JP2014029459A - 光学フィルム用転写体、光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにする。
【解決手段】転写法により１／４波長板の多層構造を作成する。このために光学フィルム用転写体である転写フィルム２０において、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層９と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層８とを少なくとも有する多層構造による転写層と、この転写層を保持する支持体２１とを備えるようにする。
【選択図】図３

Description

本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関するものである。

従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、１／４波長板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４波長板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。

この光学フィルムに関して、特許文献１等には、１／２波長位相差板、１／４波長位相差板を組み合わせて１／４波長板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。

ところで有機ＥＬパネルを使用した画像表示装置においては、近年、可撓性を有するシート形状によるものが提供されつつある。このような可撓性を有するシート形状による画像表示装置では、例えば全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で、画像を表示することができ、従来に比して一段と画像表示装置の適用分野を拡大し得ると考えられる。

しかしながらこのように全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で画像表示する場合には、従来に比して格段的に外来光の反射を低減することが必要になる。これによりこのような可撓性を有するシート形状による画像表示装置においては、上述の光学フィルムを配置することにより、外来光による影響を有効に回避することが必要であると考えられる。特に有機ＥＬパネルでは、内部電極による外来光の反射が著しいことにより、この種の光学フィルムを適用することが望まれる。

しかしながら従来のこの種の光学フィルムを単純に可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに適用したのでは、画像表示パネルの可撓性を著しく損なう問題がある。

特開平１０−６８８１６号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすること目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、転写の手法を適用して光学フィルムを作成することにより、全体の厚みを薄くする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

（１） 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層と、
前記転写層を保持する支持体とを備える。

（１）によれば、転写法を適用して直線偏光板に１／４波長板に係る光学機能層を設けることができ、これにより全体形状の厚みを薄くして十分な可撓性を確保することができる。

（２） （１）において、前記支持体が、
セパレータフィルムであり、
前記転写層は、
前記支持体により被覆される粘着層を備える。

（２）によれば、転写法により転写層を作成した光学フィルム等において、当該光学フィルム等の配置に供する粘着層、当該粘着層を保護するセパレータフィルムを転写体に設けることができる。

（３） （１）又は（２）において、
前記１／２波長板用位相差層及び１／４波長板用位相差層にそれぞれ対応する１／２波長板用配向膜及び１／４波長板用配向膜を備え、
前記１／２波長板用配向膜及び１／４波長板用配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。

（３）によれば、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であることから、黒輝度を十分に小さくすることができ、また液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。また黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。

（４） （１）、（２）、又は（３）において、
前記１／２波長板用配向膜及び１／４波長板用配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である。

（４）によれば、平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下であることにより、位相差層における配向の劣化を有効に回避して、配向膜と位相差層との密着性を向上することができる。

（５） 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
１／４波長板としての機能を担う１／４波長板の光学機能層とが積層され、
前記１／４波長板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、（１）、（２）、（３）、（４）の何れかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である。

（５）によれば、（１）、（２）、（３）、（４）の何れかによる転写体を転写した光学フィルムを提供することができる。

（６） 画像表示装置において、（５）による光学フィルムを配置する。

（６）によれば、例えば可撓性を有するシート形状による画像表示装置に使用して十分な可撓性を確保することができる。

（７） 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層を、前記転写層を保持する支持体上に形成する転写体の生産工程と、
透明基材に、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と、
前記直線偏光板の光学機能層に、前記転写体の製造工程で生産した前記支持体上の転写層を転写する転写工程とを備える。

（７）によれば、転写法を適用して直線偏光板に１／４波長板に係る光学機能層を設けることができ、これにより全体形状の厚みを薄くして十分な可撓性を確保することができる。

偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすることができる。

本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。 図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムの説明に供する図である。 図２の光学フィルムに適用される転写フィルムを示す図である。 図２の光学フィルムの製造工程を示す図である。 図３の転写フィルムの製造工程を示す図である。 図５の続きを示す図である。 ラビング処理の説明に供する図である。 本発明の第２実施形態に係る転写フィルムを示す図である。 図８の転写フィルムの製造工程を示す図である。 ラビング処理による表面形状の変化を示す図である。 図１０の例について、さらに倍率を拡大した図である。 図１０の例について、図６よりさらに倍率を拡大した図である。 ラビングの回数が少ない場合の表面形状を示す図である。 図１３の例よりラビングの回数を増大させた場合の表面形状を示す図である。 図１３の例よりさらにラビングの回数を増大させた場合の表面形状を示す図である。 図１３の例における表面形状の測定結果を示す図である。 図１４の例における表面形状の測定結果を示す図である。 図１５の例における表面形状の測定結果を示す図である。 黒輝度に係る計測装置の説明に供する図である。 ラビング処理時間によりばらつきを示す図である。 ラビング処理時間によりばらつきを示す図である。 二乗平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。 十点平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。 配向膜の表面形状を示す写真である。 図２４との対比により光学特性が劣る場合の配向膜の表面形状を示す写真である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１では、画像表示パネル２のパネル面に、光学フィルム３が配置される。画像表示パネル２は、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。

光学フィルム３は、偏光面の制御により、画像表示パネル２に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム３は、直線偏光板５、１／４波長板６を積層して構成される。光学フィルム３は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層４を露出させた後、この粘着層４により、画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられて保持される。また直線偏光板５及び１／４波長板６は、粘着層７を介して一体化される。

１／４波長板６は、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差板として機能する部位８（１／４波長板用位相差層と呼ぶ）と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差板として機能する部位９（１／２波長板用位相差層と呼ぶ）との積層体により構成される。これにより１／４波長板６は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で逆分散特性を確保し、光学フィルム３は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。

