JP2013254588A - Composition for transparent electrification-coating material of insulative substrate, method for forming transparent electrification-coating material of insulative substrate by use of such composition, and transparent electrification-coating material of insulative substrate - Google Patents

Composition for transparent electrification-coating material of insulative substrate, method for forming transparent electrification-coating material of insulative substrate by use of such composition, and transparent electrification-coating material of insulative substrate Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for a transparent electrification-coating material of an insulative substrate which enables the formation of an underlying layer for allowing the electrostatic spray coating on an insulative substrate such as a glass one, a method for forming a transparent electrification-coating material of an insulative substrate by use of such composition, and a transparent electrification-coating material of an insulative substrate, and also provide a composition for a transparent electrification-coating material of an insulative substrate having the suitability for a semiconductor process (especially the resistance to scratch), a method for forming a transparent electrification-coating material of an insulative substrate by use of such composition, and a transparent electrification-coating material of an insulative substrate.SOLUTION: The composition for a transparent electrification-coating material of an insulative substrate includes a conductive material, a curable compound and a solvent. The method for forming a transparent electrification-coating material of an insulative substrate comprises using the composition. The transparent electrification-coating material of an insulative substrate is arranged by use of the composition.

Description

本発明は、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、並びに、これを用いた、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法、及び、絶縁性基板の透明帯電コート材に関する。   The present invention relates to a composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate, a method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate using the same, and a transparent charge coating material for an insulating substrate.

近年、半導体技術の向上により電子機器の軽薄短小化が進展し、高度化する一方で、プロセス技術の改善による製造コストの削減も盛んに行われている。基板への薄膜形成方法については、従来よりスパッタ成膜や化学蒸着等の気相成膜方法が用いられてきたが、より安価な薄膜形成方法として、スピンコートやディップコート、スプレーコート等のいわゆる液相成膜方法も多用されてきている。中でもスプレーコートは、平面的な基板のみならず、曲面を有する基板でもコンフォーマルに良質な薄膜が形成できることから、種々の微細部品への成膜に用いられている。
さらに、スプレーコートの発展したものとして、静電スプレーコートが知られている。静電スプレーコートによれば、成膜材料を噴霧するノズルと被成膜基板との間に電圧を印加しながら成膜材料を噴霧することで、噴霧された成膜材料の液滴と被成膜基板との間に静電引力が働き、均質かつ成膜材料ロスの少ないコーティングができるとともに、噴霧された成膜材料の液滴同士に静電反発力が働くことにより、成膜材料の凝集を抑制することができる。このような特徴から、静電スプレーコートは、特にナノ粒子のコーティングに好ましく用いられている。
ところで、静電スプレーコートの問題点として、適用できる基板は原理的に電荷を誘起可能なものに限定されるということが挙げられる。すなわち、導電性が極めて低く、誘電分極が小さい基板では、噴霧された成膜材料の液滴と被成膜基板との間に充分な静電引力を得られない、あるいは良質なコーティング膜を得るためには極めて大きな電界を印加しなければならないという問題がある。このような基板の例として、液晶ディスプレイに用いられるガラス基板や、イメージセンサのカバーガラスなどの絶縁性基板が挙げられる。このような制約から、静電スプレーコートは絶縁性基板上へナノ粒子をコーティングする方法としては適しているとは言えず、スピンコートやディップコート等の成膜手法が用いられることが多い。
こうした問題を回避するため、例えば特許文献１では非導電性支持体に静電スプレー塗装する方法として、前記非導電性支持体の表面を７０℃から１４０℃の間の温度にある水蒸気および熱を用いて、５秒から１０分までの時間にわたって処理し、引き続いて静電スプレー塗装する方法を提案している。この方法によれば、簡易な前処理によって非導電性支持体の表面に静電スプレーが可能となるとされる。 In recent years, electronic devices have become lighter, thinner, and smaller due to improvements in semiconductor technology, and at the same time, manufacturing costs have been actively reduced by improving process technology. As a method for forming a thin film on a substrate, a vapor phase film forming method such as sputter film formation or chemical vapor deposition has been conventionally used. However, as a cheaper thin film formation method, so-called spin coating, dip coating, spray coating, etc. Liquid phase film forming methods have also been frequently used. Among them, spray coating is used for film formation on various fine parts because a good quality thin film can be formed conformally not only on a flat substrate but also on a curved substrate.
Furthermore, electrostatic spray coating is known as a development of spray coating. According to electrostatic spray coating, a film forming material is sprayed while a voltage is applied between a nozzle for spraying the film forming material and a film forming substrate, so that droplets of the sprayed film forming material and the film forming can be formed. Electrostatic attractive force acts between the film substrate and the coating film can be formed uniformly and with little loss of film material, and the electrostatic repulsion force acts between the droplets of the sprayed film material. Can be suppressed. Because of these characteristics, electrostatic spray coating is particularly preferably used for coating nanoparticles.
By the way, a problem with electrostatic spray coating is that applicable substrates are limited in principle to those capable of inducing charge. In other words, a substrate with extremely low electrical conductivity and small dielectric polarization cannot obtain a sufficient electrostatic attraction between the sprayed droplets of film-forming material and the film-formed substrate, or obtain a high-quality coating film. Therefore, there is a problem that an extremely large electric field must be applied. Examples of such a substrate include a glass substrate used for a liquid crystal display and an insulating substrate such as a cover glass of an image sensor. Due to such restrictions, electrostatic spray coating cannot be said to be suitable as a method for coating nanoparticles on an insulating substrate, and film formation techniques such as spin coating and dip coating are often used.
In order to avoid such problems, for example, in Patent Document 1, as a method of electrostatic spray coating on a non-conductive support, water and heat at a temperature between 70 ° C. and 140 ° C. are applied to the surface of the non-conductive support. It has been proposed to process over a period of 5 seconds to 10 minutes followed by electrostatic spray coating. According to this method, electrostatic spraying can be performed on the surface of the non-conductive support by a simple pretreatment.

特開２００４−５１４５４７号公報JP 2004-514547 A

しかしながら、特許文献１の方法は高温の水蒸気に基板を曝露する必要があることから、電子機器の製造プロセスとしては不適であり、あまり実用されていない。
本発明の目的はかかる現状課題を解決することにあり、ガラス等の絶縁性基板上に静電スプレーコートを可能とするための下地層を形成可能な、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物を提供することにある。特に、本発明はガラス等の絶縁性透明基板の透明性を維持したまま、上記下地層として透明な下地層を形成可能な、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、並びに、これを用いた、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法、及び、絶縁性基板の透明帯電コート材を提供することを目的とする。また、本発明は、電子機器の製造プロセスに用いられることを前提とし、半導体プロセス適性（特に耐傷性）を有する、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、並びに、これを用いた、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法、及び、絶縁性基板の透明帯電コート材を提供することを目的とする。 However, since the method of Patent Document 1 needs to expose the substrate to high-temperature water vapor, it is not suitable as a manufacturing process for electronic devices and is not practically used.
An object of the present invention is to solve the present problem, and a composition for a transparent charge coating material of an insulating substrate capable of forming an underlayer for enabling electrostatic spray coating on an insulating substrate such as glass. To provide things. In particular, the present invention is a composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate, which can form a transparent underlayer as the underlayer while maintaining the transparency of an insulating transparent substrate such as glass, and the like. It is an object of the present invention to provide a method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate and a transparent charge coating material for an insulating substrate. Further, the present invention is based on the premise that the present invention is used in a manufacturing process of electronic equipment, and has a semiconductor process suitability (particularly scratch resistance), a composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate, and an insulating material using the same An object of the present invention is to provide a method for forming a transparent charge coating material on a conductive substrate and a transparent charge coating material on an insulating substrate.

本発明者は鋭意検討の結果、絶縁性基板としての、可視光透過性を有する、電子光学機器用ガラス基板又は電子光学機器用樹脂基板の上に、導電性材料、硬化型化合物、及び、溶剤を含有する透明組成物により透明層を形成したところ、この透明層の上に静電スプレーコートにより別の層を形成できるとともに、上記透明層は、半導体プロセス適性（特に、耐傷性）に優れていることを見出し、本発明を完成したものである。   As a result of intensive studies, the present inventor has a conductive material, a curable compound, and a solvent on a glass substrate for electro-optical devices or a resin substrate for electro-optical devices having visible light transmission as an insulating substrate. When a transparent layer is formed with a transparent composition containing, another layer can be formed on the transparent layer by electrostatic spray coating, and the transparent layer is excellent in semiconductor process suitability (particularly, scratch resistance). And the present invention has been completed.

〔１〕 導電性材料、硬化型化合物、及び、溶剤を含有する、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔２〕 前記硬化型化合物が、エポキシ系化合物である、上記〔１〕に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔３〕 更に、分散剤を含有し、前記導電性材料が、酸化インジウムスズ、三酸化アンチモン、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、銀、金、銅、ニッケル、及び、炭素よりなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子である、上記〔１〕又は〔２〕に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔４〕 前記分散剤が、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかにより分解可能な易分解性有機物である、上記〔３〕に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔５〕 更に、研磨材を含有する、上記〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔６〕 前記研磨材として、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化ホウ素、及び、ダイヤモンドからなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の研磨材微粒子を含む、上記〔５〕のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔７〕 更に、潤滑剤を含む、上記〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔８〕 前記絶縁性基板が、可視光透過性を有する、電子光学機器用ガラス基板又は電子光学機器用樹脂基板である、上記〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。
〔９〕 酸化インジウムスズ、三酸化アンチモン、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、銀、金、銅、ニッケル、及び、炭素よりなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子、分散剤、硬化型化合物、及び、溶剤を含む透明帯電コート材用組成物を、絶縁性基板上に塗布して、塗布層を形成する工程、及び、
前記塗布層に、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの処理を行う工程
を含有する、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法であって、
前記分散剤が、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの上記処理により分解可能な易分解性有機物である、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法。
〔１０〕 上記〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、又は、上記〔９〕に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法により得られた、絶縁性基板の透明帯電コート材。 [1] A composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate, comprising a conductive material, a curable compound, and a solvent.
[2] The composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate according to the above [1], wherein the curable compound is an epoxy compound.
[3] Further, a dispersant is contained, and the conductive material may be doped with indium tin oxide, antimony trioxide, aluminum, zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, silver, gold, copper [1] or [2] for a transparent charge coating material for an insulating substrate according to the above [1] or [2], which is a conductive fine particle made of any one or plural kinds of materials selected from the group consisting of nickel, and carbon Composition.
[4] Transparent charging of the insulating substrate according to [3] above, wherein the dispersant is a readily decomposable organic substance that can be decomposed by at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation. Composition for coating material.
[5] The composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate according to any one of the above [1] to [4], further comprising an abrasive.
[6] Any one of the above [5], wherein the abrasive contains any one kind or plural kinds of abrasive fine particles selected from the group consisting of alumina, zirconia, silicon carbide, boron nitride, and diamond. Item 2. A composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate according to item 2.
[7] The composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate according to any one of the above [1] to [6], further comprising a lubricant.
[8] The insulating property according to any one of [1] to [7], wherein the insulating substrate is a glass substrate for electro-optical devices or a resin substrate for electro-optical devices having visible light transparency. A composition for a transparent charge coating material for a substrate.
[9] Any selected from the group consisting of indium tin oxide, antimony trioxide, zinc oxide optionally doped with aluminum, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, silver, gold, copper, nickel, and carbon A process for forming a coating layer by applying a composition for transparent charge coating material containing conductive fine particles, a dispersant, a curable compound, and a solvent made of one or a plurality of materials onto an insulating substrate. ,as well as,
A method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate, comprising the step of subjecting the coating layer to at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation,
A method for forming a transparent charge coating material on an insulating substrate, wherein the dispersant is an easily decomposable organic substance that can be decomposed by at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation.
[10] Formation of transparent charge coating material composition for insulating substrate according to any one of [1] to [8] or formation of transparent charge coating material for insulating substrate according to [9] above A transparent charge coating material for an insulating substrate obtained by the method.

