JP2013524316A - ベゼルレスな弾性波タッチ装置 - Google Patents

ベゼルレスな弾性波タッチ装置 Download PDF

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Abstract

表面弾性波(レイリー波タイプまたはラブ波タイプ)を伝搬させることができる基板を含んだ弾性波タッチ装置が供される。基板は、正面側の表面、背面側の表面、正面側の表面と背面側の表面との間に形成された湾曲した接続表面を有している。また、本発明の弾性タッチ装置は、少なくとも1つの弾性波トランスデューサーおよび少なくとも1つの反射アレイを有している。弾性波トランスデューサーおよび反射アレイは、基板の背面側表面の背後に設けられている。弾性波トランスデューサーは、反射アレイへと表面弾性波を送信することができたり、あるいは、反射アレイから表面弾性波を受信することができたりする。反射アレイは、基板の湾曲した接続表面を介して表面弾性波が基板の背面側の表面から伝搬または正面側の表面を横切るように伝搬するように、表面弾性波を弾性的に結合させることができる。本発明の特定の態様に従ってエッジ感知タッチ機能を有する種々の弾性波タッチ装置を供すことができる。

Description

関連出願の相互参照
本願は、米国特許出願第13/012,513(2011年1月24日出願)および米国特許出願第12/732,132号(2010年3月25日)の優先権を主張する。
発明の分野
本発明は、弾性タッチセンサー・システムの分野に関する。より詳細には、本発明は、表面弾性波タッチスクリーン、タッチモニターまたはタッチ計算デバイスに関する。
タッチスクリーンまたはタッチモニターなどのタッチセンサー・システムは、情報案内所、コンピューター、レストランのオーダーエントリー・システム、ビデオ・ディスプレイ、標識、モバイル機器などの用途に用いられる双方向コンピューター・システムのための入力デバイスとして機能し得る。タッチセンサー・システムまたはタッチスクリーンは、コンピューター機器に組み込まれており、それゆえ、コンピューター、ビデオ・ディスプレイ、標識またはモバイル機器を含む相互に作用するタッチ可能なコンピューター機器として利用される。
有力なタッチセンター技術は、抵抗式、容量式および弾性波式の技術である。表面弾性波を用いる超音波タッチセンサーなどの弾性波タッチセンサーは、タッチ感知表面の耐久性が高く表示画像の光学的劣化が最小となることが求められる用途では特に有用である。
多くの弾性波タッチセンサーが存在する。例えば、弾性波タッチスクリーンの1つとして、平行な表面結合波またはプレート波を同時に発生させる基板の第1周縁面に沿って位置付けられたトランスミッターのアレイを有するタッチ基板を含んでいる(平行な表面結合波またはプレート波は、基板の第2周縁面の第1アレイとは反対側に位置付けられた対応する検出器のアレイへとパネルを通って直接的に伝搬する)。トランスデューサー・アレイの別の対は、第1セットに対して直角の角度を成して基板表面に設けられている。あるポイントで基板表面をタッチすると、そこを通過する波が減衰するので、トランスデューサー・アレイの2つのセットからの出力を解析することによって、タッチ座標を示すことができる。このような種類の弾性波タッチ位置センサーは、WO94/02911(トダ)に開示されており、かかる文献の内容は引用することにより本明細書に含まれる。
弾性波タッチセンサーの別の例は、アドラータイプ(Adler-type)の弾性波タッチスクリーンである。かかる弾性波タッチスクリーンは、位置表示として信号を空間的に広げて摂動の一時的な側面を解析することによって、トランスデューサーを効率的に用いている。従って、典型的な矩形のタッチスクリーンは、トランスデューサーを2セット含んでいる。かかる2セットのトランスデューサーの各々は、基板によって規定される物理的なデカルト座標系のそれぞれの軸に対して整列した異なる軸を有している。弾性波パルスまたはパルス列は、1つのトランスデューサーによって発生させられ、反射要素のアレイと交差する軸に沿って伝搬する(例えば、狭いレイリー波として伝搬する。尚、反射要素は、45°の角度を成し、弾性波パルスの波長の整数に応じて離隔されている)。アレイにおける各々の反射要素は、軸に垂直な経路に沿う波の一部を反射させて、それによって、
タッチ検知のための基板の正面側表面に広いタッチ領域を超えて反対側の反射要素およびトランスデューサー(第1のアレイおよびトランスデューサーと鏡像関係にある反射要素およびトランスデューサー)へと波を向かわせる(尚、アレイの次の反射要素への通過を可能としつつ波反射が行われる)。鏡像関係にあるアレイのトランスデューサーは、双方のアレイの反射要素によって反射させられ、発せられたパルスに対して非平行にされた「徐々に変化する波部分」の重ね合わされた部分から成る弾性波を受信する。このようにして、減衰した波が生じた座標位置を特徴付ける時間分散情報を維持しつつ、弾性波は集められる。センサーのアクティブ領域における波経路は特徴的な時間遅れを有しており、それゆえ、タッチ検知領域をタッチする物体によって減衰された波経路は、複合的にリターンする波形態にて減衰の時間的タイミングを測定することによって判明し得る。アレイおよびトランスデューサーの第2のセットは、第1のセットに対して直角を成すように設けられ、同様に作動させられる。びトランスデューサーの軸は基板の物理的な座標軸に対応し、リターンする波の減衰の時間的タイミングが、基板上の位置のデカルト座標を示す。座標は、減衰物体の二次元的なデカルト座標位置を決定するためにシーケンス的に決定される。表面へのタッチが表面でパワー密度を有する表面拘束波またはプレート波を減衰させるという原理に基づいてシステムは作動している。基板を横切るように移動する波の減衰によって、特徴的な時間的な期間にて受信トランスデューサーへ影響を及ぼす波の対応する減衰が引き起こされる。従って、コントローラーは、座標位置を決定するために減衰の一時的な特徴を検知することのみを必要とする。測定は、デカルト座標位置を決定するために、シーケンス的に2つの軸に沿って行われる。また、アドラータイプのタッチセンサーにてボーダー幅を減じるべく、弾性波のガイド効果を利用することは知られている。米国特許第4,642,423号、同4,644,100号、同4,645,870号、同4,700,176号、同4,746,914号、再発行特許第33,151号、同第6,636,201号を参照されたい(尚、かかる文献の内容は引用することにより本明細書に含まれる)。
弾性波タッチシステムのこれらの例は、典型的には、基板の表面上および基板の表面に沿って配置された多くの操作可能な要素(マルチプルなトランスデューサー、あるいは、1つのトランスおよび反射アレイ)を有している。外界環境または外的物体からの露出に起因した損傷を防止するために、これらの周縁に設けられる操作可能な要素は、ベゼルによって隠されて保護される(ベゼルは、基板の正面側表面に設けられたこれらの要素が覆われ封止されるように設けられる。それゆえ、基板表面のアクティブなタッチ領域のみが可能なタッチ入力のために露出している)。このような種類の弾性波タッチシステムは、アクティブなタッチ領域(タッチセンサーの下方でディスプレイと重なっている透明なタッチセンサーの一部)に対してのみタッチ入力処理されることに制限されている。
タッチシステム・デバイスの市場では、デバイスの美観のみならず頑丈性や信頼性(かかるデイバスの特徴的な機能の信頼性)がますます重要になってきている。それゆえ、かかるデバイスのタッチスクリーンの周縁部に設けられるベゼルのサイズを小さくするために、種々の試みが行われている。しかしながら、タッチ・デバイスは、常套的にはデバイスの正面にベゼルを依然有している(ベゼルの形状プロファイルが低減したり、および/またはボーダー幅が薄くなったりしているといえども、タッチ・デバイスは依然ベゼルを有している)。
それゆえ、アクティブなタッチ領域に設けられるタッチ機能を超える付加的なタッチ機能特徴が供されるベゼルレスな(またはベゼルが少ない若しくはベゼルがない、bezel-les)弾性波タッチシステムを有することが望まれている。
特定の態様によれば、本発明では、弾性タッチ装置が供される。かかる本発明の弾性タッチ装置は、表面弾性波を伝搬させることができる基板を含んでいる。基板は、正面側の表面、背面側の表面、正面側の表面と背面側の表面との間に形成された湾曲した接続表面を有している。また、本発明の弾性タッチ装置は、少なくとも1つの弾性波トランスデューサーおよび少なくとも1つの反射アレイを有している。弾性波トランスデューサーおよび反射アレイは、基板の背面側の表面の背後に設けられている。前記弾性波トランスデューサーは、反射アレイへと表面弾性波を送信することができたり、あるいは、反射アレイから表面弾性波を受信することができたりする。反射アレイは、基板の湾曲した接続表面を介して基板の背面側の表面と正面側の表面との間にて表面弾性波が伝搬するように、表面弾性波を弾性的に結合させることができる。
本発明のかかる又は他の態様を十分に理解するために、添付図面で例示されるような種々の特定の態様についての詳細な説明を参照されたい(尚、図面は実際のスケールとはなっていない)。
図1は、本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーまたは弾性波タッチスクリーンの簡略化された断面図である。 図2(a)および図2(b)は、それぞれ、本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの正面側図および背面側図である。 図3(a)〜3(c)は、本発明の種々の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の異なるように湾曲した接続表面の一部断面図である。 図3(d)は、図3(a)の異なるように湾曲した接続表面上を移動する表面弾性波の性能をレジする実験測定図である。 図3(e)は、図3(b)の異なるように湾曲した接続表面上を移動する表面弾性波の性能をレジする実験測定図である。 図3(f)は、図3(c)の異なるように湾曲した接続表面上を移動する表面弾性波の性能をレジする実験測定図である。 図3(g)は、本発明の特定の態様に従って使用され得るグライディング・ツール17で製造される弾性波タッチセンサーの基板の不適切に処理されたエッジの一部断面図である。 図3(h)は、本発明の別の特定の態様に従って使用され得るグライディング・ツール18で製造される弾性波タッチセンサーの基板の処理されたエッジの一部断面図である。 図3(i)および3(j)は、本発明の更なる特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の異なるように構成された湾曲した接続表面の一部断面図である。 図4は、本発明の別の特定の態様に従った弾性波タッチ・デバイスの簡略化された断面図である。 図5は、本発明の別の特定の態様に従った弾性波タッチ・デバイスの展開斜視図である。 図6(a)および6(b)は、それぞれ、本発明の特定の態様に従ったベゼルレスな波タッチ・デバイスのためのコーナー構成および取付けスキームの一部断面図および一部平面図である。 図6(c)は、本発明の別の特定の態様に従ったベゼルレスな弾性波タッチセンサーのためのコーナー構成および取付けスキームの一部断面図である。 図6(d)は、本発明の特定の態様に従った案内所システムなどの別のシステムの一部として供されるベゼルレスな弾性波タッチセンサーの正面図である。 図6(e)は、本発明の特定の態様に従った案内所システムなどの別のシステムの一部として示されたベゼルレスな弾性波タッチ・センサー(面一取り付けの直前)の封止スキームの一部断面スライスの斜視図を示している。 図6(f)は、図6(e)の態様に従った案内所システムなどの別のシステムの一部として取り付けられるように示されたベゼルレスな弾性波タッチセンサーの取付けスキームの一部断面スライスの斜視図を示している。 図6(g)および図6(h)は、本発明の他の特定の態様に従った案内所システムなどの別のシステムの一部として取り付けられるように示されたベゼルレスな弾性波タッチ・デバイスのための2つの他の取付けスキームの一部断面スライスの斜視図を示している。 図7は、本発明の本発明の特定の態様に従ったエッジ感知タッチ機能を備えたベゼルレスな弾性波タッチ・デバイス(タッチモニターなど)の斜視図である。 図8(a)および図8(b)は、それぞれ、本発明の別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の正面側図および背面側図である。 図9(a)および図9(b)は、それぞれ、本発明の更に別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の正面側図および背面側図である。 図10(a)および図10(b)は、それぞれ、本発明の更に別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の正面側図および背面側図である。 図11(a)〜11(d)は、それぞれ、本発明の別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の正面側図および背面側図である。 図12(a)および図12(b)は、それぞれ、本発明の更に別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板の正面側図および背面側図である。図12(c)は、図12(a)および図12(b)に関連する本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板のび背面側表面のコーナーの平面図(一部拡大図)である。 図13は、本発明の特定の態様に従って弾性的に良性な層の厚さの関数として弾性波タッチセンサーの波速度をプロットしたグラフである。
特定の態様の詳細な説明
本発明では、タッチスクリーンや他のタッチセンサーまたはタッチ・デバイス(例えば、タッチ・コンピューター、タッチディスプレイ、標識またはモバイルタッチデバイス)であり得るタッチセンサー装置が供される。かかるタッチセンサー装置では、“表面弾性波”を発生させるために弾性波トランスデューサー(たとえば圧電要素)が使用されている。ここでいう“表面弾性波”は、レイリータイプの波、ラブタイプの波または他の表面拘束弾性波を意味している。
レイリー波は、タッチ表面に拘束されていることに起因して、タッチ表面で有用なパワー密度を維持している。レイリー波は、垂直方向の波成分および横断方向の波成分を有する波であって(基板粒子が波伝搬の軸を含む垂直面にて楕円パスに沿って動く)、また、基板深さが深くなるにつれて波エネルギーが減少する波である。剪断力と圧力・張力の双方はレイリー波に関連している。数学的にいえば、レイリー波は、半無限媒質においてのみ存在する。有限厚さの実際の基板では、生じる波は、より正確には“疑似レイリー波”と称される。ここで、レイリー波は理論的にのみ存在するので、かかるレイリー波は疑似レイリー波を示している。技術的な目的のためには、基板が3レイリー波波長または4レイリー波波長の厚さを有していれば十分であり、それによって、目的とする距離にわたってレイリー波伝搬がサポートされる。
