JP2014049727A - 固体撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】複数の転送トランジスタの転送タイミングのずれによる偽信号を防止することができる固体撮像装置を提供することを課題とする。
【解決手段】固体撮像装置は、第1の光電変換部により生成された電荷を第1のフローティングディフュージョンに転送する第1の転送トランジスタ(11A)と、第2の光電変換部により生成された電荷を第2のフローティングディフュージョンに転送する第2の転送トランジスタ(11B)と、第1及び第2の転送トランジスタのゲートと転送制御線とを接続するコンタクト部(12A,12B)とを有し、第1及び第2の転送トランジスタとコンタクト部は、分離部に対して略線対称に配置されており、転送制御線から第1の転送トランジスタまで転送パルスが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値と、転送制御線から第2の転送トランジスタまで転送パルスが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値とが略等しい。
【選択図】図3

Description

本発明は、固体撮像装置に関する。
デジタルカメラ、デジタルカムコーダなどには、複数の光電変換部が2次元配列したCMOSイメージセンサ等の固体撮像装置が用いられている。固体撮像装置の各画素を分割することによって、位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像に使用する技術がある。特許文献1においては、1つの画素の中のフォトダイオード(以下PD)を複数に分割する構成が開示されている。また、特許文献2においては、2つのPDの出力を比較することによって、撮像レンズでの焦点検出を行う構成が開示されている。
米国特許出願公開第2010/0133590号明細書 特開2001−250931号公報
複数のPDに複数の転送部を設けることにより、PDからフローティングディフュージョン(以下FD)への転送を同時に行い、PDから読み出す信号を用いて固体撮像装置の高機能化を図ることができる。しかし、異なる転送部より読み出された信号を独立の信号として用いる場合に、特許文献1のように転送トランジスタを単純に対称に配置しただけでは、読み出すタイミングのずれにより読み出される信号レベルに差異が発生し、正しく信号を扱うことが困難である。
本発明の目的は、複数の転送トランジスタの転送タイミングのずれによる偽信号を防止することができる固体撮像装置を提供することである。
本発明の固体撮像装置は、光電変換により電荷を生成する第1の光電変換部と、光電変換により電荷を生成する第2の光電変換部と、前記第1の光電変換部と前記第2の光電変換部とを分離する分離部と、電荷を蓄積する第1のフローティングディフュージョンと、電荷を蓄積する第2のフローティングディフュージョンと、前記第1の光電変換部により生成された電荷を前記第1のフローティングディフュージョンに転送する第1の転送トランジスタと、前記第2の光電変換部により生成された電荷を前記第2のフローティングディフュージョンに転送する第2の転送トランジスタと、同一の転送パルスを供給する1本又は2本の転送制御線と、前記第1及び第2の転送トランジスタのゲートと前記1本又は2本の転送制御線とを接続する1個又は2個のコンタクト部とを有し、前記第1及び第2の転送トランジスタと前記コンタクト部は、前記分離部に対して略線対称に配置されており、前記転送制御線から前記第1の転送トランジスタまで前記転送パルスが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値と、前記転送制御線から前記第2の転送トランジスタまで前記転送パルスが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値とが略等しいことを特徴とする。
第1及び第2の転送トランジスタの転送タイミングのずれによる偽信号を防止し、第1及び第2の転送トランジスタにより読み出された信号を独立の信号として用いる場合にも正しく信号を扱うことができる。
第1の実施形態による固体撮像装置のブロック図である。 第1及び第2の実施形態による固体撮像装置の画素の回路図である。 第1の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。 第1及び第2の実施形態による固体撮像装置のタイミング図である。 第1〜第4の実施形態による固体撮像装置のポテンシャル図である。 第1及び第2の実施形態による固体撮像装置の回路図である。 第2の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。 第3及び第4の実施形態による固体撮像装置の画素の回路図である。 第3の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。 第3及び第4の実施形態による固体撮像装置のタイミング図である。 第4の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。 第5の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。 第6の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。 第7の実施形態による固体撮像装置の画素の平面レイアウト図である。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態による固体撮像装置1の構成例を示すブロック図である。図1では、本実施形態の構成を説明する目的を考慮して、垂直走査回路7から画素アレイ2への各種制御線を省略している。また、画素アレイ2に属する画素3の実際の配列数は、一般的には多数となるが、複数の列のうちの第1列から第4列だけを示し、さらに、それら列に属する複数の画素3のうちの第1行から第4行までの各行にある画素3だけを示している。
