JP2014071381A - 光学フィルム用転写体、光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにする。
【解決手段】薄型の1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成する。このために、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層102と、1/2波長板用位相差層102と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層101とを有する転写層と、この転写層を保持する支持体基材301と、を備えるようにする。そして、1/2波長板用位相差層102を、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層とし、1/4波長板用位相差層101を、一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層とする。
【選択図】図3
【解決手段】薄型の1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成する。このために、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層102と、1/2波長板用位相差層102と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層101とを有する転写層と、この転写層を保持する支持体基材301と、を備えるようにする。そして、1/2波長板用位相差層102を、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層とし、1/4波長板用位相差層101を、一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層とする。
【選択図】図3
Description
本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関するものである。
従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、円偏光板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く円偏光板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。
この光学フィルムに関して、特許文献1等には、1/2位相差板、1/4位相差板を組み合わせて円偏光板を構成することにより、この光学フィルムを正の分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性により光学フィルムを構成することができる。
ところで有機ELパネルを使用した画像表示装置においては、近年、可撓性を有するシート形状によるものが提供されつつある。このような可撓性を有するシート形状による画像表示装置では、例えば全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で、画像を表示することができ、従来に比して一段と画像表示装置の適用分野を拡大し得ると考えられる。
ただし、全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で画像表示する場合には、従来に比して格段的に外来光の反射を低減することが必要になる。これによりこのような可撓性を有するシート形状による画像表示装置においては、上述の光学フィルムを配置することにより、外来光による影響を有効に回避することが必要であると考えられる。特に有機ELパネルでは、内部電極による外来光の反射が著しいことにより、この種の光学フィルムを適用することが望まれる。
しかしながら、従来の光学フィルムを単純に可撓性を有するシート形状の画像表示パネルに適用したのでは、画像表示パネルの可撓性を著しく損なう問題がある。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすること目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、転写の手法を適用して光学フィルムを作成することにより、全体の厚みを薄くする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
(1) 透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、
前記1/2波長板用位相差層と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層と、を少なくとも有する多層構造による転写層と、
前記転写層を保持する支持体と、を備え、
前記1/2波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記1/4波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である。
(1)によれば、1/2波長板用位相差層と1/4波長板用位相差層とが液晶層であり、直接接触するように構成されるので、転写層の薄膜化に有利な光学フィルム用転写体を提供することができる。
また、(1)によれば、液晶層のみが1/2波長板用位相差層、1/4波長板用位相差層を形成するので、別途配向膜を設ける必要がなく、転写層を製造するための工程数を少なくすることができる。
(2) 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項1に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である。
(2)によれば、(1)によって得られる効果に加え、円偏光板の薄膜化に有利であり、ひいては薄型の反射防止膜を構成できる光学フィルムを提供することができる。
(3) 複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
を備え、
前記円偏光板の光学機能層は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、前記1/2波長板用位相差層と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層と、を含み、
前記1/2波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記1/4波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である。
(3)によれば、(1)によって得られる効果に加え、基材のない円偏光板を積層体に転写して光学フィルムを構成することができるから、いっそう薄膜化に有利な光学フィルムを提供することができる。
(4) 請求項2または3に記載の光学フィルムを配置した画像表示装置。
(4)によれば、薄膜化された光学フィルムを配置することにより、表示画面の可撓性が損なわれることがない画像表示装置を提供することができる。
(5) 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透明基材に第1液晶材料を直接塗布する第1塗布工程と、