レイリー波と同様、ラブ波は「表面拘束波」である。即ち、ラブ波は、ある表面によって拘束またはガイドされた波であって、基板が十分に厚いならば他の基板の他の面によっては影響されない。レイリー波と違って、ラブ波の粒子運動は水平的である。即ち、ラブ波の粒子運動は、タッチ面に平行であり、伝搬方向に垂直である。剪断力のみがレイリー波に関連する。
記載の点に鑑みて、レイリータイプの波を用いるアドラータイプの弾性波タッチスクリーンを特定の態様に従って説明する。しかしながら、他の態様では、アドラータイプでない弾性波タッチスクリーンまたは他のタイプの表面弾性波(ラブ波など)を用いる弾性波タッチスクリーンが用いられ得る。
図1は、弾性波タッチセンサーまたは弾性波タッチスクリーン1を簡略的に表した断面図である。図2(a)および2(b)は、それぞれ、本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図2(a)は、弾性波タッチセンサーの正面側の表面10の平面図であるが、そこでは、図2(b)に関連するフレームが点線で示されている。図2(b)は、弾性波タッチセンサーの背面側の表面15の平面図であるが、そこでは、トランスデューサー35が実線で示されている。更にフレームについては、図2(a)および2(b)ではX−Y座標軸が示されている。
図1に示されるように、タッチセンサー1は、正面側の表面10、背面側の表面15、および、「湾曲した接続表面20(正面側の表面10の周縁部14と背面側の表面15とを結合する接続表面20)」を有している。かかる「湾曲した接続表面20」は、図3(a)〜3(f)に関連して以下で更に説明される。正面側の表面10は、ノミナル・タッチ領域(または公称領域もしくは名目領域、nominal touch region)13を有しており、かかるノミナル・タッチ領域13上にて物体(object)30が接触してグラフィック・ユーザー・インターフェース(背面側の表面15の背後に位置しているディスプレイ(図示せず)に示されているグラフィック・ユーザー・インターフェース)に従って入力が供される。ノミナル・タッチ領域13は、正面側の表面10の一部と規定されるものであって、ベゼルによって典型的にはカバーされていない常套的な表面弾性波タッチセンサーのためのアクティブタッチ領域と常套的にみなされる正面側の表面10の内側部分と規定される。ノミナル・タッチ領域13は、図2(a)に点線内で示されている領域であり、周縁部14は、ノミナル・タッチ領域13の外部にある正面側の表面10の一部である。常套的な表面弾性波タッチセンサーにおいて、表面側の表面10の周辺領域14はベゼルによってカバーされていない。物体30は、図1にて“指”の形態として示されているものの、弾性波によって検知される“タッチ”は、ある特定の態様に従って、カバーシートまたは非反射コーティングを介して直接的または間接的に正面側の表面にスタイラスで押圧することを含んでいる。弾性波トランスデューサー35および反射要素アレイ40は背面側の表面15に設けられている。
特定の態様では、タッチセンサー1は、表示デバイスの正面側(背面側の表面15に面している正面側)に一般的に配置される矩形状のタッチスクリーンである。タッチスクリーンは、典型的には、多くの機能を有するコントロール・システム(図示せず)と関連している。まず、電子信号が生じ、それによってトランスデューサーが駆動させられ、表面弾性波(複数の波から成るセット)を生じる。そして、トランスデューサーが複数の波から成るセットを受信し、それを電気信号に変える。かかる電気信号は、低レベル制御システムで比較的高いデータ速度を有する重要な情報を有しているが、それが受信される。多くの態様では、受信された信号に含まれる相情報をキャプチャーすることは必要ではない。従って、コントローラーおよび/またはプロセッサーが、配線またはリードを介してタッチセンサー1の種々のトランスデューサー35へと連結されており、それによって、表面弾性波の伝達および受信が制御され、また、タッチ座標および位置情報を検知すべく波形態の摂動が処理される。尚、本明細書における「コントローラー」は、励起信号が生じたり、タッチスクリーンから信号が受信されたりするように、ファーム・ウエアを備えたマイクロプロセッサーを典型的に含む電子機器やその類の電子機器を意味している。コントローラーおよび/またはプロセッサーは、タッチ座標および位置情報を、ディスプレイに示されるユーザー・インターフェースの適当な制御作用へとマッピングする。
特定の態様に従った本発明の一般的な構造および動作は、図1、図2(a)、図2(b)および他の図面に関連して更に以下で説明され得る。
本発明の特定の態様に従えば、基板は、矩形または非矩形(六角形プレートなど)のフラット・プレートとして形成されていてよい。ある態様では、伝搬基板5は、フラット・パネルまたは低曲率パネルから構成されている。別法にて、基板は、円筒形、球形、楕円表面または断面表面として1つまたは2つの軸に沿って湾曲したものであってよく、あるいは、別の形態を有していてもよい。他の特定の態様では、大きな立体角の球形基板および完全な円筒形の基板も可能であり、基板5の正面側の表面10および背面側の表面15は、平坦またはフラットというよりもむしろ湾曲したものとなっている。他の態様では、中央が刳り抜かれた形態(例えば、ドーナツ構造またはフレーム型構造)となって内側エッジおよび外側エッジにて湾曲した接続表面20を有する基板5であってもよい。例えば、多角形のタッチセンサーには、各サイド部に反射アレイが設けられており、各頂点部にトランスデューサーが設けられている。本発明は、標準的な矩形センサーの幾何学的形状に必ずしも限定されるわけではない。本出願の目的に鑑みると、基板は、単一の一体構造である必要はなく、むしろ均一性もしくは非均一性の要素を弾性的に結合して組み合わせたものであってもよい(例えば、ラブ型の波では、異なる密度を有する内側材料と外側材料を備えた複合基板であってよい)。送信トランスデューサーから受信トランスデューサーに至るまでの弾性波パスは、製造プロセスの一部として一体的に結合された基板領域をオプション的に通過するものであってよい。
基板5は、表面弾性波が伝搬することができる表面を有する伝搬媒体として機能する。伝搬媒体の種類は特に制限されるわけではないが、表面弾性波(特に超音波表面弾性波)が伝搬することができるパネルが用いられる。パネルの表示エリアは、タッチ可能な座標入力幅を含んでおり、横方向において対称的な形状を有するように一般に形成されている。例えば、上記態様で触れたように、横方向において直線的に対称な形状(特に矩形状)として形成されている。特定の態様では、パネルとして構成されている伝搬媒体基板5は、タッチパネル下に配されたディスプレイを可視状態にするために透明性を一般に有している。
好ましい伝搬媒体は透明で等方性である。本発明の種々の態様に従えば、タッチスクリーン、タッチモニターまたはタッチ・コンピューター型デバイスのための「基板を形成するための適当なガラス」には、ソーダ石灰ガラス;ホウ素含有ガラス(例えばホウケイ酸ガラス)、バリウム含有ガラス、ストロンチウム含有ガラス、ジルコニウム含有ガラス、鉛含有ガラス;クラウンガラスが含まれる。ある態様に従えば、好ましい透明基板の例としては、スコット(Scott)から販売されているB270(登録商標)ガラス、旭ガラス株式会社から販売されているPD200ガラスであってよく、または、表面弾性波伝搬のロスが少なく良好な信号が得られるガラスが含まれる。
タッチスクリーンとして使用されないタッチセンサーの他の形態(例えば、電子ホワイトボードまたはタッチパッド)としては、弾性波ロスが許容される他の不透明な基板材料を用いてよい(例えば、制限されるわけではないが、アルミニウムやスチールを用いてよい)。有利には、アルミニウムまたは他の金属がエナメル(比較的遅い弾性波位相伝搬速度を有するエナメル)を用いてコートされ得るので、正面側の表面10にて高いタッチ感度(水平剪断プレート波モードのよりも高いタッチ感度)を有するラブ波がサポートされる。ある条件では、適当な基板5が、弾性波ロスが少ないポリマーから形成されてもよい。また、適当な基板は、不均一な弾性波性質を有する積層体または基板から形成されてもよい。有利には、積層体は、正面側の表面に濃縮された弾性波エネルギーを有するラブ波の伝搬をサポートし得る(例えば、ホウケイ酸ガラスまたはスコットB270と、ソーダ石灰ガラスとの積層体、あるいは、アルミニウム上にエナメルが設けられた積層体であってよい)。
本発明では種々のタイプのトランスデューサーが用いられ得る。トランスデューサーは、エネルギーを一方から他方へと変換する物理的要素または要素のセットである。これには、弾性波モード間の変換や、電気エネルギーと弾性波エネルギーとの間の変換が含まれる。典型的には、弾性波トランスデューサーの一部を構成する弾性的な放射構造または感知構造は、限定されるわけでないが、圧電要素である。例えば、特に電子−弾性波トランスデューサー、光−弾性波トランスデューサー、磁気−弾性波トランスデューサー、弾性波−弾性波トランスデューサー(エネルギーを一方の弾性波モードから別の弾性波モードへと変換するタイプのトランスデューサー)、熱−弾性波トランスデューサーを利用することができ、使用することができる。好ましくは、超音波ウェッジ型トランスデューサーが送信用および受信用のレイリー波またはラブ波のために背面側の表面15に設けられてもよい。ある態様では、櫛形電極トランスデューサーなどの圧電トランスデューサー(表面に形成された導体を有する矩形の角柱圧電セラミックから構成された圧電トランスデューサー)は、基板5の背面側の表面15に形成されたセラミック要素または金属電極のフラットな面を取り付けることによって背面側の表面15に弾性的に結合するように用いられ得る。選択されるトランスデューサーは、受信された波および特定寸法の特定の基板上でのタッチに関連する摂動が適切に検知され、座標データを確かめることができるように、十分な大きさの表面弾性波を伝えることができるものである。
反射要素のアレイ40は、表面弾性波を回折または散乱させることができる規則的な間隔または空間的増加を有している。既知であるアドラー型のタッチセンサー設計は、所定の角度で弾性波をコヒーレントに反射させるために反射アレイを用いており、そこでは入射角度が反射角に等しくなっている。反射アレイ要素は相互に平行となるように一般に形成されており、反射部材の角度または反射アレイ要素の各々は、X軸およびY軸の方向に表面弾性波(レイリー型の波など)を伝搬させるために、一般的にX軸またはY軸に対して一般的に約45°になっている。本発明では、背面側の表面15の反射アレイ40は、送信トランスデューサーから送られてきた表面弾性波がある場合にかかる波を「湾曲した接続表面20」に向かって外側へと方向付けるように形成された反射要素や、受信トランスデューサーに向かって「湾曲した接続表面20」からくる表面弾性波を集めるように形成された反射要素を有している。米国特許第5,591,945号(参照することによって本明細書に組み込まれる)で知られているように、反射アレイ要素は他の角度で傾いたものであってもよく、それによって、タッチスクリーンのための非矩形波パスが生じたり、あるいは、入射波と反射波との間のモード変換(例えば、疑似レイリー波からラブ波への変換)がされる。
反射アレイは多くの方法で形成することができる。例えば、プリンティング、エッチング、金属基板のスタンピンなどで反射アレイを形成することができ、あるいは、ポリマー基板に対しては型による造形で反射アレイを形成することができる。既知の反射アレイは、ソーダ石灰ガラス・シートまたは他の基板材料上にシルク・スクリーンされたガラス・フリットから一般的に形成されたり、フロート法によって形成されたり、***したガラス・インターラプションの山形パターンを形成すべくオーブンで硬化に付すことによって形成される。これらのインターラプションは、典型的には、弾性波波長の1%のオーダーの高さまたは深さを有しており、それゆえ、弾性波エネルギーの一部のみを反射させる。受信トランスデューサーにて均等化された弾性波エネルギーを供するために反射要素の間隔は、送信トランスデューサーからの離隔距離が増すにつれ減少するものであってよい。あるいは、弾性波の透過率と反射要素の反射率との間のバランスを変えてもよく、それによって、送信トランスデューサーからの離隔距離が増すにつれ反射率の増加が可能となる。タッチセンサーは表示デバイスの正面に一般に配置されるので、また、反射アレイは一般に光学的に見ることができるので、反射アレイは基板の正面側の表面の周縁部(ノミナル・タッチ領域の外側)に常套的に位置付けられており、ベゼル下において隠され保護されれている。しかしながら、本発明では、反射アレイ40は基板5の背面側の表面に形成されており、基板5の正面側の表面10はその周縁部に保護ベゼルを必要としていない。
図2(a)および2(b)を参照すると、本発明の1つの特定の態様では、基板にて圧電要素を検知波へと結合するためにトランスデューサー35を用いたアドラー型タッチスクリーン・システムが供される。従って、タッチセンサー1は、表面弾性波が伝搬することができる「横方向に対称な表示エリア」を有する基板5を有して成る座標入力デバイス・システムを供している。典型的な4つのトランスデューサーを備えたアドラー型システムのように、2対のトランスデューサー35は、X軸およびY軸のそれぞれに供されているが、正面側の表面10に設けられることに代えて、トランスデューサー35は基板5の背面側の表面15に設けられている。特に、送信トランスデューサー35aはY軸送信エリアに設けられており、送信トランスデューサー35bはX軸送信エリアに設けられており、かかる送信エリアは背面側の表面15にある。背面側表面15のY軸送信エリアに対向するY軸受信エリアに設けられた受信トランスデューサー35cは、正面側表面10のタッチのX座標を検知するためのものである。即ち、送信トランスデューサー35aおよび受信トランスデューサー35cはY座標のタッチ位置を検知するために使用され、送信トランスデューサー35bおよび受信トランスデューサー35dはX座標のタッチ位置を検知するために使用される。各々のトランスデューサー35は、弾性波を対称的に送信または受信する。2つのトランスデューサー対は、座標系を規定するために直角に配置されている。