固体撮像装置1は、画素アレイ2、垂直走査回路7、水平走査・信号処理回路8A,8B、及びタイミング制御回路9A,9Bを有する。画素アレイ2には、複数の画素3が行列状に配置されている。複数の画素3の各々は、上の画素3A及び下の画素3Bの組みを有する。画素3A及び3Bは、それぞれ光電変換により信号を生成する。信号出力線4Aは、画素3Aに接続され、画素3Aの信号が出力される。信号出力線4Bは、画素3Bに接続され、画素3Bの信号が出力される。電源線5及び接地線6は、行列状の画素3を動作させるため、各列の画素3に接続される。水平走査・信号処理回路8Aは、複数の信号出力線4Aに接続され、複数の信号出力線4Aを順次選択的に活性化することで、順次、複数の信号出力線4Aの信号を処理する。水平走査・信号処理回路8Bは、複数の信号出力線4Bに接続され、複数の信号出力線4Bを順次選択的に活性化することで、順次、複数の信号出力線4Bの信号を処理する。水平走査・信号処理回路8A及び8Bは、それぞれ、雑音除去回路、増幅回路及びアナログデジタル変換回路などを有し、信号処理した信号を順次出力する。タイミング制御回路9Aは、垂直走査回路7及び水平走査・信号処理回路8Aのタイミングを制御する。タイミング制御回路9Bは、垂直走査回路7及び水平走査・信号処理回路8Bのタイミングを制御する。
図2は、図1の画素3の構成例を示す回路図である。画素3は、上記のように、画素3A及び3Bを有する。画素3Aは、第1のフォトダイオード10Aと、第1の転送トランジスタ11Aと、第1のフローティングディフュージョン13Aと、リセットトランジスタ14Aと、増幅トランジスタ15Aとを有する。画素3Bは、第2のフォトダイオード10Bと、第2の転送トランジスタ11Bと、第2のフローティングディフュージョン13Bと、リセットトランジスタ14Bと、増幅トランジスタ15Bとを有する。コンタクト部12Aは第1の転送トランジスタ11Aのゲートに接続され、コンタクト部12Bは第2の転送トランジスタ11Bのゲートに接続される。画素信号出力部16Aは信号出力線4Aに接続され、画素信号出力部16Bは信号出力線4Bに接続される。電源線5及び接地線6は、画素3に接続される。リセット制御線19Aは、リセットトランジスタ14A及び14BのゲートにリセットパルスφRES1を供給する。転送制御線20Aは、第1の転送トランジスタ11Aのゲートに転送パルスφTX1Aを供給する。転送制御線20Bは、第2の転送トランジスタ11Bのゲートに転送パルスφTX1Bを供給する。
第1のフォトダイオード10Aは光電変換により電荷を生成する第1の光電変換部であり、第2のフォトダイオード10Bは光電変換により電荷を生成する第2の光電変換部である。フローティングディフュージョン13A及び13Bは、電荷を蓄積する領域である。第1の転送トランジスタ11Aは、第1のフォトダイオード10Aにより生成された電荷を第1のフローティングディフュージョン13Aに転送する。第2の転送トランジスタ11Bは、第2のフォトダイオード10Bにより生成された電荷を第2のフローティングディフュージョン13Bに転送する。
転送パルスφTX1Aがハイレベルになると、第1の転送トランジスタ11Aがオンし、第1のフォトダイオード10Aが第1のフローティングディフュージョン13Aに接続される。転送パルスφTX1Bがハイレベルになると、第2の転送トランジスタ11Bがオンし、第2のフォトダイオード10Bが第2のフローティングディフュージョン13Bに接続される。リセットパルスφRE1がハイレベルになると、リセットトランジスタ14A及び14Bがオンし、フォトダイオード10A,10B及びフローティングディフュージョン13A,13Bがリセットされる。転送パルスφTX1Aがローレベルになり、第1の転送トランジスタ11Aがオフすると、第1のフォトダイオード10Aは、光電変換により生成した信号の蓄積を開始する。転送パルスφTX1Aをハイレベルにすることにより、第1の転送トランジスタ11Aがオンし、第1のフォトダイオード10Aの信号は第1のフローティングディフュージョン13Aに転送される。増幅トランジスタ15Aは、第1のフローティングディフュージョン13Aの電圧を増幅して信号出力線4Aに出力する。同様に、転送パルスφTX1Bがローレベルになり、第2の転送トランジスタ11Bがオフすると、第2のフォトダイオード10Bは、光電変換により生成した信号の蓄積を開始する。転送パルスφTX1Bをハイレベルにすることにより、第2の転送トランジスタ11Bがオンし、第2のフォトダイオード10Bの信号は第2のフローティングディフュージョン13Bに転送される。増幅トランジスタ15Bは、第2のフローティングディフュージョン13Bの電圧を増幅して信号出力線4Bに出力する。
図3は、図2の画素3の要部を示す平面レイアウト図である。図3では、本実施形態の構成を説明する目的を考慮して、画素アレイ2の複数の画素3の行列のうち、第1列第1行に属する画素3Aと3Bのみを示している。さらに、画素3の垂直方向に配される信号出力線4A,4B、及び電源線5を省略し、リセット制御線19、電源線5、接地線6に係わるコンタクト部を省略している。また、フローティングディフュージョン13A及び13B以降の読み出し部を読み出し部21としてまとめている。コンタクト部12Aは、転送制御線20Aから第1の転送トランジスタ11Aへのコンタクト部である。コンタクト部12Bは、転送制御線20Bから第2の転送トランジスタ11Bへのコンタクト部である。分離部22は、第1のフォトダイオード10Aと第2のフォトダイオード10Bとを分離する。ここで、フォトダイオードPD10Aと10Bとの間にある分離部22に対し、転送トランジスタ11Aと11B、コンタクト部12Aと12B、転送制御線20Aと20Bとがそれぞれ線対称又は略線対称に配置されている。コンタクト部12Aと12Bは、半導体基板の水平方向に対し同じ位置で取られている。また、転送制御線20Bとその下の転送制御線20Aとの間において、それぞれ線対称又は略線対称な位置にリセット制御線19と接地線6とを配置している。これにより、転送制御線20A及び20Bに対して、寄生容量と寄生抵抗の差を抑え、時定数の差を小さくすることができる。即ち、転送制御線20Aから転送トランジスタ11Aまで転送パルスφTX1Aが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値と、転送制御線20Bから転送トランジスタ11Bまで転送パルスφTX1Bが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値とが略等しい。