前記第1塗布工程において塗布された前記第1液晶材料を乾燥させる第1乾燥工程と、
前記第1乾燥工程において乾燥された前記第1液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第1結晶材料を配向させた状態で固化して第1位相差層を形成する第1位相差層形成工程と、
前記第1位相差層に第2液晶材料を直接塗布する第2塗布工程と、
前記第2塗布工程において塗布された前記第2液晶材料を乾燥させる第2乾燥工程と、
前記第2乾燥工程において乾燥された前記第2液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第2結晶材料を配向させた状態で固化して第2位相差層を形成する第2位相差層形成工程と、を含む。
(5)によれば、基材、あるいは第1位相差に液晶材料を直接塗布し、液晶材料を配向させて位相差層を形成することができる。このため、より少ない工程で光学フィルムを製造することができ、光学フィルムの製造にかかる効率を高め、コストを低減することができる。
(6) 前記第1位相差層が透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層であり、前記第2位相差層が透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層である。
(6)によれば、公知の技術よりも少ない工程で円偏光板を製造することができ、円偏光板を備える光学フィルムの製造にかかる効率を高め、コストを低減することができる。
(1) 透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、
前記1/2波長板用位相差層と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層と、を少なくとも有する多層構造による転写層と、
前記転写層を保持する支持体と、を備え、
前記1/2波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記1/4波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である。
(1)によれば、1/2波長板用位相差層と1/4波長板用位相差層とが液晶層であり、直接接触するように構成されるので、転写層の薄膜化に有利な光学フィルム用転写体を提供することができる。
また、(1)によれば、液晶層のみが1/2波長板用位相差層、1/4波長板用位相差層を形成するので、別途配向膜を設ける必要がなく、転写層を製造するための工程数を少なくすることができる。
(2) 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項1に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である。
(2)によれば、(1)によって得られる効果に加え、円偏光板の薄膜化に有利であり、ひいては薄型の反射防止膜を構成できる光学フィルムを提供することができる。
(3) 複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
を備え、
前記円偏光板の光学機能層は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、前記1/2波長板用位相差層と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層と、を含み、
前記1/2波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記1/4波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である。
(3)によれば、(1)によって得られる効果に加え、基材のない円偏光板を積層体に転写して光学フィルムを構成することができるから、いっそう薄膜化に有利な光学フィルムを提供することができる。
(4) 請求項2または3に記載の光学フィルムを配置した画像表示装置。
(4)によれば、薄膜化された光学フィルムを配置することにより、表示画面の可撓性が損なわれることがない画像表示装置を提供することができる。
(5) 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透明基材に第1液晶材料を直接塗布する第1塗布工程と、
前記第1塗布工程において塗布された前記第1液晶材料を乾燥させる第1乾燥工程と、
前記第1乾燥工程において乾燥された前記第1液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第1結晶材料を配向させた状態で固化して第1位相差層を形成する第1位相差層形成工程と、
前記第1位相差層に第2液晶材料を直接塗布する第2塗布工程と、
前記第2塗布工程において塗布された前記第2液晶材料を乾燥させる第2乾燥工程と、
前記第2乾燥工程において乾燥された前記第2液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第2結晶材料を配向させた状態で固化して第2位相差層を形成する第2位相差層形成工程と、を含む。
(5)によれば、基材、あるいは第1位相差に液晶材料を直接塗布し、液晶材料を配向させて位相差層を形成することができる。このため、より少ない工程で光学フィルムを製造することができ、光学フィルムの製造にかかる効率を高め、コストを低減することができる。
(6) 前記第1位相差層が透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層であり、前記第2位相差層が透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層である。
(6)によれば、公知の技術よりも少ない工程で円偏光板を製造することができ、円偏光板を備える光学フィルムの製造にかかる効率を高め、コストを低減することができる。
偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、配置対象物の可撓性を損なわないようにすることができる。
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
[光学フィルム及び画像表示装置]
図1は、本実施形態の光学フィルム1と、光学フィルム1が配置された画像表示装置100を示す図である。光学フィルム1は、画像表示装置100のディスプレイの表面(画像表示パネル面)に配置される。画像表示パネル5は、可撓性を有するシート形状による有機ELパネルである。
[光学フィルム及び画像表示装置]
図1は、本実施形態の光学フィルム1と、光学フィルム1が配置された画像表示装置100を示す図である。光学フィルム1は、画像表示装置100のディスプレイの表面(画像表示パネル面)に配置される。画像表示パネル5は、可撓性を有するシート形状による有機ELパネルである。
光学フィルム1は、偏光面の制御により、画像表示パネル5に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムであり、直線偏光板103、円偏光板104を積層して構成される。直線偏光板103と円偏光板104とは、粘着層121aによって貼り合わされている。