本発明によれば、ガラス等の絶縁性基板上に静電スプレーコートを可能とするための下地層を形成可能な、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物を提供できる。
特に、本発明によれば、ガラス等の絶縁性透明基板の透明性を維持したまま、上記下地層として透明な下地層を形成可能な、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、並びに、これを用いた、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法、及び、絶縁性基板の透明帯電コート材を提供できる。
また、本発明によれば、電子機器の製造プロセスに用いられることを前提とし、半導体プロセス適性（特に耐傷性）を有する、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、並びに、これを用いた、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法、及び、絶縁性基板の透明帯電コート材を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composition for transparent charge coating materials of an insulating substrate which can form the base layer for enabling electrostatic spray coating on insulating substrates, such as glass, can be provided.
In particular, according to the present invention, while maintaining the transparency of an insulating transparent substrate such as glass, a transparent undercoat layer composition for an insulating substrate capable of forming a transparent underlayer as the underlayer, and Using this, it is possible to provide a method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate and a transparent charge coating material for an insulating substrate.
In addition, according to the present invention, the composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate having semiconductor process suitability (especially scratch resistance) on the premise that it is used in a manufacturing process of an electronic device, and the same are used. A method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate and a transparent charge coating material for an insulating substrate can be provided.

以下、本発明の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物について詳細に説明する。
なお、本明細書に於ける基（原子団）の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、ＥＵＶ光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
なお、本明細書において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタアクリレートを表し、“（メタ）アクリルはアクリル及びメタアクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本発明における単量体は、オリゴマー及びポリマーと区別され、質量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基を言う。 Hereinafter, the composition for transparent charge coating material of the insulating substrate of the present invention will be described in detail.
In addition, in the description of the group (atomic group) in this specification, the description which does not describe substitution and non-substitution includes the thing which has a substituent with the thing which does not have a substituent. . For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
Unless otherwise specified, “exposure” in this specification is not only exposure with far-ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, but also drawing with particle beams such as electron beams and ion beams. Are also included in the exposure.
The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
In the present specification, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents acryl and methacryl, and “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl. In the present specification, “monomer” and “monomer” are synonymous.The monomer in the present invention is distinguished from oligomer and polymer, and refers to a compound having a mass average molecular weight of 2,000 or less. In the specification, a polymerizable compound means a compound having a polymerizable group, and may be a monomer or a polymer, and a polymerizable group is a group involved in a polymerization reaction. say.

本発明の組成物は、絶縁性基板の透明帯電コート材用、すなわち、絶縁性基板をコートする透明帯電コート材用としての組成物であり、導電性材料、硬化型化合物、及び、溶剤を含有する組成物である。   The composition of the present invention is a composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate, that is, a transparent charge coating material for coating an insulating substrate, and contains a conductive material, a curable compound, and a solvent. Composition.

以下、本発明の組成物の各成分について詳述する。   Hereinafter, each component of the composition of this invention is explained in full detail.

［１］（Ａ）導電性材料
本発明の組成物は、導電性材料を含有する。
導電性材料としては、例えば、有機導電性材料、及び、無機導電性材料などを挙げることができる。
有機導電性材料としては、例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン、及び、ポリアセンなどを挙げることができる。
無機導電性材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、三酸化アンチモン（ＡＴＯ）、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛（ＡｌによりドープされてもよいＺｎＯ）、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ２）、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ２）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、及び、炭素（Ｃ）よりなる群から選ばれた１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子を挙げることができる。粒子の形状としては球状、非球状を問わず、シート状や、ワイヤー状、チューブ状であっても良い。 [1] (A) Conductive Material The composition of the present invention contains a conductive material.
Examples of the conductive material include an organic conductive material and an inorganic conductive material.
Examples of the organic conductive material include polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, and polyacene.
Examples of the inorganic conductive material include indium tin oxide (ITO), antimony trioxide (ATO), zinc oxide which may be doped with aluminum (ZnO which may be doped with Al), and fluorine-doped tin dioxide (F). 1 type selected from the group consisting of doped SnO 2 ), niobium doped titanium dioxide (Nb doped TiO 2 ), silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), nickel (Ni), and carbon (C) Or the electroconductive fine particle which consists of a multiple types of material can be mentioned. The shape of the particles may be spherical or non-spherical, and may be a sheet shape, a wire shape, or a tube shape.

また、透明帯電コート材用組成物が更に分散剤（分散剤の詳細は後述する）を含有するとともに、導電性材料が、酸化インジウムスズ、三酸化アンチモン、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、銀、金、銅、ニッケル、及び、炭素よりなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子である形態が好ましく、本発明の組成物により得られる透明帯電コート材の帯電性及び導電性の観点から、この形態における導電性材料は、酸化インジウムスズであることがより好ましい。   In addition, the composition for transparent charge coating material further contains a dispersant (details of the dispersant will be described later), and the conductive material may be doped with indium tin oxide, antimony trioxide, or aluminum. Preferred is a form of conductive fine particles made of any one or more materials selected from the group consisting of fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, silver, gold, copper, nickel, and carbon. From the viewpoint of the chargeability and conductivity of the transparent charge coating material obtained from the composition, the conductive material in this embodiment is more preferably indium tin oxide.

上記金属元素含有導電性微粒子の平均粒子径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。
無機微粒子の平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。球状粒子においては、粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒径とする。また、非球状粒子においては、シート状粒子では厚さを平均粒子径とし、ワイヤー状やチューブ状の粒子では直径を平均粒子径とする（通常、平均粒径を求めるために３００個以上の粒子について測定する）。 The average particle size of the metal element-containing conductive fine particles is preferably 1 to 200 nm, and more preferably 10 to 100 nm.
The average particle diameter of the inorganic fine particles can be determined from the photograph obtained by observing the dispersed particles with a transmission electron microscope. In the case of spherical particles, the projected area of the particles is obtained, and the equivalent circle diameter is obtained therefrom to obtain the average particle size. In the case of non-spherical particles, the thickness is the average particle diameter for sheet-like particles, and the diameter is the average particle diameter for wire-like or tube-like particles (usually 300 or more particles for obtaining the average particle diameter). Measure about).

組成物の全固形分に対する導電性材料の含有量は、２０質量％〜９５質量％であることが好ましく、３０質量％〜９０質量％であることがより好ましく、４０質量％〜８０質量％であることが更に好ましい。   The content of the conductive material with respect to the total solid content of the composition is preferably 20% by mass to 95% by mass, more preferably 30% by mass to 90% by mass, and 40% by mass to 80% by mass. More preferably it is.

［２］（Ｂ）硬化型化合物
本発明の組成物は、硬化型化合物を含有する。これにより、本発明の組成物により層を形成後、硬化型化合物を加熱等の手段によって硬化させて硬化物を形成すれば、硬化物は、層中において、耐候性の優れたバインダーとして機能できるため、結果、半導体プロセス適性（特に、耐傷性、及び、絶縁性基板との密着性）に優れた透明帯電コート材を形成できる。 [2] (B) Curable compound The composition of the present invention contains a curable compound. Thereby, after forming a layer with the composition of the present invention, if the curable compound is cured by means such as heating to form a cured product, the cured product can function as a binder having excellent weather resistance in the layer. Therefore, as a result, it is possible to form a transparent charge coating material having excellent semiconductor process suitability (particularly scratch resistance and adhesion to an insulating substrate).

硬化型化合物は、アクリル系化合物、又は、エポキシ系化合物であることが好ましく、本発明の組成物により得られる透明帯電コート材の、半導体プロセス適性として求められる耐薬性の観点から、硬化型化合物はエポキシ系化合物であることが好ましい。
アクリル系化合物としては、例えば、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物が挙げられ、エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物で、当該技術分野において広く知られるもの。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものが好ましい。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物；更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。 The curable compound is preferably an acrylic compound or an epoxy compound, and from the viewpoint of chemical resistance required as semiconductor process suitability of the transparent charge coating material obtained from the composition of the present invention, the curable compound is An epoxy compound is preferable.
Examples of the acrylic compound include an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, which is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Widely known in the field. These preferably have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and A dehydration condensation reaction product with a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine, or thiol; Furthermore, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a leaving group such as a halogen group or a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. It is. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。 Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanur Examples include acid EO-modified triacrylate.
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.