また、タッチセンサーは、対を成すY軸反射アレイ40aおよび40b、および、対を成すX軸反射アレイ40cおよび40dを含んでおり、正面側の表面10に設けられる代わりに、反射アレイ40は基板5の背面側の表面15に設けられる。一般的に、表面弾性波は、反射アレイがパネルの周縁エッジ付近に設けられている軸に沿うことになるように送信トランスデューサーから送られる。反射アレイの要素は、各々、弾性波の部分をパネルを横切るように進行する検知波へと結合させ、アレイの近傍要素へと送り、全体的なタッチ検知領域から分散した検知波を、トランスデューサーへと結合する狭い弾性波ビームへと結合させる。一般に、システムは、送信弾性波トランスデューサー35および反射アレイ40によってバースト(burst)の形態で短時間の超音波信号を送信する。尚、送信弾性波トランスデューサー35および反射アレイ40によって、表面15から外側に向かって送信された信号が、「湾曲した接続表面20」を周り、ノミナル・タッチ領域13を有する正面側の表面を横切って、対向する「湾曲した接続表面20」を周り、背面側の表面15へと内側に向かって進行し、反射アレイ要素を通過して受信トランスデューサー35へと送られる。反射アレイ40aおよび40cは弾性波ディスパーサーとして機能する一方、反射アレイ40bおよび40dは、弾性波コレクターとして機能する。システム・コントローラーは、受信された信号を時間ベースに沿って(along the time base)解析し、正面側表面のノミナル・タッチ領域13内において示されたタッチ座標(図2(a)に示されるように進行パスが交差している箇所)を検知する。図2(a)および図2(b)の特定の態様では、表面弾性波を用いるXYタッチセンサーが供されている。
特に、表面弾性波は、「反射アレイ40aが基板5の背面側票面15の周縁エッジ付近に供されているマイナス(−)のY軸方向」に沿うように送信トランスデューサー35aから発せられ進行する。図2(a)および2(b)にて検知波進行パスを示す実線矢印から分かるように、反射アレイ40aの要素は、各々、弾性波の一部を反射させたり、検知波と結合させる:かかる波は、基板5の最も近い接続表面20に向かって、それを周るように、プラス(+)のX軸方向に沿って外側に向かって進行する、そして、正面側の表面を横切るようにプラス(+)のX軸方向に沿って進行し、対向する湾曲した接続表面20に向かい、それを周ることになるように背面側表面15のマイナス(−)のX軸方向アレイ40bの方向に進行して、そして、プラス(+)のY軸方向にて反射アレイ40bに沿って進行して受信トランスデューサーへと向う。同様に、表面弾性波は、「反射アレイ40cが基板5の背面側票面15の周縁エッジ付近に供されているマイナス(−)のX軸方向」に沿って送信トランスデューサー35bから発せられ進行する。図2(a)および2(b)にて検知波進行パスを示す実線矢印から分かるように、反射アレイ40cの要素は、各々、弾性波の一部を反射させたり、検知波と結合させる:かかる波は、基板5の最も近い接続表面20に向かって、それを周るように、マイナス(−)のY軸方向に沿って外側へと反射アレイ40cから進行する、そして、正面側の表面を横切るようにプラス(+)のY軸方向に沿って進行し、対向する湾曲した接続表面20に向かい、それを周るように背面側表面15のマイナス(−)のY軸方向アレイ40dの方向に進行して、そして、プラス(+)のX軸方向にて反射アレイ40dに沿って進行して受信トランスデューサー35cへと向う。
湾曲した接続表面20を周るように表面弾性波が進行することについては、図3(a)、3(b)および3(c)に関連してより詳細に説明する。尚、図3(a)、3(b)および3(c)は、本発明の種々の特定の態様に従って、弾性波タッチセンサーの基板の「異なるように湾曲したエッジ接続表面」の一部断面図である。参照することによって本明細書に組み込まれる米国特許第6,567,077号では、(下記の面取り部を介して)伝搬媒体の正面側表面から背面側表面へと又は背面側表面から正面側表面へと弾性波が方向転換および伝搬することができるように搬媒体基板の面取りしたまたは丸みを帯びた端部もしくはコーナー面(弾性波の方向が変わる部分)が記載されている。米国特許第6,567,077号の図1および図2で見られるように、球形状伝搬媒体の表面上にて伝搬する弾性波などは、領域の中央を含む平面に沿って領域を切断することによって形成された断面外形に対応し、円柱形状伝搬媒体の表面上を進行する波は、伝搬媒体の表面にて空間的に進行する。このように、弾性波は、伝搬媒体の湾曲した表面を通過するように進行することによってその方向を変えることができる(波損失は無視できるほどである)。米国特許第6,567,077号の図3および図4は、半径Rの半球形断面が形成されるように面取りされた伝搬媒体の丸みを帯びた周縁エッジ部を示している。
図3(a)は、米国特許第6,567,077号の図4で示される半球形断面と同様、基板5の厚さTの半分の長さの半径Rを有する「伝搬媒体または基板5の丸みを帯びた部分20」を示している。半径Rを有する半球形断面では、伝搬媒体の丸みを帯びた部分の長さbはRに等しく、それは、T/2に等しい(Tがレイリー波の波長λの5倍であると想定される場合)。しかしながら、本願発明者らは、伝搬媒体の湾曲面を通過する表面弾性波の方向の変換(大きな損失がない変換)には半球形断面が必要ないことを決定した。図3(b)から分かるように、湾曲表面20の個々の半径Rが約T/4となるように基板5のシャープな上側エッジおよび底側エッジを丸くすることによって、半球形断面の長さbよりも相当に小さい長さbを有する基板表面20が得られる。更に、図3(c)から分かるように、湾曲表面20の個々の半径Rが約T/8となるようにシャープな上側エッジおよび底側エッジを更に変更することによって、図3(a)および図3(b)の場合よりも更に小さい長さbを有する基板表面20が得られる。
本願発明者らは、R(またはb)がT/2(またはT=5λに対して5λ/2)に増加して近づくにつれ、湾曲表面20が表面弾性波の送信にとって幾分良好となる一方、R(またはb)がT/8に減少して近づき、表面弾性波の波長よりも相当に大きく維持されると、タッチセンサーのボーダー領域が望ましく小さくなる。従って、かかる好適な事項はトレードオフの関係にあり、コスト因子が考慮される。ある特定の好適な態様では、Rは約T/4〜約T/8となるように選択される。十分な受信信号があり、他の設計制約を満たしさえすれば、半径RはT/8未満であってよいと認められる。表面弾性波の伝搬するための基板としてはアルミニウムはガラスと同様であるので、エッジ曲率の異なる半径および約3mmの厚さ(T)を備えた湾曲した接続表面20を有するアルミニウム基板について実験的な測定が行われた。実験は、(名目上5.53MHzの基本共鳴を有するPZTに関連する圧電セラミックの一素材として)約3mm幅のセラミック圧電要素を有する弾性波ウェッジトランスデューサーを使用した。送信トランスデューサーを励起し、それによって、表面弾性波が基板の正面側表面を横切るように、半径Rを有する基板の湾曲した接続表面の方向に向かって進行してから、その湾曲した表面を周るように進行し、そして、受信トランスデューサーによる測定のために基板の背面側表面を横切るように進行する。周波数5.53MHzにて受信トランスデューサーに加えられる所定の励起電圧に対しては、図3(d)(半径R=T/2)に比べると図3(e)(半径R=T/4)および図3(f)(半径R=T/8)に見られるように、受信トランスデューサーで受信した信号の関連する遅延時間にわたって測定された信号の振幅は、目に付くほどには変化しなかった。かかる測定においては、予期された遅延時間(約17μ秒〜約25μ秒の遅延時間で予期された受信信号が到達する)で測定された受信信号の振幅は、所定の励起では目に付くほどには変化しないことが示されている。受信信号の両側の他の波形態は、テスト・システムで生じた基板における他の意図しない余分な波またはモード伝搬に基づいたアーチファクトにすぎない。
約T/4〜約T/8を有するRの湾曲した接続表面20に対しては、アルミニウム伝搬材料に関する発明者の実験では、「キンク(kink)」またはシャープな斜めのエッジがない場合にのみ、ガラス伝搬基板の表面弾性波の伝達により小さいRが許容されるといったことが示唆される。米国特許第5,739,479号の図9で示される式に関連して記載されているように、モノリシックなソーダ石灰ガラス基板のための斜め表面とアクティブなタッチ面との間の斜角度16°によって、弾性波パスの信号ロスが6dBよりも相当に小さくなる。モノリシックなソーダ石灰ガラス基板のための斜め表面とアクティブなタッチ面との間の斜角度θ25°によって、弾性波パスの信号ロスが約8dBと測定されることが示された。25°の斜角データからの2次外挿では、斜角度θ33°では14dBの信号ロスが暗に意図される。ある特定の態様では、4つのキンク(基板5の対向するサイドに各々湾曲した部分20が2つ)を有する3dB未満のロスを有するように、完成した弾性パスにおいてキンクが約10°未満の斜角度θを有すべきである。
特定の態様では、ガラス基板のシャープな斜角度の丸みは、所望の形状プロファイルへとガラスをグラインディングすることによって(オプション的には、その後に所望の滑らかなプロファイルが得られるようにポリッシュすることによって)達成することができる。ある態様に従えば、図3(g)に示されるような例えばステップ部16を含むキンクは最小にされ得るか、あるいは回避され得る。所望の半径Rを有するグラインディング工具17(その断面を示している)が用いられ、かつ、基板が工具17との整合においてオフセットを有するか、および/または、異なる基板5の厚さが変わっている場合では、かかるキンクまたはステップが生じる。本発明のある態様では、弾性波寄生信号を非所望に生じ得るタッチ基板のエッジのかかるキンクまたはシャープな斜めエッジは最小限または回避され得る。ある特定の態様では、寄生信号(表面弾性波とプレート波または他の波モードとの間の変換から生じ得るような寄生信号)は、現実的なタッチでなく歪んだ座標測定につながる“ゴースト”タッチを検知し得るタッチセンサで非所望に生じ得るので、かかる寄生は最小にされるべきである。図3(g)では、例えばR=T/3のグラインディング工具17が、常套的なコンピューター数値制御された(「CNC」)グラインディング機械を用いて使用される。ステップ部16は、そのステップ部(オフセットによって形成されるステップまたは基板厚さ変化によって形成されるステップ部)がおおよそ表面弾性波の波長のオーダーであったとしても、非所望の寄生信号(プレート波からの寄生信号)につながる。基板厚さのかかる変化および/または基板と使用されるグラインディング工具とのオフセットを好ましく許容するためには、図3(h)に示されるように、改良したグラインディング工具18(例えば、ある態様ではR=T/6であり、テーパ角度αが約10°〜12°の幅口となっており、また、別のある態様ではR=T/3であり、テーパ角度が約3°〜5°になっているグラインディング工具)を使用してよい。図3(h)は、基板はグラインディング工具とはオフセットされておらず、かかる工具と望ましくは整列した場合にて工具18を使用して製造した基板5の湾曲したエッジ・プロファイルを示している。図3(i)は、基板5が工具18からオフセットされている場合、R=T/6を有する工具18を使用して製造した基板5の湾曲したエッジ・プロファイルを示している。図3(j)は、基板5が工具17’からオフセットされている場合、グラインディング工具17’(図3(g)に示される工具17と似ているものの、例えばR=T/3であり、角度αを有するテーパ開口部を有している)を使用して製造した基板5の湾曲したエッジ・プロファイルを示している。周波数が約5.53MHzである特定の態様では、約3mmの基板厚さに対して4°のテーパ角度およびR=T/3を有するグラインディング工具を用いることは最も望ましいものの(しかしながら、同じ基板厚さに対して12°のテーパ角度およびR=T/6を有するグラインディング工具は非所望な寄生を有していた)、多くの因子が寄生信号の強さおよび許容できるレベルの双方に影響を与え、その結果、ある用途では12°テーパ角およびR=T/6を使用することを許容できる。達成されるアライメントまたは存在する許容誤差に応じて、基板5の正面側の表面10と背面側の表面15とが、少なくとも1つの湾曲した接続表面を介して結合される。かかる少なくとも1つの湾曲した接続表面は、フラット部分を含んで成り得、例えば、正面側の表面10と湾曲部との間のフラット部分(特定の態様ではフラット部分と正面側の表面10との間の角度は5°未満となっている)、2つのそれぞれの湾曲部の間のフラットな部分、背面側の表面15と湾曲部との間のフラット部分(特定の態様ではフラット部分と正面側の表面10との間の角度は5°未満となっている)。当然ながら、図示される例は、特定の基板厚さの同じ基板がある製造厚さ変動を有する場合と同様であり得る。上述したように、オプション的にはエッジは滑らかになるようにポリッシュ処理されてよい。本発明の他の態様に従えば、基板のシャープなエッジを丸くする他の方法には、プラスチック成型、ガラス成型またはアルミニウム成型などが含まれる。
湾曲した接続表面20は、図3(a)〜3(c)または図3(h)〜(j)に示すように種々の断面形状プロファイルを有するものであってよく、また、湾曲した接続表面20には少なくとも1つの半径Rの湾曲部が含まれることを認識されたい。図3(b)〜3(c)は、直線的な部分によって結合された2つの対称的な湾曲部(各々が同じ半径Rを有している)の例を例示しているが、本発明の他の態様では湾曲した接続表面20が直線的な部分によって結合された2つの非対称的な湾曲部(各々が同じ半径Rを有している)であってもよい。図3(h)〜3(j)は、上述したように、更に特定の態様に従って、弾性波タッチセンサーの基板における異なるように構成された湾曲した接続面の一部断面図を示している。当然ながら、図3(a)〜3(c)および図3(h)〜13(j)の図は包括的なものを意図したものでなく、基板の湾曲したエッジ形状プロファイルの例を示しているにすぎない。更に、図3(g)、3(h)などの半径Rは、「円の円弧の半径」から「連続的に変化する曲率のカーブに対して接する円の最小半径」へと変えることできる。最も商用の製品設計でしばしば見られるようにタッチセンサーの基板厚さTがレイリー波の波長の約5波長であり、R=T/3等の表現をR=5λ/3として再表現できるとする。同様に、R=T/6の表現は、R=5λ/6として再表現できる。当然ながら、このような表現は基板厚さTに対して変えてもよく、レイリー波の波長の約5波長よりも変えてよい。例えば、良好な寄生抑制の利益は、5.4λ厚さのガラスに対してR=T/2のエッジが丸い半径で見られる。例えば、5.4λ厚さのガラスに対しては、かかるエッジが丸い半径はR=2.7λと表すことができる。弾性波のために求められるものではないが、より厚いガラス基板から構成されたSAWタッチスクリーン(例えば、およそ11λ厚さのガラスを有するタイコ・エレクトロニクスのSecureTouch(登録商標))には市場的に利益があり、かかる製品のベゼルレスのバリエーションは、良好な寄生抑制のために半径R=2.7λの丸くされたエッジを有するように製造されている。