また、円偏光板104の画像表示パネル5と接する面(裏面)には粘着層121bが設けられている。粘着層121bから図示しないセパレータフィルムを剥離して粘着層121bを露出させ、画像表示パネル5の表面と接触させることにより、光学フィルム1が画像表示パネル5に貼り付けられる。なお、本実施形態の粘着層121a、121bは、感圧接着剤を塗布して形成された層である。
また、円偏光板104の画像表示パネル5と接する面(裏面)には粘着層121bが設けられている。粘着層121bから図示しないセパレータフィルムを剥離して粘着層121bを露出させ、画像表示パネル5の表面と接触させることにより、光学フィルム1が画像表示パネル5に貼り付けられる。なお、本実施形態の粘着層121a、121bは、感圧接着剤を塗布して形成された層である。
円偏光板104は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2位相差板として機能する部位(1/2波長板用位相差層と呼ぶ)102と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4位相差板として機能する部位(1/4波長板用位相差層と呼ぶ)101とを積層することによって構成される。本実施形態では、画像表示パネル5の表示画面側より、順次、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102、直線偏光板103が配置される。
円偏光板104は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、光学フィルム1は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。
円偏光板104は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、光学フィルム1は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。
図2は、図1に示した1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102、直線偏光板103の遅層軸を説明するための図である。図2に示したように、矢印により示す直線偏光板103の透過軸に対して、1/4波長板用位相差層101及び1/2波長板用位相差層102の遅相軸(それぞれ矢印により示す)が、それぞれ反時計回りに15度、73度の角度を成すように配置される。
より具体的には、1/4波長板用位相差層101の面内位相差(Re)は110nm以上、150nm以下であり、1/2波長板用位相差層102の面内位相差(Re)は235nm以上、285nm以下である。このような1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102により、光学フィルム1は、直線偏光板103側より入射する可視光域波長域(380〜780nm)の透過光に、楕円率0.8以上の円偏光を施して出射する。
円偏光板104は、画像表示パネル5側から順に設けられた、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102によって構成されている。1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102は、屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成されている。1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の表面には、賦型処理により表面に微細なライン状の凹凸が形成されている。以降、1/4波長板用位相差層101の凹凸を有する表面を賦型面101a、1/2波長板用位相差層102の凹凸を有する表面を賦型面102aと記す。
賦型面101a、賦型面102aの微細な凹凸は、一方向に延長するライン状(線)の凹凸によって形成される。賦型面101aのライン状の凹凸は、ラインが直線偏光板103の吸収軸(遅相軸)に対して反時計回りに73度の角度を成すように作成される。賦型面102aのライン状の凹凸は、ラインが直線偏光板103の吸収軸(遅相軸)に対して反時計回りに15度の角度を成すように作成される。
直線偏光板103は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材132の下面側が鹸化処理された後、光学機能層131が配置される。なお基材132は、これに代えてポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。
光学機能層131は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール(PVA)によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。
上記した円偏光板104において、1/4波長板用位相差層101の厚さは1μm程度である。1/2波長板用位相差層102の厚さは2μm程度、粘着層121bの厚さは15μm以下となる。このため、本実施形態では、円偏光板104の厚さを18μm以下とすることができる。また、直線偏光板103において、基材132の厚さは30μm程度であり、光学機能層131の厚さは20μm以下、粘着層121aの厚さは15μm以下となる。このため、本実施形態では、直線偏光板103の厚さを、65μm以下とすることができる。
上記した円偏光板104において、1/4波長板用位相差層101の厚さは1μm程度である。1/2波長板用位相差層102の厚さは2μm程度、粘着層121bの厚さは15μm以下となる。このため、本実施形態では、円偏光板104の厚さを18μm以下とすることができる。また、直線偏光板103において、基材132の厚さは30μm程度であり、光学機能層131の厚さは20μm以下、粘着層121aの厚さは15μm以下となる。このため、本実施形態では、直線偏光板103の厚さを、65μm以下とすることができる。
以上のことから、本実施形態では、全体の厚みが85μm以下の光学フィルム1を提供することができる。このような光学フィルム1は、十分な可撓性を確保することができる。
[転写体]
図1に示した円偏光板104は、粘着層121aを介して直線偏光板103と一体化され、光学フィルム1となる。円偏光板104と直線偏光板103とを一体化する処理には、転写法が適用される。
この転写法では、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。
図1に示した円偏光板104は、粘着層121aを介して直線偏光板103と一体化され、光学フィルム1となる。円偏光板104と直線偏光板103とを一体化する処理には、転写法が適用される。
この転写法では、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。
本実施形態では、直線偏光板103に、円偏光板104に係る層構成を転写法により積層する。このとき、被転写基材は直線偏光板103であり、転写に供する層(転写層)は賦型面101aを有する1/4波長板用位相差層101、賦型面102aを有する1/2波長板用位相差層102を積層した円偏光板104になる。
図3は、本実施形態の転写体である転写フィルム3の構成を示す図である。転写フィルム3は、支持体基材301上に、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を順次設けることによって構成される。
