1), —C 7 H 15 ) is reacted with the amino group of 8-aminojulolidine to react with —NH at the 8-position of julolidine. A compound having —C (═O) R 9 is obtained. Next, by reacting 2 mol of this compound with 1 mol of squaric acid, compound (F13-1), compound (F13-2) and the like are obtained.
本実施形態においては、NIR吸収色素(B1)として、上記NIR吸収色素(B1)としての吸光特性を有する複数の化合物から選ばれる1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 In the present embodiment, as the NIR absorbing dye (B1), one kind selected from a plurality of compounds having light absorption characteristics as the NIR absorbing dye (B1) may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. Also good.
(NIR吸収色素(B2))
NIR吸収色素(B2)としては、上記吸光特性を有する、具体的には、その吸収スペクトルにおいて、λmax(B2)が720nm超800nm以下の波長領域にあり半値全幅が100nm以下である最大吸収ピークを有する化合物であれば、特に制限されない。一般にNIR吸収色素として用いられるシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、ジイモニウム系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール系化合物、スクアリリウム系化合物等から、上記吸光特性を有する化合物を適宜選択して使用できる。
(NIR absorbing dye (B2))
The NIR absorbing dye (B2) has the above-described absorption characteristics. Specifically, in its absorption spectrum, the maximum absorption peak in which λmax (B2) is in the wavelength region of more than 720 nm and not more than 800 nm and the full width at half maximum is not more than 100 nm. If it is a compound which has, it will not restrict | limit in particular. Cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, dithiol metal complex compounds, diimonium compounds, polymethine compounds, phthalide compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, indophenol compounds, generally used as NIR absorbing dyes, A compound having the above light absorption characteristics can be appropriately selected from squarylium compounds and the like.
NIR吸収色素(B2)としては、上記のとおりNIR吸収色素(B1)の可視波長帯域と近赤外波長帯域の境界領域における光の吸収特性を阻害しない範囲で、近赤外波長帯域の比較的長波長側での光の吸収をできるだけ幅広く確保できる化合物が好ましい。このような観点からNIR吸収色素(B2)としては、化学構造を調整することで上記NIR吸収色素(B2)として求められる吸光特性が付与されたシアニン系化合物が好ましい。シアニン系化合物は古くからCD−R等の記録色素として用いられてきた色素であり低コストであって、塩形成することにより長期の安定性も確保できることが知られている。
NIR吸収色素(B2)として使用可能な、シアニン系化合物として、具体的には、下記一般式(F5)に示される化合物が挙げられる。
As described above, the NIR absorbing dye (B2) is a comparatively near-infrared wavelength band within a range that does not inhibit the light absorption characteristics in the boundary region between the visible wavelength band and the near-infrared wavelength band of the NIR absorbing dye (B1). A compound capable of ensuring the widest possible absorption of light on the long wavelength side is preferred. From this point of view, the NIR absorbing dye (B2) is preferably a cyanine compound provided with the light absorption characteristics required for the NIR absorbing dye (B2) by adjusting the chemical structure. It is known that cyanine compounds are dyes that have been used as recording dyes such as CD-R for a long time, are low in cost, and can secure long-term stability by forming a salt.
Specific examples of the cyanine compound that can be used as the NIR absorbing dye (B2) include compounds represented by the following general formula (F5).
ただし、式(F5)中の記号は以下のとおりである。
R11は、それぞれ独立して、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アルキルスルホン基、またはそのアニオン種を示す。
R12およびR13は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を示す。
Zは、PF6、ClO4、Rf−SO2、(Rf−SO2)2−N(Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されたアルキル基を示す。)、またはBF4を示す。
R14、R15、R16およびR17は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜6のアルキル基を示す。
nは1〜6の整数を示す。
However, the symbols in formula (F5) are as follows.
R 11 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, an alkylsulfone group, or an anionic species thereof.
R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
Z represents PF 6 , ClO 4 , R f —SO 2 , (R f —SO 2 ) 2 —N (R f represents an alkyl group substituted with at least one fluorine atom), or BF 4 . .
R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
n shows the integer of 1-6.
なお、化合物(F5)におけるR11としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、R12およびR13はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。R14、R15、R16およびR17は、それぞれ独立して、水素原子が好ましく、nの数は1〜4が好ましい。n個の繰り返し単位を挟んだ左右の構造は異なってもよいが、同一の構造が好ましい。
化合物(F5)としてより具体的には、下記式(F51)で示される化合物、下記式(F52)で示される化合物等が例示される。
Note that R 11 in the compound (F5) is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 12 and R 13 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are each independently preferably a hydrogen atom, and the number of n is preferably 1 to 4. The left and right structures sandwiching n repeating units may be different, but the same structure is preferred.
More specifically, examples of the compound (F5) include a compound represented by the following formula (F51), a compound represented by the following formula (F52), and the like.
また、NIR吸収色素(B2)として、下記式(F6)で示されるスクアリリウム系化合物を用いることもできる。 Further, as the NIR absorbing dye (B2), a squarylium compound represented by the following formula (F6) can also be used.
なお、上記化合物(F51)、化合物(F52)および化合物(F6)は、従来公知の方法で製造可能である。本実施形態においては、NIR吸収色素(B2)として、上記NIR吸収色素(B2)としての吸光特性を有する複数の化合物から選ばれる1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 In addition, the said compound (F51), a compound (F52), and a compound (F6) can be manufactured by a conventionally well-known method. In the present embodiment, as the NIR absorbing dye (B2), one kind selected from a plurality of compounds having light absorption characteristics as the NIR absorbing dye (B2) may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. Also good.
(NIR吸収色素(B))
本実施形態に用いられるNIR吸収色素(B)は、好ましくは、NIR吸収色素(B1)を含有し、さらに好ましくは、これに加えてNIR吸収色素(B2)を含有する。
NIR吸収色素(B)における、NIR吸収色素(B1)の含有量は、NIR吸収色素(B)がNIR吸収色素(B1)以外に含有するNIR吸収色素(B)、例えばNIR吸収色素(B2)等の種類によるが、NIR吸収色素(B)の全量に対して3〜100質量%の範囲が好ましく、30〜100質量%がより好ましく、50〜100質量%が特に好ましい。NIR吸収色素(B1)の含有量を上記範囲とすることで、NIR吸収色素(B)は、これを含有する近赤外線吸収層に、可視波長帯域と近赤外波長帯域の境界領域で光の吸収曲線の傾斜を急峻とする特性、具体的には、透過率の変化量Dを−0.8以下とする特性の付与が可能となる。
(NIR absorbing dye (B))
The NIR absorbing dye (B) used in the present embodiment preferably contains the NIR absorbing dye (B1), and more preferably contains the NIR absorbing dye (B2) in addition to this.
The content of the NIR absorbing dye (B1) in the NIR absorbing dye (B) is such that the NIR absorbing dye (B) contains an NIR absorbing dye (B) other than the NIR absorbing dye (B1), for example, the NIR absorbing dye (B2). Depending on the type of the NIR absorbing dye (B), a range of 3 to 100% by mass is preferable, 30 to 100% by mass is more preferable, and 50 to 100% by mass is particularly preferable. By setting the content of the NIR absorbing dye (B1) in the above range, the NIR absorbing dye (B) is allowed to enter the near infrared absorbing layer containing the NIR absorbing dye (B1) in the boundary region between the visible wavelength band and the near infrared wavelength band. It is possible to give the characteristic that the slope of the absorption curve is steep, specifically, the characteristic that the transmittance change amount D is −0.8 or less.