図4は、本発明の種々の特定の態様に従って、弾性波タッチセンサー・デバイス50(「タッチデバイス50」とも称される)の簡略化した断面図である。かかる弾性波センサーデバイス50は、タッチモニター、タッチ・コンピューター、タッチビデオディスプレイ、タッチビデオ署名、またはタッチモバイルデバイスであり得る。図1のタッチセンサー1と同様、タッチ・デバイス50は、正面側の表面、背面側の表面15、正面側の表面の周縁部と背面側の表面15とを結合する湾曲した表面20を備えた基板5を含んでいる。正面側の表面10は、正面側の表面の内側部分であるノミナル・タッチ領域13を有しており、その領域では物体30が接触することになり、その接触によって、背面側の表面15に結合したディスプレイ(図4にて図示する)上に示されるグラフィックなユーザー・インターフェースに従って入力が供される。特定の態様に従えば、ディスプレイ25はオプション的に背面側の表面15に接合され得るものの、他の態様ではディスプレイ25は、背面側の表面15に接触せず、単に基板5の下に設けられ、ハウジング55および接着剤によって基板5に対して安定に保持される。また、図4は、配線および/またはケーブル(図示せず)へと接続されるリードを備えたボックス69としてタッチコントローラー(以下に詳述する)を含む電子機器を示している。ノミナル・タッチ領域13は、図2(a)の点線内にて正面側の表面の一部として規定されており、周縁領域14は、かかるノミナル・タッチ領域13の外側に位置する正面側の表面10の一部である。物体30は図4では指として表されているものの、本発明のある特定の態様では、弾性波によって検知されるタッチには、カバー・シート(弾性検知波の進行パスに使用される基板5の表面をカバーするようなカバー・シート)または反射防止コーティングを介して正面側の表面を直接的または間接的に押圧するスタイラスが含まれ得る。
特定の態様に従った本発明のタッチ態様における一般的な構造および操作は、図1、2(a)および2(b)に関連して説明したものと同様であるが、幾つかの異なる点があり、それについて以下説明する。
かかる特定の態様に従えば、弾性波トランスデューサー35および反射要素アレイ40は、弾性的に良性な層(acoustically benign layer)を介して、背面側の表面15へと結合している。説明のために、“弾性的に良性な”材料は、急な減衰させずに表面弾性波を伝搬させる材料であり、その結果、好ましくは材料厚さのファクショナルな変化に拘わらず、波速度をより容易に製造制御のための表面弾性波の速度に対しての変化は極僅かなものとなる。ある特定の態様では、弾性的に良性な層60は、好ましくは不透明であり、基板5と結合すると共に、トランスデューサー35およびその上に形成された反射アレイ40のための適切な処理表面として機能する。例えば、ウェッジ・トランスデューサー35が層60(フリットを用いて反射アレイ40が形成されている層60)上に接合している。ある態様では、層は黒い無機材料の薄いフィルム(スクリーン印刷されたり、塗布されたり、スパッタリングされたり、あるいは、他の方法で供されたりしたインクまたはペイントの薄いフィルム)であってよい。
特定の態様に従えば、弾性的に良性な層は、セラミック樹脂または陶材エナメルタイプの材料から形成された無機黒色ペイントであってよい。層60の例には、ある態様において深い色のためコバルト(Co)、クロム(Cr)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)またはマンガン(Mn)と組み合わすことができる二酸化チタン(TiO)またはシリカ(SiO)が含まれ得る。ある耐熱性の高いペイント組成物(例えば、RustOleum(登録商標)の高熱ウルトラペイントまたはFerro(登録商標)ガラス・コーティング1597)が、弾性的に良性な層として使用するのに好適となり得る。他の態様では、層60は白色か他の色であり得る。層60は、トランスデューサー35およびアレイ40を基板5を介して視界から隠しつつ、目立つまたは鮮やかな視覚的な外観を供すことができる。また、本発明の特定の態様に従って、エッジ感知タッチ機能入力が示されるように、層60は、パターンに使用される色、他の装飾的な特徴および/または有用な特徴を有する複合材料を有し得る。ある態様では、弾性的に良性な層は半透明であり、その結果、光源(発光ダイオードなどの光源)は背面側の表面15の背後に配置され、起動時にて半透明な層60を通して光を放つ。当然ながら、ある態様では、より工業的な外観または技術的な外観が考慮されるなら、トランスデューサー35およびアレイ40を隠すことが望ましく成り得、かかるケースでは、層60は透明であるか、全く使用されていないか(図1に示すような態様)、あるいは、背面側の表面14の周縁領域14の一部においてのみ使用される。
本発明の特定の態様では、層60が背面側の表面15とトランスデューサー35およびアレイ40との間に配置される場合、かかる層60は基板5を通して可視状態にあり(ある態様では層60は不透明であり、見る者からトランスデューサー35およびアレイ40を隠している)、ユーザーにとってはフレームのノミナル・タッチ領域13(弾性波タッチセンサー50の簡易的な展開図である図5の点線内にて示される領域)のように思える。特定の態様に従えば、タッチセンサー50は、背面側の表面15に面するディスプレイ25を一体化する矩形状のタッチデバイスであり、それによって、ディスプレイは基板5を介して可視状態にある。ある態様では、薄層60は、基板5のい正面側の表面10の周縁部14であっても適用され得る。
層60から生じる信号減衰が層の不透明性に関連した外観上の目的とバランスが取られるように層60の厚さは制御される。図13に示されるように、タッチセンサーの層60の領域を伝搬する表面弾性波の波速度(またはより正確には波パケットの群速度とは対照的な波面の相速度)は、層60のコーティング厚さによって影響される。ガラス基板に適合する温度で焼結できる多くの材料については、ガラスの場合よりも音速が遅くなる。かかる場合、基板60を通過するように伝搬する表面弾性波エネルギーの一部が増加するにつれ、波速度vSAWが減じられる(即ち、層60の厚さは波伝搬を遅くする)。層60の材料が基板5の材料よりも速い速度の音伝搬を有する場合、基板60を通過するように伝搬する表面弾性波エネルギーの一部が増加するにつれ、波速度vSAWが増加する(即ち、層60の厚さは波伝搬を速くする)。波速度vSAWの製造プロセス制御の観点から層60のための理想的な材料は、波速度の変化を生じず、それゆえ、層60の厚さで波速度が変化しない。図13のためのデータを生じるのに使用される層60の材料については、層60の厚さがかかる周波数に対して50ミクロンを超える場合に非常に強い減衰が生じることが観察される。周波数が約5.53MHzで基板がB270ガラスである特定の態様においては、約15μm〜約21μm(または好ましくは約12μm〜20μm)の範囲にある層60の厚さは、層60に対してフェロブラックインク24-8328を使用する場合、低い波減衰およびきれいな外観(半透明が認識されないような高い不透明性)に対する所望要件と釣り合う許容可能な厚さであることを見出した。より薄いコーティングを有するきれいな外観を可能とするより高い光学的密度を有する他のインク製品は存在し得、弾性波減衰が減じられ得、また、波速度の変動が減じられ得るので、弾性波にとって望ましいものとなる。
タッチ・デバイス50は、ディスプレイ25を含んで保護するハウジング55、層60、トランスデューサー35、反射要素アレイ40を含んでおり、また、デバイスの他の要素、例えば、デバイスの作動に必要とされるプロセッサー、コントローラー、コネクター、および他の受動もしくは能動の電子機器またはパーツを含んでいる。簡略化のため、これらの他の要素は示されていない。
本発明のタッチセンサー・システムまたはタッチセンサー・デバイスは、弾性波を発生させ、タッチ位置またはタッチ座標を示す摂動を決める電子制御システム(図示せず)を典型的には用いている。同様に、電子制御は、例えば、ヒューマン・インターフェース・デバイスとしてパーソナル・コンピューター、埋設システム、情報案内所、またはユーザー・ターミナルなどのコンピューターシステム(図示せず)とインターフェースを取る。それゆえ、コンピューター・システムはいずれの適当なタイプのものであってよく、例えば、ディスプレイ25、オーディオ入力および/または出力機能、キーボード、電子カメラまたは他のポインティング入力デバイス等を含み得る。コンピューター・システムは、カスタム・ソフトウエアを用いて作動するものであり、より典型的にはマイクロソフト・ウインドウズ(例えば、3.1、3.11,7、WFW、CE、NT、95、98などや、ウインドウズ・アプリケーション・プログラム・インターフェースまたはAPIsのセット、サブセットまたはスーパーセットに合う他のオペレーション・システム)、マッキントッシュのオペレーション・システム、UNIXバージョンなどの標準的なオペレーション・システムを用いて作動する。従って、タッチセンサーは、ユーザー入力を受けるために、グラフィックユーザー・インターフェース・システムのための主たるまたは2次的なポインティングデバイスとして用いられ得る。
特定の態様では、ハウジング55は基板5に結合しており、ある適当な手段によって周縁部65にて環境封止され得るものであってよく、例えば、クローズドセルフォームのストリップ、ワイパー・ブレード断面(wiper blade cross section)の軟質ゴムガスケット、およびRTVシリコンまたはエポキシの狭い接着剤ボンド、弾性波的に良性な他の材料および接触幅などによって周縁部65にて環境封止され得る。従って、アレイ40およびトランスデューサー35を保護すると共に、ディスプレイ25およびハウジング55内の他の要素/ワイヤ/パーツをコンタミから保護しつつ、十分な弾性波エネルギーがタッチセンサー作動を可能とするように周縁部65に封止が設けられている。ある態様では、ハウジング55に取り付けられるように、基板5はある位置(例えば、背面側の表面15のコーナー付近)にて接続されたポスト(図示せず)を周縁部65での封止に加えて有している。ある他の態様では、図6(a)、6(b)および6(c)に対して以下で説明されるように、基板5は、サブ・ベゼルなどの他の金属製品を介してハウジング55に接続および/または結合され得る。
特定の態様に従えば、基板5は、アニール処理された、焼なましされた、または化学的に強化された約3mm厚さのガラスのシートであり得る。ノミナル・タッチ領域13は、基板5の正面側の表面10内に位置付けられている。特定の態様では、フラットな正面側の表面10の遮断はなく、ベゼルが使用されてないか、ベゼルがないことが望ましい。特に、基板5の正面側の表面10には反射アレイまたはトランスデューサー要素がないことに留意されたい。
本発明の特定の態様では、基板5のノミナル・タッチ領域13の背後に、ディスプレイ25が適当な結合材料を用いて結合領域にて基板5の背面側の表面15に結合している。光学的な結合材料は、弾性的に吸収する光学的な透明結合材料(例えば3M(登録商標)のOptical Clear Adhesive 8171)である。光学的な結合材料は、基板5と緊密に機械的に接触し、背面側の表面15の意図しないプレート波パスおよび/または表面弾性波パスを弾性的に吸収する固体材料である(そうでなければ、そのような背面側の表面15の意図しないプレート波および/または表面弾性波が反射アレイ40の対向する対の間を伝搬する)。ディスプレイ25は、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)、有機発光デバイス(OLED)、電気泳動ディスプレイ(EPD)、真空蛍光管、陰極線管、または他のディスプレイである。別法にて、ディスプレイ25は、基板5に光学的に結合したリーバス映写スクリーンであってよい。ある態様では、ディスプレイ25は、ハウジング55への取り付けのために機械的サポート67に光学的に結合している。ある他の態様では、ディスプレイ25は、光学的に基板5に結合せず、その代わり機械的サポート67を使用している。更なる態様では、図6(a)〜6(c)にて以下で説明されるなど、ディスプレイ25は、サブ・ベゼル又は図6(d)〜6(h)で説明するものなどの金属製品を介してハウジング55に接続および/または結合されていてもよい。光学的な結合材料が使用されていない態様では、基板5の背面側の表面15のノミナル・タッチ領域13の背後にて、非破砕材料を接着させることによって、または、スクリーン印刷で薄い透明なポリマー層を適用することによって光学的に透明で弾性波を吸収する材料を設けることが好ましく、その結果、反射アレイ40の対向する対の間の意図しないプレート波パスまたは表面弾性波パスによって生じる寄生信号が最小限または回避される。
基板5の背面側の表面15では、例えば図2(a)および2(b)に示すシステムと同様のアレンジメントで4つの反射要素アレイ40および4つのレイリー波ウエッジ・トランスデューサー35が設けられている。ディスプレイ25が基板背面表面15に光学的に結合している態様では、反射アレイ40の対の間の背面側の表面15の意図しない弾性波パスは、ディスプレイ25の弾性波吸収光学的結合材料によってブロックされる。
特定の態様として、図6(a)は、ベゼルレスな弾性波タッチセンサーデバイスのコーナー構成および取付けスキームの一部断面図を示している。図6(b)は、本発明の特定の態様として、ベゼルレスな弾性波タッチセンサーデバイスのコーナー構成および取付けスキームの一部平面図を示している。図6(a)および6(b)から分かるように、基板5の下方に配置されたサブ・ベゼルまたはフランジ110を含むハウジング55は、タッチセンサー・デバイス50の種々の要素を包囲している。デバイスのユーザーの観点(誇張されない観点)からは、フランジ110の外側部分の全体的な上面117は、基板5の背面側の表面15と接触しているように見える。しかしながら、フランジ110の外側部分の上面117は、背面側の表面15と離隔しており、背面側の表面15との間にエアー・ギャップ(基板5の背面側表面15とフランジ110との間に突出部119が設けられている箇所以外)を有している。突出部119は、基板5の背面側表面15とフランジ110との間のスペーサーとして機能する。特定の態様では、突出部は、10ミクロン高さのオーダーとなっており、ある場所においてのみ基板5の背面側表面15と限定的に物理的接触している。そのような接触エリアは、許容できる表面弾性波吸収がもたらされるほど十分ではない(フランジ110の表面117が背面側15と実際に接触しているなら、許容できる表面弾性波吸収がもたらされることになり得る)。ある態様では、表面15と上面117との間のエアー・ギャップには、汚染物質または液体のハウジング55への侵入や、汚染物質または液体によるディスプレイ25またはその電子要素を潜在的な損傷を防止するために、クローズドセルフォームのストリップ、ワイパー・ブレード断面のゴムガスケットなどの弾性波良性周縁シーラントが配置されてもよい。
図6(b)に示される線A−A’に沿って切り取った断面の図6(a)は、ディスプレイ25をハウジング55のフランジ110へと固定する周縁ディスプレイ接合層115を示すと共に、タッチ基板5をハウジング55のフランジ110へと固定する周縁基板接合層120を示している。ハウジング55のフランジ110は、トランスデューサー35(弾性的良性層60(図示せず)を介して背面側表面15に結合されているか又は直接的に背面側表面15に結合されている)の寸法を許容する切欠部を有している。周縁ディスプレイ接合層115は、信頼性のある機械的接合を供するために、両面接着テープ、エポキシ、または他の手段であってよい。また、周縁基板接合層120は、信頼性のある機械的接合を供するために、エポキシ、両面接着テープ、または他の手段であってよい。接合層120の材料は、弾性波吸収性を有していることが望ましく、典型的なケースでは機械的または構造的に信頼性のある接着剤が望ましい。特定の態様では、結合層115および/または結合層120として使用するのに4mm幅の両面接着テープで十分となり得る。特定の態様では、2つの反射アレイ40が図6(b)にて点線で示されており、トランスデューサー35に対する反射アレイ40の配置が示されている。このような取付け形態では、アレイ40は突出部119に起因してフランジ110と接触していない。かかる態様では、意図しない弾性波パスが周縁基板接合層120によってブロックされる(そうでなければ、そのような意図しない波が反射アレイ40の対向する対の間を伝搬する)。