図3は、本実施形態の転写体である転写フィルム3の構成を示す図である。転写フィルム3は、支持体基材301上に、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を順次設けることによって構成される。
支持体基材301は、転写に供する層(転写層)を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。本実施形態では、支持体基材301に、例えば透明フィルム材であるPET(Polyethylene terephthalate)フィルムが適用される。支持体基材301に透明フィルム材を適用したことによって、転写フィルム3の光学特性の検査が可能になる。
なお、PETフィルムは、後述する離型層との間の密着力を調整するためにコロナ処理される。支持体基材301は、全体の形状をシート形状としてもよい。また支持体基材301は、PETフィルムに限定されるものでなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材301の厚みは、20〜100μmである。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、転写層側に剥離を促進する離型層を設けるようにしてもよい。
なお、PETフィルムは、後述する離型層との間の密着力を調整するためにコロナ処理される。支持体基材301は、全体の形状をシート形状としてもよい。また支持体基材301は、PETフィルムに限定されるものでなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお支持体基材301の厚みは、20〜100μmである。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、転写層側に剥離を促進する離型層を設けるようにしてもよい。
離型層としては、相対的に、支持体基材301との密着性は高く(剥離性は低く)、転写層との密着性は低い(剥離性は高い)材料を適用することができる。本実施形態では、離型層として、例えば、シリコン樹脂(有機珪素系高分子化合物)、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂(アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等)との混合物が用いられる。
なお、本実施形態では、コロナ処理したPETフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないPETフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないTACフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。
因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材301と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層としては、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く(剥離性は高く)、剥離層との密着性が高い(剥離性は低い)材料を適用することができる。より具体的には、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した2種以上の混合物、或いは以上の中から選択した1種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、1〜10μm程度である。また剥離層は、支持体基材301に設けられるものであっても、離型層に設けられるものであってもよい。
賦型面101aは、周側面に微細なライン状の凹凸が形成された賦型用金型(ロール版)を使い、1/4波長板用位相差層101の表面に凹凸を設けることによって作成される。また、賦型面102aは、周側面に微細なライン状の凹凸が形成されたロール版を使い、1/2波長板用位相差層102の表面に凹凸を設けることによって作成される。このような1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の詳細な製造方法については、後に説明する。
さらに転写フィルム3は、円偏光板104に係る転写層の上に、粘着層121a、セパレータフィルム302が設けられる。粘着層121aは、転写層と被転写基材とを接着するための層である。粘着層121aの材料としては、転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。本実施形態の粘着層121aには、例えば、アセチルセルロース(酢酸纖維素)、ニトロセルロース(硝酸纖維素又は硝化綿)、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース(纖維素)系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。粘着層121aの厚みは、1〜30μm程度である。
セパレータフィルム302は、粘着層121aの表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム302は、粘着層121aが露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。
[光学フィルムの製造工程]
図4は、光学フィルム1の製造工程を説明するための図であって、直線偏光板103と、図3に示した転写フィルム3とを一体化する工程を示している。この工程では、直線偏光板103に係る鹸化処理が施された基材132が供給リール403によって提供される。また、光学機能層131が供給リール404によって提供される。そして、転写フィルム3が供給リール406によって提供される。
図4は、光学フィルム1の製造工程を説明するための図であって、直線偏光板103と、図3に示した転写フィルム3とを一体化する工程を示している。この工程では、直線偏光板103に係る鹸化処理が施された基材132が供給リール403によって提供される。また、光学機能層131が供給リール404によって提供される。そして、転写フィルム3が供給リール406によって提供される。
転写フィルム3は、供給リール406から引き出され、剥離ローラ407によってセパレータフィルム302が剥離される。セパレータフィルム302の剥離により、粘着層121aを露出される。なお、剥離したセパレータフィルム302は、巻き取りリール405によって巻き取られる。
また、基材132は供給リール403から引き出され、光学機能層131に係るフィルム部材は供給リール404から引き出される。セパレータフィルム302が剥離された転写フィルム3は、光学機能層131に係るフィルム部材及び基材132と積層され、押圧ローラ402A、402Bによって押圧される。押圧された転写フィルム3(セパレータフィルム302剥離)、フィルム部材、基材132は一体化される。
また、基材132は供給リール403から引き出され、光学機能層131に係るフィルム部材は供給リール404から引き出される。セパレータフィルム302が剥離された転写フィルム3は、光学機能層131に係るフィルム部材及び基材132と積層され、押圧ローラ402A、402Bによって押圧される。押圧された転写フィルム3(セパレータフィルム302剥離)、フィルム部材、基材132は一体化される。