固体撮像装置1は、半導体基板上に設けられる。フォトダイオード10A及び10Bは、光電変換を行う光電変換部であり、第1導電型(P型)の半導体領域と、第1導電型の半導体領域とPN接合を構成する第2導電型の半導体領域(N型の電子蓄積領域)とを有する。第1のフォトダイオード10Aの第2導電型の半導体領域と第2のフォトダイオード10Bの第2導電型の半導体領域とは、分離部22によって分離されている。フォトダイオード10A及び10Bの第2導電型の半導体領域に対応して、一つのマイクロレンズが配されている。
図4は、固体撮像装置1の動作を説明するためのタイミング図である。図4において、電源線5、リセット制御線19、及び転送制御線20A,20Bに印加される電圧をそれぞれ示している。ここで、転送トランジスタ11A及び11Bに印加される転送制御線20A及び20Bのタイミングが揃えられている。電源線5が電源電圧に上昇した後、リセット制御線19をハイレベルにすることにより、フローティングディフュージョン13A及び13Bが電源電圧にリセットされる。時刻taでは、電源線5が電源電圧、リセット制御線19がローレベル、転送制御線20A及び20Bがローレベルである。時刻taの後、転送制御線20A及び20Bがハイレベルになり、転送トランジスタ11A及び11Bがオンする。第1のフォトダイオード10Aの電荷は第1のフローティングディフュージョン13Aに転送され、増幅トランジスタ15Aは第1のフローティングディフュージョン13Aの電圧を増幅して信号出力線4aに出力する。同様に、第2のフォトダイオード10Bの電荷は第2のフローティングディフュージョン13Bに転送され、増幅トランジスタ15Bは第2のフローティングディフュージョン13Bの電圧を増幅して信号出力線4aに出力する。時刻tbでは、電源線5が電源電圧、リセット制御線19がローレベル、転送制御線20A及び20Bがハイレベルである。その後、時刻tcでは、電源線5が電源電圧、リセット制御線19がローレベル、転送制御線20A及び20Bがローレベルになり、上記の電荷の転送が終了する。
図5(a)〜(c)は、図3の破線A−B間の断面ポテンシャル図を示す。図5(a)は図4の時刻taにおける断面ポテンシャル図、図5(b)は図4の時刻tbにおける断面ポテンシャル図、図5(c)は図4の時刻tcにおける断面ポテンシャル図である。
図5(a)において、転送トランジスタ11A及び11Bがオンし、フォトダイオード10A及び10Bにそれぞれ信号蓄積レベル23の信号が蓄積されている。
図5(b)において、転送トランジスタ11A及び11Bが同時にオンする。すると、転送トランジスタ11A及び11Bのポテンシャル障壁が低くなり、フォトダイオード10A及び10Bに蓄積されていた蓄積電荷がそれぞれフローティングディフュージョン13A及び13Bに転送される。分離部22のポテンシャル障壁も低くなるが、転送トランジスタ11A及び11Bのポテンシャル障壁が十分小さくなっている。そのため、フォトダイオード10A及び10Bの蓄積電荷が分離部22を介して隣接するフォトダイオード10A及び10Bへ漏れる現象は生じない。
図5(c)において、転送トランジスタ11A及び11Bが共にオフとなり、ポテンシャルの状態は図5(a)の状態に戻る。この時、フローティングディフュージョン13A及び13Bの信号レベルは共にレベル24となり、電荷の漏れによる信号差は生じない。
図6(a)及び(b)は、図1の垂直走査回路7及び画素3の構成例を示す回路図である。図6(a)において、垂直走査回路7は、転送パルスφTX1Aを転送制御線20Aに出力し、転送パルスφTX1Bを転送制御線20Bに出力する。転送パルスφTX1A及びφTX1Bは、相互に同一のパルスであるので、転送トランジスタ11A及び11Bは同時にオン/オフ動作を行う。
図6(b)において、画素3は、転送制御線20Aと20Bとを相互に接続するためのトランジスタ(スイッチ)25を有する。垂直走査回路7は、転送パルスφTX1Aを転送制御線20Aに出力し、制御パルスφTX1JCTをトランジスタ25のゲートに出力する。パルスφTX1A及びφTX1JCTがハイレベルになると、トランジスタ25がオンし、同一の転送パルスφTX1Aが転送制御線20A及び20Bに供給され、転送トランジスタ11A及び11Bは同時にオン/オフ動作を行う。
図6(a)及び(b)のどちらにおいても、転送トランジスタ11A及び11Bを同じ転送パルスで同時に動作させることができる。
以上説明したように、フォトダイオードPD10Aと10B、転送トランジスタ11Aと11B、フローティングディフュージョン13Aと13B、コンタクト部12Aと12Bとは、分離部22に対し、それぞれ線対称又は略線対称に配置される。かつ、転送制御線20Aと20Bとをそれぞれ他の配線19及び6に対して線対称又は略線対称に配置することで、転送トランジスタ11Aと11Bとの間に生じる遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、2個のフォトダイオード10A及び10Bの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による固体撮像装置を、図1、図2、図4〜図7を用いて説明する。本実施形態が第1の実施形態と共通する部分に関しては説明を省略する。以下、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を説明する。