これらにより画像表示装置１では、画像表示パネル２の表示画面側より、順次、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９、直線偏光板５が配置される。また図２に示すように、矢印により示す直線偏光板５の透過軸に対して、１／２波長板用位相差層９及び１／４波長板用位相差層８の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７５度の角度を成すように配置される。

より具体的に、１／４波長板用位相差層８は、面内位相差（Ｒｅ）が１２５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板用位相差層９は面内位相差（Ｒｅ）が２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作成される。これにより光学フィルム３は、直線偏光板５側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。

１／４波長板６は、画像表示パネル２側から、順次、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が設けられる。１／４波長板用賦型樹脂層１０は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこの紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／４波長板用賦型樹脂層１０は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、１／４波長板６は、この１／４波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／４波長板用配向膜１１が形成される。１／４波長板用位相差層８は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、１／４波長板６は、この液晶材料の配向を１／４波長板用配向膜１１の配向規制力によりパターンニングする。

また続いて１／４波長板６は、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次設けられる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なおこの紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、賦型処理により表面に微細な凹凸形状が形成され、１／４波長板６は、この１／２波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／２波長板用配向膜１３が形成される。１／２波長板用位相差層９は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、１／４波長板６は、この液晶材料の配向を１／２波長板用配向膜１３の配向規制力によりパターンニングする。

ここでこれら１／２波長板用配向膜１３及び１／４波長板用配向膜１１に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板５の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに１５度、７５度の角度を成す方向となるように作成される。

直線偏光板５は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１５の下面側が鹸化処理された後、光学機能層１６が配置される。なお基材１５は、これに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。

光学機能層１６は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。

しかして光学フィルム３の１／４波長板６に係る構成において、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９はそれぞれ厚み１μｍ、２μｍ程度により作成することができる。また賦型樹脂層１２、１３は、厚み２μｍ程度、粘着層４は、厚み１５μｍ以下により作成することができる。また直線偏光板５に係る構成において、基材１５は、厚み３０μｍ程度により構成することができ、光学機能層１６、粘着層７は、それぞれ厚み２０μｍ以下、１５μｍ程度により構成することができる。これらにより光学フィルム３は、全体として厚みを８７μｍ以下により十分に薄く作成することができる。これにより光学フィルム３は、十分な可撓性を確保することができる。

ここでこの実施形態に係る画像表示パネル２にあっては、可撓性を有するシート形状であることにより、光学フィルム３は、画像表示パネル２に比して格段的に可撓性を有していると言える。しかしながらこの種の光学フィルム３においては、画像表示パネル以外の、著しく曲率の大きな部材に配置される場合も予測され、この場合には一段と可撓性が求められる。

そこで光学フィルム３について、それぞれＪＩＳ Ｋ５６００−５−１に規定の円筒形マンドレル試験により耐屈曲性を試験した。試験した結果によれば、光学フィルム３の場合、マンドレルの直径が３ｍｍの場合であっても、表面に、割れ及びはがれ等が発生しないことが確認された。これによりこの直径３ｍｍによる耐屈曲性の試験を満足することが判った。ここでこの程度の耐屈曲性を備えている場合には、配置対象物が可撓性を有するシート形状による画像表示パネルであっても、十分に配置対象物の可撓性を損なわないことを確認することができた。また配置対象が一段と大きな曲率を備えた部材であっても、光学フィルム３を損傷しないで配置することができる。

〔転写体〕
光学フィルム３は、粘着層７を介してこれら１／４波長板６、直線偏光板５が一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用される。

ここで転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。

この実施形態では、直線偏光板５に、１／４波長板６に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板５であり、転写に供する層（転写層）は、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９の積層体である。

図３は、この転写体である転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム２０は、支持体基材２１上に、順次、１／４波長板６に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が設けられる。

ここで支持体基材２１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルムが適用され、これにより転写フィルム２０は、光学特性を検査可能に構成される。なおＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、これにより後述する離型層との間の密着力を適切に設定する。なお支持体基材２１は、全体の形状をシート形状としても良い。また支持体基材２１は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材２１の厚みは、２０〜１００μｍである。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、支持体基材２１には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設ける。

離型層は、相対的に、支持体基材２１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層との密着性は低い（剥離性は高い）材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による１／４波長板用賦型樹脂層１０であることにより、上述の支持体基材２１に対して、例えばシリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物が用いられる。この実施形態では、上述したＰＥＴフィルムによる支持体基材２１上に、メラミン樹脂による離型層を設け、離型層の上に設ける紫外線硬化性樹脂の塗布液に対する濡れ性を確保する。

なおこのように、コロナ処理したＰＥＴフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないＰＥＴフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないＴＡＣフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。

なおメラミン樹脂による離型層を設ける場合には、１／４波長板用配向膜１１、１／２波長板用配向膜１３を作成する際の賦型処理に供するロール版５３、６３（図５及び図６）に関して、このロール版５３、６３の周側面にライン状の微細凹凸形状を作成する際のラビング方向（凹凸形状の延長方向）に対する、１／４波長板用位相差層８及び１／２波長板用位相差層９における液晶材料の配向方向の差異を格段に小さくすることができる。従って設計中心値に対する１／４波長板６の光学特性のずれを小さくすることができる。

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材２１と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く（剥離性は高く）、剥離層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、１〜１０μｍ程度である。また剥離層は、支持体基材２１に設けても良く、剥離層に設けてもよい。