続いて、フィルム部材、基材132と一体化された転写フィルム3(セパレータフィルム302剥離)から支持体基材301が剥離ローラ408によって剥離される。剥離された支持体基材301は、巻き取りリール40によって巻き取られる。以上の工程により、図1に示した光学フィルム1が製造される。
光学フィルム1の支持体基材301が剥離された面には、後に粘着層121bとなる粘着剤が塗付される(図示せず)。粘着剤上に供給リール411から供給されたセパレータフィルム303が貼り付けられた後、光学フィルム1は加圧ローラ409A、409Bによって加圧され、巻き取りリール401によって巻き取られる。
光学フィルム1の支持体基材301が剥離された面には、後に粘着層121bとなる粘着剤が塗付される(図示せず)。粘着剤上に供給リール411から供給されたセパレータフィルム303が貼り付けられた後、光学フィルム1は加圧ローラ409A、409Bによって加圧され、巻き取りリール401によって巻き取られる。
[転写体の製造工程]
次に、図3、4に示した転写フィルム3の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、1/2波長板用位相差層102、1/4波長板用位相差層101を同じラインで製造するものとして説明している。ただし、1/2波長板用位相差層102、1/4波長板用位相差層101は異なるラインで製造されるものであってもよい。
図5は、転写フィルム3の製造工程を説明するための図である。本実施形態では、先ず、支持体基材301が供給リール501から引き出される。支持体基材301表面には、工程Aにおいて紫外線硬化型の液晶材料521が塗布される。
次に、図3、4に示した転写フィルム3の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、1/2波長板用位相差層102、1/4波長板用位相差層101を同じラインで製造するものとして説明している。ただし、1/2波長板用位相差層102、1/4波長板用位相差層101は異なるラインで製造されるものであってもよい。
図5は、転写フィルム3の製造工程を説明するための図である。本実施形態では、先ず、支持体基材301が供給リール501から引き出される。支持体基材301表面には、工程Aにおいて紫外線硬化型の液晶材料521が塗布される。
本実施形態では、液晶材料521の塗布を所謂グラビア印刷の手法を応用して行っている。この手法によれば、版胴503を液晶材料に浸漬し、回転させることによって液晶材料を支持体基材301との接触面に塗布する。支持体基材301の版胴503と接触する面の裏面には圧胴502が接触し、支持体基材301表面の液晶材料521の量が調整される。
液晶材料521が塗布された支持体基材301は、工程Bに送られる。工程Bでは、支持体基材301及び液晶材料521が乾燥炉505に送られて乾燥される。
液晶材料521が塗布された支持体基材301は、工程Bに送られる。工程Bでは、支持体基材301及び液晶材料521が乾燥炉505に送られて乾燥される。
以上の工程において、液晶材料521としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Aプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Aから工程Bに向かう支持体基材301及び液晶材料521の搬送速度を0.5m/min〜40m/min、工程Bにおける乾燥の温度を40度〜150度、乾燥時間を10秒〜180秒とする。なお、支持体基材301は150度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料521を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料521を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。
乾燥炉505を出た支持体基材301、液晶材料521は、工程Cに送られる。液晶材料521は、工程Cにおいて、図示しないニップロールに支持体基材301の裏面から押圧されながらロール版507の周面と接触する。ロール版507は、賦型面101aを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された(一定方向にラビングされた)賦型用金型である。
ロール版507の周面に乾燥された液晶材料521の表面が接触することにより、液晶材料521の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料521は、工程Cにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線(UV:ultraviolet)照射を受ける。液晶材料521は、紫外線照射によって硬化(固化)して1/4波長板用位相差層101となり、その表面が賦型面101aとなる。
ロール版507の周面に乾燥された液晶材料521の表面が接触することにより、液晶材料521の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料521は、工程Cにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線(UV:ultraviolet)照射を受ける。液晶材料521は、紫外線照射によって硬化(固化)して1/4波長板用位相差層101となり、その表面が賦型面101aとなる。
なお、工程Cにおいては、液晶材料521が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。温度調整により、液晶材料521がロール版507上で配向し、その状態で硬化する。なお、温度調整は、例えば、液晶材料521が、40度〜150度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材301上に、1/4波長板用位相差層101が直接形成される。支持体基材301及び1/4波長板用位相差層101は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
以上の工程により、支持体基材301上に、1/4波長板用位相差層101が直接形成される。支持体基材301及び1/4波長板用位相差層101は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
次に、1/4波長板用位相差層101上に1/2波長板用位相差層102が形成される。このため、本実施形態では、工程Dにおいて、巻き取りリール508に巻き取られた支持体基材301及び1/4波長板用位相差層101が引き出される。引き出された1/4波長板用位相差層101上には、版胴503及び圧胴502によって液晶材料522が塗布される。なお、液晶材料522の塗布は、液晶材料511の塗布と同様に行われるものとする。
液晶材料522が塗布された支持体基材301及び1/4波長板用位相差層101は、工程Eに送られる。工程Eでは、支持体基材301、1/4波長板用位相差層101、液晶材料522(以下、液晶材料522等とも記す)が乾燥炉505に送られて乾燥される。
