JP2013542402A - 時計ムーブメントの可動構成要素又は時計のばね−テンプ組立体の、発振周波数調整及び/又は慣性調整及び/又はバランス修正のための方法 - Google Patents
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Abstract
材料の除去及び/又は追加及び/又は置換を、上記組立体の構成要素上で、変換手段のパルスの効果の下で行い、上記構成要素又は追加材料の材料への精密機械加工及び/又は微細融合操作を、上記材料を気化及び/又は置換及び/又は溶接するために行い、上記パルスは、いずれのパルスを生成し、連続させ、中断するために配設された、及び変換手段のビームの動きを制御するために配設された、制御手段によって制御され、上記制御手段を、測定若しくは比較手段に接続するか、又は上記測定若しくは比較手段で自動的に制御する。
【選択図】図1
Description
−可動であるか、又は
−時計ムーブメントに一体化されているか、又は
−可動であり、かつ時計ムーブメントに一体化されている、
構成要素の動的な制御及び調整を管理することができるかどうかに関わるため、その困難さは二重のものである。
−可動であるか、
−時計ムーブメントに一体化されているか、又は
−可動であり、かつ時計ムーブメントに一体化されている。
−上記ばね−テンプ組立体の前進又は遅延を、所望の発振周波数に対して評価する;
−材料を除去及び/又は追加及び/又は置換するべき少なくとも1つの特定の領域を画定するよう、上記制御手段をプログラムし、場合に応じて、前進を生成する必要がある場合の第1の代替例では、上記テンプの上記リム、又は、上記テンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくはネジに上記領域を画定し、遅延を生成する必要がある場合の第2の代替例では、上記ゼンマイばねの少なくとも1つのコイルに上記領域を画定する;
−場合によって、上記テンプ上の材料を除去して慣性を削減することで前進を生成する、又は上記ゼンマイばねに材料を追加して上記ゼンマイばねの剛性を改変することで前進を生成する、又は上記テンプ若しくは上記ゼンマイばねの材料を置換することで前進を生成する、又は上記テンプに材料を追加して慣性を増大させることで遅延を生成する、又は上記ゼンマイばね上の材料を除去して上記ゼンマイばねの剛性を改変することで遅延を生成する、又は上記テンプ若しくは上記ゼンマイばねの材料を置換することで遅延を生成するように、上記制御手段をプログラムする。
-上記ばね−テンプ組立体の前進又は遅延を、所望の発振周波数に対して評価する;
-材料を除去及び/又は追加及び/又は置換するべき少なくとも1つの特定の領域を画定するよう、上記制御手段をプログラムし、場合に応じて、前進を生成する必要がある場合の第1の代替例では、上記テンプの上記リム、又は、上記テンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくはネジに上記領域を画定し、遅延を生成する必要がある場合の第2の代替例では、上記ゼンマイばねの少なくとも1つのコイルに上記領域を画定する;
-場合によって、上記テンプ上の材料を除去して慣性を削減することで前進を生成する、又は上記ゼンマイばねに材料を追加して上記ゼンマイばねの剛性を改変することで前進を生成する、又は上記テンプ若しくは上記ゼンマイばねの材料を置換することで前進を生成する、又は上記テンプに材料を追加して慣性を増大させることで遅延を生成する、又は上記ゼンマイばね上の材料を除去して上記ゼンマイばねの剛性を改変することで遅延を生成する、又は上記テンプ若しくは上記ゼンマイばねの材料を置換することで遅延を生成するように、上記制御手段をプログラムする。
−前進を生成する必要がある場合の第1の代替例では、テンプのリム、又は、このテンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくはネジに領域を画定する;
−又は、遅延を生成する必要がある場合の第2の代替例では、ゼンマイばねの少なくとも1つのコイルにこの領域を画定する。
−テンプ上の材料を除去して慣性を削減することで前進を生成する、
−又は、ゼンマイばね上の材料を除去してゼンマイばねの剛性を改変することで遅延を生成する、
−又は、テンプに材料を追加して慣性を増大させることでも遅延を生成する、
−又は、ゼンマイばねに材料を追加してゼンマイばねの剛性を改変することでも前進を生成する。
−一方で測定及び/若しくは比較段階と、他方で機械加工及び/若しくは材料の追加及び/若しくは材料の置換段階との間の遅れた処置、又は
−ある機械加工又は材料の微量追加若しくは材料の置換操作の実行の間に、ある測定及び/若しくは比較操作を実行することによる、同時若しくは半同時処置。
有利に達成される。
−簡素な構成では、この動きは1つの平面内で起こり、レーザ又はピコレーザの方向を、レーザ又はピコレーザのこのパルスシーケンスの間、構成要素の枢軸に関して半径方向の平面内で動かす。例えば、ばね−テンプの慣性及び/又はバランス修正の調整の場合、この平面は有利には、テンプの枢軸と平行に選択され、リムの環状部分、又は好ましくは、この用途に割り当てられたスタッドに対する精密機械加工操作のパターンは、斜め又は放射状の破線の形状をとり、この形状はビームとテンプの2つの動きの組み合わせに由来しており、選択した平面がテンプの軸に関して半径方向である場合、及びこの平面内でのビームの移動速度がテンプの旋回速度より有意に高い場合、直線に近づく;