また、NIR吸収色素(B)における、NIR吸収色素(B2)の含有量は、NIR吸収色素(B)の全量に対して0〜97質量%の範囲が好ましく、0〜70質量%がより好ましく、0〜50質量%が特に好ましい。
NIR吸収色素(B2)の含有量を上記範囲とすることで、NIR吸収色素(B)は、NIR吸収色素(B1)による上記効果を阻害することなく、これを含有する近赤外線吸収層に、近赤外波長帯域の長波長側まで十分に吸光する特性を付与できる。
Further, the content of the NIR absorbing dye (B2) in the NIR absorbing dye (B) is preferably in the range of 0 to 97% by mass, more preferably 0 to 70% by mass with respect to the total amount of the NIR absorbing dye (B). 0 to 50% by mass is particularly preferable.
By setting the content of the NIR absorbing dye (B2) in the above range, the NIR absorbing dye (B) can be added to the near infrared absorbing layer containing the NIR absorbing dye (B1) without inhibiting the above effect. A characteristic of sufficiently absorbing light to the long wavelength side of the near infrared wavelength band can be imparted.
NIR吸収色素(B)は、好ましくはNIR吸収色素(B1)の1種または2種以上を含有し、さらに好ましくは、これに加えてNIR吸収色素(B2)の1種または2種以上を含有する。なお、NIR吸収色素(B)は、NIR吸収色素(B1)、NIR吸収色素(B2)による上記効果を阻害しない限りにおいて、必要に応じてその他のNIR吸収色素(B)を含有してもよい。 The NIR absorbing dye (B) preferably contains one or more NIR absorbing dyes (B1), and more preferably contains one or more NIR absorbing dyes (B2) in addition to this. To do. The NIR absorbing dye (B) may contain other NIR absorbing dyes (B) as necessary as long as the effects of the NIR absorbing dye (B1) and the NIR absorbing dye (B2) are not inhibited. .
ここで、本実施形態において、NIR吸収色素(B)としては、上記のとおり、近赤外線吸収層に、可視波長帯域と近赤外波長帯域の境界領域で光の吸収曲線の傾斜を急峻とする特性および近赤外波長帯域の長波長側まで十分に吸光する特性を付与するために、NIR吸収色素(B1)を含む複数のNIR吸収色素(B)を使用することが好ましい。複数のNIR吸収色素(B)を使用する場合、その数に制限はないが2〜4が好ましい。複数のNIR吸収色素(B)は、互いに相溶性が近いことが好ましい。 Here, in this embodiment, as the NIR absorbing dye (B), as described above, the near-infrared absorbing layer has a steep slope of the light absorption curve in the boundary region between the visible wavelength band and the near-infrared wavelength band. In order to provide the characteristics and the characteristic of sufficiently absorbing light to the long wavelength side of the near-infrared wavelength band, it is preferable to use a plurality of NIR absorbing dyes (B) including the NIR absorbing dye (B1). When a plurality of NIR absorbing dyes (B) are used, the number is not limited, but 2 to 4 are preferable. The plurality of NIR absorbing dyes (B) are preferably compatible with each other.
さらに、使用する複数のNIR吸収色素(B)のλmaxのうち、最も長波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)と、最も短波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)の関係は、吸収光の漏れを抑える必要から以下の関係が好ましい。
NIR吸収色素(B)のうちで最も長波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)をNIR吸収色素(By)、そのλmaxをλmax(By)とし、NIR吸収色素(B)のうちで最も短波長側にλmaxを有するNIR吸収色素(B)をNIR吸収色素(Bx)、そのλmaxをλmax(Bx)として、10nm≦λmax(By)−λmax(Bx)≦40nmの関係が好ましい。
Further, among the λmax of a plurality of NIR absorbing dyes (B) to be used, the relationship between the NIR absorbing dye (B) having λmax on the longest wavelength side and the NIR absorbing dye (B) having λmax on the shortest wavelength side is The following relationship is preferable because it is necessary to suppress leakage of absorbed light.
Among NIR absorbing dyes (B), NIR absorbing dye (B) having λmax on the longest wavelength side is defined as NIR absorbing dye (By), and λmax is defined as λmax (By). A relationship of 10 nm ≦ λmax (By) −λmax (Bx) ≦ 40 nm is preferable, where NIR absorbing dye (B) having λmax on the short wavelength side is NIR absorbing dye (Bx) and λmax is λmax (Bx).
なお、NIR吸収色素(Bx)は、NIR吸収色素(B1)から選択されることが好ましい。NIR吸収色素(By)は、NIR吸収色素(B1)から選択されてもよいが、好ましくはNIR吸収色素(B2)から選択される。NIR吸収色素(By)がNIR吸収色素(B2)から選択される場合、例えば、吸収スペクトル傾きが0.007〜0.011であり半値全幅30〜100nmのNIR吸収色素(B2)を用いることで、近赤外波長帯域の吸収帯を広く確保しつつ、可視波長帯域を高透過とでき好ましい。 The NIR absorbing dye (Bx) is preferably selected from the NIR absorbing dye (B1). The NIR absorbing dye (By) may be selected from the NIR absorbing dye (B1), but is preferably selected from the NIR absorbing dye (B2). When the NIR absorbing dye (By) is selected from the NIR absorbing dye (B2), for example, by using the NIR absorbing dye (B2) having an absorption spectrum inclination of 0.007 to 0.011 and a full width at half maximum of 30 to 100 nm. It is preferable that the visible wavelength band can be highly transmitted while ensuring a wide absorption band in the near infrared wavelength band.
本発明においては、上に説明したように透明樹脂(A)として屈折率が1.54以上の透明樹脂(A)を選択し、上記NIR吸収色素(B)としてNIR吸収色素(B1)を選択すれば、得られるNIR吸収色素(B1)を含有する樹脂層、すなわち近赤外線吸収層において、近赤外線吸収フィルタとして用いる際に重要な、可視光線領域の透過率が高く、波長630〜700nmの間で急峻に吸収曲線が変化する光学特性を維持しながら、遮蔽領域をNIR吸収色素(B1)の最大吸収ピークのピーク波長から長波長域にまで広げられ、具体的には、上記(i)〜(iii)の吸光特性を満足でき、好ましい。 In the present invention, as described above, the transparent resin (A) having a refractive index of 1.54 or more is selected as the transparent resin (A), and the NIR absorbing dye (B1) is selected as the NIR absorbing dye (B). Then, the resin layer containing the obtained NIR absorbing dye (B1), that is, the near-infrared absorbing layer, has a high transmittance in the visible light region, which is important when used as a near-infrared absorbing filter, and has a wavelength of 630 to 700 nm. While maintaining the optical characteristics in which the absorption curve changes sharply, the shielding region is expanded from the peak wavelength of the maximum absorption peak of the NIR absorbing dye (B1) to the long wavelength region. The light absorption characteristic (iii) can be satisfied, which is preferable.