以上の工程において、液晶材料522としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Aプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Dから工程Eに向かう液晶材料522等の搬送速度を0.5m/min〜40m/min、工程Eにおける乾燥の温度を40度〜150度、乾燥時間を10秒〜180秒とする。なお、支持体基材301は150度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料522を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。
以上の工程において、液晶材料522としては、例えば、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、具体的にはメルク社製Aプレート形成材料が考えられる。また、本実施形態では、工程Dから工程Eに向かう液晶材料522等の搬送速度を0.5m/min〜40m/min、工程Eにおける乾燥の温度を40度〜150度、乾燥時間を10秒〜180秒とする。なお、支持体基材301は150度に加熱されても損なわれることがない。
このようにすることにより、本実施形態では、液晶材料522を、後の賦型処理に適した硬度にすることができる。
乾燥炉505を出た液晶材料522等は、工程Fに送られる。工程Fでは、ロール版507が、周面がロール版507とは異なる方向にラビングされているロール版517に交換されている。なお、ロール版507の交換は、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とを同じラインを使って製造する場合に行われる。
液晶材料522等は、工程Fにおいて、図示しないニップロールに裏面から押圧されながらロール版517の周面と接触する。ロール版517は、賦型面102aを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された(一定方向にラビングされた)賦型用金型である。
ロール版517の周面に乾燥された液晶材料522の表面が接触することにより、液晶材料522の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料522は、工程Fにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線照射を受ける。液晶材料522は、紫外線照射によって硬化(固化)して1/2波長板用位相差層102となり、その表面が賦型面102aとなる。
液晶材料522等は、工程Fにおいて、図示しないニップロールに裏面から押圧されながらロール版517の周面と接触する。ロール版517は、賦型面102aを形成するための微細な凹凸が周側面に形成された(一定方向にラビングされた)賦型用金型である。
ロール版517の周面に乾燥された液晶材料522の表面が接触することにより、液晶材料522の表面に微細な凹凸が形成される。液晶材料522は、工程Fにおいて、凹凸が形成された状態のまま、紫外線照射を受ける。液晶材料522は、紫外線照射によって硬化(固化)して1/2波長板用位相差層102となり、その表面が賦型面102aとなる。
なお、工程Cにおいては、液晶材料521が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。温度調整により、液晶材料521がロール版507上で配向し、その状態で硬化する。なお、温度調整は、例えば、液晶材料521が、40度〜150度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材301上に、1/2波長板用位相差層102が直接形成される。支持体基材301及び1/2波長板用位相差層102は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
以上の工程により、支持体基材301上に、1/2波長板用位相差層102が直接形成される。支持体基材301及び1/2波長板用位相差層102は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
ロール版517周面と液晶材料522の表面とが接触することによって液晶材料522の表面に賦型面102aが形成される。また、液晶材料522は、工程Fにおいて紫外線(UV:ultraviolet)照射を受けて硬化する。賦型面102aの形成及び硬化により、液晶材料522が1/4波長板用位相差層101となる。
本実施形態では、工程Fにおいて、工程Cと同様に、液晶材料522が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。この際の温度調整は、例えば、液晶材料522が、40度〜150度になるように行われる。
本実施形態では、工程Fにおいて、工程Cと同様に、液晶材料522が相転移温度以上の温度になるように温度調整をしながらUV照射を行うものとする。この際の温度調整は、例えば、液晶材料522が、40度〜150度になるように行われる。
以上の工程により、支持体基材301の上に円偏光板104が形成される。支持体基材301及び円偏光板104は、巻き取りリール508によって巻き取られる。
図示しない次の工程において、円偏光板104上には粘着層121aが形成される。粘着層121a上には、セパレータフィルム302が配置され、図3に示した転写フィルム3が完成する。
図示しない次の工程において、円偏光板104上には粘着層121aが形成される。粘着層121a上には、セパレータフィルム302が配置され、図3に示した転写フィルム3が完成する。
以上説明した本実施形態によれば、1/2波長板用位相差層102の上(図2に示した画像表示パネル5を最下面とする)に直接1/4波長板用位相差層101を設けることにより、構成を簡略化し、さらには全体形状を薄型化して十分な可撓性を確保することができる。
また、本実施形態によれば、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102以外の部材を含まず、最小限の厚みの円偏光板104を形成することができる。なお、このような本実施形態の具体的な効果については、後に述べるものとする。
また、本実施形態によれば、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102以外の部材を含まず、最小限の厚みの円偏光板104を形成することができる。なお、このような本実施形態の具体的な効果については、後に述べるものとする。
[適用例]
図6(a)、(b)は、以上説明した本実施形態の転写フィルム3が適用される反射防止膜を例示した図である。図6(a)に示した反射防止膜は、図3に示した転写フィルム(セパレータフィルム302、粘着層121a剥離)の支持体基材301のうち、円偏光板104が設けられていない面に感圧接着剤(PSA)601、TAC(トリアセチルセルロース)602、ポリビニルアルコール(PVA)603、TAC604、ハードコート材(HC)605を積層して構成されている。
図6(a)、(b)は、以上説明した本実施形態の転写フィルム3が適用される反射防止膜を例示した図である。図6(a)に示した反射防止膜は、図3に示した転写フィルム(セパレータフィルム302、粘着層121a剥離)の支持体基材301のうち、円偏光板104が設けられていない面に感圧接着剤(PSA)601、TAC(トリアセチルセルロース)602、ポリビニルアルコール(PVA)603、TAC604、ハードコート材(HC)605を積層して構成されている。