エポキシ系化合物としては、例えば、分子内に少なくとも１個のオキシラン環（エポキシ基）を有するものが挙げられ、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれの形態をとるものであってもよい。なかでも好ましくは、分子内に６個以上のエポキシ基を有するエポキシオリゴマーまたはエポキシポリマーである（以下、これらをエポキシ樹脂とする）。
エポキシ樹脂とは、分子内に２個以上のオキシラン環（エポキシ基）を有する樹脂の総称である。こうしたエポキシ樹脂としては例えば「エポキシ樹脂 最近の進歩（昭晃堂、垣内弘編著、１９９０年刊）」にも記載されているが、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格型エポキシ樹脂、ビスフェノール骨格型エポキシ樹脂、三官能型エポキシ樹脂、四官能型エポキシ樹脂、イミド基含有エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
本発明に用いうるその他のエポキシ樹脂としては、（メタ）アクリル基とエポキシ基を含有する化合物を重合して得られた樹脂、たとえばグリシジルメタアクリレートホモポリマー等が挙げられる。
これらエポキシ樹脂の中でも、特に多官能エポキシ樹脂を使用することが好ましい。即ち、分子内に４個〜５０個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を使用することが好ましく、分子内に６個〜２５個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を使用することがより好ましい。
多官能エポキシ樹脂としては、具体的には、各種ノボラック型エポキシ樹脂（分子内のオキセタン環の数３〜３０）、ダイセル化学工業株式会社製ＥＨＰＥ−３１５０（分子内のオキセタン環の数約１５）、（メタ）アクリル基とエポキシ基を含有する化合物を重合して得られた樹脂（分子内のオキセタン環の数３〜５０）等が挙げられる。
エポキシ樹脂の分子量としては、５００以上１００，０００以下が好ましい。より好ましい分子量は１，０００以上１０，０００以下である。 Examples of the epoxy compound include those having at least one oxirane ring (epoxy group) in the molecule, and may take any form of a monomer, an oligomer, and a polymer. Among these, an epoxy oligomer or an epoxy polymer having 6 or more epoxy groups in the molecule is preferable (hereinafter referred to as an epoxy resin).
The epoxy resin is a general term for resins having two or more oxirane rings (epoxy groups) in the molecule. Examples of such an epoxy resin are described in “Recent Advances of Epoxy Resins” (published by Shoshodo, edited by Hiroshi Kakiuchi, 1990), but include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, novolak type epoxy resins, Brominated epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, naphthalene skeleton type epoxy resin, bisphenol skeleton type epoxy resin, trifunctional type epoxy resin, tetrafunctional type epoxy resin, imide group-containing epoxy resin, alicyclic epoxy resin, etc. .
Other epoxy resins that can be used in the present invention include a resin obtained by polymerizing a compound containing a (meth) acryl group and an epoxy group, such as a glycidyl methacrylate homopolymer.
Among these epoxy resins, it is particularly preferable to use a polyfunctional epoxy resin. That is, it is preferable to use an epoxy resin having 4 to 50 epoxy groups in the molecule, and it is more preferable to use an epoxy resin having 6 to 25 epoxy groups in the molecule.
Specifically, as the polyfunctional epoxy resin, various novolak type epoxy resins (number of oxetane rings in the molecule 3 to 30), Daicel Chemical Industries, Ltd. EHPE-3150 (number of oxetane rings in the molecule about 15) And a resin obtained by polymerizing a compound containing a (meth) acryl group and an epoxy group (number of oxetane rings in the molecule 3 to 50).
The molecular weight of the epoxy resin is preferably 500 or more and 100,000 or less. A more preferable molecular weight is 1,000 or more and 10,000 or less.

これらの硬化型化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、本発明の組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できるが、例えば、本発明の組成物により得られる膜の強度を高くするためには、硬化型化合物は、エチレン性不飽和二重結合又はエポキシ基を３個以上で有する化合物であることが好ましい。 また、本発明の組成物に含有され得る他の成分（例えば、重合開始剤、導電性材料等）との相溶性、分散性に対しても、硬化型化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の他の成分の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。   For these curable compounds, the structure, single use or combination, details of usage such as addition amount can be arbitrarily set according to the final performance design of the composition of the present invention, for example, the present invention In order to increase the strength of the film obtained by the composition, the curable compound is preferably a compound having three or more ethylenically unsaturated double bonds or epoxy groups. In addition, the selection and use method of the curable compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, polymerization initiator, conductive material, etc.) that can be contained in the composition of the present invention. For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more other components in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a hard surface such as a substrate.

組成物の全固形分に対する硬化型化合物の含有量は、１質量％〜３０質量％であることが好ましく、３質量％〜２５質量％であることがより好ましく、５質量％〜２０質量％であることが更に好ましい。   The content of the curable compound with respect to the total solid content of the composition is preferably 1% by mass to 30% by mass, more preferably 3% by mass to 25% by mass, and 5% by mass to 20% by mass. More preferably it is.

［３］（Ｃ）溶剤
本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤は、好ましくは有機溶剤である。
使用可能な有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、ノルマル−プロパノール、イソプロパノール、ノルマル−ブタノール、セカンダリーブタノール、ノルマル−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ノルマル−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、及びメトキシプロピルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が挙げられる。その中でも、特に絶縁性基板がガラス基板である場合には、本発明の組成物の塗布性（濡れ性）の観点から、溶剤は、アルコール類、ケトン類（特にシクロヘキサノン）、及び、エーテル類（特にＰＧＭＥＡ）であることが好ましい。 [3] (C) Solvent The composition of the present invention contains a solvent. The solvent is preferably an organic solvent.
Examples of usable organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, normal-propanol, isopropanol, normal-butanol, secondary butanol, normal-hexanol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, Ketones such as cyclopentanone; ethyl acetate, butyl acetate, acetic acid-normal-amyl, methyl sulfate, ethyl propionate, dimethyl phthalate, ethyl benzoate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and methoxypropyl acetate Esters; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, benzene, ethylbenzene; carbon tetrachloride, trichloroethylene, chloroform, 1,1 Halogenated hydrocarbons such as 1-trichloroethane, methylene chloride, monochlorobenzene; tetrahydrofuran, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl Ethers such as ether; dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, sulfolane and the like. Among these, particularly when the insulating substrate is a glass substrate, from the viewpoint of applicability (wetting property) of the composition of the present invention, the solvent is alcohols, ketones (especially cyclohexanone), and ethers ( PGMEA) is particularly preferable.

溶剤の本発明の組成物中における含有量は、塗布性の観点から、組成物の全固形分濃度が５〜５０質量％になる量とすることが好ましく、５〜４０質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。   The content of the solvent in the composition of the present invention is preferably such that the total solid concentration of the composition is 5 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, from the viewpoint of applicability. 10-30 mass% is especially preferable.

［４］分散剤
本発明の組成物は、特に、上記金属元素含有導電性微粒子を含有する場合、金属元素含有導電性微粒子の分散性を向上させる観点から、更に、分散剤を含有することが好ましい。 [4] Dispersant The composition of the present invention may further contain a dispersant from the viewpoint of improving the dispersibility of the metal element-containing conductive fine particles, particularly when the metal element-containing conductive fine particles are contained. preferable.

分散剤は、微粒子に吸着可能な吸着性基と、分散剤が吸着した微粒子同士の立体的な反発を促す立体反発性部位とを有する有機系分散剤であることが好ましい。
分散剤は、吸着性基として、カルボキシル基、チオール基、アミノ基、リン酸基、スルホニル基、及び、ヒドロキシ基からなる群から選択される１種以上を有することが好ましい。
また、分散剤は、立体反発性部位として、ポリエステル部位、ポリアクリル部位、ポリエーテル部位、ポリウレタン部位、ポリイミド部位、及び、ポリアミド部位からなる群から選択される１種以上を有することが好ましい。 The dispersant is preferably an organic dispersant having an adsorptive group that can be adsorbed to the fine particles and a steric repulsion site that promotes steric repulsion between the fine particles adsorbed by the dispersant.
It is preferable that a dispersing agent has 1 or more types selected from the group which consists of a carboxyl group, a thiol group, an amino group, a phosphate group, a sulfonyl group, and a hydroxy group as an adsorptive group.
Moreover, it is preferable that a dispersing agent has 1 or more types selected from the group which consists of a polyester site | part, a polyacryl site | part, a polyether site | part, a polyurethane site | part, a polyimide site | part, and a polyamide site | part as a steric repulsion site | part.

分散剤は、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかにより分解可能な、易分解性有機物であることが好ましい。このような形態によれば、本発明の組成物により塗布層を形成後、この塗布層に、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの処理を行うことで、易分解性有機物が分解し、導電性材料同士の密着度が向上する。これにより、当該処理前と比較して、表面抵抗がより低下した透明帯電コート材を形成できる。そして、このような表面抵抗がより低下した透明帯電コート材は、この透明帯電コート材を下地層とする静電スプレーコートをより確実に実施できる点で好ましい。
上記易分解性有機物としては、前記吸着性基と前記立体反発性部位とを有する有機系分散剤であって、前記立体反発性部位がポリエステル部位、ポリエーテル部位又はポリウレタン部位である有機系分散剤を好適に挙げることができる。 The dispersant is preferably an easily decomposable organic substance that can be decomposed by at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation. According to such a form, after forming a coating layer with the composition of the present invention, the coating layer is heated at 200 ° C. or more and 250 ° C. or less and at least one of irradiation with ultraviolet light, The readily decomposable organic matter is decomposed, and the adhesion between the conductive materials is improved. As a result, a transparent charge coating material having a lower surface resistance than that before the treatment can be formed. Such a transparent charge coating material having a lower surface resistance is preferable in that it can more reliably carry out electrostatic spray coating using the transparent charge coating material as a base layer.
The easily decomposable organic substance is an organic dispersant having the adsorptive group and the steric repulsion part, and the steric repulsion part is a polyester part, a polyether part or a polyurethane part. Can be preferably mentioned.

本発明に用いうる分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等の界面活性剤等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。 Examples of the dispersant that can be used in the present invention include polymer dispersants [for example, polyamidoamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylate, (Meth) acrylic copolymer, naphthalene sulfonic acid formalin condensate], and surfactants such as polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkyl amine, and alkanol amine.
The polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer from the structure thereof.