図6(c)は、別の特定の態様において、ベゼルレスな弾性波タッチセンサー・デバイスの別のコーナー構成および別の取付けスキームの一部断面図を示している。図6(c)は、図6(b)の線A−A’に沿って切り取った断面を示しておらず、図6(b)の態様で示されるよりも高いコーナー位置にトランスデューサー35が基板5の背後に配置された特定の態様に従った同様のエリアにおける断面を示している。図6(a)に示す態様と同様、基板5の下方に配置されたサブ・ベゼルまたはフランジ110を含むハウジング55は、タッチセンサー・デバイス50の種々の要素を包囲している。かかる態様では、弾性的良性層60は、基板5の背面側の表面15とトランスデューサー35と反射アレイ40との間に配置されている。弾性的良性な周縁シーラント121は層60とフランジ110との間に配置されており、ハウジング55へと侵入したり、ディスプレイ25またはその電子要素を潜在的に損傷させたりする汚染物質または液体のためのバリアが供される。特定の態様では、シーラント121はクローズドセルフォーム(Volara(登録商標)フォーム)のストリップ、ワイパー・ブレード断面のゴムガスケットであり得る。ディスプレイ25は、上述の結合層120を介して、その上に配置されたブラケット123を有している。ブラケット123は、結合層120によって弾性的良性層60を介して基板5に結合されている。ブラケット123は、場合によっては基板5の付加的な固定取付けを供すようにハウジング55へ結合されていてもよく、タッチセンサーおよび/またはディスプレイ25のためのケーブルまたは配線124(丸く描いた点線で示される)を物理的(および/または電気的および/または弾性的に)に反射アレイ40から絶縁するように機能する。ブラケット123は、金属材料から構成されたフレーム状構造であり、切欠部(図示せず)を有している。例えばウエッジ・トランスデューサーおよびそれに関連する配線がかかる切欠部を介して配置され、ブラケット123の下方に設けられるように切欠部が設けられる。かかる態様では、ブラケット123は反射アレイ40と接触し得るものの、金属材料は、進行する表面弾性波を弾性的に減衰されるかそれに干渉するように十分には接触しない面を有している。このようなブラケット123が含まれる取付け形態は、狭い周縁ボーダーを有するディスプレイ25に対する満足のいく結合を可能とし、ケーブルおよび/または配線124をハウジング55内で基板5、トランスデューサー35、アレイ40およびディスプレイ25と一体化することを可能とする。
図6(d)は、ある特定の態様に従った、情報案内システムなどの別のシステムの一部として供されるベゼルレスな弾性波タッチセンサーの正面図である。例えば、ベゼルレスな弾性波タッチセンサー1は、例えばそれを包囲するフレーム57を有する情報案内板などのより大きいシステムの一部であることが望ましくなり得る。当然ながら、センサー1が、カウンタートップの一部として裏側に設けられる場合、フレーム57は、図6(d)に示されるような周縁部を超えて延在するものであってよい。図6(e)〜6(h)は、図6(d)に示す矢印B―B’方向にみた、その断面スライスを斜視的に示している(かかる図では、センサー1の反射アレイおよびトランスデューサーは図示していない)。
図6(e)は、特定の態様に従った、情報案内システムなどのより大きいシステムの一部として面一状態で取り付ける直前の状態のベゼルレスな弾性波タッチセンサーの封止スキームの一部断面スライス斜視図を示している。図6(f)は、図6(f)の態様に従った、情報案内システムなどの別のシステムの一部として設けられるように示されたベゼルレスな弾性波タッチセンサーの取付けスキームの一部断面スライス斜視図を示している。より大きいシステムのフレーム57を備えたタッチセンサー1の封止スキームの中身を供するために、図6(e)〜6(f)は、正面側の表面10と、周縁領域14にてコーティングされた弾性的良性層60を有する背面側の表面15を備えており、ディスプレイ上の画像が領域13にて基板5を通して見ることができるタッチ基板5の一部を示している。エラストマー材料または他の弾性的良性材料から形成されたガスケット61は、基板5の周縁部に沿って、湾曲した接続表面に接触している。特定の態様に従えば、ガスケット61は押し出された測定可能なシリコンまたは固いゴムから成るものであってもよい。取り付けに先立っては、ガスケット61は、ワイパー・ブレード形状の断面プロファイルを有しており、突出ヘッドと下方ステム部とを備えている。突出ヘッドは、基板5の湾曲した接続表面20の上側半分と接触し、ブレードまたはフランジにて外側方向に延在している。図6(e)および6(f)に示されるように、基板5の層60がコートされた底側表面15の周縁部に配置され、ガスケット61のステム部の右側と湾曲した接続表面20の底側半部分との間に配置されている。基板5の周縁部の周りでフレームとして形成されるので、ガスケット63は金属またはプラスチックなどから形成されてよく、基板5に対するガスケット61の圧縮を制御するのに使用される。ガスケット63は、基板5の背面側の表面15に取り付けられるべく、その両側に接着剤(図示せず)が設けられている。かかる接着剤は、背面側の表面15のトランスデューサーおよび反射アレイに対して内側(ディスプレイ25の方向にて内側)に位置している。ばね鋼または他のばね金属材料から成るブラケット71(バネ・ブラケットとも称される)は、ガスケット61の左サイド・底部とブラケット63の少なくとも一部との間に配置される。ブラケット71は、一定の均一な圧力が加えられるように基板5に抗するようにガスケット61を位置付ける。ガスケット61とブラケット71とブラケット63との組み合わせは、基板5への接触を一定の最小限の接触としており、湾曲した接続表面20の周囲を伝搬する表面弾性波の過剰な弾性減衰を回避するためにガスケットの基板5との接触エリアを最小限にしつつも湿気や外界環境から良好に封止すべく均一な圧力が加えられている。ブラケット73は、両面接着剤部材81を介してフレームブラケット63に少なくとも取り付けられている。図面では一部のみが示されるものの、接着剤部材81は、バネ・ブラケット71の底面とブラケット73との間に配置される。ブラケット77は、常套的にはフレーム57に接続されており、スロットを介して高さ調節できるようになっている。尚、スロットを通るように常套的な取付け具79(ナット(図示せず)を備えたスクリューなど)がブラケット73(ブラケットの穴と重なる穴またはスロットを有するブラケット)と接続するように設けられる。ブラケット73および77の各々は、センサー1の周縁部に略比例するようなフレームとして形成されたものであってよく、および/または、かかるブラケットの複数が周縁部に沿って種々の位置に使用されていてよい。ブラケット73および77は、金属から成るものであってよい。
図6(g)および6(h)は、他の特定の態様に従った、情報案内システムなどの別のシステムの一部として取り付けるように示されたベゼルレスな弾性波タッチセンサーの2つの他の封止スキームの一部断面スライス斜視図を示している。図6(g)〜図6(h)に示される要素において、図6(e)〜図6(f)で示した要素の説明と同様であるものは、反復を避けるため説明を省略する。フレーム57’が薄いこと以外は、図6(g)の態様は、図6(e)〜図6(f)に示す態様と同様である。即ち、図6(g)の態様では、基板5とフレーム57’との間でガスケット61の露出が最小限(例えば約1mm幅)となるようにしつつもガスケット61の上部のワイパー・ブレード部に載ることができるようにフレーム57’の厚さが薄くなっている。ブラケット77とブラケット73とは、取付け具79を用いて(必要ならば)適当な寸法のスペーサー83を介して一体的に結合されており、それによって、タッチセンサー1がフレーム57’に適切に取り付けられる。図6(h)の態様は、フレーム57’’の厚さを変えることができるので、フレーム57’’のエッジが滑らかな仕上げ面エッジというよりもむしろ丸みを帯びたものでなっている場合でも好適であること以外は、図6(e)〜図6(f)の態様と同様である。図6(h)の態様では、ガスケット61のワイパー・ブレード部は、フレーム57’’の上面に配置されてもよく、それによって、その丸いエッジがカバーされ、良好な封止が供されると共に、他の態様で説明した他の利点が供される。
上述した図2(a)および2(b)の特定の態様では、ノミナル・タッチ領域13上のタッチと共に、正面側の表面10にてノミナル・タッチ領域13の外側の周縁領域14上のタッチおよび/または湾曲した接続表面20上のタッチを検知することができるXY表面弾性波タッチセンサーが供される。しかしながら、周縁領域14または湾曲した接続表面20でタッチがなされる場合、かかる特定の態様のXYタッチセンサーは、1つのみの位置座標(即ち、X座標またはY座標)を検知することができる。上側または底側のエッジ接続表面20または、周縁領域14の上側部または底側部上におけるタッチからX座標が検知される場合にのみ、あるいは、両側のエッジ接続表面20または周縁領域14の両側のタッチからY座標が検知される場合にのみ、どのエリア(上側、底側、右側、左側)がタッチされたのかの曖昧さを解決するため別の座標または位置データが必要とされる。本発明に従ってエッジ感知タッチ機能が設けられている場合、上記解決は以下の異なる態様に従った種々の手法で行うことができる。本明細書においては、「エッジ感知タッチ機能(edge sensitive touch functions)」は、周縁領域14および/または湾曲した接続表面20に対してなされたタッチの検知に基づいた双方向のタッチ機能を意味している。
図7は、本発明の特定の態様に従って、拡大した右底コーナー図に示されるようなエッジ感知タッチ機能を備えたベゼルレスな弾性波タッチセンサー・デバイス50(例えば、タッチ・モニターなど)の斜視図である。図7は、図1のタッチセンサー1および図4のタッチセンサー50に関連して説明された種々の要素を含んでいる(それらの要素については繰り返して説明は行わない)。当然ながら、弾性波タッチセンサーがモニターに一体化されておらず、コンピューターまたはポータブルタッチデバイスに挿入されて一体化されている場合では、モニター・スタンドは必要とされない。タッチセンサー・デバイス50の拡大した右底コーナー図が示されている図7から分かるように、基板5の正面側表面ならびに湾曲した接続表面20aおよび20bは、ハウジング55に結合されるように示されている。正面側表面は、ディスプレイ25上に配置される周縁領域14(ノミナル・タッチ領域13を規定する点線の外側に示される領域)を含んでいる。
あるエッジ感知タッチ機能は、周縁領域の適当な部分または湾曲した接続表面20におけるタッチを測定することによって検知され得る。他のエッジ感知タッチ機能は、ジェスチャーが生じていることを検知することによって検知され得る。ジェスチャーでは、周縁領域44の一部または湾曲した接続表面20の最初のタッチが認識されると、受信した表面弾性波信号の摂動が連続的スキャニングに伴って増加する時間遅延または連続的スキャニングに伴って減少する時間遅延を有するなら、タッチがジェスチャー(たとえば、スライディング動きまたはスワイピング動きなど)であることが観察される。ジェスチャーでは、適当なエッジ感知タッチ機能領域において時間に伴った増加または減少が最初のタッチが検知された後で生じる限り、連続的なタッチの位置の絶対的な座標は重要ではない。
特定の態様に従えば、周縁領域14は、層60(種々の態様においては基板5の背面側表面15または正面側表面上に配置され得る層)の一部として設けられている種々のアイコンまたは印刷ボタンを有するものであってよく、たとえば、かかる例では、図示されるようにボックス95、97、アイコン101および/またはアイコン103であってよい。弾性的に良性な層60は不透明であってよく、黒色、白色および/または他の色を含む色の組合せが使用されるので、周縁領域14においてボタンまたは他のエッジ感知タッチ機能を設計する特定のアイコンまたはボックスをカスタマイズすることができる。それゆえ、周縁領域14の適当な部分にて検知されるタッチによって、システム制御ソフトウエアおよび/またはファーム・ウェアによってマッピングされるように、設計された機能作動がもたらされる。別法にて又は付加的に、湾曲した接続表面20aおよび/または20bで検知されたタッチは、設計された機能作動をもたらすように使用され得る。接続表面20のエッジ探知検知の機能が使用される場合、表面20自体は、適当なエッジ感知タッチ機能が設計されるように、その上に薄い材料層(層60と同様の層)を有し得る。あるいは、接続表面20の関連する一部に近接するハウジング55は、デバイス音量、表示輝度、表示コントラストまたは他の設計された又は構成されたエッジ感知機能の所望の増加または減少をそれぞれ示すべく増加矢印105または減少矢印107などの印刷されたアイコンを有し得る。矢印105および107に近接する表面20の一部は、デバイスのスライド制御が供されるように、スライド運動でタッチされ得るものであってよい。
ボタン95および97は所定の機能(例えばon/offやスリープ・モードからの起動や他の動作)が割り当てられたものであってよく、また、かかる機能は、特定のタッチ領域を特定の機能にマッピングするべく設置ソフトウエアを使用してユーザーまたはデバイス50のメーカーによって設定可能となっていてもよい。更なる例としては、周縁領域14のアイコン101(表示輝度調整のための太陽マークで示されるようなアイコン)は、湾曲した接続表面20の近接位置が表示輝度を増加または減少させるようにスライドタッチされることをデバイス制御に対して示すべくタッチされるものであってよい。更なる例としては、周縁領域14上のアイコン103(表示コントラスト調整のために半分が影付きされた円として示されるようなアイコン)は、湾曲した接続表面20の近接位置が表示コントラストを増加または減少させるようにスライドタッチされることをデバイス制御に対して示すべくタッチされるものであってよい。
図7で示される例では種々のアイコンおよびボタンがデバイス50の1つのコーナーに示されているものの、アイコンまたはボタンのいずれか、全てまたはそれらの組合せがエッジ検知探知機能のために使用されてもよい。例えば、ある態様では、必ずしも増加矢印105および減少矢印107の双方を有する必要はなく、1つで十分となり得る。更に、本発明の種々の態様では、上述したものとは異なる多くのエッジ感知タッチ機能は、本発明のエッジ感知タッチ機能特徴によって可能となり得る。図7は、20bおよび領域14bがデバイス50の右側の側部に示しているものの(図7は単にエッジ感知タッチ機能を例示したにすぎないものである)、図11(a)〜11(d)に示すような表面20bおよび領域14bが、デバイス50の左側にあってもよいことを認識されたい。しかしながら、特定の態様に応じて、図7に示す表面20bおよび領域14bはデバイス50の右側または左側に位置付けてよい。つまり、エッジ感知タッチ機能の位置は、本発明の異なる特定の態様を用いることによって、周縁領域14および/または表面20の上面、底部、右側、左側またはそれらの組み合わせのいずれに設けることができる。