<近赤外線吸収層の形成>
ガラス基板1の主面上に形成された下地層2上に近赤外線吸収層3を形成するには、まず、NIR吸収色素(B)、および透明樹脂(A)または透明樹脂(A)の原料成分と必要に応じて配合される他の成分を、溶媒に分散または溶解させて近赤外線吸収層形成用の塗工液を調製する。
<Formation of near-infrared absorbing layer>
In order to form the near-infrared
必要に応じて配合される他の成分としては、本発明の効果を阻害しない範囲で配合される、無機微粒子からなる近赤外線ないし赤外線吸収剤、色調補正色素、紫外線吸収剤、レベリング剤、帯電防止剤、熱安定剤、光安定剤、酸化防止剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤、熱もしくは光重合開始剤、重合触媒等が挙げられる。これら任意成分は、近赤外線吸収層形成用塗工液中の透明樹脂(A)の100質量部、または透明樹脂(A)の原料成分の100質量部に対して、それぞれ10質量部以下の量で配合することが好ましい。 As other components to be blended as necessary, near-infrared or infrared absorbers composed of inorganic fine particles, color tone correction dyes, ultraviolet absorbers, leveling agents, antistatic agents, which are blended within the range not impairing the effects of the present invention. Agents, heat stabilizers, light stabilizers, antioxidants, dispersants, flame retardants, lubricants, plasticizers, heat or photopolymerization initiators, polymerization catalysts, and the like. These optional components are each 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the transparent resin (A) or 100 parts by mass of the raw material component of the transparent resin (A) in the near-infrared absorbing layer forming coating solution. It is preferable to mix with.
無機微粒子からなる近赤外線ないし赤外線吸収剤としては、ITO微粒子、ATO微粒子、ホウ化ランタン微粒子などが挙げられる。なかでも、ITO微粒子は、可視波長領域の光の透過率が高く、かつ1200nmを超える赤外波長領域も含めた広範囲の光吸収性を有するため、赤外波長領域の光の遮蔽性を必要とする場合に特に好ましい。 Examples of the near infrared ray or infrared absorber made of inorganic fine particles include ITO fine particles, ATO fine particles, and lanthanum boride fine particles. Among these, ITO fine particles have a high light transmittance in the visible wavelength region, and have a wide light absorption property including an infrared wavelength region exceeding 1200 nm, and therefore need to shield light in the infrared wavelength region. This is particularly preferable.
ITO微粒子は、通常、一次粒子が凝集した凝集体として用いられ、該凝集体の平均二次粒子径は、散乱を抑制し、透明性を維持する点から、5〜200nmが好ましく、5〜100nmがより好ましく、5〜70nmが特に好ましい。 The ITO fine particles are usually used as an aggregate in which primary particles are aggregated, and the average secondary particle diameter of the aggregate is preferably from 5 to 200 nm, preferably from 5 to 100 nm from the viewpoint of suppressing scattering and maintaining transparency. Is more preferable, and 5-70 nm is particularly preferable.
無機微粒子からなる近赤外線ないし赤外線吸収剤は、近赤外線吸収層に求められる他の物性を確保しながら、無機微粒子からなる近赤外線ないし赤外線吸収剤がその機能を発揮できる量の範囲として、近赤外線吸収層形成用塗工液中の透明樹脂(A)の100質量部、または透明樹脂(A)の原料成分の100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは0.3〜10質量部の割合で配合できる。 Near-infrared or infrared absorbers composed of inorganic fine particles are in the range of the amount of near-infrared or infrared absorbers composed of inorganic fine particles that can perform their functions while ensuring other physical properties required for the near-infrared absorbing layer. Preferably it is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of transparent resin (A) in the coating liquid for absorption layer formation, or 100 mass parts of a raw material component of transparent resin (A), More preferably, it is 0. It can mix | blend in the ratio of 3-10 mass parts.
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、オキザニリド系紫外線吸収剤、ニッケル錯塩系紫外線吸収剤、無機系紫外線吸収剤等が好ましく挙げられる。市販品として、Ciba社製、商品名「TINUVIN 479」等が挙げられる。 As UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, benzophenone UV absorbers, salicylate UV absorbers, cyanoacrylate UV absorbers, triazine UV absorbers, oxanilide UV absorbers, nickel complex UV absorbers Inorganic UV absorbers are preferred. As a commercial item, a product name “TINUVIN 479” manufactured by Ciba and the like can be cited.
無機系紫外線吸収剤としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、マイカ、カオリン、セリサイト等の粒子が挙げられる。無機系紫外線吸収剤は、通常、一次粒子が凝集した凝集体として用いられ、該凝集体の平均二次粒子径は、透明性の点から、5〜200nmが好ましく、5〜100nmがより好ましく、5〜70nmが特に好ましい。
紫外線吸収剤は、近赤外線吸収層に求められる他の物性を確保しながら、紫外線吸収剤がその機能を発揮できる量の範囲として、近赤外線吸収層形成用塗工液中の透明樹脂(A)の100質量部、または透明樹脂(A)の原料成分の100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.05〜5質量部の割合で配合できる。
Examples of the inorganic ultraviolet absorber include particles of zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, zirconium oxide, mica, kaolin, sericite, and the like. The inorganic ultraviolet absorber is usually used as an aggregate in which primary particles are aggregated, and the average secondary particle diameter of the aggregate is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, from the viewpoint of transparency. 5 to 70 nm is particularly preferable.
The ultraviolet absorber is a transparent resin (A) in the near-infrared absorbing layer-forming coating solution as a range of an amount that the ultraviolet absorber can exert its function while ensuring other physical properties required for the near-infrared absorbing layer. 100 parts by mass or 100 parts by mass of the raw material component of the transparent resin (A), preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass.
光安定剤としては、ヒンダードアミン類、;ニッケルビス(オクチルフェニル)サルファイド、ニッケルコンプレクス−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルリン酸モノエチラート、ニッケルジブチルジチオカーバメート等のニッケル錯体が挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。近赤外線吸収層形成用塗工液中の光安定剤の含有量は、透明樹脂(A)の100質量部、または透明樹脂(A)の原料成分の100質量部に対して、0.01〜10質量部が好ましく、0.5〜5質量部が特に好ましい。 Examples of the light stabilizer include hindered amines; nickel complexes such as nickel bis (octylphenyl) sulfide, nickel complex-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyldithiocarbamate, and the like. . Two or more of these may be used in combination. The content of the light stabilizer in the coating solution for forming the near infrared absorption layer is 0.01 to 100 parts by mass of the transparent resin (A) or 100 parts by mass of the raw material component of the transparent resin (A). 10 parts by mass is preferable, and 0.5 to 5 parts by mass is particularly preferable.
光重合開始剤は、通常、透明樹脂(A)が光硬化樹脂である場合に、透明樹脂(A)の原料成分とともに用いられる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、およびチオキサントン類等が挙げられる。
また、透明樹脂(A)が熱硬化樹脂である場合に、通常、透明樹脂(A)の原料成分とともに用いられる。熱重合開始剤としては、アゾビス系、および過酸化物系の重合開始剤が挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。近赤外線吸収層形成用塗工液中の光または熱重合開始剤の含有量は、透明樹脂(A)の原料成分100質量部に対して、0.01〜10質量部が好ましく、0.5〜5質量部が特に好ましい。
A photoinitiator is normally used with the raw material component of transparent resin (A), when transparent resin (A) is photocuring resin. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, benzoins, benzyls, Michler ketones, benzoin alkyl ethers, benzyl dimethyl ketals, and thioxanthones.
Moreover, when transparent resin (A) is a thermosetting resin, it is normally used with the raw material component of transparent resin (A). Examples of the thermal polymerization initiator include azobis-based and peroxide-based polymerization initiators. Two or more of these may be used in combination. The content of the light or thermal polymerization initiator in the near-infrared absorbing layer forming coating solution is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the raw material component of the transparent resin (A). ˜5 parts by mass is particularly preferred.