図7は、図3に対応し、本発明の第2の実施形態による固体撮像装置の要部を示す平面レイアウト図である。図3では画素3を上下2個の画素3A及び3bに分割したが、図7では画素3を左右2個の画素3A及び3bに分割した例を示す。すなわち、図7の画素3は、図3の画素3に対して、基本的に、90°回転させたものである。図7の画素3が図3の画素3に対して異なることは、転送制御線20A及び20Bが隣接かつ並列して配置されていることである。フォトダイオード10A及び10Bの間にある分離部12に対し、転送トランジスタ11Aと11B、コンタクト部12Aと12B、転送制御線20Aと20Bとが、それぞれ線対称又は略線対称に配置されている。さらに、転送制御線20A及び20Bに対し、それぞれ線対称又は略線対称な位置に接地線6とリセット制御線19とが配置されている。
本実施形態は、第1の実施形態に対して、画素3の分割の方向が異なるだけで、その他は同様である。また、動作タイミング及びポテンシャルの変化に関してもそれぞれ図3及び図4と同様であるため、説明を省略する。
図7で示した構成をとることで、転送制御線20Aと20Bに対して、寄生容量と寄生抵抗の差を抑え、時定数の差を小さくすることができる。転送制御線20Aと20Bとが隣接かつ並列していることで、上層や下層の配線などの影響の差も小さくなることからさらに時定数の差を小さくすることが可能となる。その結果、転送トランジスタ11A及び11Bの間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、2個のフォトダイオード10A及び10Bの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による固体撮像装置を、図1、図4、図5、図8、図9、図10を用いて説明する。本実施形態が第1及び第2の実施形態と共通する部分に関しては説明を省略する。以下、本実施形態が第1及び第2の実施形態と異なる点を説明する。
図8は、図2に対応し、本発明の第3の実施形態による画素3の構成例を示す回路図である。図10は、図4に対応し、固体撮像装置1の動作を説明するためのタイミング図である。図8の画素3は、図2の画素3に対して、図2の2本の転送制御線20A及び20Bが図8の1本の転送制御線20に共通化され、図2の2個のコンタクト部12A及び12Bが図8の1個のコンタクト部12に共通化されている。以下、図8の画素3が図2の画素3と異なる点を説明する。転送パルスφTX1は、転送制御線20に供給される。転送制御線20は、転送トランジスタ11A及び11Bのゲートに接続される。本実施形態は、フォトダイオード10A及び10Bの信号を異なるタイミングで転送する必要がない場合に有効である。転送制御線20を共通化することにより、水平方向に配される転送制御線の数を減らし、開口率を向上させ、画質を向上したり、配線間隔を広げることで、歩留まりの向上を図り、コストを低減することが可能となる。また、図2のように、複数の転送制御線20A及び20Bの間に生じる寄生抵抗及び寄生容量の差を考慮する必要がないため、図6(a)及び(b)のような制約も必要ない。
図9は、図8の画素3の要部を示す平面レイアウト図である。図9が図3と共通する部分の説明は省略する。図9においては、転送トランジスタ11A及び11Bのゲートが相互に接続され、共通となっている。転送制御線20は、分離部22の延長上のコンタクト部12で、転送トランジスタ11A及び11Bのゲートに接続されている。
本実施形態によれば、転送トランジスタ11A及び11Bの間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、2個のフォトダイオード10A及び10Bの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態による固体撮像装置を、図1、図4、図5、図8、図10、図11を用いて説明する。本実施形態が第1〜第3の実施形態と共通する部分に関しては説明を省略する。以下、本実施形態が第1〜第3の実施形態と異なる点を説明する。
図11は、図9に対応し、本発明の第4の実施形態による画素3の要部を示す平面レイアウト図である。図9では画素3を上下2個の画素3A及び3Bに分割したが、図11では画素3を左右2個の画素3A及び3Bに分割した例を示す。すなわち、図11の画素3は、図9の画素3に対して、基本的に、90°回転させたものである。また、本実施形態は、第3ンお実施形態と同様に、転送トランジスタ11A及び11Bのゲートが共通化され、共通の転送制御線20に接続されており、開口の拡大や、コスト低減が可能である。
本実施形態によれば、転送トランジスタ11A及び11Bの間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、2個のフォトダイオード10A及び10Bの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
(第5の実施形態)
図12は、図3に対応し、本発明の第5の実施形態による画素3の要部を示す平面レイアウト図である。以下、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を説明する。本実施形態では、画素3が4個の画素に分割される。第1の画素は、第1のフォトダイオード10Aと、第1の転送トランジスタ11Aと、第1のフローティングディフュージョン13Aとを有する。第2の画素は、第2のフォトダイオード10Bと、第2の転送トランジスタ11Bと、第2のフローティングディフュージョン13Bとを有する。第3の画素は、第3のフォトダイオード10Cと、第3の転送トランジスタ11Cと、第3のフローティングディフュージョン13Cとを有する。第4の画素は、第4のフォトダイオード10Dと、第4の転送トランジスタ11Dと、第4のフローティングディフュージョン13Dとを有する。