１／４波長板用賦型樹脂層１０は、この支持体基材２１の上に、又は支持体基材２１の上に形成された剥離層の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／４波長板用配向膜１１は、賦型に供する微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型（ロール版）を用いて１／４波長板用賦型樹脂層１０を賦型処理して作成される。１／４波長板用位相差層８は、１／４波長板用配向膜１１上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。

１／２波長板用賦型樹脂層１２は、１／４波長板用位相差層８の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０と同様に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用配向膜１１と同様に、賦型用金型を用いて１／２波長板用賦型樹脂層１２を賦型処理して作成される。１／２波長板用位相差層９は、１／２波長板用配向膜１３上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。しかして転写体では、これら１／４波長板に係る層構成である、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が、転写に供する転写層である。

さらに転写フィルム２０は、１／４波長板６に係る層構成に係る転写層の上に、粘着層７、セパレータフィルム２３が設けられる。

ここで粘着層７は、転写層と被転写基材とを接着するための層である。転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。この実施形態では、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。接着剤層の厚みは、１〜３０μｍ程度である。

セパレータフィルム２３は、粘着層７の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム２３は、粘着層７が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。

〔光学フィルムの製造工程〕
図４は、光学フィルム３の製造工程を示す図である。この製造工程３０は、直線偏光板５に係る鹸化処理が実行された基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材が供給ロール３１、３２により提供される。また転写フィルム２０が供給リール３３により提供される。この工程３０は、供給リール３３から転写フィルム２０を引き出し、剥離ロール３４によりセパレータフィルム２３を剥離して粘着層７を露出させる。なお剥離したセパレータフィルム２３は、巻き取りリール３６に巻き取られる。

この工程は、供給ロール３１、３２からそれぞれ基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材を引き出し、セパレータフィルム２３を剥離した転写フィルム２０と積層し、押圧ローラ３８Ａ、３８Ｂにより押圧する。これによりこの工程３０は、基材１５、光学機能層１６、転写層を一体化する。

続いてこの工程３０は、剥離ローラ３９により支持体基材２１を剥離する。なお剥離した支持体基材２１は、巻き取りロール４０に巻き取られる。また続いて粘着層４に係る粘着剤を塗付した後、供給リール４１より供給されるセパレータフィルム４２を加圧ローラ４３Ａ、４３Ｂにより貼り付け、巻き取りリール４４に巻き取る。

〔転写体の製造工程〕
図５及び図６は、転写フィルム２０の製造工程を示す略線図である。この製造工程５０は、支持体基材２１を供給リール５１から引き出し、ダイ５２により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程５０において、ロール版５３は、１／４波長板用配向膜１１に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程５０は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ５４によりロール版５３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置５５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程５０は、ロール版５３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する。その後、剥離ローラ５６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ５９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置５７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール５８に巻き取る。この一連の処理により支持体基材２１の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８が形成される。

続いて図６に示すように、転写体の製造工程は、続く製造工程６０において、巻き取りリール５８から巻き取った支持体基材２１を引き出し、ダイ６２により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程６０において、ロール版６３は、１／２波長板用配向膜１３に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程６０は、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１を加圧ローラ６４によりロール版６３に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置６５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程６０は、ロール版６３の周側面に形成された凹凸形状を支持体基材２１に転写する。その後、剥離ローラ６６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１を剥離し、ダイ６９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置６７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール６８に巻き取る。この工程６０の一連の処理により、支持体基材２１に形成された１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板用位相差層８の上に、さらに１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板用位相差層９が順次作成され、これらにより支持体基材２１の上に１／４波長板６に係る構成が作成される。転写体は、さらに粘着層７、セパレータフィルム２３が配置される。

〔ロール版製造工程〕
ロール版５３、６３の製造工程は、それぞれロール版５３、６３に係る母材の周側面を研磨して平滑化した後、この周側面に下地層が作製される。ここで母材は、ロール版５３、６３の外形形状に対応する円筒形状又は円柱形状の金属材料である。母材は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材は、銅が適用される。

下地層は、上層に設けられる賦型処理に供する凹凸形状が作製された層（以下、賦型処理層と呼ぶ）について、母材に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。

続いてこの工程は、下地層の上に、賦型処理層に係る無機材料層を作製する。この実施形態では、この無機材料層にクロム層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのクロム層を作製する。続いてこの工程は、ラビング装置によるラビング処理により、この無機材料層の表面に、賦型処理に供する微細な凹凸形状が作成される。

図７はラビング装置におけるラビング処理の説明に供する図である。このラビング装置８５は、ロール版５３、６３に係る円筒形状の母材８１をその中心軸がほぼ水平になるように保持し、矢印Ａにより示すように、この母材８１をこの中心軸の周りに所定の回転速度で回転駆動する。この状態でこのラビング装置８５は、この母材８１の回転軸に対して回転軸を斜めに傾けてラビングロール８２を保持し、矢印Ｂにより示すように、このラビングロール８２を回転駆動しながら母材８１の周側面に押し付ける。母材８１の回転軸とラビングロール８２の回転軸との相互の交叉角（傾斜角）は、１／２波長板用配向膜１３及び１／４波長板用配向膜１１に係る微細な凹凸形状の延長方向に対応する角度となるように設定される。