−特別な構成及び簡素かつ好ましい適用では、ビームが構成要素の枢軸と平行なままであるように、レーザ又はピコレーザのビームの方向を動かす;
−他の構成では、レーザ又はピコレーザのビームの方向を、レーザ又はピコレーザのこのパルスシーケンスの間、構成要素の枢軸に関して半径方向の平面を包含する空間で三次元的に動かし、この空間は例えばスキャン円錐内である。よって、得られるパターンは、複数の輪がもつれたものに近い;
−更なる構成では、レーザ又はピコレーザのビームの方向を、レーザ又はピコレーザのこのパルスシーケンスの間、三次元的に動かし、空間内のあらゆる点に到達するには、2つの鏡を角度的に制御するだけで実際には十分であるが、この三次元的な動きは、3軸数値制御機の動きに相当する。得られるパターンは、ここでも複数の輪がもつれたものに近いが、ビームと構成要素それぞれの速度ベクトルを考慮した特定のプログラミングにより、所定のグリッドに従って精密機械加工を行うことができる。
−ゼンマイばねのゼンマイ状部分の少なくとも1つのコイルを尖滅することによって、ゼンマイばねの剛性を改変することで:及び/又は
−上記ゼンマイばねがコイルを1つだけ有する場合には少なくともその終端部の捩れ部分を尖滅することによって、ゼンマイばねの剛性を改変することで、
遅延を生成することができる。
(a)テンプのリムの環状部分、又は場合に応じて、ばね−テンプのコイル若しくは終端カーブ領域の幅と同等のサイズの領域の連続的な切除、及び
(b)アンバランスを最小化するのに適切な振幅を有するばね−テンプ組立体。
脱進機が生成するノイズをマイクロフォンで捕捉することによる音響的方法、テンプのアーム及びアームの粗度を検出してリムの位置、速度及び加速度を決定することによる光学的方法、又はその他のあらゆる方法。
dm=kdt
kdt=f(θ)dθ
A(t)=A0sin(ωt)
Claims (27)
- 時計ムーブメントの可動構成要素又は時計のばね−テンプ組立体の、発振周波数の調整及び/又は慣性調整及び/若しくはバランス修正のための方法であって、
前記構成要素又は前記組立体の少なくとも1つの構成要素において、少なくとも1つの変換手段を用いて、材料の除去及び/又は材料の追加及び/又は材料の置換を行うことであって、前記変換手段は、前記構成要素若しくは前記組立体の少なくとも1つの構成要素の材料及び/又は少なくとも1つの追加材料の材料に対して、それぞれ精密機械加工及び/又は微細融合操作を行い、これによって少なくとも1つの追加材料を、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素上に、前記変換手段の少なくとも1つのパルスの効果の下で、それぞれ気化及び/又は昇華及び/又は置換及び/若しくは溶接するための、少なくとも1つのレーザ又はプラズマ源を備えること、並びに、
前記少なくとも1つの変換手段のいずれのパルスを生成し、連続させ、中断するために配設された制御手段によって、前記少なくとも1つのパルスを制御することであって、前記制御手段を、前記変換手段から放出される少なくとも1つのビームの動きを制御するためにも配設し、また、前記制御手段を、測定若しくは比較手段に接続するか、又は前記測定若しくは比較手段で自動的に制御すること
を特徴とする、方法。 - 前記測定又は比較手段を、前記構成要素又は前記組立体が動いている間、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素の測定を行うよう配設することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記制御手段を、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素の表面の少なくとも1つの特定の領域を画定するようプログラムし、この領域で、材料を除去及び/又は追加及び/又は置換すること、並びに、
前記制御手段を、前記変換手段の高平均周波数の少なくとも1つのパルスシーケンスを生成し、これによって、前記領域にわたって、前記少なくとも1つの変換手段が放射したビームが連続して衝突する少なくとも1つのラインを生成するようプログラムすること
を特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記高平均パルス周波数は、100kHz〜500kHzの範囲内であることを特徴とする、請求項3に記載の方法。
- 生成される前記パルスの数は、106〜1010の範囲であることを特徴とする、請求項3又は4に記載の方法。
- 前記構成要素又は組立体又は前記変換手段のビームの方向は、前記少なくとも1つのパルスシーケンスの間、動くことを特徴とする、請求項3〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 少なくとも1つの前記構成要素若しくは組立体は、前記少なくとも1つのパルスシーケンスの間、動くか、又は、前記変換手段のビームの方向は、前記少なくとも1つのパルスシーケンスの間、動くことを特徴とする、請求項3〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記構成要素又は前記組立体は、前記変換手段の前記少なくとも1つのパルスシーケンスの間、その慣性主軸の周りで枢動すること、及び
前記測定又は比較手段を、前記構成要素又は前記組立体の慣性主軸に関して、前記構成要素の動的慣性を測定又は比較する目的で使用すること