第3のフォトダイオード10Cは光電変換により電荷を生成する第3の光電変換部であり、第4のフォトダイオード10Dは光電変換により電荷を生成する第4の光電変換部である。第1〜第4のフォトダイオード(第1〜第4の光電変換部)10A〜10Dは、分離部22により分離される。フローティングディフュージョン13C及び13Dは、電荷を蓄積する領域である。第3の転送トランジスタ11Cは、第3のフォトダイオード10Cにより生成された電荷を第3のフローティングディフュージョン13Cに転送する。第4の転送トランジスタ11Dは、第4のフォトダイオード10Dにより生成された電荷を第4のフローティングディフュージョン13Dに転送する。
転送パルスφTX1Aは、転送制御線20Aに供給される。転送制御線20Aは、コンタクト部12Aで第1の転送トランジスタ11Aのゲートに接続され、コンタクト部12Bで第2の転送トランジスタ11Bのゲートに接続される。転送制御線20Bは、コンタクト部12Cで第3の転送トランジスタ11Cのゲートに接続され、コンタクト部12Dで第4の転送トランジスタ11Dのゲートに接続される。第1及び第2の画素の領域と第3及び第4の画素の領域とは、分離部22に対して線対称又は略線対称である。また、第1及び第3の画素の領域と第2及び第4の画素の領域とは、分離部22に対して線対称又は略線対称である。すなわち、第1〜第4の転送トランジスタ11A〜11Dは、分離部22に対して線対称又は略線対称に配置されている。駆動制御線20Bとその下の駆動制御線20Aとの間において、リセット制御線19及び接地線6とは、線対称又は略線対称である。
本実施形態によれば、4個の転送トランジスタ11A〜11D間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、4個のフォトダイオード10A〜10Dの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
(第6の実施形態)
図13は、図12に対応し、本発明の第6の実施形態による画素3の要部を示す平面レイアウト図である。以下、本実施形態が第5の実施形態と異なる点を説明する。図13の画素3は、図12の画素3に対して、基本的に、90°回転させたものである。第3の実施形態と同様に、転送トランジスタ11A及び11Bのゲートは、相互に接続されて共通化されている。転送制御線20Aは、コンタクト部12ABにより、転送トランジスタ11A及び11Bのゲートに接続される。また、転送トランジスタ11C及び11Dのゲートは、相互に接続されて共通化されている。転送制御線20Bは、コンタクト部12CDにより、転送トランジスタ11C及び11Dのゲートに接続される。
本実施形態によれば、4個の転送トランジスタ11A〜11D間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、4個のフォトダイオード10A〜10Dの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
(第7の実施形態)
図14は、図13に対応し、本発明の第7の実施形態による画素3の要部を示す平面レイアウト図である。以下、本実施形態が第6の実施形態と異なる点を説明する。第3の実施形態と同様に、図14の駆動制御線20は、図13の2本の駆動制御線20A及び20Bを共通化した線である。転送パルスφTX1は、駆動制御線20に供給される。駆動制御線20は、コンタクト部12ABにより転送トランジスタ11A及び11Bの共通ゲートに接続され、コンタクト部12CDにより転送トランジスタ11C及び11Dの共通ゲートに接続される。転送制御線を共通化することにより、転送制御線の数を減らし、開口率を向上させることにより画質を向上させ、配線間隔を広げることにより歩留まりを向上させることができる。
本実施形態によれば、4個の転送トランジスタ11A〜11D間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、4個のフォトダイオード10A〜10Dの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
第1〜第7の実施形態のように、画素3内において、複数のフォトダイオード10A〜10Dに画素3に分割し、転送トランジスタ11A〜11D、コンタクト部12A〜12D,12AB,12CD、及び転送制御線20,20A,20Bを線対称に配置する。これにより、転送トランジスタ11A〜11Dの駆動タイミングのずれが生じることが問題となる場合であっても、転送トランジスタ11A〜11D間に生じるタイミングの遅延の差を抑え、電荷の漏れが生じないようにすることが可能となる。したがって、フォトダイオード10A〜10Dの信号をそれぞれ用いて位相差方式の焦点検出や、視差を利用した3D画像生成を行う際に正しい信号を取得でき、画質の向上や、固体撮像装置の高機能化を実現できる。
なお、コンタクトの取り方は上記の実施形態で説明した構成に限らず、他の構成を取っても良い。また、画素3の回路構成例も上記の実施形態で説明した構成に限らず、例えば行選択トランジスタがある構成や、画素3にAD変換器を有する場合など他の構成であってもよい。また、固体撮像装置は、表面照射型の固体撮像装置のみならず、裏面照射型であっても良い
なお、上記実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
上記実施形態において“略"とはその差が5%以内のものである。より好ましくは3%以内、最も好ましくは1%以内である。