表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子としては、例えば、特開平３−１１２９９２号公報、特表２００３−５３３４５５号公報等に記載の末端にりん酸基を有する高分子、特開２００２−２７３１９１号公報等に記載の末端にスルホン酸基を有する高分子、特開平９−７７９９４号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子、特開２００８−２９９０１号公報等に記載の片末端に水酸基又はアミノ基を有するオリゴマー又はポリマーと酸無水物で変性して製造される高分子などが挙げられる。また、特開２００７−２７７５１４号公報に記載の高分子末端に２個以上の赤外線遮蔽材表面へのアンカー部位（酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等）を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。   Examples of the terminal-modified polymer having an anchor site to the surface include a polymer having a phosphate group at its terminal described in JP-A-3-112992, JP-T2003-533455, and the like. A polymer having a sulfonic acid group at its terminal described in JP-A-273191, a polymer having a partial skeleton or a heterocyclic ring of an organic dye described in JP-A-9-77994, or the like in JP-A-2008-29901 Examples thereof include a polymer produced by modifying an oligomer or polymer having a hydroxyl group or an amino group at one end and an acid anhydride. In addition, a high molecular weight terminal in which two or more anchor portions (acid groups, basic groups, organic dye partial skeletons, heterocycles, etc.) to the surface of the infrared shielding material are introduced at the polymer ends described in JP-A-2007-277514. Molecules are also preferred because of their excellent dispersion stability.

表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子としては、例えば、特開昭５４ー３７０８２号公報、特表平８−５０７９６０号公報、特開２００９−２５８６６８号公報等に記載のポリ（低級アルキレンイミン）とポリエステルの反応生成物、特開平９−１６９８２１号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開２００９−２０３４６２号公報に記載の塩基性基と酸性基を有する両性分散樹脂、特開平１０−３３９９４９号、特開２００４−３７９８６号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子モノマーとの共重合体、特開２００３−２３８８３７号公報、特開２００８−９４２６号公報、特開２００８−８１７３２号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開２０１０−１０６２６８号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体等が挙げられる。   Examples of the graft type polymer having an anchor site on the surface include poly (lower alkyleneimine) described in JP-A No. 54-37082, JP-A No. 8-507960, JP-A No. 2009-258668, and the like. ) And polyester reaction product, reaction product of polyallylamine and polyester described in JP-A-9-169821, etc., amphoteric dispersion resin having basic group and acidic group described in JP-A-2009-203462, Copolymers of macromonomer and nitrogen atom monomer described in JP-A-10-339949, JP-A-2004-37986, etc., JP-A-2003-238837, JP-A-2008-9426, JP-A-2008 JP-A-81732, etc., a graft type polymer having a partial skeleton or heterocyclic ring of an organic dye, They include copolymers of macromonomer and acid group-containing monomers described in 06268 JP like.

表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子をラジカル重合で製造する際に用いるマクロモノマーとしては、公知のマクロモノマーを用いることができ、東亜合成（株）製のマクロモノマーＡＡ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリメタクリル酸メチル）、ＡＳ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリスチレン）、ＡＮ−６Ｓ（末端基がメタクリロイル基であるスチレンとアクリロニトリルの共重合体）、ＡＢ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリアクリル酸ブチル）、ダイセル化学工業（株）製のプラクセルＦＭ５（メタクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン５モル当量付加品）、ＦＡ１０Ｌ（アクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン１０モル当量付加品）、及び特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマー等が挙げられる。これらの中でも、特に柔軟性かつ親溶剤性に優れるポリエステル系マクロモノマーが、感光性透明組成物における無機微粒子の分散性、分散安定性の観点から特に好ましく、更に、特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマーで表されるポリエステル系マクロモノマーが最も好ましい。   As a macromonomer used when producing a graft polymer having an anchor site on the surface by radical polymerization, a known macromonomer can be used. Macromonomer AA-6 (terminal group) manufactured by Toa Gosei Co., Ltd. Is a methacryloyl group polymethyl methacrylate), AS-6 (polystyrene whose terminal group is a methacryloyl group), AN-6S (a copolymer of styrene and acrylonitrile whose terminal group is a methacryloyl group), AB-6 (terminal Polybutyl acrylate whose group is a methacryloyl group), Plaxel FM5 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. (2-hydroxyethyl methacrylate, ε-caprolactone 5 molar equivalent addition product), FA10L (ε of 2-hydroxyethyl acrylate) -Caprolactone 10 molar equivalent addition product), and JP-A-2-272009 Polyester macromonomer described in the publication No. and the like. Among these, a polyester-based macromonomer that is particularly flexible and excellent in solvophilicity is particularly preferable from the viewpoints of dispersibility and dispersion stability of inorganic fine particles in the photosensitive transparent composition, and further disclosed in JP-A-2-272009. Most preferred are polyester macromonomers represented by the polyester macromonomer described.

表面へのアンカー部位を有するブロック型高分子としては、特開２００３−４９１１０号公報、特開２００９−５２０１０号公報等に記載のブロック型高分子が好ましい。   As the block polymer having an anchor site to the surface, block polymers described in JP-A Nos. 2003-49110 and 2009-52010 are preferable.

分散剤としては、例えば、公知の分散剤や界面活性剤を適宜選択して用いることができる。
そのような具体例としては、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０〜４０１０〜４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０〜４３４０（ブロック共重合体）、４４００〜４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８８０、ＰＢ８８１」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、日本ルーブリゾール（株）製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３７５００、３８５００（グラフト型高分子）、５５０００、７６４００」、日光ケミカル者製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」、川研ファインケミカル（株）製
ヒノアクトＴ−８０００Ｅ等、信越化学工業（株）製、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１、裕商（株）製「Ｗ００１：カチオン系界面活性剤」、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤、「Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７」等のアニオン系界面活性剤、森下産業（株）製「ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０」、サンノプコ（株）製「ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００」等の高分子分散剤、（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカプルロニックＬ３１、Ｆ３８、Ｌ４２、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ６４、Ｆ６８、Ｌ７２、Ｐ９５、Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４、Ｌ１０１、Ｐ１０３、Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３」、三洋化成（株）製「イオネット（商品名）Ｓ−２０」、及び、富士フイルムファインケミカルズ（株）製「ＤＰ−１３０４」等が挙げられる。 As the dispersant, for example, a known dispersant or surfactant can be appropriately selected and used.
Specific examples include “Disperbyk-101 (polyamidoamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 (copolymer containing an acid group), 130 (polyamide), 161, 162, and 163, manufactured by BYK Chemie. 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer) ”,“ BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ”,“ EFKA 4047, 4050-4010-4165 (polyurethane system), EFKA4330, manufactured by EFKA. -4340 (block copolymer), 4400-4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylate), 6220 (fatty acid polyester), 6745 (phthalocyanine derivative) ", Ajinomoto Fan Techno "Ajispa" “PB821, PB822, PB880, PB881”, “Floren TG-710 (urethane oligomer)” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., “Polyflow No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer)”, “Disparon KS- manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. 860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polyvalent carboxylic acid), # 7004 (polyether ester), DA-703-50, DA-705, DA-725 "," Demol RN, N (naphthalene) "manufactured by Kao Corporation Sulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid formalin polycondensate) ”,“ homogenol L-18 (polymer polycarboxylic acid) ”,“ Emulgen 920, 930, 935, 985 ” (Polyoxyethylene nonylphenyl ether) ”,“ Acetamine 86 (stearylamine) Setate) ", Nippon Lubrizol Co., Ltd." Solsperse 5000 (phthalocyanine derivative), 13240 (polyesteramine), 3000, 17000, 27000 (polymer having a functional part at the end), 24000, 28000, 32000, 37500, 38500 (graft type polymer), 55000, 76400 "," Nikkor T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate) "manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd., manufactured by Kawaken Fine Chemical Co. T-8000E, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., organosiloxane polymer KP341, Yusho Co., Ltd. “W001: cationic surfactant”, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether , Nonoxy surfactants such as polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, “W004, W005, W017” Anionic surfactants such as “EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA polymer 100, EFKA polymer 400, EFKA polymer 401, EFKA polymer 450” manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd. “ Polymer dispersants such as Disperse Aid 6, Disperse Aid 8, Disperse Aid 15, Disperse Aid 9100, etc., “Adeka Pluronic L31, F38, L manufactured by ADEKA Corporation 42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123 ", Sanyo Chemical Co., Ltd." Ionette (trade name) S-20 And “DP-1304” manufactured by FUJIFILM Fine Chemicals Co., Ltd.

これらの分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、本発明の分散剤は、前記赤外線遮蔽材表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子と伴に、アルカリ可溶性樹脂と併用して用いても良い。アルカリ可溶性樹脂としては、（メタ）アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を変性した樹脂が挙げられるが、特に（メタ）アクリル酸共重合体が好ましい。また、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー共重合体、特開２００４−３００２０４号公報に記載のエーテルダイマー共重合体、特開平７−３１９１６１号公報に記載の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂も好ましい。
分散性、沈降性の観点から、好ましくは、特開２０１０−１０６２６８号公報に記載の以下に示す樹脂が好ましく、特に、分散性の観点から、側鎖にポリエステル鎖を有する高分子分散剤が好ましい。 These dispersants may be used alone or in combination of two or more. The dispersant of the present invention may be used in combination with an alkali-soluble resin together with a terminal-modified polymer, a graft polymer, or a block polymer having an anchor site to the surface of the infrared shielding material. . Alkali-soluble resins include (meth) acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, etc., and carboxylic acid in the side chain. Examples of the acid cellulose derivative include a resin having a hydroxyl group modified with an acid anhydride, and a (meth) acrylic acid copolymer is particularly preferable. Further, N-substituted maleimide monomer copolymers described in JP-A-10-300902, ether dimer copolymers described in JP-A-2004-300204, and polymerizable groups described in JP-A-7-319161. An alkali-soluble resin containing is also preferred.
From the viewpoints of dispersibility and sedimentation, the following resins described in JP 2010-106268 A are preferable, and in particular, from the viewpoint of dispersibility, a polymer dispersant having a polyester chain in the side chain is preferable. .

以下に、本発明において分散剤として好ましく用いられる特開２０１０−１０６２６８号公報に記載される分散樹脂について説明する。
好ましい分散剤は、分子内に、水素原子を除いた原子数が４０〜１００００の範囲であり、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及びポリアクリレート構造から選択されるグラフト鎖を有するグラフト共重合体であり、少なくとも下記式（１）〜式（４）のいずれかで表される構造単位を含むことが好ましく、少なくとも、下記式（１Ａ）、下記式（２Ａ）、下記式（３）、及び下記式（４）のいずれかで表される構造単位を含むことがより好ましい。 The dispersion resin described in JP 2010-106268 A, which is preferably used as a dispersant in the present invention, will be described below.
A preferred dispersant is a graft copolymer having a graft chain selected from a polyester structure, a polyether structure, and a polyacrylate structure, in which the number of atoms excluding hydrogen atoms is in the range of 40 to 10,000 in the molecule. It is preferable that at least the structural unit represented by any one of the following formulas (1) to (4) is included, and at least the following formula (1A), the following formula (2A), the following formula (3), and the following formula It is more preferable that the structural unit represented by any of (4) is included.