なお、図6(a)の反射防止膜において、感圧接着剤601は紫外線硬化型の接着剤であってもよい。また、TAC602は、アクリル樹脂性のフィルム、あるいはZero Retardation TAC(Z−TAC)であってもよい。
また、図6(a)に示した反射防止膜において、TAC602を設けないように構成することも可能である。
図6(b)に示した反射防止膜は、図3に示した転写フィルム(セパレータフィルム302、粘着層121a剥離)を、感圧接着剤601、TAC602、ポリビニルアルコール603、TAC604、ハードコート材605の積層体に転写して構成されたものである。図6(b)に示した反射防止膜は、支持体基材301がないため、図6(a)に示した反射防止膜よりも膜の薄膜化に有利である。
また、図6(a)に示した反射防止膜において、TAC602を設けないように構成することも可能である。
図6(b)に示した反射防止膜は、図3に示した転写フィルム(セパレータフィルム302、粘着層121a剥離)を、感圧接着剤601、TAC602、ポリビニルアルコール603、TAC604、ハードコート材605の積層体に転写して構成されたものである。図6(b)に示した反射防止膜は、支持体基材301がないため、図6(a)に示した反射防止膜よりも膜の薄膜化に有利である。
[効果]
以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、樹脂材料の表面を直接賦型処理して1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成することができる。また、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とが直接接するように1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成することができる。
以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、樹脂材料の表面を直接賦型処理して1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成することができる。また、1/4波長板用位相差層101と1/2波長板用位相差層102とが直接接するように1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を形成することができる。
このため、本実施形態は、より薄膜化に有利であり、配置対象物の可撓性を損なわない光学フィルム、光学フィルム用転写体を提供することができる。また、本実施形態は、このような光学フィルムが配置された画像表示装置を提供することができる。
さらに、以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、例えば、1/4波長板用位相差層、1/2波長板用位相差層等の位相差相が、例えば液晶層と配向層とを別途形成する公知の技術よりも少ない工程で光学フィルムを製造することができる。
このため、本実施形態は、光学フィルム、光学フィルム用転写体の生産性を高め、製造にかかるコストをも低減することができる。
さらに、以上説明した本実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、例えば、1/4波長板用位相差層、1/2波長板用位相差層等の位相差相が、例えば液晶層と配向層とを別途形成する公知の技術よりも少ない工程で光学フィルムを製造することができる。
このため、本実施形態は、光学フィルム、光学フィルム用転写体の生産性を高め、製造にかかるコストをも低減することができる。
[実験例]
本発明の発明者らは、本実施形態の反射防止フィルムの効果を以下の実験によって検証した。以下、実験の条件を具体的に説明する。
実験では、先に作成されているTAC基材上の1/2波長板用位相差層に1/4波長板用位相差層を形成した(1/2波長板用位相差層の角度15度、1/4波長板用位相差層75度)。1/4波長板用位相差層の形成は、以下の手順で行われた。
TAC原反上に形成された1/2波長板用位相差層の片面にミヤバー液晶(メルク社RMM899)を塗工し、80℃、1分間のオーブン乾燥によって乾燥させ、室温冷却した。さらに、表面が45度ラビングされたバラード版(表面温度65℃〜67度にプレヒート済み)にハンドローラでラミネートし、TAC原反の側から紫外線照射し、液晶層をTAC原反から剥離した。
本発明の発明者らは、本実施形態の反射防止フィルムの効果を以下の実験によって検証した。以下、実験の条件を具体的に説明する。
実験では、先に作成されているTAC基材上の1/2波長板用位相差層に1/4波長板用位相差層を形成した(1/2波長板用位相差層の角度15度、1/4波長板用位相差層75度)。1/4波長板用位相差層の形成は、以下の手順で行われた。
TAC原反上に形成された1/2波長板用位相差層の片面にミヤバー液晶(メルク社RMM899)を塗工し、80℃、1分間のオーブン乾燥によって乾燥させ、室温冷却した。さらに、表面が45度ラビングされたバラード版(表面温度65℃〜67度にプレヒート済み)にハンドローラでラミネートし、TAC原反の側から紫外線照射し、液晶層をTAC原反から剥離した。
上記した実験によって作成された液晶層をOLEDパネルに貼り付けたところ、外光反射機能を有することが確認できた。また、上記実験において、TAC基材をPETに変更しても、同様に外光反射防止機能を持った円偏光板を得ることができた。
なお、本実験では、1/2波長板用位相差層の紫外線照射量が少なくすることによって液晶層の反応率が下がり、ハーフキュアのような状態になり、1/4波長板用位相差層との密着性が向上することが分かった。
なお、本実験では、1/2波長板用位相差層の紫外線照射量が少なくすることによって液晶層の反応率が下がり、ハーフキュアのような状態になり、1/4波長板用位相差層との密着性が向上することが分かった。
[他の実施形態]
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
すなわち、上述の実施形態では、転写層側に粘着層を設け、この粘着層によって直線偏光板と転写層とを一体化している。しかし、本発明はこれに限らず、粘着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
すなわち、上述の実施形態では、転写層側に粘着層を設け、この粘着層によって直線偏光板と転写層とを一体化している。しかし、本発明はこれに限らず、粘着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。
また、上述の実施形態では、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102となる液晶材料をグラビア印刷の手法で塗布している。しかし、本発明はこれに限らず、ダイコーター、マイクログラビア、コンマコーターを使って液晶材料を基材に塗布するものであってもよい。
また上述の実施形態では、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102に紫外線硬化性樹脂を適用しているが、本発明はこれに限らず、熱硬化樹脂を使って1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を製造することもできる。