ここでラビングロール８２は、ラビング処理に供するラビング布を周囲に巻き付けた円柱形状の部材である。これによりラビング装置８５は、ラビングロール８２を回転させながら表面のラビング布で母材８１の周側面を摩擦してラビング処理する。ここでこのラビング布は、例えばラビング処理に使用可能な各種の布材、天然皮革、人口皮革等を広く適用することができる。なおこの実施形態では、表面に多数の纖維を植毛した布材である植毛布によりラビング処理する。なおラビング布の材料としては、一般的に用いられるセルロース、レーヨン、ポリアミド（ナイロン：登録商標）、ポリエチレン等のポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などの中から適宜選択して使用する。一般的な、パイル長１〜数ｍｍ、密度２〜４万フィラメント／ｃｍ^２、パイル径数十〜３００ディナール、パイル本数２５０〜１５００／ｃｍ^２程度の一般的なものを使用する。好ましい材料は、ラビングかすの少ないレーヨン、ナイロンなどの化学繊維を使用した植毛布が好適であり、この場合、パイル長１〜２ｍｍ、密度２．５〜３．５万フィラメント／ｃｍ２、パイル径数５０〜１５０ディナール、パイル本数６００〜１０００／ｃｍ^２、フィラメントの広がる角度は５〜２０゜である。

またこのラビング装置８５は、このようにして母材８１の周側面を局所的にラビング処理するようにして、母材８１の回転軸（中心軸）に沿った方向にラビングロール８２を移動させ、これによりラビング処理する領域を徐々に変化させて、母材８１の周側面の全てをラビング処理する。なおこのラビングロール８２の中心軸に沿った方向の移動は、必要に応じて繰り返される。またラビングロール８２の移動の繰り返しにあっては、往路と復路との双方でラビング処理しても良く、往路又は復路の１方でのみラビング処理しても良い。

以上の構成によれば、転写の手法を適用して光学フィルム３を作成することにより、光学フィルム３は、直線偏光板５側の１枚の基材１５により直線偏光板に係る光学機能層、１／２波長位相差板に係る光学機能層、１／４波長位相差板に係る光学機能層を一体に保持することができ、これにより構成を簡略化し、さらには全体形状を薄型化して十分な可撓性を確保することができる。

〔第２実施形態〕
図８は、図３との対比により本発明の第２実施形態に係る転写フィルムを示す図である。この転写フィルム７０は、ＰＥＴフィルムによる支持体基材２１に代えて、セパレータフィルム７１、粘着層４の積層体が配置され、このセパレータフィルム７１が支持体を構成すると共に、粘着層４が転写層の一部を構成する。ここでセパレータフィルム７１及び粘着層４は、図１について上述した画像表示パネル２への光学フィルム３の配置に係る構成である。この実施形態は、このセパレータフィルム７１、粘着層４に関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一に構成される。

このためこの実施形態では、図５及び図６において括弧書により示すように、転写体の製造工程において、支持体基材２１に代えて、セパレータフィルム７１、粘着層４の積層体が供給リール５１から供給されて、順次１／４波長板６に係る層構造が作成され、転写フィルム７０が生産される。

またこれにより図４との対比により図９に示すように、光学フィルムの製造工程では、支持体基材２１を剥離する構成（３９、４０：図４参照）、粘着層、セパレータフィルム４２を配置する構成（４１／４２、４３Ａ、４３Ｂ：図４参照）が省略されて、転写フィルム７０より光学フィルム３が生産される。

この実施形態では、光学フィルム３に係る粘着層４及びセパレータフィルムの積層体を適用して転写体を生産するようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの場合、転写層を転写した後、改めて、光学フィルムの粘着層、セパレータフィルムを設けなくても良いことにより、生産材の消費を低減して効率良く光学フィルムを生産することができる。また工程も簡略化することができる。

〔第３の実施形態〕
この実施の形態においては、上述の第１実施形態において、１／４波長板用配向膜１１及び１／２波長板用配向膜１３が、十点平均粗さ（Ｒｚ）１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下に設定され、さらに平均面粗さ（Ｒａ）１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定される。これによりこの実施形態では、配向膜１１、１３と対応する液晶層である１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９との密着性を向上させ、黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、光学フィルム３の光学特性を向上する。この実施形態では、この１／４波長板用配向膜１１及び１／２波長板用配向膜１３に係る構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一に構成される。

〔平均面粗さ（Ｒａ）〕
上述のロール版製造工程におけるラビング処理を詳細に検討したところ、ラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することが判った。図１０、図１１、図１２は、順次倍率を増大させてラビング処理対象の表面形状を撮影した写真である。図１０（ａ）、図１１（ａ）、図１２（ａ）は、研磨した銅の表面に、無電解メッキにより、膜厚５００ｎｍによるリンをドープしたニッケル層の下地層を作製し、その上に膜厚１００ｎｍによるチタン層をスパッタリングにより作製したものである。また図１０（ｂ）、図１１（ｂ）、図１２（ｂ）は、この図１０（ａ）、図１１（ａ）、図１２（ａ）によるチタン層の表面を一定の押圧力によりラビング布で押圧した状態で、ラビング処理した結果であり、水平方向がラビング方向である。なおラビングの回数は３０００回である。また図１０（ｃ）、図１１（ｃ）、図１２ｃ）は、図１０（ｂ）、図１１（ｂ）、図１２（ｂ）と同一の条件により、ラビング処理の回数を５０００回に設定した結果である。

これら図１０、図１１、図１２によれば、何らラビング処理しない場合には、チタンの粒界により表面が覆われており、これによりこのチタンの粒界による凹凸形状が表面に現れていることが判る。しかしながらラビングの回数の増大により、粒界が引き伸ばされたような表面形状に変形が見られ、全体的に表面が平坦になっているように観察される。これによりこれら図１０、図１１、図２１によれば、金属粒界による凹凸形状がラビング処理により徐々に平坦化されているように見える。

このようにラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することを前提に、ラビング処理対象の表面形状による重合性液晶材料との密着力を検討した結果、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上確保することが必要であることが判った。これにより密着力を強化する観点から、ラビング処理の回数は、一定回数以下に制限することが必要であることが判った。

しかしながらラビング処理の回数を少なくすると、配向膜に充分な配向規制力を付与できない恐れがある。すなわち位相差層の配向に供する凹凸形状は、この図１０〜図１２では見て取ることができない程度の微細なものであり、ラビング処理の回数の増大により配向規制力が増大する。充分な配向規制力を確保する観点より、ラビング処理回数と配向規制力との関係を検討したところ、平均面粗さ（Ｒａ）が４ｎｍ以下となるまでラビング処理すると、充分な配向規制力を確保できることが判った。

なおこの平均面粗さは、第１実施形態に係る１／４波長板用配向膜１１をＡＦＭ（ナノキュート、ＳＩＩ製）を使用して測定エリア５μｍ×５μｍで測定した結果であり（以下、同様）、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に規定の算術平均粗さであり、ラビング方向と直交する方向に測定したものである。また密着力の判断は、クロスカット試験によるものである。配向規制力は、配向膜に液晶材料を塗布して位相差層を作成し、この積層体をクロスニコル配置による直線偏光板により挟持して消光位に保持した際の透過光量により判断した。

これらにより配向膜１１、１３において、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要であることが判った。ここでこの種の賦型処理においては、充分に賦型用金型の表面形状を転写することができることにより、賦型用金型であるロール版５３、６３の周側面にあっても、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上用、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要である。なおラビング処理においては、ラビング布の押圧力等のラビング処理の条件によって、ラビング処理回数と表面粗さの変化との関係が変化する。従って平均粗さ（Ｒａ）を上述の範囲に設定する場合、ラビング処理回数は、ラビング処理の条件に応じて適宜選定することが必要である。

なお平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下とすると、転写法による光学フィルム３において、支持体基材２１を転写層から剥離する際の力によっても、位相差層が配向膜より剥離しないことを確認することができた。因みに、このように転写法において剥離しない場合であっても、ＪＩＳ Ｋ ６８５４−１に規定された１８０度剥離試験により剥離に要する力（剥離強度）を測定したところ、剥離強度は０．５Ｎ／インチ以下であった。

図１３、図１／４、図１５は、具体的に、配向膜の表面形状を示す写真である。図１３は、ラビング処理回数が少なく、密着力は充分に確保することができるものの、配向規制力が不足する場合である。なお図１３における矢印はラビング方向を示すものである。

図１／４は、密着力及び配向規制力の双方を充分に確保できる場合であり、図１３の例に比してラビング処理回数を増大させた場合である。また図１／４は、図１３の場合に比してさらにラビング処理回数を増大させたものであり、配向規制力は充分に確保することができるものの、密着力が不足する場合である。

図１６、図１７、図１８は、それぞれ図１３、図１４、図１５に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。図１６〜図１８においては、ラビング方向と直交する方向についての測定結果であり、図１６の測定結果において、平均面粗さ（Ｒａ）は４．５ｎｍであった。また。図１７の測定結果において、平均面粗さ（Ｒａ）は２．０ｎｍであった。また図１８の測定結果において、平均面粗さ（Ｒａ）は０．８５ｎｍであった。これら図１３〜図１８による結果によっても、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上できることが判った。

〔十点平均粗さ（Ｒｚ）〕
ところでさらに配向膜の表面粗さについて検討を試みた。図１９は、この配向膜の検討に供した測定装置の構成を示す図である。この測定装置では、直交ニコル配置による偏光板９０Ａ及び９０Ｂの間に計測対象Ｓを配置する。この状態で、偏光板９０Ａ及び９０Ｂに対する計測対象Ｓの傾きθを変化させながら、透過光量を計測し、最も透過光量が小さくなる傾きθを計測する。なおこの最も透過光量が小さくなる場合の光量は、黒輝度とも呼ばれる。この実施形態では、１つの計測対象Ｓについて、この黒輝度の光量、黒輝度に係る傾きを複数個所で計測し、計測結果を統計的に処理した。ここで計測対象は、上述の平均面粗さ（Ｒａ）の試験に供したサンプルである。

図２０及び図２１は、この計測結果を示す図である。図２０の測定結果は、ラビング処理の時間を横軸に取り、傾きθのばらつき３σを縦軸により示すものである。なおσは、標準偏差である。また符号Ｌ１により示す測定結果は、符号Ｌ２により示す測定結果に比して、ラビング処理時における母材に対するラビングクロスの変位速度を５倍に設定した場合の測定結果である。この図２０による計測結果によれば、母材に対するラビングクロスの変位速度が低い程、またラビング処理時間が短い程、黒輝度に係る角度θのばらつき３σが小さいことが判った。特に、処理時間を一定時間より短くすると、ばらつき３σが急激に小さくなることが判る。

また図２１は、黒輝度を横軸に取り、傾きθのばらつき３σを縦軸により示すものである。なお横軸の単位はカンデラであり、一定の光量により測定に供する光を照射した場合の透過光量である。この図１９によれば、ばらつき３σが小さい程、黒輝度も小さくなることが判る。特に、ばらつき３σのほぼ１．０度を境にして、これよりばらつき３σが小さくなると、ばらつき３σの変化に対する黒輝度の変化量が小さくなる。このばらつき３σの１．０度を境にした測定結果の変化は、図２０の測定結果でも見て取ることができる。

ここでこのばらつき３σが小さい場合、黒輝度が小さい場合には、位相差層で付与される位相差量にばらつきが小さいと言え、この位相差層を備えた光学フィルムでは、精度良く所望の位相差を付与することができる。