を特徴とする、請求項4〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 単一の変換手段を使用し、振幅安定化手段を使用して、各パルスシーケンスの行程の間、前記構成要素又は前記組立体の前記枢動動作を、一定の振幅の発振に維持することを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 前記振幅は、137°又は316.5°の値の角度で安定化されることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 単一の変換手段を使用し、振幅安定化手段を使用して、各パルスシーケンスの行程の間、前記変換手段が放出する少なくとも1つのビームの動きを、前記構成要素又は前記組立体の枢動と共に維持することを特徴とする、請求項9又は10に記載の方法。
- 少なくとも2つの前記変換手段を使用し、そのビームの動きは、前記構成要素の前記慣性主軸を通る平面に関して、又は前記構成要素の前記慣性主軸に関して対称であることを特徴とする、請求項3〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記構成要素又は前記組立体の少なくとも1つの構成要素内の材料の置換を、局所的な溶融、その後の溶融領域の置換、更にそれに続く冷却による固化によって行うか、又は、熱処置中に若しくは外力の影響下で、内部負荷を生成若しくは解除することによって行うか、又は変形可能な領域若しくはラグ若しくはピンを曲げることによって行うか、又は材料を広げることによって行うことを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記材料の置換を、局所的な溶融、その後の溶融領域の置換、更にそれに続く冷却による固化によって行い、前記溶融した材料の前記置換は、重力によって、又は調整操作中の遠心力の作用によって、又は磁力及び/若しくは静電気力による牽引力の効果によってことを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- 前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素を形成する材料の物理的状態の局所的な変化を、そのジオメトリ及び/又は密度を局所的に改変することによってその慣性を改変するために実施することを特徴とする、請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法。
- 前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素上での前記材料の除去及び/又は材料の追加及び/又は材料の置換を、時計ムーブメント内の前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素について行うことを特徴とする、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
- 前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素上での前記材料の除去及び/又は材料の追加及び/又は材料の置換を、時計ムーブメントのばね−テンプ内の前記構成要素について行うことを特徴とする、請求項1〜16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記変換手段として少なくとも1つのレーザ又はピコレーザを選択し、前記レーザ又はピコレーザの少なくとも1つのパルスの効果の下での微細彫刻によって、材料の除去を実施し、これによって、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素の固体材料を、昇華によって気体流へと直接変換すること、及び
前記少なくとも1つのレーザ又はピコレーザによる処理中、前記構成要素の両側に気圧差を確立して、これによって前記昇華に関わる気体及び/又は廃棄材料を排出すること
を特徴とする、請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法。 - 時計のばね−テンプ組立体の発振周波数調整のための、請求項1〜18のいずれか1項に記載の方法であって、
前記ばね−テンプ組立体は、ひげ玉において互いに接着されている周縁部のリム及び少なくとも1つのゼンマイばねを備える、少なくとも1つのテンプを備え、
前記ばね−テンプ組立体はバランス軸の周囲で枢動可能であり、
前記ばね−テンプ組立体の発振周波数調整を行うために材料の除去及び/又は追加及び/又は置換を行うこと、並びに
−前記ばね−テンプ組立体の前進又は遅延を、所望の発振周波数に対して評価し;
−前記材料を除去及び/又は追加及び/又は置換するべき少なくとも1つの特定の領域を画定するよう、前記制御手段をプログラムし、場合に応じて、前進を生成する必要がある場合の第1の代替例では、前記テンプの前記リム、又は、前記テンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくはネジに前記領域を画定し、遅延を生成する必要がある場合の第2の代替例では、前記ゼンマイばねの少なくとも1つのコイルに前記領域を画定し;
−場合によって、前記テンプ上の材料を除去して慣性を削減することで前進を生成する、又は前記ゼンマイばねに材料を追加して前記ゼンマイばねの剛性を改変することで前進を生成する、又は前記テンプ若しくは前記ゼンマイばねの材料を置換することで前進を生成する、又は前記テンプに材料を追加して慣性を増大させることで遅延を生成する、又は前記ゼンマイばね上の材料を除去して前記ゼンマイばねの剛性を改変することで遅延を生成する、又は前記テンプ若しくは前記ゼンマイばねの材料を置換することで遅延を生成するように、前記制御手段をプログラムする、