式（１）〜式（４）において、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３及びＷ４はそれぞれ独立に酸素原子或いはＮＨを表し、特に酸素原子が好ましい。
式（１）〜式（４）において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４及びＸ５はそれぞれ独立に水素原子或いは１価の有機基を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４及びＸ５としては、合成上の制約の観点から、好ましくは水素原子、或いは炭素数１から１２のアルキル基であり、水素原子或いはメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
式（１）〜式（４）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４はそれぞれ独立に２価の連結基であり、特に構造上制約されない。Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４で表される２価の連結基として、具体的には、下記の（Ｙ−１）から（Ｙ−２１）の連結基などが挙げられる。下記構造でＡ、Ｂはそれぞれ、式（１）〜式（４）における左末端基、右末端基との結合を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、(Ｙ−２)、（Ｙ−１３）であることがより好ましい。 In the formulas (1) to (4), W 1 , W 2 , W 3 and W 4 each independently represent an oxygen atom or NH, and an oxygen atom is particularly preferable.
In the formulas (1) to (4), X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and are a hydrogen atom or a methyl group, from the viewpoint of synthesis constraints. Are more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
In the formulas (1) to (4), Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each independently a divalent linking group and are not particularly limited in structure. Specific examples of the divalent linking group represented by Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 include the following (Y-1) to (Y-21) linking groups. In the following structures, A and B each represent a bond with the left terminal group and the right terminal group in formulas (1) to (4). Of the structures shown below, (Y-2) and (Y-13) are more preferable from the viewpoint of ease of synthesis.

式（１）〜式（４）において、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は、それぞれ独立に１価の置換基であり、特に、構造は限定されないが、具体的には、アルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、或いはヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、或いはヘテロアリールチオエーテル基、アミノ基などが挙げられる。この中でも、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４で表される１価の置換基としては、特に分散性向上の観点から、立体反発効果を有することが好ましく、Ｚ１〜Ｚ３で表される置換基としては、各々独立に炭素数５から２４のアルキル基又は炭素数５〜２４のアルコキシ基が好ましく、その中でも、特に各々独立に炭素数５〜２４の分岐アルキル基を有するアルコキシ基或いは炭素数５〜２４の環状アルキル基を有するアルコキシ基が好ましい。また、Ｚ４で表される置換基としては、各々独立に炭素数５〜２４のアルキル基が好ましく、その中でも、各々独立に炭素数５〜２４の分岐アルキル基或いは炭素数５〜２４の環状アルキル基が好ましい。
式（１）〜式（４）において、ｎ、ｍ、ｐ及びｑはそれぞれ１から５００の整数である。
また、式（１）および式（２）において、ｊおよびｋは、それぞれ独立に、２〜８の整数を表す。式（１）および式（２）におけるｊおよびｋは、分散安定性の観点から、４〜６の整数が好ましく、５が最も好ましい。 In the formulas (1) to (4), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently a monovalent substituent, and the structure is not particularly limited, but specifically, an alkyl group Hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthioether group, arylthioether group, heteroarylthioether group, amino group, and the like. Among these, the monovalent substituents represented by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 preferably have a steric repulsion effect from the viewpoint of improving dispersibility, particularly represented by Z 1 to Z 3 . Preferred examples of the substituent are each independently an alkyl group having 5 to 24 carbon atoms or an alkoxy group having 5 to 24 carbon atoms, and among them, an alkoxy group having a branched alkyl group having 5 to 24 carbon atoms. Or the alkoxy group which has a C5-C24 cyclic alkyl group is preferable. As the substituent represented by Z 4 each preferably an alkyl group having 5 to 24 carbon atoms independently, among them, each independently of 5 to 24 carbon atoms branched alkyl group or cyclic carbon atoms 5-24 Alkyl groups are preferred.
In Formula (1)-Formula (4), n, m, p, and q are integers of 1 to 500, respectively.
Moreover, in Formula (1) and Formula (2), j and k represent the integer of 2-8 each independently. J and k in formula (1) and formula (2) are preferably integers of 4 to 6, and most preferably 5, from the viewpoint of dispersion stability.

式（３）中のＲ３は、分岐又は直鎖のアルキレン基を表す。式（３）中のＲ３は、炭素数１〜１０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基であることがより好ましい。
式（４）中のＲ４は水素原子又は１価の有機基を表し、この１価の有機基としては特に構造上限定はされない。式（４）中のＲ４として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、及びヘテロアリール基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、又はアルキル基である。式（４）中のＲ４がアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素数１〜２０の直鎖状アルキル基、炭素数３〜２０の分岐状アルキル基、又は炭素数５〜２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数１〜２０の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基が特に好ましい。また、式（４）中のＲ４としては、グラフト共重合体中に構造の異なるＲ４を２種以上混合して用いてもよい。 R 3 in the formula (3) represents a branched or straight chain alkylene group. R 3 in Formula (3) is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms.
R 4 in the formula (4) represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the monovalent organic group is not particularly limited in terms of structure. R 4 in formula (4) is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and a heteroaryl group, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 4 in Formula (4) is an alkyl group, the alkyl group includes a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a carbon number having 5 to 20 carbon atoms. Are preferable, a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, and a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is particularly preferable. In addition, as R 4 in formula (4), two or more types of R 4 having different structures may be mixed and used in the graft copolymer.

グラフト共重合体において、式（１）〜式（４）で表される構造単位は、質量換算で、グラフト共重合体の総質量に対し１０％〜９０％の範囲で含まれることが好ましく、３０％〜７０％の範囲で含まれることがより好ましい。式（１）〜式（４）で表される構造単位が、この範囲内で含まれると導電性材料の分散性が高い。   In the graft copolymer, the structural unit represented by the formula (1) to the formula (4) is preferably contained in a range of 10% to 90% in terms of mass with respect to the total mass of the graft copolymer. More preferably, it is contained in the range of 30% to 70%. When the structural units represented by the formulas (1) to (4) are included within this range, the dispersibility of the conductive material is high.

また、グラフト共重合体においては、２種以上の構造が異なるグラフト共重合体を含有することができる。   Moreover, in the graft copolymer, the graft copolymer from which 2 or more types of structures differ can be contained.

前記式（１）で表される構造単位としては、分散安定性の観点から、下記式（１Ａ）で表される構造単位であることがより好ましい。
また、前記式（２）で表される構造単位としては、分散安定性の観点から、下記式（２Ａ）で表される構造単位であることがより好ましい。 The structural unit represented by the formula (1) is more preferably a structural unit represented by the following formula (1A) from the viewpoint of dispersion stability.
The structural unit represented by the formula (2) is more preferably a structural unit represented by the following formula (2A) from the viewpoint of dispersion stability.

式（１Ａ）中、Ｘ１、Ｙ１、Ｚ１及びｎは、式（１）におけるＸ１、Ｙ１、Ｚ１及びｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（２Ａ）中、Ｘ２、Ｙ２、Ｚ２及びｍは、式（２）におけるＸ２、Ｙ２、Ｚ２及びｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、前記式（３）で表される構造単位としては、分散安定性の観点から、下記式（３Ａ）又は下記式（３Ｂ）で表される構造単位であることがより好ましい。 Wherein (1A), X 1, Y 1, Z 1 and n are as defined X 1, Y 1, Z 1 and n in Formula (1), and preferred ranges are also the same.
Wherein (2A), X 2, Y 2, Z 2 and m are as defined X 2, Y 2, Z 2 and m in the formula (2), and preferred ranges are also the same.
The structural unit represented by the formula (3) is more preferably a structural unit represented by the following formula (3A) or the following formula (3B) from the viewpoint of dispersion stability.

式（３Ａ）又は（３Ｂ）中、Ｘ３、Ｙ３、Ｚ３及びｐは、前記式（３）におけるＸ３、Ｙ３、Ｚ３及びｐと同義であり、好ましい範囲も同様である。 Wherein (3A) or (3B), X 3, Y 3, Z 3 and p, the formula (3) X 3, Y 3 , have the same meaning as Z 3 and p in, preferred ranges are also the same.

グラフト共重合体としては、前記式（１Ａ）で表される構造単位を有するものであることがより好ましい。   The graft copolymer is more preferably one having a structural unit represented by the formula (1A).

グラフト共重合体の具体例として、以下に示す化合物が挙げられる。なお、下記例示化合物中、各構造単位に併記される数値は、当該構造単位の含有量〔質量％：適宜、（ｗｔ％）と記載〕を表す。側鎖の繰り返し部位に併記される数値は、当該繰り返し部位の繰り返し数を示す。   Specific examples of the graft copolymer include the following compounds. In addition, in the following exemplary compounds, the numerical value written together with each structural unit represents the content of the structural unit [mass%: appropriately described as (wt%)]. The numerical value written together with the repeating part of the side chain indicates the number of repetitions of the repeating part.

分散剤を用いる場合には、まず、金属元素含有導電性微粒子と分散剤と、適切な溶剤により分散組成物を調製した後、本発明の組成物に配合することが分散性向上の観点から好ましい。
本発明の組成物は、分散剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、分散剤の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、１質量％〜９０質量％であることが好ましく、３質量％〜８０質量％であることがより好ましく、４質量％〜４０質量％であることが更に好ましい。 In the case of using a dispersant, it is preferable from the viewpoint of improving the dispersibility that the dispersion composition is first prepared with the metal element-containing conductive fine particles, the dispersant, and an appropriate solvent, and then blended into the composition of the present invention. .
The composition of the present invention may or may not contain a dispersant, but when it is contained, the content of the dispersant is 1% by mass to 90% by mass with respect to the total solid mass of the composition. It is preferably 3% by mass to 80% by mass, more preferably 4% by mass to 40% by mass.