近赤外線吸収層形成用塗工液が含有する溶媒としては、透明樹脂(A)または透明樹脂(A)の原料成分およびNIR吸収色素(B)を安定に分散または溶解できる溶媒であれば、特に限定されない。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メトキシエタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−ブトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類;n−ヘキサン、n−ヘプタン、イソクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ガソリン、軽油、灯油等の炭化水素類;アセトニトリル、ニトロメタン、水等が挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。 The solvent contained in the near-infrared absorbing layer forming coating liquid is particularly a solvent that can stably disperse or dissolve the transparent resin (A) or the raw material component of the transparent resin (A) and the NIR absorbing dye (B). It is not limited. Specifically, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and 1,2-dimethoxyethane; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and methoxyethyl acetate Methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-methoxyethanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-butoxyethanol, 1 Alcohols such as methoxy-2-propanol and diacetone alcohol; hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, isoctane, benzene, toluene, xylene, gasoline, light oil, kerosene; acetonitrile, nitromethane, water, etc. It is done. Two or more of these may be used in combination.
溶媒の量は、透明樹脂(A)の100質量部、または透明樹脂(A)の原料成分の100質量部に対して、100〜1000質量部が好ましく、150〜500質量部が特に好ましい。なお、近赤外線吸収層形成用塗工液中の不揮発成分(固形分)の含有量は、塗工液全量に対して10〜50質量%が好ましく、15〜40質量%が特に好ましい。 The amount of the solvent is preferably 100 to 1000 parts by mass, particularly preferably 150 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the transparent resin (A) or 100 parts by mass of the raw material component of the transparent resin (A). In addition, 10-50 mass% is preferable with respect to the coating liquid whole quantity, and, as for content of the non-volatile component (solid content) in the coating liquid for near-infrared absorption layer formation, 15-40 mass% is especially preferable.
近赤外線吸収層形成用塗工液の調製には、マグネチックスターラー、自転・公転式ミキサー、ビーズミル、遊星ミル、超音波ホモジナイザ等の撹拌装置を使用できる。高い透明性を確保するためには、撹拌を十分に行うことが好ましい。撹拌は、連続的に行ってもよく、断続的に行ってもよい。 A stirrer such as a magnetic stirrer, a rotation / revolution mixer, a bead mill, a planetary mill, or an ultrasonic homogenizer can be used to prepare the coating solution for forming the near infrared absorbing layer. In order to ensure high transparency, it is preferable to sufficiently stir. Stirring may be performed continuously or intermittently.
近赤外線吸収層形成用塗工液の塗工には、浸漬コーティング法、キャストコーティング法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、カーテンコーティング法、スリットダイコーター法、グラビアコーター法、スリットリバースコーター法、マイクログラビア法、またはコンマコーター法等のコーティング法を使用できる。その他、バーコーター法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法等も使用できる。 For coating of coating solution for forming near-infrared absorbing layer, dip coating method, cast coating method, spray coating method, spinner coating method, bead coating method, wire bar coating method, blade coating method, roller coating method, curtain coating method Coating methods such as a method, a slit die coater method, a gravure coater method, a slit reverse coater method, a micro gravure method, or a comma coater method can be used. In addition, a bar coater method, a screen printing method, a flexographic printing method, etc. can also be used.
ガラス基板1上の下地層2の表面に上記近赤外線吸収層形成用塗工液を塗工した後、上記溶媒を乾燥させることで下地層2上に近赤外線吸収層3が十分な接着性をもって形成される。近赤外線吸収層形成用塗工液が透明樹脂(A)の原料成分を含有する場合には、さらに硬化処理を行う。反応が熱硬化の場合は乾燥と硬化を同時に行うことができるが、光硬化の場合は、乾燥と別に硬化処理を設ける。
After applying the near-infrared absorbing layer forming coating liquid on the surface of the
本実施形態において、近赤外線吸収層3の厚さは、特に限定されるものではなく、用途、すなわち使用する装置内の配置スペースや要求される吸収特性等に応じて適宜定められてよい。好ましくは0.1〜100μmの範囲であり、より好ましくは1〜50μmの範囲である。上記範囲とすることで、十分な近赤外線吸収能と、膜厚の均一性および表面の平坦性を両立できる。0.1μm以上、さらには1μm以上とすることで、近赤外線吸収能を十分に発現できる。100μm以下とすると、膜厚の均一性および表面の平坦性が得やすくなり、吸収率のバラツキを生じにくくできる。50μm以下すると、さらに装置の小型化に有利となる。
In the present embodiment, the thickness of the near-infrared
近赤外線吸収層3の450〜600nmの可視光における透過率は70%以上が好ましく、80%以上がより好ましい。また、695〜720nmの波長域における光の透過率は10%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。さらに、かつ近赤外線吸収層の透過率の変化量Dは−0.5以下が好ましく、−0.8以下がより好ましく、−0.86以下が特に好ましい。ここで、例えば、450〜600nmの可視光における透過率が70%以上、695〜720nmの波長域における光の透過率が10%以下、かつ透過率の変化量Dが−0.8以下の吸光特性を有する近赤外線吸収層は、その形成において上記NIR吸収色素(B1)と屈折率1.54以上の透明樹脂(A)を組み合わせて用いることにより達成できる。
The transmittance of visible light of 450 to 600 nm of the near infrared
450〜600nmの可視光波長域における透過率が70%以上、好ましくは80%以上であり、695〜720nmの波長域における光の透過率が10%以下、好ましくは5%以下であれば近赤外線吸収フィルタとしての用途に有用である。また、透過率の変化量Dが、−0.5以下、好ましくは−0.8以下、特に好ましくは−0.86以下であれば、波長630〜700nmの間における透過率の変化が十分に急峻となり、例えばデジタルスチルカメラやデジタルビデオ等の近赤外線吸収フィルタ用途に好適となる。透過率の変化量Dが、−0.5以下、好ましくは−0.8以下、特に好ましくは−0.86以下であれば、さらに、近赤外波長領域の光を遮蔽しつつ可視波長域の光の利用効率が向上し、暗部撮像でのノイズ抑制の点で有利となる。 If the transmittance in the visible light wavelength region of 450 to 600 nm is 70% or more, preferably 80% or more, and the light transmittance in the wavelength region of 695 to 720 nm is 10% or less, preferably 5% or less, the near infrared ray Useful as an absorption filter. Further, when the transmittance change amount D is −0.5 or less, preferably −0.8 or less, particularly preferably −0.86 or less, the transmittance change between wavelengths of 630 to 700 nm is sufficiently large. It becomes steep and suitable for near infrared absorption filter applications such as digital still cameras and digital video. If the change amount D of the transmittance is −0.5 or less, preferably −0.8 or less, particularly preferably −0.86 or less, the visible wavelength region is further blocked while blocking light in the near infrared wavelength region. This is advantageous in terms of noise suppression in the dark area imaging.
なお、図3に、本発明の近赤外線吸収フィルタの実施形態に係る近赤外線吸収層(NIR吸収色素(B1)として化合物(F11−1)を、透明樹脂としてポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名;OKP4HT、屈折率1.64)を用いた場合)の透過スペクトルの一例を示す。 In addition, in FIG. 3, the near-infrared absorption layer (Compound (F11-1) as NIR absorption pigment | dye (B1) which concerns on embodiment of the near-infrared absorption filter of this invention, polyester resin (made by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. An example of the transmission spectrum of the product name; when OKP4HT, refractive index 1.64) is used.