ノミナル・タッチ領域13におけるタッチのためのX−Y座標を検知するため図2(a)および図2(b)に関連して上述したような同様の作動を有する種々の他の特定の態様について説明する(繰り返しの説明は行わない)。説明されるかかる態様の要旨は、本発明に従ってエッジ検体タッチ機能が設けられている場合、タッチされたエリアの曖昧さ(上面、底部、左側、右側)を解決するための別の座標または位置データを供することに焦点を置いている。
図8(a)および図8(b)は、それぞれ、本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図9(a)および図9(b)は、それぞれ、本発明の別の特定の態様に従った別の弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図10(a)および図10(b)は、それぞれ、本発明の更に別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図2(a)および図2(b)のケースと同じように、図8(a)、図9(a)および図10(a)のトランスデューサー35は、参照されるフレームを示すべく点線が示されている。尚、弾性波タッチセンサーの背面側の表面15の平面図である図8(b)、図9(b)および図10(b)は、それぞれ図8(a)、図9(a)および図10(a)に関連しており、トランスデューサーが実線で示されている。参照されるフレームのために、図8(a),8(b),9(a),9(b),10(a)および10(b)ではX-Y座標軸が示され、関連するU座標軸が示される。U座標は、XおよびYと同一平面であるものの、傾斜した方向となっている。タッチのX、YおよびU座標を測定することによって、高性能なデュアルタッチまたはマルチプルな同時タッチ用途に対して必要とされる位置測定の冗長性の程度が供される。以下で説明するように、U座標測定機能の追加は、ベゼルレスな弾性波タッチセンサー・デバイスに対して追加の利益をもたらす。
図8(a)および図8(b)は、それぞれ、本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図8(a)および図8(b)の態様は、図2(a)および図2(b)と構造的に同様であって、図2(a)および図2(b)で上述したようなノミナル・タッチ領域13でのタッチを検知すべく同様に作動する。図8(a)および図8(b)の特定の態様の付加的な要旨について説明する。かかる特定の態様では、図2(a)および図2(b)の態様とは違って、4つのビーム・スプリッター75が基板5の正面側の表面に設けられている。それゆえ、図8(a)および図8(b)の特定の態様は、U座標軸を使用しており、それによって、正面側の表面10のノミナル・タッチ領域13、その外側の周縁領域14および/または湾曲した接続表面20上のマルチプルなタッチを信頼性良く検知することができるXYU表面弾性波タッチセンサーが供される。エッジ感知タッチ機能は、周縁領域14および/または湾曲した接続表面20で実行され得る。
図8(a)および図8(b)に示されるように、ビーム・スプリッター75は、U座標軸に垂直な方向にて入射表面弾性波ビームの一部を偏向させる一方、別の一部はそのまま偏向させない。ビーム・スプリッター75は、例えば、ガラス・フリットまたは複合ポリマー材料インクなどをスクリーン印刷したり、あるいは別法にて溝をエッチングで形成することによって、基板5の正面側表面に形成してもよい。各々のビーム・スプリッター75は、複数の偏向要素を有している。かかる複数の偏向要素は、(例えば、アスペクト比4:3などの所定のアスペクト比系となるように)垂直に対して所定角度回転した平行な反射体セグメントであって、90°と所定角度との差のサインによって分割された表面弾性波波長の中心-中心間隔でもってビーム・スプリッターの事項に沿うように離隔した平行な反射体セグメントである。上側ビーム・スプリッター75bおよび底側ビーム・スプリッター75cの偏向要素は、第1規定角度を有しており、側部側ビーム・スプリッター75aおよび75bの偏向要素は、第2規定角度(第1規定角度と異なる規定角度)を有している。ビーム・スプリッター偏向要素における弾性波入射は、ビーム・スプリッターの軸に対して所定角度でコヒーレントに偏向され、その場合の反射角度は入射角度に等しい。他の態様では、基板寸法の幾何学的形状やアスペクト比に応じてビーム・スプリッター偏向要素の角度を変更することができる。尚、かかる弾性波ビーム・スプリッターに関する更なる詳細は、米国特許出願公報第2008/0266266A1号の少なくとも図4〜6に関して見ることができ、その内容の全ては参照することによって本明細書に組み込まれる。ビーム・スプリッター75a,75bの偏向要素の所定角度に対して垂直な角度は、U座標軸を規定する。
基板の正面側表面10にてビーム・スプリッター75が露出している或る態様は、美観的に望ましくなく、また、耐久性や摩耗性の問題につながる。鉛系セラミックが使用される場合、ビーム・スプリッター75の露出したフリットが、酸(例えば酸性のソフトドリンク)によって溶解されたり、あるいは、ユーザーが鉛の毒に潜在的に曝されるリスクがある。ビーム・スプリッター75が鉛系フリットから作製される場合では、それをシーラントでカバーすることが望ましくなり得る。別法にて、複合ポリマー・インク、非鉛系高温硬化温度材料フリット、フリットまたは他の材料で最適に埋め戻される剥離溝を含んだ非鉛系材料が使用されてもよい。
作動時には、アレイ40aによって反射した送信トランスデューサー35aからの表面弾性波ビームの一部であって、ビーム・スプリッター75aに入射する湾曲した接続表面20の周囲を進行する表面弾性波ビームの一部は、一定の座標軸Uの線に沿って部分的に偏向する一方(U1ビーム)、偏向しない表面弾性波ビームの部分は、上述したように進行し、それによって、タッチのY軸座標が検知される。図8(a)および図8(b)にてU検知波進行パスを示す点線矢印から分かるように、U1ビームの部分的に偏向した部分は、正面側表面10の一定座標Uの線に沿って進行して、ビーム・スプリッター75bに入射することになる。ビーム・スプリッター75bは、ビームの一部を湾曲した接続表面20の周囲を介して背面側表面15へと偏向させており、背面側表面15では反射アレイ40dがビームの一部を受信トランスデューサー35dに向かって反射させる。従って、受信トランスデューサー35dは、X信号の受信トランスデューサーとして機能するだけでなく、U1信号の受信トランスデューサーとして機能しても機能する。U1信号は、タッチエリアの一部分のためのU座標を測定する。
同様に、アレイ40cによって反射した送信トランスデューサー35bからの表面弾性波ビームの一部であって、ビーム・スプリッター75cに入射する湾曲した接続表面20の周囲を進行する表面弾性波ビームの一部は、一定の座標軸Uの線に沿って部分的に偏向する一方(U2ビーム)、偏向しない表面弾性波ビームの部分は、上述したように進行し、それによって、タッチのX軸座標が検知される。図8(a)および図8(b)にてU検知波進行パスを示す点線矢印から分かるように、U2ビームの部分的に偏向した部分は、正面側表面10の一定座標Uの線に沿って進行して、ビーム・スプリッター75dに入射することになる。ビーム・スプリッター75dは、ビームの一部を湾曲した接続表面20の周囲を介して背面側表面15へと偏向させており、背面側表面15では反射アレイ40bがビームの一部を受信トランスデューサー35cに向かって反射させる。従って、受信トランスデューサー35cは、Y信号の受信トランスデューサーとして機能するだけでなく、U2信号の受信トランスデューサーとして機能しても機能する。U2信号は、U1信号によってカバーされないタッチエリアの一部分のためのU座標を測定する。
システム・コントローラーは、正面側表面10のノミナル・タッチ領域13内におけるタッチ(図2(a)にて示される波進行パスが交差する場所でタッチは生じる)の示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。更に、システム・コントローラーは、図8(a)および図8(b)に示される進行パスに基いて、正面側表面10の周縁領域14または接続表面20で生じるタッチの示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。従って、U座標信号の使用は、ロバストな複数のタッチ操作に対して座標測定冗長性を供するだけでなく、デバイス・コントローラーが設けられ得るエッジ感知タッチ機能を区別することを可能とする。
図9(a)および図9(b)は、それぞれ、本発明の更なる特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図9(a)および図9(b)の態様は、図2(a)および図2(b)と構造的に同様であって、図2(a)および図2(b)で上述したようなノミナル・タッチ領域13でのタッチを検知すべく同様に作動する。それについては繰り返して説明は行わないが、図9(a)および図9(b)の特定の態様の付加的な要旨について説明する。かかる特定の態様では、図2(a)および図2(b)ならびに図8(a)および図8(b)の態様とは違って、4つのビーム・スプリッター85が基板5の背面側の表面15に設けられている。それゆえ、図9(a)および図9(b)の特定の態様は、ノミナル・タッチ領域13のマルチプルなタッチを信頼性良く検知することができ、上述したようなタッチ入力エッジ機能が供された湾曲した接続表面20または周縁領域14上のタッチと区別することができるXYU表面弾性波タッチセンサーが供される。
上述したビーム・スプリッター75と同様、ビーム・スプリッター85は、U方向に入射表面弾性波ビームの一部を偏向させる一方、別の一部はそのまま偏向させない。かかる特定の態様に従えば、ビーム・スプリッター85は基板5の背面側表面15に形成されるものであってよい(種々の態様に従えば層60を用いずに直接的に形成されたり、あるいは、層60を介して形成されていてよい)。ビーム・スプリッター85を背面側表面15に有する特定の態様では、露出されたビームスプリッター・フリットはハウジング55内にてそれによって保護されているので、美観の問題(可視性および無耐久性および/または安全性の懸念を伴った問題)がない。
作動時には、アレイ40aによって反射した送信トランスデューサー35aからの表面弾性波ビームの一部であって、ビーム・スプリッター85aにマイナス(−)のX方向にて入射する表面弾性波ビームの一部は、一定の座標軸Uの線に沿って部分的に偏向する一方(U1ビーム)、偏向しない表面弾性波ビームの部分は、上述したように進行し、それによって、タッチのY軸座標が検知される。図9(a)および図9(b)にてU検知波進行パスを示す点線矢印から分かるように、U1ビームの部分的に偏向した部分は、正面側表面10の一定値Uの線に沿って進行して、湾曲した接続表面20を周ってからビーム・スプリッター85bに入射することになる。ビーム・スプリッター85bは、マイナス(−)のY方向のビームの一部を反射アレイ40dに向かうように偏向させており、反射アレイ40dがプラス(+)のX方向のビームの一部を受信トランスデューサー35dに向かうように偏向させている。従って、受信トランスデューサー35dは、X信号の受信トランスデューサーとして機能するだけでなく、U1信号の受信トランスデューサーとして機能しても機能する。
同様に、アレイ40cによって反射した送信トランスデューサー35bからの表面弾性波ビームの一部であって、ビーム・スプリッター85cにマイナス(−)のY方向にて入射する表面弾性波ビームの一部は、一定の値Uの線に沿って部分的に偏向して(U2ビーム)、湾曲した接続表面20の周りを進行する一方、偏向しない表面弾性波ビームの部分は、上述したように進行し、それによって、タッチのX軸座標が検知される。図9(a)および図9(b)にてU検知波進行パスを示す点線矢印から分かるように、U2ビームの部分的に偏向した部分は、正面側表面10の一定値Uの線に沿って進行し、湾曲した接続表面20を周って背面側表面15へと進行してビーム・スプリッター85dに入射することになる。ビーム・スプリッター85dは、マイナス(−)のX方向のビームの一部を反射アレイ40bに向かうように偏向させており、反射アレイ40bがプラス(+)のX方向のビームの一部を受信トランスデューサー35cに向かうように偏向させている。従って、受信トランスデューサー35cは、Y信号の受信トランスデューサーとして機能するだけでなく、U2信号の受信トランスデューサーとして機能しても機能する。
システム・コントローラーは、正面側表面のノミナル・タッチ領域13内におけるタッチ(図2(a)にて示される波進行パスが交差する場所でタッチは生じる)の示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。更に、システム・コントローラーは、図9(a)および図9(b)に示される進行パスに基いて、正面側表面10の周縁領域14または接続表面20で生じるタッチの示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。
種々のXYUタイプ・タッチセンサーの詳細については、例えば、米国特許第5,854,450号公報および米国出願公報第2008/0266266号公報に記載されている。かかる米国特許第5,854,450号公報および米国出願公報第2008/0266266号公報の内容は参照することによって本明細書に組み込まれる。アドラータイプの弾性波タッチセンサーの別の例では、トランスデューサーの数を更に減じるために、折られた弾性波パスが使用され得るものがあり、例えば、米国特許第4,700,176号公報、同5,072,427号公報、5,162,618号公報および5,177,327号公報に開示されている。かかる米国特許第4,700,176号公報、同5,072,427号公報、5,162,618号公報および5,177,327号公報の内容は参照することによって本明細書に組み込まれる。本発明はこのようなトランスデューサーの数が減じられた異なる種類のXYUタイプ・タッチセンサーおよび/またはタッチセンサーへと一般化できることを認識されたい。例えば、本発明の特定の態様では、X-Y反射要素アレイに重ねられたUアレイを有するXYUタイプ・タッチセンサー、または、別個の反射アレイおよび隣接するビーム・スプリッターを有するXYUタイプ・タッチセンサーが使用され得る。