［５］研磨材
本発明の組成物は、更に、研磨材を含有することが好ましく、これにより、本発明の組成物より得られる透明帯電コートの耐傷性をより向上できる。その理由は定かではないが、透明帯電コート中に研磨材が存在することにより、透明帯電コートは、その表面粗さが増大して、他の部材との接触面積が低減するため、他の部材によって擦傷されにくくなるためと考えられる。
研磨材としては、アルミナ（α−アルミナ、β−アルミナ等）、ジルコニア、酸化セリウム、ダイヤモンド、炭化珪素、窒化ホウ素、酸化クロム、酸化鉄（α−酸化鉄等）、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、二酸化珪素、及び、酸化チタンからなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種（すなわち、複合体）の研磨材微粒子であることが好ましく、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化ホウ素、及び、ダイヤモンドからなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の研磨材微粒子であることがより好ましい。
研磨材微粒子のモース硬度は、６以上であることが好ましい。
また、研磨材微粒子の平均粒径は、０．０１〜０．５μｍであるものが好ましく、形状の一部に角を有し、平均粒径が０．０１〜０．３μｍであるものがさらに好ましい。
本発明の組成物により得られる透明帯電コート材の面内均一性の観点から、研磨材微粒子の粒度分布は狭い方が好ましい。
また、本発明の組成物により得られる透明帯電コート材の耐傷性を向上させる等の観点から、必要に応じて、粒径の異なる研磨材を組み合わせても良い。添加する研磨材の粒径ならびに量は、適宜、設定できるが、研磨材の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、０．１質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜２０質量％であることがより好ましく、１質量％〜１０質量％であることが更に好ましい。 [5] Abrasive Material The composition of the present invention preferably further contains an abrasive material, whereby the scratch resistance of the transparent charge coat obtained from the composition of the present invention can be further improved. The reason is not clear, but the presence of an abrasive in the transparent charge coat increases the surface roughness of the transparent charge coat and reduces the contact area with other members. This is considered to be because it becomes difficult to be scratched.
As abrasives, alumina (α-alumina, β-alumina, etc.), zirconia, cerium oxide, diamond, silicon carbide, boron nitride, chromium oxide, iron oxide (α-iron oxide, etc.), silicon nitride, silicon carbide titanium car It is preferably any one or more (ie, composite) abrasive fine particles selected from the group consisting of a bite, silicon dioxide, and titanium oxide, such as alumina, zirconia, silicon carbide, boron nitride, and More preferably, it is any one kind or plural kinds of abrasive fine particles selected from the group consisting of diamond.
The Mohs hardness of the abrasive fine particles is preferably 6 or more.
Further, the average particle diameter of the abrasive fine particles is preferably 0.01 to 0.5 μm, and a part of the shape has corners and the average particle diameter is 0.01 to 0.3 μm. preferable.
From the viewpoint of in-plane uniformity of the transparent charge coating material obtained from the composition of the present invention, it is preferable that the particle size distribution of the abrasive fine particles is narrow.
Moreover, you may combine the abrasives from which a particle size differs as needed from a viewpoint of improving the flaw resistance of the transparent charge coating material obtained by the composition of this invention. The particle size and amount of the abrasive to be added can be appropriately set, but the content of the abrasive is preferably 0.1% by mass to 30% by mass with respect to the total solid mass of the composition. The content is more preferably 0.5% by mass to 20% by mass, and further preferably 1% by mass to 10% by mass.

［６］潤滑剤
本発明の組成物は、更に、潤滑剤を含有することが好ましく、これにより、本発明の組成物より得られる透明帯電コートの耐傷性をより向上できる。その理由は定かではないが、透明帯電コート中に潤滑剤が存在することにより、透明帯電コートの表面が改質され、他の部材との接触時における潤滑性が向上し、その結果、他の部材によって擦傷されにくくなるためと考えられる。
潤滑剤としては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）及びこれらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フッ素含有エステル、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル又はトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）などのシリコ−ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−ン、フッ素含有シリコ−ン、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、フッ素含有アルコ−ルなどのアルコ−ル、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレングリコ−ル、ポリエチレンオキシドワックスなどのポリグリコ−ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエ−テル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンが好ましい。これらの潤滑剤は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。 [6] Lubricant The composition of the present invention preferably further contains a lubricant, whereby the scratch resistance of the transparent charge coat obtained from the composition of the present invention can be further improved. The reason is not clear, but the presence of the lubricant in the transparent charge coat improves the surface of the transparent charge coat and improves the lubricity when in contact with other members. This is considered to be less likely to be scratched by the member.
As a lubricant, a monobasic fatty acid having 10 to 24 carbon atoms (which may contain an unsaturated bond or may be branched) and a metal salt thereof (Li, Na, K, Cu, etc.), fluorine-containing Silicone, fluorine-containing alcohols, fluorine-containing esters, fluorine-containing alkyl sulfates and alkali metal salts thereof, monobasic fatty acids having 10 to 24 carbon atoms (which may contain unsaturated bonds or may be branched) And any one of monovalent, divalent, trivalent, tetravalent, pentavalent, and hexavalent alcohols having 2 to 12 carbon atoms (which may contain an unsaturated bond or may be branched). Mono-fatty acid ester or di-fatty acid ester or tri-fatty acid ester, fatty acid ester of monoalkyl ether of alkylene oxide polymer, dialkyl polysiloxane (alkyl has 1 carbon atom) 5), dialkoxypolysiloxane (alkoxy has 1 to 4 carbon atoms), monoalkyl monoalkoxy polysiloxane (alkyl is 1 to 5 carbon atoms, alkoxy is 1 to 4 carbon atoms), phenyl polysiloxane, fluoro Silicone oil such as alkylpolysiloxane (alkyl is 1 to 5 carbon atoms), silicone having polar group, fatty acid-modified silicone, fluorine-containing silicone, monovalent or divalent carbon having 12 to 22 carbon atoms , Trivalent, tetravalent, pentavalent, hexavalent alcohol (which may contain an unsaturated bond or may be branched), or an alkoxy alcohol having 12 to 22 carbon atoms (including an unsaturated bond). Or may be branched), an alcohol such as a fluorine-containing alcohol, a polyolefin such as polyethylene wax or polypropylene, an ethylene glycol, Polyglycols such as reethylene oxide wax, alkyl phosphate esters and alkali metal salts thereof, alkyl sulfate esters and alkali metal salts thereof, polyphenyl ether, fatty acid amides having 8 to 22 carbon atoms, aliphatic amines having 8 to 22 carbon atoms preferable. These lubricants are not necessarily 100% pure, and may contain impurities such as isomers, unreacted materials, by-products, decomposition products, and oxides in addition to the main components. These impurities are preferably 30% by weight or less, more preferably 10% by weight or less.

潤滑剤の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、１０質量％〜７０質量％であることが好ましく、２０質量％〜６５質量％であることがより好ましく、３０質量％〜６０質量％であることが更に好ましい。   The content of the lubricant is preferably 10% by mass to 70% by mass, more preferably 20% by mass to 65% by mass, and more preferably 30% by mass to 60% by mass with respect to the total solid content mass of the composition. More preferably, it is mass%.

［５］添加剤
本発明の組成物は、組成物を用いて得られる膜の特性（耐熱性、機械強度、塗布性、密着性等）を損なわない範囲で、界面活性剤、密着促進剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、重合開始剤などの添加剤を添加してもよい。 [5] Additive The composition of the present invention includes a surfactant, an adhesion promoter, and the like, as long as the characteristics of the film (heat resistance, mechanical strength, applicability, adhesion, etc.) obtained using the composition are not impaired. You may add additives, such as a ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, and a polymerization initiator.

＜界面活性剤＞
本発明の組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。 <Surfactant>
Various surfactants may be added to the composition of the present invention from the viewpoint of further improving coatability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.

特に、本発明の組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。 In particular, since the composition of the present invention contains a fluorosurfactant, the liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved. Sex can be improved more.
That is, when a film is formed using a coating liquid to which a composition containing a fluorosurfactant is applied, the wettability to the coated surface is reduced by reducing the interfacial tension between the coated surface and the coating liquid. Is improved, and the coating property to the coated surface is improved. For this reason, even when a thin film of about several μm is formed with a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３質量％〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５質量％〜３０質量％であり、特に好ましくは７質量％〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。   The fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3% by mass to 40% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 7% by mass to 25% by mass. A fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in the composition.

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781 (above DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, SC-383, S393, KH-40 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (made by OMNOVA) etc. are mentioned.

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）等が挙げられる。   Specific examples of nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene Stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62 manufactured by BASF, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1, Sol Perth 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Corporation), and the like.

カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。   Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid ( Co) polymer polyflow no. 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.

アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。   Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。 Examples of the silicone surfactant include “Toray Silicone DC3PA”, “Toray Silicone SH7PA”, “Toray Silicone DC11PA”, “Tore Silicone SH21PA”, “Tore Silicone SH28PA”, “Toray Silicone” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. “Silicone SH29PA”, “Toresilicone SH30PA”, “Toresilicone SH8400”, “TSF-4440”, “TSF-4300”, “TSF-4445”, “TSF-4460”, “TSF” manufactured by Momentive Performance Materials, Inc. -4552 "," KP341 "," KF6001 "," KF6002 "manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.," BYK307 "," BYK323 "," BYK330 "manufactured by Big Chemie.
Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be combined.

本発明の組成物は、界面活性剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、界面活性剤の添加量は、組成物の全質量に対して、０．００１質量％〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜１．０質量％である。   The composition of the present invention may or may not contain a surfactant. When it is contained, the addition amount of the surfactant is 0.001% by mass to 2.% by mass relative to the total mass of the composition. 0 mass% is preferable, More preferably, it is 0.005 mass%-1.0 mass%.

＜密着促進剤＞
本発明の組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、いかなる密着促進剤を含有していてもよい。密着促進剤としては、例えば、３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、１−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノグリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。他には、特開２００８−２４３９４５号公報の段落番号［００４８］に記載の化合物が使用される。
本発明の組成物は、密着促進剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、密着促進剤の好ましい使用量は、特に制限されないが、通常、組成物中の全固形分に対して、１０質量％以下、特に０．００５〜５質量％であることが好ましい。 <Adhesion promoter>
The composition of the present invention may contain any adhesion promoter as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the adhesion promoter include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 1-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-aminoglycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- Examples include aminopropyltrimethoxysilane. In addition, the compounds described in paragraph No. [0048] of JP-A-2008-243945 are used.
The composition of the present invention may or may not contain an adhesion promoter, but when it is contained, the preferred use amount of the adhesion promoter is not particularly limited, but is usually based on the total solid content in the composition. 10 mass% or less, and particularly preferably 0.005 to 5 mass%.