1 固体撮像装置、10A 第1のフォトダイオード、10B 第2のフォトダイオード、11A 第1の転送トランジスタ、11B 第2の転送トランジスタ、12A,12B コンタクト部、13A 第1のフローティングディフュージョン、13B 第2のフローティングディフュージョン、20A,20B 転送制御線、22 分離部

Claims (6)

  1. 光電変換により電荷を生成する第1の光電変換部と、
    光電変換により電荷を生成する第2の光電変換部と、
    前記第1の光電変換部と前記第2の光電変換部とを分離する分離部と、
    電荷を蓄積する第1のフローティングディフュージョンと、
    電荷を蓄積する第2のフローティングディフュージョンと、
    前記第1の光電変換部により生成された電荷を前記第1のフローティングディフュージョンに転送する第1の転送トランジスタと、
    前記第2の光電変換部により生成された電荷を前記第2のフローティングディフュージョンに転送する第2の転送トランジスタと、
    同一の転送パルスを供給する1本又は2本の転送制御線と、
    前記第1及び第2の転送トランジスタのゲートと前記1本又は2本の転送制御線とを接続する1個又は2個のコンタクト部とを有し、
    前記第1及び第2の転送トランジスタと前記コンタクト部は、前記分離部に対して略線対称に配置されており、
    前記転送制御線から前記第1の転送トランジスタまで前記転送パルスが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値と、前記転送制御線から前記第2の転送トランジスタまで前記転送パルスが供給されるパスの寄生容量及び寄生抵抗の値とが略等しいことを特徴とする固体撮像装置。
  2. 前記転送制御線は、2本の転送制御線であり、
    前記2本の転送制御線は、前記分離部に対して略線対称に配置されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
  3. 前記転送制御線は、2本の転送制御線であり、
    さらに、前記2本の転送制御線を相互に接続するスイッチを有することを特徴とする請求項1又は2記載の固体撮像装置。
  4. 前記転送制御線は、1本の転送制御線であり、
    前記第1の転送トランジスタのゲートと前記第2の転送トランジスタのゲートとは相互に接続され、
    前記1本の転送制御線は、前記第1の転送トランジスタのゲート及び前記第2の転送トランジスタのゲートに接続されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。
  5. 前記コンタクト部は、1個のコンタクト部であり、
    前記1個のコンタクト部は、前記1本の転送制御線を、前記第1の転送トランジスタのゲート及び前記第2の転送トランジスタのゲートに接続することを特徴とする請求項4記載の固体撮像装置。
  6. さらに、光電変換により電荷を生成する第3の光電変換部と、
    光電変換により電荷を生成する第4の光電変換部と、
    電荷を蓄積する第3のフローティングディフュージョンと、
    電荷を蓄積する第4のフローティングディフュージョンと、
    前記第3の光電変換部により生成された電荷を前記第3のフローティングディフュージョンに転送する第3の転送トランジスタと、
    前記第4の光電変換部により生成された電荷を前記第4のフローティングディフュージョンに転送する第4の転送トランジスタとを有し、
    前記第1〜第4の光電変換部は、前記分離部により分離され、
    前記第1〜第4の転送トランジスタは、前記分離部に対して略線対称に配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017108380A (ja) * 2015-12-03 2017-06-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置
JP2020205527A (ja) * 2019-06-17 2020-12-24 キヤノン株式会社 撮像装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体
JP2022002322A (ja) * 2014-10-31 2022-01-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5967944B2 (ja) 2012-01-18 2016-08-10 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ
JP6261361B2 (ja) 2014-02-04 2018-01-17 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ
JP6595750B2 (ja) 2014-03-14 2019-10-23 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び撮像システム
JP6274567B2 (ja) 2014-03-14 2018-02-07 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び撮像システム
JP6075646B2 (ja) 2014-03-17 2017-02-08 ソニー株式会社 固体撮像装置およびその駆動方法、並びに電子機器
JP6541347B2 (ja) 2014-03-27 2019-07-10 キヤノン株式会社 固体撮像装置および撮像システム
CN107005664A (zh) * 2014-11-20 2017-08-01 株式会社岛津制作所 光检测器
JP6417197B2 (ja) 2014-11-27 2018-10-31 キヤノン株式会社 固体撮像装置