図10(a)および図10(b)は、それぞれ、本発明の更に別の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの基板5の正面図および背面図である。図10(a)および図10(b)の態様は、図2(a)および図2(b)と構造的に同様であって、図2(a)および図2(b)で上述したようなノミナル・タッチ領域13でのタッチを検知すべく同様に作動する。図10(a)および図10(b)の特定の態様の付加的な要旨について説明する。更なるフレームの参照のために、X-Y-U座標軸が図10(a)および10(b)にて示されている。かかる特定の態様では、図2(a)および図2(b)ならびに図9(a)および図9(b)の態様とは違って、2つのみビーム・スプリッター85が基板5の背面側の表面15に設けられている。それゆえ、図10(a)および図10(b)の特定の態様は、ノミナル・タッチ領域13のマルチプルなタッチを検知することができ、上述したようなタッチ入力エッジ機能が供された湾曲した接続表面20または周縁領域14上のタッチと区別することができるXY表面弾性波タッチセンサーが供される。
かかる特定の態様に従えば、2つのみ設けられるビーム・スプリッター85は基板5の背面側表面15に形成されるものであってよい(種々の態様に従えば層60を用いずに直接的に形成されたり、あるいは、層60を介して形成されていてよい)。
作動時には、アレイ40aによって反射した送信トランスデューサー35aからの表面弾性波ビームの一部は、マイナス(−)のX方向に進行しているが、湾曲した接続表面20を周るように進行した後、上述したように進行して、それによって、タッチのY軸座標が検知される。図10(a)および図10(b)にてU検知波進行パスを示す点線矢印から分かるように、2つのUビーム(図9(a)および図9(b)で説明したU2ビームにと同様であるものの、異なるU値を有するビーム)があり、底側の湾曲した接続表面20aおよび側部の湾曲した接続表面20bに沿ってU値の一般的な変化が示される。アレイ40cによって反射した送信トランスデューサー35bからの表面弾性波ビームの一部は、マイナス(−)のY方向にてビーム・スプリッター85cに入射することになり、部分的に偏向されて、湾曲した接続表面20aの周りを一定のU値の線に沿って進行する一方、偏向しない表面弾性波ビームの部分は、上述したように進行し、それによって、タッチのX軸座標が検知される。Uビームの部分的に偏向した部分は、正面側表面10の一定値Uの線に沿って進行し、湾曲した接続表面20bを周って背面側表面15へと進行してビーム・スプリッター85dに入射することになる。ビーム・スプリッター85dは、マイナス(−)のX方向のビームの一部を反射アレイ40bに向かうように偏向させており、反射アレイ40bがプラス(+)のX方向のビームの一部を受信トランスデューサー35cに向かうように偏向させている。従って、受信トランスデューサー35cは、Y信号の受信トランスデューサーとして機能するだけでなく、U座標信号の受信トランスデューサーとして機能しても機能する。
システム・コントローラーは、正面側表面10のノミナル・タッチ領域13内におけるタッチ(図2(a)にて示される波進行パスが交差する場所でタッチは生じる)の示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。更に、システム・コントローラーは、図10(a)および図10(b)に示される進行パスに基いて、正面側表面10の周縁領域14aおよび/もしくは14bまたは接続表面20aおよび/もしくは20bで生じるタッチの示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。特に、単一の検知されたX座標信号(即ち、Y座標信号が検知されない)に関連した表面20aまたは領域14aのU信号の存在によって、U信号が存在するエッジ感知タッチ機能が可能となる。単一の検知されたX座標信号に関連した表面20aまたは領域14aのU信号がないなら、デバイス・コントローラーはエッジ感知タッチ機能を領域14dまたは表面20dのものとして区別することができる。同様に、単一の検知されたY座標信号(即ち、X座標信号が検知されない)の存在の有無を用いることによって、デバイスは、検知されたエッジ感知タッチ機能を領域14bまたは表面20bのものとして、領域14cまたは表面20cのものと区別することができる。
当然ながら、他の態様では、或る湾曲した接続表面(20aおよび20bと反対にある湾曲した接続表面)とそれらの個々に近接した周縁領域14の部分とが区別されてエッジ感知タッチ機能がもたらされるように背面側表面15の2つのビーム・スプリッター(図9(b)で見られるようなビーム・スプリッター85bおよび85a)が図10(a)および図10(b)に示されるビーム・スプリッター(ビーム・スプリッター85cおよび85d)と異なっていてもよいことを認識されたい。
更に、正面側表面10に4つのビーム・スプリッターを有する図8(a)〜8(b)の態様は、の別の例のXYセンサーにエッジ感知タッチ機能を供すべく、正面側表面10に2つのビーム・スプリッター(ビーム・スプリッター75a・75bまたはビーム・スプリッター75c・75d)を有する更に別の態様のために変更してもよい(背面側表面15に2つのビーム・スプリッター85c・85dを使用する図10(a)〜10(b)の態様と同様に変更してよい)ことを認識されたい。また、別の特定の態様に従えば、センサーの周縁コーナー・エッジに沿ってのみ部分的に延在し、近接する反射アレイの全長に沿っては延在していないビーム・スプリッター(例えば、形成されたトランスデューサー35b付近のコーナーに最も近い85cおよび85dの一部のみが存在することになるように面取りされた85cおよび85d)を有することは、領域14ならびに/または表面20a,20bのエッジ感知タッチ機能部が、ブラケット87によって示される領域に空間的に制限されることになるにすぎないことを認識されたい。このことは、ビーム・スプリッター75d・75cが、図8(a)および図8(b)に示される態様にて同様に面取りされるように形成された場合に同様となり得る。即ち、図7に示される場合など、エッジ感知タッチ機能が、周縁領域14と接続表面20との右底コーナーに空間的に制限されることになる。更に別の態様では、少なくとも1つの周縁領域13および/またはそれに対応する湾曲した接続表面20にエッジ感知タッチ機能が設けられるように基板5の1つのエッジ(例えば、上側エッジ、左側エッジ、右側エッジまたは底側エッジ)に沿った1つのビーム・スプリッター75または85のみを使用するために、図8、図9または図10の態様を変更することが可能である。
図7の説明を平易にするために、説明される及び/または示されるエッジ感知タッチ機能は、側部の湾曲した接続表面20bおよび底側の湾曲した接続表面20aおよび/または20a,20bに近接する周縁領域14の一部分に設けられるように示されている。しかしながら、本発明の種々の特定の態様に従って、湾曲した接続表面20および/または周縁領域14上のいずれの場所においても利用されるエッジ感知タッチ機能をデバイス50が有することができるといった事項は強調される。これは、エッジ感知機能に加えられたタッチ入力を決定すべくX座標またはY座標に関連してU座標信号が使用されるからである。
図11(a)、図11(b)、図11(c)および図11(d)は、周縁領域14の部分で(湾曲した接続表面20ではない)曖昧さの問題を解決する弾性波XYセンサーのための別の特定の態様を示している。かかる態様はU座標を測定しておらず、タッチ検知のためのX座標信号またはY座標信号を周辺領域14の部分にまで延ばしている。かかる特定の態様は、反射アレイ40およびトランスデューサー35の配置を図2(a)および図2(b)に示される配置から変更している。特に、トランスデューサー35aおよび35cはマイナス(−)のY軸方向に移動させられており、トランスデューサー35bおよび35dマイナス(−)のX軸方向に移動させられている。更に、反射アレイ40dはトランスデューサー35aを覆うように延在し、反射アレイ40bはトランスデューサー35bの後ろに至るように延在し、反射アレイ40aおよび40cはそれらが交差するコーナーで結合するように延在している。即ち、2つの反射アレイに共通な反射体要素がある。
ノミナル・タッチ領域13にてタッチのためのデータを検知する際、かかる図11(a)〜11(d)に示される特定の態様は、図2(a)〜図2(b)の態様で上述したのと同様に作動する(これについては繰り返して説明は行わない)。図11(a)および図11(b)は、周縁領域14aでのエッジ感知機能へのタッチの動作を説明するのに有用である(湾曲した接続表面20aにおけるタッチは、湾曲した接続表面20の上部におけるタッチ同じ信号を生じるので曖昧なものである)。図11(a)および図11(b)は、ノミナル・タッチ領域13(図2(a)に示されるものと同様の領域)のタッチのX座標および周縁領域14のタッチのX座標を検知するためのあり得る弾性波の進行パス(実線矢印)を示している。特に、表面弾性波は、送信トランスデューサー35からマイナス(−)のX軸方向(基板5の背面側の表面15の周縁エッジに近くには反射アレイ40cが設けられている)に沿って進行する。図11(a)および図11(b)にてX座標検知波進行パスを示す実線矢印から分かるように、反射アレイ40cは、弾性波の一部を反射または検知波に結合させており、かかる波は、反射アレイ40cから外側方向にマイナス(−)のY軸方向に沿って進行し、基板5の近接する接続表面20aへと進行してそこを周り、正面側の表面を横切るようにプラス(+)のY軸方向に沿って進行し、対向する湾曲した接続表面20に向かってそこを周るように進行して、マイナス(−)のY軸方向に背面側の表面15の反射アレイ40dに向かって進行し、そして、プラス(+)のX軸方向に反射アレイ40dに沿って進行して受信トランスデューサー35dへと向かう。
図11(c)および図11(d)は、周縁領域14bのエッジ感知機能へのタッチ操作を説明するのに有用である(湾曲した接続表面20bにおけるタッチは、湾曲した接続表面20の対向する部分におけるタッチ同じ信号を生じるので曖昧なものである)。図11(c)および図11(d)は、ノミナル・タッチ領域13(図2(a)に示されるものと同様の領域)のタッチのY座標および周縁領域14bのタッチのY座標を検知するためのあり得る弾性波の進行パス(実線矢印)を示している。特に、表面弾性波は、送信トランスデューサー35aからマイナス(−)のY軸方向(基板5の背面側の表面15の周縁エッジに近くには反射アレイ40aが設けられている)に沿って進行する。図11(c)および図11(d)にてY座標検知波進行パスを示す実線矢印から分かるように、反射アレイ40aは、検知波を有する弾性波の一部を反射しており、かかる波は、反射アレイ40aから外側方向にマイナス(−)のX軸方向に沿って進行し、基板5の近接する接続表面20bへと進行してそこを周り、正面側の表面を横切るようにプラス(+)のX軸方向に沿って進行し、対向する湾曲した接続表面20に向かってそこを周るように進行して背面側の表面15の反射アレイ40bにマイナス(−)のX軸方向に入射し、そして、プラス(+)のY軸方向に反射アレイ40dに沿って進行して受信トランスデューサー35cへと向かう。
システム・コントローラーは、正面側表面のノミナル・タッチ領域13内におけるタッチ(図2(a)にて示される波進行パスが交差する場所でタッチは生じる)の示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。また、システム・コントローラーは、図11(a)〜図11(d)に示される進行パスに基いて、正面側表面10の周縁領域14aおよび/もしくは14bまたは接続表面20aおよび/もしくは20bで生じるタッチの示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。
それゆえ、図11(a)〜図11(d)に示される特定の態様は、ノミナル・タッチ領域13の外側にあり、エッジ感知タッチ機能の処理を行うことができる周縁領域14aおよび/または周縁領域14b(点線100の下方または左側)がもたらされている。
図12(a)および図12(b)は、周縁領域14および/または湾曲した接続表面20で弾性的に検知されたタッチに関連したX座標またはY座標に関して使用される付加的な座標または位置データを有する弾性波XYセンサーの別の特定の態様を示している。かかる特定の態様は、反射アレイ40およびトランスデューサー35の配置を図2(a)および図2(b)に示される配置から変更していないものの、更なる位置データを供すべく1つ以上の検知電極層103を追加している。ノミナル・タッチ領域13にてタッチのためのXYデータを検知する際、かかる図12(a)〜12(b)に示される特定の態様は、図2(a)〜図2(b)の態様で上述したのと同様に作動する(これについては繰り返して説明は行わない)。
デバイス50の検知電極103は、周縁領域14および/または接続表面20でなされるタッチから生じるキャパシタンス(またはある態様ではオーム抵抗)の変化を検知し、エッジ感知タッチ機能を供すべく、弾性的に検知されたタッチに関連して使用される付加的な位置データを供する。即ち、電極層103は、ある態様では容量検知電極として使用され得るものであり、また、他の態様ではオーム検知電極として使用され得るものである。
特定の態様では、検知電極層103の考えられるレイアウトは、図12(a)の特定の態様に従えば(点線で)単に示される。電極層103は図12(a)の正面側表面10に示されるものの、これは、ある特定に態様に従った場合のケースにすぎないことに留意されたい。このように検知電極層103が正面側の表面10に設けられている態様では、層103(容量検知電極またはオーム検知電極として用いることができる層)は好ましくは透明であり、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、または正面側の表面10に対してスクリーン印刷やスパッタリングを施すことができる他の既知の透明導電性材料から成るものが好ましい。他の態様では、層103(容量検知電極として用いることができる層)は、基板5とその上に設けられるトランスデューサー/アレイ/ビーム・スプリッターとの間に存在するように背面側表面15に直接的に(層60を介して)設けられる。層60が使用されない場合、電極層103は透明導電性材料から成り得るものであるが、層60が使用される場合では、不透明ないずれの種類の導電性材料(例えば、層60上にスクリーン印刷またはスパッタリングを行うことができる金属含有材料などの弾性的に良性な導電性材料)から成るものであってよい。図12(c)(基板5の背面側表面15のコーナーの一部拡大平面図)に示すように基板5の背面側表面10の層60に電極103が形成される別の特定の態様では、反射アレイ20の反射要素125(ビーム・スプリッター85が使用され得るものの、図面では簡略化のために図示していない)は、少なくとも導電性リード127と一体的に結合されている。かかる態様では、アレイ20の銀含有ガラス・フリット125は反射アレイとしてのみ機能するだけでなく、リード125と共に容量検知のために使用される電極103(点線によって示されている)としても機能する。リード127は、弾性的に良性ないずれの導電性材料から成るものであってよく、例えば反射要素125を作製するのに使用される材料と同一の材料の薄いラインとして形成されてもよい。別の同様の態様では、反射アレイ20の反射要素125は、導電性リード127およびオプション的に設けられる反射要素125の反対端部に沿って別の同様なリード(図示せず)と一体的に結合している。