本実施形態の近赤外線吸収フィルタ10Aにおいては、ガラス基板1上に近赤外線吸収色素(B)を含有する透明樹脂(A)を主体とする近赤外線吸収層3を形成する際に、上記下地層2を介することで、ガラス基板1からのアルカリ溶出等による近赤外線吸収層3の劣化が抑制されて光学特性を十分に確保しながら、高い接着性をもって近赤外線吸収層3を形成できる。これにより、近赤外線吸収フィルタ10Aにおいては、例えば、高温高湿の環境下においても高信頼性の維持が可能である。
In the near-infrared
さらに、本実施形態の近赤外線吸収フィルタ10Aにおける近赤外線吸収層3は、含有するNIR吸収色素(B)としてNIR吸収色素(B1)を用いた場合には、その光学特性により可視波長領域の光の透過率が高く、波長630〜700nmの間で急峻に透過率が変化する特性を有し、さらにこれと組み合わせる透明樹脂(A)を屈折率1.54以上に調整することでその作用により、遮光波長領域が695〜720nmまでの幅広い特性を有する。
Furthermore, when the NIR absorbing dye (B1) is used as the NIR absorbing dye (B) contained in the near infrared
本発明においては、このような光学特性に優れる近赤外線吸収層3を、上記下地層2を介することで、その光学特性を損なうことなく、かつ強固な接着性をもって、ガラス基板1上に形成することを可能とした。これにより近赤外線吸収層3のみであるいは、後述の通り他の選択波長遮蔽層等と組み合わせて用いてNIR吸収色素(B1)の吸光特性が有効に利用され、かつ高信頼性を有する近赤外線吸収フィルタが得られる。
In the present invention, the near-infrared
具体的には、ガラス基板1上に上記下地層2を介して、NIR吸収色素(B1)と屈折率1.54以上の透明樹脂(A)を組み合わせた上記(i)〜(iii)の吸光特性を有する近赤外線吸収層が形成されてなる本発明の実施形態の近赤外線吸収フィルタは、下地層2を介さない場合と同等の吸光特性等の光学特性を有し、ダイシングで切断する等の加工時の応力や高温高湿の環境下での使用にも十分耐えうる強固な接着性を有するものである。
Specifically, the light absorptions of (i) to (iii) above, wherein the NIR absorbing dye (B1) and the transparent resin (A) having a refractive index of 1.54 or more are combined on the
また、その近赤外線吸収特性は、NIR吸収色素(B)、特にはNIR吸収色素(B1)による近赤外線の吸収を利用するものであるため、反射型フィルタのような分光透過率の入射角依存性の問題が生ずることもない。 Further, the near-infrared absorption characteristics use near-infrared absorption by the NIR absorbing dye (B), in particular, the NIR absorbing dye (B1), so that the spectral transmittance as in a reflective filter depends on the incident angle. Sexual problems do not occur.
さらに、本実施形態の近赤外線吸収フィルタ10Aは、下地層2および近赤外線吸収層3ともに、各層における必須成分、および任意成分を溶媒に分散、溶解させて調製した各層形成用塗工液を、各塗工面に塗工し、乾燥させさらに必要に応じて硬化させることにより製造できるため、容易に、かつ十分に、高信頼性の近赤外線吸収フィルタの小型化、薄型化ができる。
Furthermore, the near-
本発明の近赤外線吸収フィルタは、ガラス基板1とその一方の主面上に形成された上に説明した下地層2および近赤外線吸収層3を具備する。近赤外線吸収フィルタの構成はガラス基板1と該下地層2および近赤外線吸収層3を具備する以外は特に制限されず、図1に示す近赤外線吸収フィルタ10Aのようにガラス基板1、下地層2および近赤外線吸収層3のみで近赤外線吸収フィルタを構成してもよく、他の構成要素とともに近赤外線吸収フィルタを構成してもよい。他の構成要素としては、反射防止膜、特定の波長域の光を反射する反射膜、特定の波長域の光の透過と遮蔽を制御する選択波長遮蔽層等が挙げられる。本発明の近赤外線吸収フィルタが、これら各種機能膜を有する場合、これらは誘電体多層膜で構成されることが好ましい。
The near-infrared absorption filter of the present invention comprises the
図4は、本発明の近赤外線吸収フィルタの実施形態の別の一例を概略的に示す断面図である。図4に示す本発明の実施形態の近赤外線吸収フィルタ10Bは、ガラス基板1と、その一方の主面上に形成された下地層2および下地層2上に形成された近赤外線吸収層3と、さらに、近赤外線吸収層3のガラス基板1側と反対側の面上、すなわち近赤外線吸収層3上に形成された、誘電体多層膜4からなる。ガラス基板1、下地層2および近赤外線吸収層3は上記近赤外線吸収フィルタ10Aと同様にできる。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another example of the embodiment of the near-infrared absorption filter of the present invention. The near-
誘電体多層膜4は、低屈折率の誘電体膜と高屈折率の誘電体膜を交互に積層することで、得られる光学的機能を有する膜である。設計により、光の干渉を利用して特定の波長域の光の透過や遮蔽を制御する機能を発現させた反射防止膜、反射膜、選択波長遮蔽層等として使用できる。近赤外線吸収フィルタ10Bにおいて、誘電体多層膜4は反射防止機能を有する膜として設計することが好ましい。
誘電体多層膜4が反射防止膜である場合、誘電体多層膜(反射防止膜)4は、近赤外線吸収フィルタ10Bに入射した光の反射を防止することにより透過率を向上させ、効率良く入射光を利用する機能を有するもので、従来より知られる材料および方法により形成できる。
The dielectric multilayer film 4 is a film having an optical function obtained by alternately laminating a low refractive index dielectric film and a high refractive index dielectric film. Depending on the design, it can be used as an antireflection film, a reflection film, a selective wavelength shielding layer, or the like that expresses the function of controlling the transmission and shielding of light in a specific wavelength region by utilizing light interference. In the near-infrared
When the dielectric multilayer film 4 is an antireflection film, the dielectric multilayer film (antireflection film) 4 improves the transmittance by preventing reflection of light incident on the near-
高屈折率の誘電体膜を構成する高屈折率材料としては、屈折率がこれと組み合わせて用いられる低屈折率材料に比べて高い材料であれば特に制限されない。具体的には、屈折率が1.6を超える材料が好ましい。より具体的には、Ta2O5(2.22)、TiO2(2.41)、Nb2O5(2.3)、ZrO2(1.99)などが挙げられる。これらのうちでも、本発明においては、成膜性と屈折率等をその再現性、安定性を含め総合的に判断して、TiO2等が好ましく用いられる。なお、化合物の後の括弧内の数字は屈折率を示す。以下、低屈折率材料についても同様に化合物の後の括弧内の数字は屈折率を示す。 The high refractive index material constituting the high refractive index dielectric film is not particularly limited as long as the material has a higher refractive index than a low refractive index material used in combination therewith. Specifically, a material having a refractive index exceeding 1.6 is preferable. More specifically, Ta 2 O 5 (2.22) , TiO 2 (2.41), Nb 2 O 5 (2.3), ZrO 2 (1.99) , and the like. Among these, in the present invention, TiO 2 or the like is preferably used by comprehensively judging the film formability, the refractive index, and the like including the reproducibility and stability. In addition, the number in the parenthesis after the compound indicates the refractive index. Hereinafter, the numbers in parentheses after the compound similarly indicate the refractive index of the low refractive index material.