CN110649050B (zh) * 2014-12-18 2022-11-18 索尼公司 固态图像传感器、成像装置和电子设备
US9768213B2 (en) 2015-06-03 2017-09-19 Canon Kabushiki Kaisha Solid-state image sensor and camera
US10205894B2 (en) 2015-09-11 2019-02-12 Canon Kabushiki Kaisha Imaging device and imaging system
JP6570384B2 (ja) 2015-09-11 2019-09-04 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像システム
JP6541523B2 (ja) 2015-09-11 2019-07-10 キヤノン株式会社 撮像装置、撮像システム、および、撮像装置の制御方法
WO2017122550A1 (ja) * 2016-01-14 2017-07-20 ソニー株式会社 固体撮像素子、駆動方法、および電子装置
JP6776011B2 (ja) 2016-06-10 2020-10-28 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像システム
JP6727938B2 (ja) 2016-06-10 2020-07-22 キヤノン株式会社 撮像装置、撮像装置の制御方法、及び撮像システム
JP6688165B2 (ja) 2016-06-10 2020-04-28 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像システム
JP7013119B2 (ja) 2016-07-21 2022-01-31 キヤノン株式会社 固体撮像素子、固体撮像素子の製造方法、及び撮像システム
JP2018092976A (ja) 2016-11-30 2018-06-14 キヤノン株式会社 撮像装置
JP6957157B2 (ja) 2017-01-26 2021-11-02 キヤノン株式会社 固体撮像装置、撮像システム、および固体撮像装置の製造方法
JP6701108B2 (ja) 2017-03-21 2020-05-27 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び撮像システム
JP6929114B2 (ja) 2017-04-24 2021-09-01 キヤノン株式会社 光電変換装置及び撮像システム
US10818715B2 (en) * 2017-06-26 2020-10-27 Canon Kabushiki Kaisha Solid state imaging device and manufacturing method thereof
JP6987562B2 (ja) 2017-07-28 2022-01-05 キヤノン株式会社 固体撮像素子
JP7091080B2 (ja) 2018-02-05 2022-06-27 キヤノン株式会社 装置、システム、および移動体
CN110391256B (zh) * 2018-04-16 2021-07-16 宁波飞芯电子科技有限公司 Tof传感器低漏电型高效二级转移存储节点及实现方法
JP7161317B2 (ja) 2018-06-14 2022-10-26 キヤノン株式会社 撮像装置、撮像システム及び移動体
JP7237622B2 (ja) 2019-02-05 2023-03-13 キヤノン株式会社 光電変換装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10256521A (ja) * 1997-02-28 1998-09-25 Eastman Kodak Co ピクセル機能を相互に共用するアクティブピクセル撮像センサおよびその製造方法
JP2001250931A (ja) * 2000-03-07 2001-09-14 Canon Inc 固体撮像装置およびこれを用いた撮像システム
JP2005317581A (ja) * 2004-04-27 2005-11-10 Fujitsu Ltd 固体撮像装置
WO2006025079A1 (ja) * 2004-07-20 2006-03-09 Fujitsu Limited Cmos撮像素子
JP2007123765A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Sharp Corp 増幅型固体撮像装置
JP2007243744A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Nikon Corp 固体撮像素子及びこれを用いた電子カメラ
US20080029787A1 (en) * 2006-08-01 2008-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric conversion apparatus and image pickup system using photoelectric conversion apparatus
JP2011221253A (ja) * 2010-04-08 2011-11-04 Sony Corp 撮像装置、固体撮像素子、撮像方法およびプログラム
WO2013147199A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 株式会社ニコン 撮像素子、撮影方法、および撮像装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7804117B2 (en) * 2005-08-24 2010-09-28 Aptina Imaging Corporation Capacitor over red pixel