また上述の実施形態では、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102に紫外線硬化性樹脂を適用しているが、本発明はこれに限らず、熱硬化樹脂を使って1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を製造することもできる。
また上述の実施形態では、ロール版により1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102を賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。
また上述の実施形態では、賦型処理により1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の表面を配向膜としているが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102のいずれか一方のみを光配向膜により作成してもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。
また上述の実施形態では、賦型処理により1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102の表面を配向膜としているが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、1/4波長板用位相差層101、1/2波長板用位相差層102のいずれか一方のみを光配向膜により作成してもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。
また上述の実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層121b、セパレータフィルム303を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状に切り出した後、転写フィルム3上に配置するようにしてもよい。
また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用することができる。さらには、各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。
また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用することができる。さらには、各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。
1 光学フィルム
3 転写フィルム
5 画像表示パネル
100 画像表示装置
101 1/4波長板用位相差層
101a,102a 賦型面
102 1/2波長板用位相差層
103 直線偏光板
104 円偏光板
121a、121b 粘着層
131 光学機能層
132 基材
301 支持体基材
302,303 セパレータフィルム
3 転写フィルム
5 画像表示パネル
100 画像表示装置
101 1/4波長板用位相差層
101a,102a 賦型面
102 1/2波長板用位相差層
103 直線偏光板
104 円偏光板
121a、121b 粘着層
131 光学機能層
132 基材
301 支持体基材
302,303 セパレータフィルム
Claims (6)
- 透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、
前記1/2波長板用位相差層と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層と、を少なくとも有する多層構造による転写層と、
前記転写層を保持する支持体と、を備え、
前記1/2波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記1/4波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である
光学フィルム用転写体。 - 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層の上に、請求項1に記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である
光学フィルム。 - 複数の光学膜を積層して構成された積層体と、
前記積層体に転写された円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層と、
を備え、
前記円偏光板の光学機能層は、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層と、前記1/2波長板用位相差層と直接接触し、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層と、を含み、
前記1/2波長板用位相差層は、一定の方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層であり、前記1/4波長板用位相差層は、前記一定の方向と異なる方向に延長する複数のライン状の凹凸が表面に形成された液晶層である
光学フィルム。 - 請求項2または3に記載の光学フィルムを配置した
画像表示装置。 - 偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透明基材に第1液晶材料を直接塗布する第1塗布工程と、
前記第1塗布工程において塗布された前記第1液晶材料を乾燥させる第1乾燥工程と、
前記第1乾燥工程において乾燥された前記第1液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第1結晶材料を配向させた状態で固化して第1位相差層を形成する第1位相差層形成工程と、
前記第1位相差層に第2液晶材料を直接塗布する第2塗布工程と、
前記第2塗布工程において塗布された前記第2液晶材料を乾燥させる第2乾燥工程と、
前記第2乾燥工程において乾燥された前記第2液晶材料の表面を賦型処理し、当該賦型処理に係る賦型用金型による配向規制力により前記第2結晶材料を配向させた状態で固化して第2位相差層を形成する第2位相差層形成工程と、を含む
光学フィルムの製造方法。 - 前記第1位相差層が透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用位相差層であり、前記第2位相差層が透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用位相差層である
請求項5に記載の光学フィルムの製造方法。
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JP2012218757A JP2014071381A (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 光学フィルム用転写体、光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 |
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- 2012-09-28 JP JP2012218757A patent/JP2014071381A/ja active Pending
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