低屈折率の誘電体膜を構成する低屈折率材料としては、屈折率がこれと組み合わせて用いられる高屈折率材料に比べて低い材料であれば特に制限されない。具体的には、屈折率が1.55未満の材料が好ましい。より具体的には、SiO2(1.45)、SiOxNy(1.46以上1.55未満)、MgF2(1.38)などが挙げられる。これらのうちでも、本発明においては、SiO2が成膜性における再現性、安定性、経済性などの点で好ましい。 The low refractive index material constituting the low refractive index dielectric film is not particularly limited as long as the refractive index is lower than that of the high refractive index material used in combination therewith. Specifically, a material having a refractive index of less than 1.55 is preferable. More specifically, SiO 2 (1.45), (less 1.46 or 1.55) SiO x N y, MgF 2 (1.38) , and the like. Among these, in the present invention, SiO 2 is preferable in terms of reproducibility in film formability, stability, economy, and the like.
高屈折率の誘電体膜と低屈折率の誘電体膜を交互に積層させた誘電体多層膜4を、反射防止膜と設計する方法は、常法によればよい。典型的な一例を表3に示すが、本発明において用いる誘電体多層膜4を反射防止膜とする際の設計がこれに限定されるものではない。 A conventional method may be used to design the dielectric multilayer film 4 in which the high refractive index dielectric film and the low refractive index dielectric film are alternately laminated as an antireflection film. A typical example is shown in Table 3, but the design when the dielectric multilayer film 4 used in the present invention is an antireflection film is not limited to this.
図5は、本発明の近赤外線吸収フィルタの実施形態のさらに別の一例を概略的に示す断面図である。図5に示す本発明の実施形態の近赤外線吸収フィルタ10Cは、ガラス基板1と、その一方の主面上に、以下の順に形成された下地層2、近赤外線吸収層3、第1の誘電体多層膜4と、ガラス基板1の下地層2、近赤外線吸収層3、第1の誘電体多層膜4が形成された主面と反対側の主面上に形成された第2の誘電体多層膜5からなる。ガラス基板1と、下地層2および近赤外線吸収層3は上記近赤外線吸収フィルタ10Aと同様にできる。第1の誘電体多層膜4としては、例えば、図4に示す近赤外線吸収フィルタ10Bの誘電体多層膜4と同様に反射防止機能を有する膜が用いられる。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing still another example of the embodiment of the near-infrared absorption filter of the present invention. The near-
第2の誘電体多層膜5としては、例えば、高屈折率の誘電体膜と低屈折率の誘電体膜を交互に積層させた紫外・赤外光遮蔽機能を有する膜が用いられる。第2の誘電体多層膜5を、紫外・赤外光遮蔽膜として設計する方法は、常法によればよい。典型的な一例を表4に示すが、本発明において用いる第2の誘電体多層膜5を紫外・赤外光遮蔽膜とする際の設計がこれに限定されるものではない。また、第2の誘電体多層膜5を紫外・赤外光遮蔽膜として設計する場合、遮蔽する波長領域の異なる誘電体多層膜の2種以上を組み合わせる設計としてもよい。
As the second
さらに、本発明の近赤外線吸収フィルタには、光の利用効率を高めるために、モスアイ構造のように表面反射を低減する構成を設けてもよい。モスアイ構造は、例えば400nmよりも小さい周期で規則的な突起配列を形成した構造で、厚さ方向に実効的な屈折率が連続的に変化するため、周期より長い波長の光の表面反射率を抑える構造であり、モールド成型等により近赤外線吸収フィルタの表面、例えば、図5に示す近赤外線吸収フィルタ10Cであれば第1の誘電体多層膜4上に形成できる。
Furthermore, the near-infrared absorption filter of the present invention may be provided with a configuration that reduces surface reflection, such as a moth-eye structure, in order to increase the light utilization efficiency. The moth-eye structure is a structure in which regular protrusion arrays are formed with a period smaller than 400 nm, for example, and the effective refractive index continuously changes in the thickness direction, so that the surface reflectance of light having a wavelength longer than the period can be increased. The surface of the near-infrared absorbing filter, for example, the near-infrared
以上、本発明の近赤外線吸収フィルタの構成および各構成層の形成方法、積層方法について例を挙げて説明した。
本発明の近赤外線吸収フィルタを製造するにあたっては、通常、実際に用いるサイズより大サイズで得られた母材をダイシングで切断して製品サイズに加工する。
図6は、図5に示す近赤外線吸収フィルタ10Cを製造する際のダイシング工程を模式的に示す図である。
The configuration of the near-infrared absorption filter of the present invention, the formation method of each component layer, and the lamination method have been described above with examples.
In manufacturing the near-infrared absorption filter of the present invention, the base material obtained in a size larger than the size actually used is usually cut by dicing and processed into a product size.
FIG. 6 is a diagram schematically showing a dicing process in manufacturing the near-infrared
図6(A)は近赤外線吸収フィルタ10Cを得るための母材7であり、縦横のサイズが大サイズである以外、近赤外線吸収フィルタ10Cと同様の構成を示す。
ダイシング工程においては、まず、母材7の両主面上に保護フィルム6を貼付し、被切断物71として保持基材11上に固定する(図6(B))。次いで、この保護フィルム6付き母材7(被切断物71)をダイシングソーの切断テーブルに設置しダイシングブレードにより切断を行う。図6(C)は、ダイシングブレード12による切断時における被切断物71の断面図を示し、図7は、図6(C)に示す切断時のダイシングブレード12と切断テーブル14の動きを示す外観図である。
FIG. 6A shows a base material 7 for obtaining the near-infrared
In the dicing step, first, the
被切断物71の切断は、ダイシングブレード12が回転可能に配設された上下(図中、Z方向)に移動可能なヘッド13に対して、切断テーブル14がダイシングブレード12の面と平行する方向(図7では、Y方向)に移動することによって行われる。ダイシングブレード12が、Y方向に被切断物71の端まで達すると、切断テーブル14がダイシングブレード12の面と直交する方向(図7では、X方向)に移動して、順次、Y方向の切断が行われる。なお、X軸方向への切断は、切断テーブル14を90度回転後、同様の操作により行われる。切断により製品サイズとなった個片10C’が、洗浄等の工程後、保護フィルム6を取り外され近赤外線吸収フィルタ10C(図6(D))として使用される。
The
従来では、このようなダイシングソーによる切断によって、母材は断面方向に負荷がかかり近赤外線吸収層とガラス基板の間で剥離が発生する問題があったところ、本発明においては、ダイシングソーによる切断によっても、母材7において近赤外線吸収層3、下地層2、ガラス基板1の間で剥離が発生することが殆どなく、製品歩留まりの向上に貢献可能である。
Conventionally, due to cutting with such a dicing saw, there was a problem that the base material was loaded in the cross-sectional direction and peeling occurred between the near-infrared absorbing layer and the glass substrate. In the present invention, cutting with a dicing saw was performed. As a result, almost no peeling occurs between the near-infrared
本発明の近赤外線吸収フィルタは、デジタルスチルカメラやデジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置や自動露出計等の近赤外線吸収フィルタ、PDP用の近赤外線吸収フィルタ等として使用できる。本発明の近赤外線吸収フィルタはデジタルスチルカメラやデジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の固体撮像装置において好適に用いられ、近赤外線吸収フィルタは、例えば、撮像レンズと固体撮像素子との間に配置される。 The near-infrared absorption filter of the present invention is a near-infrared absorption filter such as a digital still camera, a digital video camera, a surveillance camera, an in-vehicle camera, a web camera, an automatic exposure meter, a near-infrared absorption filter for PDP, etc. Can be used. The near-infrared absorption filter of the present invention is preferably used in a solid-state imaging device such as a digital still camera, a digital video camera, a surveillance camera, an in-vehicle camera, a web camera, and the near-infrared absorption filter includes, for example, an imaging lens and a solid-state imaging device Between.