第1のプロセスを含むこと
を特徴とする、請求項1〜18のいずれか1項に記載の方法。 - 前記領域への微細彫刻操作を繰り返すことによって前記テンプにおいて前進を生成し、これによって、前記測定又は比較手段で制御可能な所望の周波数値を達成するよう、及び、前記測定又は比較手段で制御可能な所望の値に関する、その慣性主軸に対する前記ばね−テンプのバランス修正のために、前記領域への前記微細彫刻操作を生成するよう、前記制御手段をプログラムし、並びに、前記ゼンマイばねの少なくとも1つのコイルを、及び/又は前記ゼンマイばねがコイルを1つだけ有する場合にはその終端部の捩れ部分を尖滅するために、前記変換手段の少なくとも1つのパルスシーケンスの作用下で行われる微細彫刻により、前記ゼンマイばねの結晶構造又は熱伝導率を改変しないまま剛性を改変することで、遅延を生成するよう、前記制御手段をプログラムすることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 前記第1のプロセスは、所定の許容公差内で所望の発振周波数に達するまで繰り返される第1の反復プロセスであることを特徴とする、請求項19又は20に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの領域を、一方で前記テンプ又は前記テンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくは調整ネジにおいて、他方で是機ゼンマイばねのゼンマイ部分又は終端カーブにおいて、金属表面のみから形成されるように画定すること、及び、
必要に応じて前進又は遅延を補正できるこのような金属表面が存在しない場合、第2のプロセスが実装され、前記第2のプロセスにより、場合によって前記テンプ及び/又は前記ゼンマイばね上での補正能力を再生成するよう、前記アンバランスの調整を行い、前記第2のプロセスによって、前記第1のプロセスを、許容公差内で所望の発振周波数が得られるまで再び続行すること
を特徴とする、請求項20又は21に記載の方法。 - 最初の静的及び動的バランス修正を前記ばね−テンプ組立体に対して行い、その慣性主軸を前記テンプ軸と一致させ、許容公差内で所望の慣性値を得ることを特徴とする、請求項19〜22のいずれか1項に記載の方法。
- 発振周波数を調整するための請求項1〜23のいずれか1項に記載の方法を実装するために配設されるインデックス組立体を有さない、時計のばね−テンプ組立体であって、
アフターサービスにおける標準的な工具を使用できる形態に作製され、かつ、同一であり、同一の直径若しくは異なる直径に配置されるよう構成されているか、異なっており、同一の直径若しくは異なる直径に配置されるよう構成されている、複数の慣性ブロック、又は、溶融した材料を置換又は再配置するための1つ若しくは複数の閉鎖された内部チャンバ、又は、表面層若しくは犠牲部分、又は、外力の印加によって負荷を解除することができる予備負荷領域、又は、熱処置の影響の下で異なる物理的状態をとることができる領域、又は、帯電及び/若しくは帯磁領域、又は、可変負荷を分散させるためポリメタル領域を備えることを特徴とする、時計のばね−テンプ組立体。 - 請求項1〜23のいずれか1項に記載の方法を実装するためのデバイスであって、
前記デバイスは、前記変換手段を形成する少なくとも1つのレーザ又はピコレーザ源と、前記レーザ又はピコレーザの少なくとも1つのパルスシーケンスを生成し、連続させ、中断するために配設される、前記源のための制御手段を備え、前記制御手段はまた、前記レーザ若しくはピコレーザが放出する少なくとも1つのビームの動き又は前記源自体の動きを制御するためにも配設され、また、前記デバイスは、前記制御手段に結合される測定及び比較手段と、特に慣性及び/又は発振周波数のための測定又は比較手段と、精密機械加工される構成要素又は組立体のための把持及び支持手段と、前記制御手段に結合される、前記構成要素又は前記組立体を枢動させるための駆動手段と、前記構成要素又は前記組立体の枢動を、一定の振幅の発振に維持するための振幅安定化手段と、を備えること、並びに
前記デバイスは、気圧差による材料の昇華に関連する気体及び/又は廃棄材料を排出するための手段を備えること
を特徴とする、デバイス(1)。 - 前記レーザ又はピコレーザ(2)が放出する少なくとも1つのビーム(20)の動きを、振幅安定化手段(8)の枢動と同期させることにより、前記少なくとも1つのレーザ又はピコレーザ源が放出する各パルスシーケンスの行程の間、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも1つの構成要素の枢動を維持するための同期手段(9)を備えることを特徴とする、請求項25に記載のデバイス。
- 前記レーザ若しくはピコレーザが放出する前記ビームを分割するための手段を備え、前記制御手段はこの分割によって生まれる各ビームを制御するよう配設されること、及び/又は
複数の前記レーザ若しくはピコレーザ源を備え、前記制御手段は前記レーザ若しくはピコレーザ源の各ビームを制御するよう配設されること
を特徴とする、請求項25又は26に記載のデバイス。
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