これらにより精度良く位相差層を作成するためには、母材とラビング布との相対速度を一定速度以下に設定して短い処理時間によりラビング処理することが必要であり、従来のラビング処理に係る考え方とは真逆の考え方によりラビング処理することが必要であることが判った。しかしてこのように相対速度を一定速度以下に設定して短い時間によりラビング処理する場合には、十分な深さによりライン状凹凸形状が作成されていないと考えられる。

図２２及び図２３は、このような観点より配向膜の表面形状とばらつき３σとの関係を測定した結果である。なおこの測定結果は、図２０及び図２１の測定に供した計測対象Ｓについて、紫外線硬化性樹脂を塗付する前の段階で配向膜の表面形状を測定したものである。図２２は、二乗平均粗さＲＭＳ（Ｒｑ）を横軸に取り、ばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。この図２２の測定結果によれば、ばらつき３σが小さい場合には、二乗平均粗さによる粗さも小さいことが判るものの、図２０及び図２１の測定結果について上述したばらつき３σの１．０度に係る境界については、見て取ることができない。

これに対して図２３は、十点平均粗さＲｚを横軸に取り、ばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。これら図２２及び図２３の測定結果によれば、表面粗さが粗い場合程、すなわち配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判る。換言すれば、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いと言える。

またさらにこの図２３の測定結果によれば、図２０及び図２１の測定結果との対比により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下であるようにラビング処理すれば、ばらつき３σが１．２度以下であるようにラビング処理することができ、また黒輝度も十分に抑圧できることが判る。なお、十点平均粗さの下限値は、位相差層に適用される液晶分子の大きさの１０倍程度は必要であり、これにより１ｎｍ以上は必要である。しかしながらさらに実用的な余裕を確保する観点から、好ましくは下限値は、１０ｎｍ以上は必要である。

これらにより充分にばらつきを小さくして液晶層を十分に配向させるために、配向膜は、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることが必要であることが判った。これによりこの実施形態では、第１実施形態の構成を前提に、ラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように設定した。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように作製される。

図２４及び図２５は、図２２及び図２３の測定に供した配向膜について、５μｍ×５μｍの領域の表面形状を示すＡＦＭ（Atomic Force Microscope：原子間力顕微鏡）による写真であり、上方から下方がラビング方向である。図２４は、上述の範囲に入る試料によるものであり、かろうじてラビング方向を見て取ることができる程度に、微弱なライン状凹凸形状が作成されている。図２５は、上述の範囲に入らない、ラビングし過ぎの試料によるものであり、ばらつき３σ及び黒輝度共に未だ不十分なものであった。この図２２及び図２３によれは、配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判り、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いことが判る。

この第３実施形態によれば、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることにより、黒輝度を十分に小さくすることができ、また液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。また黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。

また配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定することにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、配向膜と位相差層との密着性を向上することができる。またさらに図１６〜図１８の計測結果による十点平均粗さＲｚとの対比によれば、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上である場合には、概ね、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できる。

〔実施例１〕
以下の実施例により１／４波長板用配向膜１１及び１／２波長板用配向膜１３を十点平均粗さ（Ｒｚ）１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下により作成し、さらに平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下により作成し、黒輝度を十分に小さくすることができ、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができることが確認された。またさらに黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくできることを確認した。なおこの実施例１における黒輝度の測定方法、平均面粗さ（Ｒａ）、十点平均粗さ（Ｒｚ）の測定、密着性の測定にあっては、上述した第３実施形態と同一である。

〔賦形用金型〕
この実施例１では、Ａ４サイズ、厚み３ｍｍの銅板の表面を研磨により平滑化した後、スパッタによりリンをドープしたニッケル層を５００ｎｍ積層し、さらにクロム層を１００ｎｍにより作成した。この平板による板材の表面を、レーヨン布を巻いたラビングロールにより、押し込み量０．５ｍｍ、回転数１００ｒｐｍ、移動速度０．１ｍ／ｍｉｎにより一方向にラビングし、表面に微細な凹凸を設け、これにより賦型用金型を作製した。

〔１／４波長板用配向膜の作製〕
次に、配向膜用組成物Ａを、バーコーターを用い、支持体基材（厚み５０μｍ、表面を未処理のＰＥＴフィルム（E5100、東洋紡製）上に、乾燥厚みが３μｍになるよう塗工、乾燥した。その後、塗工面と上記賦型用金型とを貼り合わせ、支持体基材側から紫外線を照射して配向膜用組成物Ａを重合させ、１／４波長板用配向膜とした後、賦形用金型を取り除いた。

なおここで配向膜用組成物Ａは、トリメチロールプロパントリアクリレート（TMPTA）（５０質量％）、ウレタン変性ペンタエリスリトールアクリレートオリゴマー（U-PETA）（５０質量％）、ジフェニル（2,4,6-トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（６質量％）、メチルエチルケトン（methyl ethyl ketone、MEK）（１５質量％）、メチルイソブチルケトン（methyl isobutyl ketone、MIBK）（１５質量％）の混合物である。このようにして作成された１／４波長板用配向膜は、Ｒａ＝１．２ｎｍ、Ｒｚ＝２５ｎｍであり、後述する１／４波長板用位相差層との間で十分な密着力を確保し、さらに十分な配向規制力により１／４波長板用位相差層の黒輝度を十分に小さくし、さらには黒輝度に係る傾きθのばらつきを小さくすることができた。なおＰＥＴフィルムに代えて、ＴＡＣフィルムにより実験した結果においても、同様の効果を得ることができた。