[固体撮像装置]
以下に図8を参照しながら、本発明の近赤外線吸収フィルタを撮像レンズと固体撮像素子との間に配置して用いた本発明の固体撮像装置の一例を説明する。
図8は、上記近赤外線吸収フィルタ10Cを用いた固体撮像装置の一例の要部を概略的に示す断面図である。この固体撮像装置20は、図8に示すように、固体撮像素子21と、その前面に以下の順に、近赤外線吸収フィルタ10Cと、撮像レンズ23を有し、さらにこれらを固定する筐体24とを有する。撮像レンズ23は、筐体24の内側にさらに設けられたレンズユニット22により固定されている。近赤外線吸収フィルタ10Cは固体撮像素子21側に第1の誘電体多層膜4が、撮像レンズ23側に第2の誘電体多層膜5が位置するように配置されている。固体撮像素子21と、撮像レンズ23とは、光軸Xに沿って配置されている。
[Solid-state imaging device]
Hereinafter, an example of the solid-state imaging device of the present invention using the near-infrared absorption filter of the present invention disposed between the imaging lens and the solid-state imaging device will be described with reference to FIG.
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a main part of an example of a solid-state imaging device using the near-
本発明の固体撮像装置は、上記本発明の近赤外線吸収フィルタを用いることで、高温高湿の環境下での使用においても高信頼性を維持できる固体撮像装置である。 The solid-state imaging device of the present invention is a solid-state imaging device that can maintain high reliability even when used in a high-temperature and high-humidity environment by using the near-infrared absorption filter of the present invention.
以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。例1は実施例であり、例2〜4は比較例である。
(例1)
(各組成物の調製)
1−プロパノール9g、テトラエトキシシラン60μL(55.8mg)、KBM403(商品名、信越シリコーン社製、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)40μL(42.8mg)を混合し、酸を用いて加水分解・縮合させた下地層形成用組成物Aを調製した。
シクロヘキサノン85gにフルオレンポリエステル樹脂(B−OKP2;商品名、大阪ガスケミカル社製)の15g、上記NIR吸収色素(F13−2)の0.6gを溶解させ近赤外線吸収層形成用組成物を得た。なお、NIR吸収色素(F13−2)のジクロロメタン溶液の吸収スペクトルを図3に示す。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 is an example, and Examples 2 to 4 are comparative examples.
(Example 1)
(Preparation of each composition)
9 g of 1-propanol, 60 μL (55.8 mg) of tetraethoxysilane, and 40 μL (42.8 mg) of KBM403 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) were mixed, and water was added using an acid. A composition A for forming an underlayer which was decomposed and condensed was prepared.
In 85 g of cyclohexanone, 15 g of fluorene polyester resin (B-OKP2; trade name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) and 0.6 g of the NIR absorbing dye (F13-2) were dissolved to obtain a composition for forming a near infrared absorption layer. . In addition, the absorption spectrum of the dichloromethane solution of NIR absorption pigment | dye (F13-2) is shown in FIG.
(近赤外線吸収フィルタの製造)
UVオゾン処理したソーダライムガラス基板(D263;商品名、SCHOTT社製、76×76mm、厚さ;0.3mm)上に、下地層形成用組成物Aをスピンコートにより塗布後、乾燥工程を経て下地層付きガラス基板を得た。
ガラス基板の下地層上にスピンコートにより近赤外線吸収層形成用組成物をスピンコートにより塗布後、乾燥工程を経て近赤外線吸収層を形成させ、約3μmの近赤外線吸収フィルタAを得た。
(Manufacture of near-infrared absorption filters)
After applying UV-treated soda lime glass substrate (D263; trade name, manufactured by SCHOTT, 76 × 76 mm, thickness; 0.3 mm) by spin coating, composition A for forming the underlayer is subjected to a drying process. A glass substrate with an underlayer was obtained.
A near-infrared absorption layer-forming composition was applied by spin coating on the underlying layer of the glass substrate, and then a near-infrared absorption layer was formed through a drying process to obtain a near-infrared absorption filter A of about 3 μm.
(例2)
1−プロパノール9g、KBM403(商品名、信越シリコーン社製、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)100μL(107mg)を混合し、酸を用いて加水分解・縮合させた下地層形成用組成物Bを調製した。
例1において、下地層形成用組成物Aのかわりに下地層形成用組成物Bを用いた以外は同様にして近赤外線吸収フィルタBを製造した。
(Example 2)
9 g of 1-propanol and KBM403 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) 100 μL (107 mg) were mixed and hydrolyzed / condensed with an acid to form an underlayer forming composition B Was prepared.
A near-infrared absorption filter B was produced in the same manner as in Example 1, except that the underlayer-forming composition B was used instead of the underlayer-forming composition A.
(例3)
例1において、下地層を形成しなかった以外は同様にしてソーダライムガラス基板上に、直接、近赤外線吸収層が形成された近赤外線吸収フィルタCを製造した。
(例4)
例3において、ソーダライムガラス基板のかわりに無アルカリガラス基板(AN100;商品名、旭硝子社製、100×100mm、厚さ;0.7mm)用いた以外は同様にして近赤外線吸収フィルタDを製造した。
(Example 3)
In Example 1, a near-infrared absorbing filter C in which a near-infrared absorbing layer was formed directly on a soda lime glass substrate was produced in the same manner except that no underlayer was formed.
(Example 4)
In Example 3, a near-infrared absorbing filter D was manufactured in the same manner except that a non-alkali glass substrate (AN100; trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., 100 × 100 mm, thickness: 0.7 mm) was used instead of the soda lime glass substrate. did.
[評価]
各例において物性等の評価は下記の方法で行った。
(膜厚)
下地層および近赤外線吸収層の膜厚は、Dektak 150(Bruker社製)で測定した。
[Evaluation]
In each example, physical properties and the like were evaluated by the following methods.
(Film thickness)
The film thicknesses of the underlayer and the near-infrared absorbing layer were measured with Dektak 150 (manufactured by Bruker).
(透過率および透過率の変化量D)
近赤外線吸収フィルタおよび近赤外線吸収層について紫外可視分光光度計(島津製作所社製、SolidSpec−3700 DUV)を用いて透過スペクトル(透過率)を測定し、算出した。なお、近赤外線吸収層の透過率については、例3においてガラス基板のみの透過スペクトルの測定を行い、その差分として求めた。
(Transmittance and transmittance change D)
About the near-infrared absorption filter and the near-infrared absorption layer, the transmission spectrum (transmittance) was measured and calculated using the ultraviolet visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation make, SolidSpec-3700 DUV). In addition, about the transmittance | permeability of a near-infrared absorption layer, the transmission spectrum of only the glass substrate was measured in Example 3, and it calculated | required as the difference.
(密着性(クロスカット試験))
密着性の試験は、近赤外線吸収フィルタの近赤外線吸収層表面にセロハンテープを貼付しクロスカット法(JIS K5600)により評価を行った。クロスカット100マスすべてに剥離が観察されない場合を「○」、1マスでも剥離が観察された場合を「×」とし、評価した。
(Adhesion (cross-cut test))
For the adhesion test, cellophane tape was applied to the surface of the near-infrared absorbing layer of the near-infrared absorbing filter, and evaluation was performed by a cross-cut method (JIS K5600). The case where peeling was not observed in all of the 100 cross-cut cells was evaluated as “◯”, and the case where even one cell was observed as “×” was evaluated.