US7633134B2 (en) * 2005-12-29 2009-12-15 Jaroslav Hynecek Stratified photodiode for high resolution CMOS image sensor implemented with STI technology
JP4420039B2 (ja) * 2007-02-16 2010-02-24 ソニー株式会社 固体撮像装置
JP4110192B1 (ja) * 2007-02-23 2008-07-02 キヤノン株式会社 光電変換装置及び光電変換装置を用いた撮像システム
KR101375830B1 (ko) * 2009-11-16 2014-03-17 캐논 가부시끼가이샤 촬상장치 및 그 제어방법
US9000500B2 (en) * 2009-12-30 2015-04-07 Omnivision Technologies, Inc. Image sensor with doped transfer gate
FR2959013B1 (fr) * 2010-04-16 2012-05-11 Commissariat Energie Atomique Dispositif de detection de rayonnement electromagnetique a sensibilite reduite au bruit spacial
JP5542091B2 (ja) * 2010-05-18 2014-07-09 富士フイルム株式会社 固体撮像素子及び撮像装置
JP5538553B2 (ja) * 2010-09-29 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子及び撮像装置
JP5888914B2 (ja) * 2011-09-22 2016-03-22 キヤノン株式会社 撮像装置およびその制御方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10256521A (ja) * 1997-02-28 1998-09-25 Eastman Kodak Co ピクセル機能を相互に共用するアクティブピクセル撮像センサおよびその製造方法
JP2001250931A (ja) * 2000-03-07 2001-09-14 Canon Inc 固体撮像装置およびこれを用いた撮像システム
JP2005317581A (ja) * 2004-04-27 2005-11-10 Fujitsu Ltd 固体撮像装置
WO2006025079A1 (ja) * 2004-07-20 2006-03-09 Fujitsu Limited Cmos撮像素子
JP2007123765A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Sharp Corp 増幅型固体撮像装置
JP2007243744A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Nikon Corp 固体撮像素子及びこれを用いた電子カメラ
US20080029787A1 (en) * 2006-08-01 2008-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric conversion apparatus and image pickup system using photoelectric conversion apparatus
JP2011221253A (ja) * 2010-04-08 2011-11-04 Sony Corp 撮像装置、固体撮像素子、撮像方法およびプログラム
WO2013147199A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 株式会社ニコン 撮像素子、撮影方法、および撮像装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022002322A (ja) * 2014-10-31 2022-01-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP7196255B2 (ja) 2014-10-31 2022-12-26 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP7454636B2 (ja) 2014-10-31 2024-03-22 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP2017108380A (ja) * 2015-12-03 2017-06-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置
JP2021036668A (ja) * 2015-12-03 2021-03-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置
JP7117542B2 (ja) 2015-12-03 2022-08-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置
JP2020205527A (ja) * 2019-06-17 2020-12-24 キヤノン株式会社 撮像装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体
JP7292990B2 (ja) 2019-06-17 2023-06-19 キヤノン株式会社 撮像装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体

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