図12(a)では4つの電極103a,103b,103cおよび103dが示されるものの、2つの容量検知電極(例えば、103a・103b、103a・103d、103b・103c、または、103d・103c)でも接続表面20および/または周縁領域14にエッジ感知タッチ機能を供するための曖昧さの問題解決に取り組むのに必要とされる付加的な位置データを供するのに十分である。ある態様では、少なくともいつの電極(容量検知用またはオーム検知用の電極)の使用も可能であり、その場合、単一の周縁領域13および/またはその対応する湾曲した接続表面20にはエッジ感知タッチ機能が設けられており、(電極103の電気接続スキームはより複雑になり得るものの)ある態様は電極103をより小さいサイズに分割することによって4つの容量電極よりも多くの電極を有し得る。また、別の特定の態様に従えば、センサーの周縁コーナー・エッジに沿ってのみ部分的に延在し、センサーの周縁エッジの全長に沿っては延在していない2つの容量電極(例えば、形成されたトランスデューサー35b付近のコーナーに最も近い103aおよび103bの一部のみが存在することになるように面取りされた103aおよび103b)を有することは、領域14ならびに/または表面20a,20bのエッジ感知タッチ機能部が、ブラケット105によって示される領域に空間的に制限されることを認識されたい。
システム・コントローラーは、正面側表面10のノミナル・タッチ領域13内におけるタッチ(図2(a)にて示される波進行パスが交差する場所でタッチは生じる)の示される座標を検知するために、時間ベースに沿って受信した信号を解析する。ノミナル・タッチ領域13の外側でのタッチのために、弾性波的な測定と容量測定(またはオーム測定)との組合せを通じて上側、底側、左側または右側のタッチとして検知され曖昧さなく認識される。システム・コントローラー(容量電極103に結合しているシステム・コントローラー)は、正面側表面10の周縁領域14aおよび/または接続表面20での座標を有するタッチを示す電極103に近接するタッチの存在を検知するために、受信される信号を解析する。これにより、上側、底側、左側または右側に向いているのかを決定する。選択された周縁部の側部に沿った座標は、図11(a)〜図11(d)に示される弾性波ビーム進行パスに基づく。
上記においては本発明の特定の態様に従った弾性波タッチセンサーの種々の側面について説明および図示している。対象となる発明については、変更、改良、バリエーション、コンビネーション、サブコンビネーションが可能であり、他の使用および他の用途も可能であるが、それは、本願明細書および添付図面(好ましい態様を開示している)を参照すると当業者には明らかである。例えば、図面の態様では湾曲した接続表面20が基板5の周縁部全体に沿って延在するように示しているが、他の態様ではエッジ感知タッチ機能が2つまでの対応する周縁領域14および/または2つまでの対応する湾曲した接続表面20にのみ設けられる際、相互に対向する2つの湾曲した接続表面20が設けられるようにしてもよい。別の例では、コーナーベゼル状カバーが使用され得るシャープなエッジによって正面側表面10と背面側表面15が接続されるコーナー部を除いて、湾曲した接続表面20が基板5のエッジの大部分に沿って形成されるものであってもよい。別の特定の態様では、背面側表面15に形成された1つのトランスデューサー(トランスミッターおよびレシーバーとして機能するトランスデューサー)および1つの反射アレイ40を有する基板5が、シャープなエッジ表面に対向するように設けられた1つの湾曲した接続表面20(トランスデューサー35から送信された表面弾性波が反射アレイ40によって反射され、湾曲した接続表面20の周りを進行し、正面側表面を横切るように進行し、シャープなエッジ表面から外れるように反射され、正面側表面10を戻って横切るように進行して、湾曲した接続表面20の周りを進行して、反射アレイ40によって反射し、「表面弾性波を受けるトランスデューサー35」へと戻る)を有するものであってよい。かかる態様では、エッジ感知タッチ機能が、1つの周縁領域13および/またはそれに対応する1つの湾曲した接続表面20にのみに沿って設けられていてもよい。
本発明の精神または範囲から逸脱することのない種々の特定の態様に従ったこのような又は他の変更、改良、バリエーション、使用および用途はカバーされており、あくまでも特許請求の範囲によってのみ制限される。

Claims (30)

  1. 弾性波タッチ装置であって、
    表面弾性波を伝搬させることが可能な基板であって、正面側の表面、背面側の表面、該正面側の表面と該背面側の表面との間に形成された湾曲した接続表面を有する基板、ならびに
    前記背面側の表面の背後の少なくとも1つの弾性波トランスデューサーおよび少なくとも1つの反射アレイ
    を有して成り、
    前記弾性波トランスデューサーは、前記反射アレイへと表面弾性波を送信または前記反射アレイから表面弾性波を受信することができ、
    前記反射アレイは、前記基板の前記湾曲した接続表面を介して前記基板の前記背面側の表面と前記正面側の表面との間にて前記表面弾性波が伝搬するように該表面弾性波を弾性的に結合できる、弾性波タッチ装置。
  2. 前記正面側の表面は、ノミナル・タッチ領域および該ノミナル・タッチ領域の外側の周縁領域を有しており、
    前記弾性波タッチ装置が、
    前記表面弾性波の検知された波形態の摂動に基づいて、前記ノミナル・タッチ領域のタッチ座標、前記周縁領域のタッチ座標または前記湾曲した接続表面のタッチ座標を決定するコントローラーであって、前記弾性波トランスデューサーに電気的に結合するコントローラー、ならびに
    前記背面側の表面の背後のディスプレイ
    を更に有しており、
    前記周縁領域がベゼルによってカバーされていない、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  3. 前記周縁領域のタッチ座標または前記湾曲した接続表面のタッチ座標を決定する際に、前記コントローラーが、前記周縁領域または前記湾曲した接続表面のためのタッチ座標データを生じる、請求項2に記載の弾性波タッチ装置。
  4. 前記タッチ座標データは、前記弾性波タッチ装置のエッジ感知タッチ機能を開始させる、請求項3に記載の弾性波タッチ装置。
  5. 前記弾性波タッチ装置には、前記周縁領域の異なる座標または前記湾曲した接続表面の異なる座標に相当する複数のエッジ感知タッチ機能が設けられている、請求項4に記載の弾性波タッチ装置。
  6. 少なくとも1つのビーム・スプリッターを更に有して成る、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  7. 前記ビーム・スプリッターが、前記背面側の表面の背後に位置する、請求項6に記載の弾性波タッチ装置。
  8. 前記基板が厚さTを有し、前記湾曲した接続表面が、約T/3〜約T/16の半径Rを有する少なくとも1つの湾曲部を介して、前記正面側の表面と前記背面側の表面とを結合している、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  9. 前記弾性波トランスデューサーおよび前記反射アレイが、前記背面側の表面に設けられた弾性的に良性な層を介して前記背面側の表面に結合している、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  10. 前記弾性的に良性な層が無機材料を含んで成る、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  11. 前記弾性的に良性な層が不透明または半透明である、請求項10に記載の弾性波タッチ装置。
  12. 前記弾性波トランスデューサーおよび前記反射アレイが、前記背面側の表面の弾性的に良性な層を介して前記背面側の表面に結合しており、該弾性的に良性な層が、前記エッジ感知タッチ機能を示すアイコンを供する、請求項3に記載の弾性波タッチ装置。
  13. 前記弾性波トランスデューサー、前記反射アレイおよび前記ビーム・スプリッターが、前記背面側の表面の弾性的に良性な層を介して該背面側の表面に結合している、請求項7に記載の弾性波タッチ装置。
  14. 前記エッジ感知タッチ機能が、ジェスチャーが生じていることを決定することで開始される入力作用を有して成る、請求項3に記載の弾性波タッチ装置。
  15. 前記周縁領域または前記湾曲した接続表面の近くに配置された少なくとも1つの導電性電極を更に有して成る、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  16. 前記少なくとも1つの導電性電極が前記背面側の表面の背後に位置する、請求項15に記載の弾性波タッチ装置。
  17. 前記少なくとも1つの導電性電極が前記反射アレイの反射要素、および該反射要素を結合する導電性リードを有して成り、
    前記少なくとも1つの導電性電極および前記反射要素が、前記弾性的に良性な層を介して前記背面側の表面に形成されている、請求項16に記載の弾性波タッチ装置。
  18. 第2反射アレイを更に有して成り、
    前記第2反射アレイおよび前記少なくとも1つの反射アレイが共通の反射要素をシェアしている、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  19. 弾性波タッチ装置であって、
    表面弾性波を伝搬させることが可能な基板であって、正面側の表面、背面側の表面、該正面側の表面と該背面側の表面との間に形成された湾曲した接続表面を有する基板、
    前記背面側の表面の弾性的に良性な層を介して該背面側の表面に結合された少なくとも1つの弾性波トランスデューサーおよび少なくとも1つの反射アレイ
    コントローラー、ならびに
    前記背面側の表面の背後のディスプレイ
    を有して成り、
    前記正面側の表面がノミナル・タッチ領域および該ノミナル・タッチ領域の外側の周縁領域を有しており、該周縁領域がベゼルによってカバーされておらず、
    前記弾性波トランスデューサーは前記反射アレイへと表面弾性波を送信または前記反射アレイから表面弾性波を受信することができる一方、前記反射アレイは、前記湾曲した接続表面を介して前記背面側の表面と前記正面側の表面との間にて前記表面弾性波が伝搬するように該表面弾性波を弾性的に結合することができ、また
    前記コントローラーは、前記表面弾性波の検知された波形態の摂動に基づいて、前記ノミナル・タッチ領域のタッチ座標、前記周縁領域のタッチ座標または前記湾曲した接続表面のタッチ座標を決定し、また、該コントローラーが前記弾性波トランスデューサーに電気的に結合する、弾性波タッチ装置。
  20. 弾性波タッチ装置であって、
    表面弾性波を伝搬させることが可能な基板であって、正面側の表面、背面側の表面、該正面側の表面と該背面側の表面との間に形成された湾曲した接続表面を有している基板、
    前記背面側の表面の弾性的に良性な層を介して該背面側の表面に結合された少なくとも1つの弾性波トランスデューサーおよび少なくとも1つの反射アレイ、ならびに
    コントローラー
    を有して成り、
    前記正面側の表面がノミナル・タッチ領域および該ノミナル・タッチ領域の外側の周縁領域を有しており、該周縁領域がベゼルによってカバーされておらず、
    前記弾性波トランスデューサーは前記反射アレイへと表面弾性波を送信または前記反射アレイから表面弾性波を受信することができる一方、前記反射アレイは、前記湾曲した接続表面を介して前記背面側の表面と前記正面側の表面との間にて前記表面弾性波が伝搬すべく該表面弾性波を弾性的に結合させることができ、また
    前記コントローラーは、前記弾性波トランスデューサーに電気的に結合しており、前記表面弾性波の検知された波形態の摂動に基づいて、前記ノミナル・タッチ領域のタッチ座標、前記周縁領域のタッチ座標または前記湾曲した接続表面のタッチ座標を決定し、また、該コントローラーは、前記周縁領域のタッチ座標または前記湾曲した接続表面のタッチ座標を決定する際に、該周縁領域または該湾曲した接続表面のためのタッチ座標データを生じる、弾性波タッチ装置。
  21. 前記ディスプレイが、前記ベゼルを有していないハウジング内にて、ブラケットを介して前記背面側の表面の背後に設けられている、請求項2に記載の弾性波タッチ装置。
  22. 前記基板が厚さTを有し、少なくとも前記湾曲した接続表面が前記正面側の表面と前記背面側の表面との間にて結合しており、該湾曲した接続表面が約2.7λの半径Rを有する、請求項9に記載の弾性波タッチ装置。
  23. 前記湾曲した接続表面が、少なくとも1つのフラット部を介して前記正面側の表面と前記背面側の表面との間にて結合している、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  24. 前記少なくとも1つのフラット部が、前記正面側の表面または前記背面側の表面のいずれかに対して8°未満の角度を成している、請求項23に記載の弾性波タッチ装置。
  25. 前記湾曲した接続表面が2つの湾曲部を有して成り、該2つの湾曲部が、それらの間に設けられた少なくとも1つのフラット部と結合している、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  26. 前記ハウジングが、ワイパー・ブレード断面のガスケットを介して前記基板の前記背面側の表面に結合している、請求項1に記載の弾性波タッチ装置。
  27. 第1ブラケット、スプリング・ブラケット、および、前記基板と接する最小部を備えたワイパー・ブレード断面を有するガスケットを更に有して成り、
    前記第1ブラケットは、前記背面側の表面と前記ガスケットの第1サイドとの間にて連結されており、
    前記スプリング・ブラケットは、前記ガスケットの第2サイドおよび前記第1ブラケットの底表面に結合しており、それによって、該ガスケットが前記基板と該基板を囲むフレームとの間で圧封止を供する、請求項2に記載の弾性波タッチ装置。
  28. 前記ディスプレイが、第4ブラケットに接続された第3ブラケットを用いて前記背面側の表面の背後に設けられており、該第3ブラケットが前記フレームに接続され、該第4ブラケットが前記スプリング・ブラケットおよび前記第1ブラケットに取り付けられている、請求項27に記載の弾性波タッチ装置。
  29. 前記ガスケットの一部が前記フレームの周辺上部に設けられている、請求項28に記載の弾性波タッチ装置。
  30. 弾性的に減衰させ光学的に透明な層が、前記背面側の表面と前記ディスプレイとの間に設けられている、請求項19に記載の弾性波タッチ装置。
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