＜紫外線吸収剤＞
本発明の組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、いかなる紫外線吸収剤を含有していてもよい。
紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。 <Ultraviolet absorber>
The composition of the present invention may contain any ultraviolet absorber as long as the object of the present invention is not impaired.
As the ultraviolet absorber, salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, substituted acrylonitrile-based, and triazine-based ultraviolet absorbers can be used.
Examples of salicylate-based UV absorbers include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, and the like. Examples of benzophenone-based UV absorbers include 2,2′-dihydroxy-4- Methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2- And hydroxy-4-octoxybenzophenone. Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3). '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-amyl-5'-isobutylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzoto Azole, 2- [2'-hydroxy-5 '- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenyl] benzotriazole and the like.

置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのモノ（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロピルオキシフェニル）−６−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのビス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどのトリス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物等が挙げられる。   Examples of the substituted acrylonitrile-based ultraviolet absorber include ethyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, and the like. Furthermore, as an example of a triazine ultraviolet absorber, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) ) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) Mono (hydroxyphenyl) triazine compounds such as 1,3,5-triazine and 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine 2,4-bis (2-hydroxy-4-propyloxyphenyl) -6- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy); 3-methyl-4-propyloxyphenyl) -6- (4-methylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-3-methyl-4-hexyloxyphenyl) -6 Bis (hydroxyphenyl) triazine compounds such as-(2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine; 2,4-bis (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4- Dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris [2- And tris (hydroxyphenyl) triazine compounds such as hydroxy-4- (3-butoxy-2-hydroxypropyloxy) phenyl] -1,3,5-triazine.

以下、紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これに限定されるものではない。   Hereinafter, although the specific example of a ultraviolet absorber is given, it is not limited to this.

本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分質量に対して、０．００１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以上３質量％以下であることがより好ましい。 In the present invention, the various ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more.
The composition of the present invention may or may not contain an ultraviolet absorber, but when it is contained, the content of the ultraviolet absorber is 0.001% by mass or more and 5% by mass with respect to the total solid mass of the composition. % Or less, more preferably 0.01% by mass or more and 3% by mass or less.

＜重合開始剤＞
本発明の組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、いかなる重合開始剤を含有していてもよい。
前記重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、熱重合開始剤や、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有する光重合開始剤などが好ましい。
前記熱重合開始剤は本発明の目的を損なわない範囲で、市販品ほか一般的に用いられる化合物を含有していてもよい。
前記光重合開始剤は、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（３３０〜５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。 <Polymerization initiator>
The composition of the present invention may contain any polymerization initiator as long as the object of the present invention is not impaired.
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known polymerization initiators, such as thermal polymerization initiators and ultraviolet rays. A photopolymerization initiator having photosensitivity to visible light from the region is preferable.
The said thermal-polymerization initiator may contain the compound generally used other than a commercial item in the range which does not impair the objective of this invention.
The photopolymerization initiator may be an activator that generates an active radical by generating some action with a photoexcited sensitizer, and is an initiator that initiates cationic polymerization according to the type of monomer. Also good.
The photopolymerization initiator preferably contains at least one component having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 to 800 nm (more preferably 330 to 500 nm).

前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazole, oxime. Examples include oxime compounds such as derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenones.

前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報記載化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。   Examples of the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), a compound described in British Patent 1388492, a compound described in JP-A-53-133428, a compound described in German Patent 3337024, F.I. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964), compounds described in JP-A-62-258241, compounds described in JP-A-5-281728, compounds described in JP-A-5-34920, US Pat. No. 4,221,976 And the compounds described in the book.

前記米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物（例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロモメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾールなど）などが挙げられる。   Examples of the compound described in US Pat. No. 4,221,976 include compounds having an oxadiazole skeleton (for example, 2-trichloromethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2- Trichloromethyl-5- (4-chlorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5 -(2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole; 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-chlorostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1, 3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-n-butoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tripromomethyl-5-styryl-1,3,4 Oxadiazole, etc.).

また、上記以外の光重合開始剤として、アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニル）ヘプタンなど）、Ｎ−フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン、また、特開平５−１９４７５号公報、特開平７−２７１０２８号公報、特開２００２−３６３２０６号公報、特開２００２−３６３２０７号公報、特開２００２−３６３２０８号公報、特開２００２−３６３２０９号公報などに記載のクマリン化合物など）、アシルホスフィンオキサイド類（例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）、メタロセン類（例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフロロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフロロホスフェート（１−）など）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第３６１５４５５号明細書に記載された化合物などが挙げられる   In addition, as photopolymerization initiators other than those described above, polyhalogen compounds (for example, 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane, etc.), N-phenylglycine (for example, Carbon tetrabromide, phenyl tribromomethyl sulfone, phenyl trichloromethyl ketone, etc.), coumarins (for example, 3- (2-benzofuroyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1-pyrrolidinyl) ) Coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (2-methoxybenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis (5 , 7-di-n-propoxycoumarin), 3,3′-carbo Rubis (7-diethylaminocoumarin), 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2-furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-diethylaminocinnamoyl) -7-diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3 -(3-pyridylcarbonyl) coumarin, 3-benzoyl-5,7-dipropoxycoumarin, 7-benzotriazol-2-ylcoumarin, JP-A-5-19475, JP-A-7-271028, JP 2002-363206, JP-A 2002-363207, JP-A 2002-363208, JP-A 2002-363209, etc.), acylphosphine oxides (for example, bis (2,4 , 6-Trimethylbenzoyl) -phenylphosphite Oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphenylphosphine oxide, Lucirin TPO, etc.), metallocenes (for example, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)- Bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, η5-cyclopentadienyl-η6-cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-), etc.) Examples thereof include compounds described in JP-A-53-133428, JP-B-57-1819, JP-A-57-6096, and US Pat. No. 3,615,455.

前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドンなどが挙げられる。   Examples of the ketone compound include benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, 2-ethoxycarbonylbenzolphenone, benzophenonetetracarboxylic acid or tetramethyl ester thereof, 4,4′-bis (dialkylamino) benzophenone (for example, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′- Bisdicyclohexylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (dihydroxyethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylamino Nzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4-dimethylaminobenzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone, benzyl, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, phenanthraquinone, xanthone, thioxanthone, 2-chloro -Thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, fluorenone, 2-benzyl-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino -1-propanone, 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer, benzoin, benzoin ethers (for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, In propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin phenyl ether, benzyl dimethyl ketal), acridone, chloro acridone, N- methyl acridone, N- butyl acridone, N- butyl - such as chloro acrylic pyrrolidone.

光重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９，ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（商品名：いずれもチバジャパン社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、及び、 ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもチバジャパン社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、３６５ｎｍまたは４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９−１９１１７９公報に記載の化合物も用いることができる。また アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもチバジャパン社製）を用いることができる。 As the photopolymerization initiator, hydroxyacetophenone compounds, aminoacetophenone compounds, and acylphosphine compounds can also be suitably used. More specifically, for example, aminoacetophenone initiators described in JP-A-10-291969 and acylphosphine oxide initiators described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used.
As the hydroxyacetophenone initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (trade names: all manufactured by Ciba Japan) can be used. As an aminoacetophenone-based initiator, commercially available products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (trade names: all manufactured by Ciba Japan) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, a compound described in JP-A-2009-191179 in which an absorption wavelength is matched with a long-wave light source such as 365 nm or 405 nm can also be used. As the acylphosphine initiator, commercially available products such as IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (trade names: both manufactured by Ciba Japan) can be used.

オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年）ｐｐ.１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（チバジャパン社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（チバジャパン社製）も好適に用いられる。 Examples of oxime ester compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 1653-1660), J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. 202-232, compounds described in JP-A No. 2000-66385, compounds described in JP-A No. 2000-80068, JP-T 2004-534797, JP-A No. 2006-342166, and the like.
IRGACURE-OXE01 (manufactured by Ciba Japan) and IRGACURE-OXE02 (manufactured by Ciba Japan) are also preferably used as commercial products.

また上記記載以外のオキシムエステル化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９−５１９９０４公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０−１５０２５公報および米国特許公開２００９−２９２０３９記載の化合物、国際公開特許２００９−１３１１８９公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９−２２１１１４公報記載の化合物、などを用いてもよい。   Further, as oxime ester compounds other than those described above, compounds described in JP-T 2009-519904 in which oxime is linked to the carbazole N position, compounds described in US Pat. No. 7,626,957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety, and dyes A compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-15025 and US Patent Publication No. 2009-292039 in which a nitro group is introduced, a ketoxime compound described in International Publication No. 2009-131189, a triazine skeleton and an oxime skeleton are contained in the same molecule The compound described in US Pat. No. 7,556,910, the compound described in JP2009-221114A having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-line light source, and the like may be used.

好ましくはさらに、特開２００７−２３１０００公報、及び、特開２００７−３２２７４４公報に記載される環状オキシム化合物に対しても好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開２０１０−３２９８５公報、特開２０１０−１８５０７２公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化の観点から好ましい。
また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開２００９−２４２４６９公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成でき好適に使用することができる。 Preferably, it can also be suitably used for the cyclic oxime compounds described in JP2007-231000A and JP2007-322744A. Among the cyclic oxime compounds, the cyclic oxime compounds fused to carbazole dyes described in JP2010-32985A and JP2010-185072A are particularly preferable in terms of high light absorption and high sensitivity.
In addition, the compound described in JP-A-2009-242469 having an unsaturated bond at a specific site of the oxime compound can achieve high sensitivity by regenerating an active radical from a polymerization inert radical, and can be suitably used. .

また好ましくは、特開２００７−２６９７７９公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開２００９−１９１０６１公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。   Moreover, preferably, an oxime compound having a specific substituent as disclosed in JP-A-2007-267979 and an oxime compound having a thioaryl group as described in JP-A-2009-191061 are exemplified.

オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、３６５ｎｍ及び４５５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。   The oxime compound has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has an absorption wavelength in a wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has high absorbance at 365 nm and 455 nm.

オキシム化合物は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００〜３００，０００であることが好ましく、２，０００〜３００，０００であることがより好ましく、５，０００〜２００，０００であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｒｙ−５ ｓｐｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。 The molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of the oxime compound is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 200, from the viewpoint of sensitivity. Is particularly preferred.
A known method can be used for the molar extinction coefficient of the compound. Specifically, for example, 0.01 g of an ultraviolet-visible spectrophotometer (Varian Inc., Carry-5 spctrophotometer) is used with an ethyl acetate solvent. It is preferable to measure at a concentration of / L.