〔１／４波長板用位相差層の作製〕
次に、位相差層用塗工液Ａを、バーコーターを用い１／４波長板用配向膜上に、配向・重合後の位相差が１３５ｎｍになるよう塗工し、１００℃で３分間乾燥、配向させた後、紫外線を照射して位相差層用塗工液Ａを重合させ、１／４波長板用位相差層を作成した。なおここで位相差層用塗工液Ａは、重合性液晶化合物（ＲＭＭ３４：メルク社製）（２０重量％）、開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１）（１質量％）、トルエン（８０質量％）の混合物である。

なお１／４波長板用位相差層の上に、バーコーターを使用して乾燥厚みが５μｍとなるように接着剤Ａを塗工、乾燥し、厚み１ｍｍのガラスと貼り合わせ、仮支持体側から紫外線を照射し、接着剤Ａを重合させた後、支持体基材であるＰＥＴフィルムを剥離して試験片を作成した。このＰＥＴフィルムの剥離時に問題はみられなかった。またこの試験片の黒輝度を測定したところ、３ｃｄであった。

なおこの接着剤Ａは、ウレタンアクリレートオリゴマー（１０質量％）、アクリル系重合体（１０質量％）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（８０質量％）、ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（６質量％）、トルエン（３０質量％）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ：methyl ethyl ketone）（３０質量％）の混合物である。またこの試験片については、（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ）を用い、測定波長５８９ｎｍ、入射角度０度で位相差値を測定した。係る計測により所望する位相差を確保できることを確認した。

〔１／２波長板用配向膜の作製〕
上述の１／４波長板用位相差層の上に、バーコーターを用いて乾燥厚みが３μｍになるように配向膜用組成物Ａを塗工、乾燥した。その後、賦形用金型のラビング方向と、１／４波長板用位相差層の遅相軸のなす角が反時計回りに６０℃゜となるよう、賦型用金型を配置して塗工面と上記賦型用金型とを貼り合わせ、支持体基材側から紫外線を照射して配向膜用組成物Ａを重合させ、１／２波長板用配向膜とした後、賦形用金型を取り除いた。

〔１／２波長板用位相差層の作製〕
上記で作製した１／２波長板用配向膜の上に、バーコーターを用いて、配向・重合後の位相差が２７０ｎｍになるよう位相差層用塗工液Ａを塗工し、１００℃で３分間乾燥及び配向させた後、紫外線を照射して位相差層用塗工液Ａを重合させ、１／２波長板用位相差層とした。

なおこれとは別に、支持体基材上に１／２波長板用配向膜と１／２波長板用位相差層積層した後、１／４波長板用位相差層の場合と同様に、接着剤用組成物Ａを使用してガラスと貼り合わせて支持体基材を取り除き、１／２波長板用の測定サンプルを作成し、リタデーションを測定した。リタデーションの測定は、１／４波長板用位相差層と同一である。係る計測により所望する位相差を確保できることを確認した。

〔転写フィルムの作製〕
上記で作製した積層体の１／２波長板用位相差層側に、片面の離型紙を剥がした粘着フィルム（ＭＨＭ−ＧＡ２５、日栄加工（株）製）の粘着剤側を貼り合わせ、第１実施形態に係る転写フィルムを作成した。

〔転写工程〕
次に、離型紙を剥がし、偏光板の吸収軸と１／４波長板用位相差層の遅相軸のなす角が反時計回りで１５度となるよう、偏光板（スミカラン、住友化学製）と貼り合わせ、円偏光板を得た。

〔画像表示パネルへの配置〕
大きさ５０ｍｍ角、厚み１ｍｍのガラスに作製した、ＩＴＯ、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、発光層、Ｃａ、アルミニウム膜からなる有機ＥＬ素子のガラス側と、光学フィルムの１／４波長板用配向膜側を、粘着剤（ＭＨＭ−ＧＡ２５、日栄加工（株）製）で貼り合わせ、表示装置を得た。この表示装置を、電力を印加せずに極角４５度から目視で観察したところ、光学フィルムを貼り合わせる前は金属色が観察され、光学フィルムを貼り合わせた後は金属光沢は認められず黒色に観察された。

〔比較例１〕
実施例１において、ラビングロールを押し込み量０．５ｍｍ回転数５００ｒｐｍ、移動速度０．０５ｍ／ｍｉｎとして一方向にラビングし、表面に微細な凹凸を設けた賦型用金型を作成した。係る金型作成に関する構成を除いて、この比較例１では実施例１と同様にして光学フィルム等を作成した。なおこのようにして作成された１／４波長板用配向膜は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が８ｎｍであり、平均面粗さ（Ｒａ）が０．７ｎｍであり、黒輝度は１５ｃｄであり、この場合、黒輝度を十分に小さくすることができた。しかしながら支持体基材にＴＡＣフィルムを適用して密着性を確認したところ、配向膜と位相差層との間で若干の剥離が見られ、これにより密着力に問題があることが確認された。また表示装置との積層体を作製し、電力を印加せずに極角４５度から目視で観察したところ、若干の金属光沢が観察された。これにより位相差層の光学特性の劣化により、十分に反射防止の機能を発揮できないことがわかった。