(アルカリ溶出(高温高湿試験))
85℃85%RHの条件下に近赤外線吸収フィルタを放置し、1000時間後にレーザー顕微鏡により近赤外線吸収フィルタの表面観察を実施し、点状欠点の有無を確認した。
点状欠点の全くないものを「○」、1か所でも点状欠点が観察された場合を「×」とし、評価した。結果を表5に示す。
(Alkali elution (high temperature and high humidity test))
The near-infrared absorption filter was allowed to stand under the conditions of 85 ° C. and 85% RH, and after 1000 hours, the surface of the near-infrared absorption filter was observed with a laser microscope to confirm the presence or absence of point defects.
The case where no point-like defects were found was evaluated as “◯”, and the case where point-like defects were observed even at one place was evaluated as “×”. The results are shown in Table 5.
表5からわかるように、実施例である例1においては、クロスカット試験において剥離が観察されておらず、さらにアルカリ溶出試験においても近赤外線吸層に劣化は見られない。 As can be seen from Table 5, in Example 1, which is an example, no peeling was observed in the cross-cut test, and no deterioration was observed in the near-infrared absorbing layer in the alkali elution test.
10A,10B,10C…近赤外線吸収フィルタ、1…ガラス基板、2…下地層、3…近赤外線吸収層、4…第1の誘導体多層膜、5…第2の誘導体多層膜、6…保護フィルム、11…保護基材、12…ダイシングブレード、13…ヘッド、14…切断テーブル、
20…固体撮像装置、21…固体撮像素子、22…レンズユニット、23…撮像レンズ、24…筐体
10A, 10B, 10C ... near infrared absorption filter, 1 ... glass substrate, 2 ... underlayer, 3 ... near infrared absorption layer, 4 ... first derivative multilayer film, 5 ... second derivative multilayer film, 6 ...
DESCRIPTION OF
Claims (11)
前記近赤外線吸収層は、透明樹脂と近赤外線吸収色素を含有する層であり、
前記下地層は、下記酸化ケイ素成分(M1)、酸化ケイ素成分(M2)および酸化ケイ素成分(M3)から、シランカップリング剤(S1)由来成分と加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分が、[加水分解性ケイ素化合物(S2)由来成分/シランカップリング剤(S1)由来成分]で示される質量比で、200/100〜50/100となるように酸化ケイ素成分を選択し含有する下地層形成組成物を用いて形成される酸化ケイ素を主体とする層である近赤外線吸収フィルタ。
酸化ケイ素成分(M1);前記透明樹脂が有する反応性基に対して反応性を有する官能基および加水分解性基を有するシランカップリング剤(S1)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M2);4官能の加水分解性ケイ素化合物(S2)および/またはその部分加水分解縮合物、
酸化ケイ素成分(M3);前記酸化ケイ素成分(M1)と酸化ケイ素成分(M2)の部分加水分解縮合物。 A near-infrared absorbing filter having a glass substrate and a base layer and a near-infrared absorbing layer in order from the glass substrate side on one main surface of the glass substrate,
The near infrared absorbing layer is a layer containing a transparent resin and a near infrared absorbing dye,
The underlayer is composed of the following components derived from the silicon oxide component (M1), the silicon oxide component (M2), and the silicon oxide component (M3), the component derived from the silane coupling agent (S1) and the component derived from the hydrolyzable silicon compound (S2). Underlayer containing a silicon oxide component selected and contained so that the mass ratio shown by [hydrolyzable silicon compound (S2) -derived component / silane coupling agent (S1) -derived component] is 200/100 to 50/100 A near-infrared absorption filter, which is a layer mainly composed of silicon oxide, formed using a forming composition.
A silicon oxide component (M1); a silane coupling agent (S1) having a functional group and a hydrolyzable group reactive to the reactive group of the transparent resin and / or a partially hydrolyzed condensate thereof,
A silicon oxide component (M2); a tetrafunctional hydrolyzable silicon compound (S2) and / or a partially hydrolyzed condensate thereof;
Silicon oxide component (M3); Partial hydrolysis-condensation product of the silicon oxide component (M1) and the silicon oxide component (M2).
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基))を示す。
R1とR2、R2とR5、およびR1とR3は、それぞれ独立して、互いに連結して窒素原子と共に員数が5または6のそれぞれ複素環A、複素環B、および複素環Cを形成していてもよい。ただし、式(F1)は、複素環A、複素環B、および複素環Cから選ばれる少なくとも1以上の環構造を有する。
複素環Aが形成される場合のR1とR2は、これらが結合した2価の基−Q−としてアルキレン基、またはアルキレンオキシ基を示す。
複素環Bが形成される場合のR2とR5、および複素環Cが形成される場合のR1とR3は、これらが結合したそれぞれ2価の基−X1−Y1−および−X2−Y2−(窒素に結合する側がX1およびX2)として、X1およびX2がそれぞれ下記式(1x)または(2x)で示される基であり、Y1およびY2がそれぞれ下記式(1y)〜(5y)から選ばれるいずれかで示される基である。X1およびX2が、それぞれ下記式(2x)で示される基の場合、Y1およびY2はそれぞれ単結合であってもよい。
R7、R8、R9、R4、R6、R21〜R27、複素環を形成していない場合のR1〜R3、およびR5は、これらのうちの他のいずれかと互いに結合して5員環または6員環を形成してもよい。R21とR26、R21とR27は直接結合してもよい。
複素環を形成していない場合の、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、アリル基、炭素数6〜11のアリール基またはアルアリール基を示す。複素環を形成していない場合の、R3およびR5、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。 The near-infrared absorbing filter according to claim 7, wherein the near-infrared absorbing dye (B1) is made of at least one selected from squarylium compounds represented by the following general formula (F1).
R 4 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or —NR 7 R 8 (R 7 and R 8 are each independently hydrogen An atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or —C (═O) —R 9 (R 9 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 carbon atoms; To 11 aryl groups or araryl groups)).
R 1 and R 2 , R 2 and R 5 , and R 1 and R 3 are each independently linked to each other, and each of heterocyclic ring A, heterocyclic ring B, and heterocyclic ring having 5 or 6 members together with a nitrogen atom C may be formed. However, Formula (F1) has at least one or more ring structures selected from heterocyclic ring A, heterocyclic ring B, and heterocyclic ring C.
When the heterocyclic ring A is formed, R 1 and R 2 represent an alkylene group or an alkyleneoxy group as a divalent group -Q- to which these are bonded.
R 2 and R 5 when the heterocyclic ring B is formed, and R 1 and R 3 when the heterocyclic ring C is formed are each a divalent group —X 1 —Y 1 — and — X 2 —Y 2 — (the side bonded to nitrogen is X 1 and X 2 ), X 1 and X 2 are each a group represented by the following formula (1x) or (2x), and Y 1 and Y 2 are each It is a group represented by any one selected from the following formulas (1y) to (5y). When X 1 and X 2 are groups represented by the following formula (2x), Y 1 and Y 2 may each be a single bond.
R 7 , R 8 , R 9 , R 4 , R 6 , R 21 to R 27 , R 1 to R 3 when not forming a heterocyclic ring, and R 5 are It may combine to form a 5-membered ring or a 6-membered ring. R 21 and R 26 , R 21 and R 27 may be directly bonded.
When not forming a heterocyclic ring, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or 6 to 6 carbon atoms. 11 aryl groups or araryl groups are shown. When no heterocyclic ring is formed, R 3 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group or alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
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