〔比較例２〕
実施例１において、ラビングロールを押し込み量０．２ｍｍ回転数１００ｒｐｍ、移動速度０．１ｍ／ｍｉｎとして一方向にラビングし、表面に微細な凹凸を設けた賦型用金型を作成した。係る金型作成に関する構成を除いて、この比較例２では実施例１と同様にして光学フィルム等を作成した。なおこのようにして作成された１／４波長板用配向膜は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が５０ｎｍであり、平均面粗さ（Ｒａ）が５ｎｍであり、黒輝度を十分に小さくすることができなかった（黒輝度：４０ｃｄ）。また支持体基材にＴＡＣフィルムを適用して密着性を確認したところ、配向膜と位相差層との間で剥離は見られないものの、表示装置との積層体を作製し、電力を印加せずに極角４５度から目視で観察したところ、金属光沢が観察された。これにより位相差層の光学特性の劣化により、十分に反射防止の機能を発揮できないことがわかった。

〔第４実施形態〕
この実施の形態においては、上述の第２実施形態において、１／４波長板用配向膜１１及び１／２波長板用配向膜１３が、十点平均粗さ（Ｒｚ）１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下に設定され、さらに平均面粗さ（Ｒａ）１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定される。この実施形態では、この１／４波長板用配向膜１１及び１／２波長板用配向膜１３に係る構成が異なる点を除いて、第２実施形態、第３実施形態と同一に構成される。

この実施形態のように、光学フィルム３に係る粘着層４及びセパレータフィルムの積層体を適用して転写体を生産する場合であっても、十点平均粗さ（Ｒｚ）１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下に、平均面粗さ（Ｒａ）１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定することにより、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。

〔実施例２〕
なお以下の実施例２により、１／４波長板用配向膜１１及び１／２波長板用配向膜１３を十点平均粗さ（Ｒｚ）１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下により作成し、さらに平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下により作成し、実施形態に係る効果を確認することができた。

〔転写フィルムの作製〕
実施例１における転写フィルムの支持体基材を剥離し、１／４波長板用賦形樹脂層と、片面の離型紙を剥がした粘着フィルム（ＭＨＭ−ＧＡ２５、日栄加工（株）製）の粘着剤側を貼り合わせ、これにより第２実施形態について上述した光学フィルム３に係る粘着層４及びセパレータフィルムの積層体が、この片面の離型紙を剥がした粘着フィルムである転写フィルムを作成する。

〔画像表示パネルへの配置〕
得られた転写フィルムにおいて、１／２波長板用位相差層側の離型紙を剥がし、偏光板の吸収軸と１／４波長板用位相差層の遅相軸のなす角が反時計回りで１５度となるよう、偏光板（スミカラン、住友化学製）と貼り合わせ、さらに、１／４波長板用賦形樹脂層側の離型紙を剥がし、実施例１と同様に有機ＥＬ素子と貼り合わせた。この表示装置を、電力を印加せずに極角４５度から目視で観察したところ、円偏光板を貼り合わせる前は金属色が観察され、円偏光板を貼り合わせた後は金属光沢は認められず黒色に観察された。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。

すなわち上述の実施形態では、転写層側に粘着層を設けるようにして、この粘着層により直線偏光板と転写層とを一体化する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、この粘着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。また粘着層に代えて、紫外線硬化性樹脂等による接着剤層により一体化するようにしてもよい。

また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、ロール版により賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、１／２位相板、１／４位相板の何れか一方のみを光配向膜により作成してもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。

また上述の実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層４、セパレータの配置を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状により切り出した後に配置するようにしてもよい。

また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用する場合、さらには各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。

１ 画像表示装置
２ 画像表示パネル
３ 光学フィルム
４、７ 粘着層
５ 直線偏光板
６ １／４波長板
８ １／２波長板用位相差層
９ １／４波長板用位相差層
１０ １／４波長板用賦型樹脂層
１１ １／４波長板用配向膜
１２ １／２波長板用賦型樹脂層
１３ １／２波長板用配向膜
１５ 基材
１６ 光学機能層
２０、７０ 転写フィルム
２１ 支持体基材
２３、４２、７１ セパレータフィルム
３０、５０、６０ 製造工程
３１、３２、３３、４１、５１ 供給リール
３４ 剥離ロール
３６、４０、４４、５８、６８ 巻き取りリール
３８Ａ、３８Ｂ 押圧ローラ
３９ 剥離ローラ
４３Ａ、４３Ｂ、５４、６４ 加圧ローラ
５２、５８、６２、６９ ダイ
５３、６３ ロール版
５５、５７、６５、６７ 紫外線照射装置
５６、６６ 剥離ローラ

Claims (7)

1. 透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層と、
   前記転写層を保持する支持体とを備えた
   光学フィルム用転写体。
2. 前記支持体が、
   セパレータフィルムであり、
   前記転写層は、
   前記支持体により被覆される粘着層を備える
   請求項１に記載の光学フィルム用転写体。
3. 前記１／２波長板用位相差層及び１／４波長板用位相差層にそれぞれ対応する１／２波長板用配向膜及び１／４波長板用配向膜を備え、
   前記１／２波長板用配向膜及び１／４波長板用配向膜は、
   十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
   請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム用転写体。
4. 前記１／２波長板用配向膜及び１／４波長板用配向膜は、
   平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
   請求項１、請求項２、請求項３の何れかに記載の光学フィルム用転写体。
5. 透明フィルムによる基材と、
   直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
   １／４波長板としての機能を担う１／４波長板の光学機能層とが積層され、
   前記１／４波長板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４の何れかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である
   光学フィルム。
6. 請求項５に記載の光学フィルムを配置した
   画像表示装置。
7. 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
   透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用位相差層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層とを少なくとも有する多層構造による転写層を、前記転写層を保持する支持体上に形成する転写体の製造工程と、
   透明基材に、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と、
   前記直線偏光板の光学機能層に、前記転写体の製造工程で生産した前記支持体上の転写層を転写する転写工程とを備える
   光学フィルムの製造方法。