本発明で重合開始剤を用いる場合は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用しても良い。
重合開始剤の含有量（２種以上の場合は総含有量）は、組成物の全固形分質量に対して、０．１〜２０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜１０質量％の範囲、特に好ましくは１〜８質量％の範囲である。 When using a polymerization initiator by this invention, you may use it in combination of 2 or more type as needed.
The content of the polymerization initiator (in the case of two or more types, the total content) is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10%, based on the total solid content of the composition. It is in the range of mass%, particularly preferably in the range of 1-8 mass%.

本発明の組成物は、上記したように、絶縁性基板をコートする透明帯電コート材用としての組成物である。
よって、本発明の組成物は、典型的には、透明な組成物であり、より具体的には、組成物を絶縁性基板上に塗布して塗布層を形成し、この塗布層を硬化して透明帯電コート材を形成した場合に、この透明帯電コート材の膜厚１００ｎｍ換算の厚み方向の光透過率が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上となるような組成物であることが好ましい。
このような光透過率の物性は、組成物が、上記した導電性材料（Ａ）、硬化型化合物（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有する限りにおいて、どのような手段によって達成されても良いが、例えば、導電性材料（Ａ）及び硬化型化合物（Ｂ）の種類及び含有量を調整することにより、好適に達成される。
上記光透過率が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であることは、本発明の透明組成物により形成される透明帯電コート材が、例えば、可視光透過性を有する、電子光学機器用ガラス基板又は電子光学機器用樹脂基板の上に設けられた場合に、電子光学機器の光学特性に悪影響を与えることがほとんどなく、好ましい。 As described above, the composition of the present invention is a composition for a transparent charge coating material for coating an insulating substrate.
Therefore, the composition of the present invention is typically a transparent composition. More specifically, the composition is coated on an insulating substrate to form a coating layer, and the coating layer is cured. When the transparent charge coating material is formed, the composition is such that the light transmittance in the thickness direction in terms of the film thickness of 100 nm is 90% or more over the entire wavelength region of 400 nm to 700 nm. Preferably there is.
Such physical properties of light transmittance may be achieved by any means as long as the composition contains the above-described conductive material (A), curable compound (B) and solvent (C). However, it is suitably achieved by adjusting the types and contents of the conductive material (A) and the curable compound (B), for example.
That the light transmittance is 90% or more over the entire wavelength region of 400 nm to 700 nm means that the transparent charge coating material formed from the transparent composition of the present invention has, for example, visible light transmittance, When it is provided on a glass substrate for an optical device or a resin substrate for an electro-optical device, the optical characteristics of the electro-optical device are hardly adversely affected.

上記光透過率は、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが最も好ましい。   The light transmittance is more preferably 95% or more and most preferably 98% or more over the entire wavelength region of 400 nm to 700 nm.

また、本発明の組成物は、実質的には、着色剤を含有しない（着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０質量％であることが好ましい）。   Moreover, the composition of the present invention does not substantially contain a colorant (the content of the colorant is preferably 0% by mass with respect to the total solid content of the composition).

本発明の組成物中には、不純物としての金属含量が充分に少ないことが好ましい。組成物中の金属濃度はＩＣＰ−ＭＳ法等により高感度に測定可能であり、その場合の遷移金属以外の金属含有量は好ましくは３００ｐｐｍ以下、より好ましくは１００ｐｐｍ以下である。   In the composition of the present invention, the metal content as an impurity is preferably sufficiently small. The metal concentration in the composition can be measured with high sensitivity by the ICP-MS method or the like, and the metal content other than the transition metal in that case is preferably 300 ppm or less, more preferably 100 ppm or less.

組成物の製造方法は特に限定されず、組成物の各成分を溶剤（好ましくは有機溶剤）に添加して、攪拌することにより得られる。   The method for producing the composition is not particularly limited, and the composition can be obtained by adding each component of the composition to a solvent (preferably an organic solvent) and stirring the composition.

上記の組成物はフィルターろ過により、不溶物、ゲル状成分等を除いてから膜形成に用いることが好ましい。その際に用いるフィルターの孔径は０．０５〜２．０μｍが好ましく、孔径０．０５〜１．０μｍがより好ましく、孔径孔径０．０５〜０．５μｍが最も好ましい。フィルターの材質はポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロンが好ましく、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンおよびナイロンがより好ましい。   The above composition is preferably used for film formation after removing insolubles, gelled components and the like by filter filtration. The pore size of the filter used at that time is preferably 0.05 to 2.0 μm, more preferably 0.05 to 1.0 μm, and most preferably 0.05 to 0.5 μm. The material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, or nylon, and more preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.

本発明は、上記した本発明の組成物を絶縁性基板上に塗布して塗布層を形成し、前記塗布層を硬化することにより形成される透明帯電コート材にも関する。
また、本発明の透明帯電コート材は、本発明の組成物より形成されているので、静電スプレーコートを可能とするための下地層（特に、透明性絶縁性基板の透明性を維持できる透明下地層）として機能できるとともに、半導体プロセス適性（特に耐傷性）を有するものである。 The present invention also relates to a transparent charge coating material formed by applying the above-described composition of the present invention on an insulating substrate to form a coating layer and curing the coating layer.
In addition, since the transparent charge coating material of the present invention is formed from the composition of the present invention, it is an underlayer for enabling electrostatic spray coating (particularly, the transparency that can maintain the transparency of the transparent insulating substrate). It can function as a base layer) and has semiconductor process suitability (especially scratch resistance).

本発明の透明帯電コート材を形成するには、先ず、本発明の組成物により、絶縁性基板上に塗布層を形成する。塗布層は、前記組成物を用いて形成される膜であれば、特に制限はなく、膜厚、積層構造などについては、目的に応じて適宜選択することができる。   In order to form the transparent charge coating material of the present invention, first, a coating layer is formed on an insulating substrate with the composition of the present invention. If a coating layer is a film | membrane formed using the said composition, there will be no restriction | limiting in particular, About a film thickness, a laminated structure, etc., it can select suitably according to the objective.

前記透明帯電コート材の形成方法としては、絶縁性基板上に、本発明の組成物（組成物における固形分が上記溶剤に溶解、乳化又は分散させてなる塗布液）を直接塗布し、乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。   As the method for forming the transparent charge coating material, the composition of the present invention (coating solution in which the solid content in the composition is dissolved, emulsified or dispersed) is directly applied on an insulating substrate and dried. The method of forming by this is mentioned.

絶縁性基板は、特に限定されないが、電子光学機器用基板（例えば、可視光透過性を有する、電子光学機器用ガラス基板又は電子光学機器用樹脂基板）を好適に挙げることができる。
絶縁性基板に対する本発明の組成物の塗布は、スピン塗布、及び、スプレー塗布などを挙げることができ、例えば、公知のスピンコーター、スリットスピンコーター、スプレー装置等を用いることにより実施できる。
また、塗布層の乾燥条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０℃〜１５０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。 The insulating substrate is not particularly limited, and an electro-optical device substrate (for example, a glass substrate for electro-optical device or a resin substrate for electro-optical device having visible light permeability) can be preferably exemplified.
Application | coating of the composition of this invention with respect to an insulating board | substrate can mention spin application, spray application, etc., for example, can be implemented by using a well-known spin coater, a slit spin coater, a spray apparatus etc.
Moreover, as drying conditions of a coating layer, although it changes also with each component, the kind of solvent, a usage rate, etc., it is about 60 seconds-150 degreeC normally for 30 second-about 15 minutes.

前記塗布層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍがより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said coating layer, Although it can select suitably according to the objective, For example, 10 nm-1000 nm are preferable, and 50 nm-300 nm are more preferable.

次いで、上記のようにして得られた塗布層の熱硬化（以下、「硬化処理工程」と言う）を行う。
硬化処理工程の方法としては、塗布層の全面を加熱する方法（以下、「全面加熱」とも言う）、及び、塗布層の全面を露光する方法（以下、「全面露光」とも言う）などが挙げられる。硬化処理により、形成される透明帯電コート材の膜強度が高められる。
全面加熱における加熱温度は、１２０℃〜２５０℃が好ましく、１５０℃〜２５０℃がより好ましく、２００℃〜２５０℃であることが特に好ましい。
該加熱温度が１２０℃以上であれば、加熱処理によって透明帯電コート材の強度がより向上し、２５０℃以下であれば、透明帯電コート材中の成分の分解が過度に生じ、膜質が弱く脆くなることをより防止できる。
特に、本発明の組成物が、分散剤として、上記した、２００℃以上２５０℃以下の加熱により分解可能な易分解性有機物を含有する場合、加熱温度は、２００℃〜２５０℃であることが好ましく、これにより、上記したように、表面抵抗がより低下した透明帯電コート材を形成できる。 Next, the coating layer obtained as described above is thermally cured (hereinafter referred to as “curing treatment step”).
Examples of the curing treatment method include a method of heating the entire surface of the coating layer (hereinafter also referred to as “entire heating”) and a method of exposing the entire surface of the coating layer (hereinafter also referred to as “full surface exposure”). It is done. By the curing treatment, the film strength of the formed transparent charge coating material is increased.
The heating temperature in the entire surface heating is preferably 120 ° C to 250 ° C, more preferably 150 ° C to 250 ° C, and particularly preferably 200 ° C to 250 ° C.
If the heating temperature is 120 ° C. or higher, the strength of the transparent charge coating material is further improved by heat treatment. If the heating temperature is 250 ° C. or lower, the components in the transparent charge coating material are excessively decomposed and the film quality is weak and brittle. Can be more prevented.
In particular, when the composition of the present invention contains an easily decomposable organic substance that can be decomposed by heating at 200 ° C. or more and 250 ° C. or less as a dispersant, the heating temperature is 200 ° C. to 250 ° C. Preferably, this makes it possible to form a transparent charge coating material having a lower surface resistance as described above.

全面加熱における加熱時間は、２分〜１８０分が好ましく、５分〜１２０分がより好ましい。
全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。 The heating time in the entire surface heating is preferably 2 minutes to 180 minutes, and more preferably 5 minutes to 120 minutes.
There is no restriction | limiting in particular as an apparatus which performs whole surface heating, According to the objective, it can select suitably from well-known apparatuses, For example, a dry oven, a hot plate, IR heater etc. are mentioned.

全面露光の方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などの紫外線を用いた露光が好適に挙げられる。
特に、本発明の組成物が、分散剤として、上記した、紫外光照射により分解可能な易分解性有機物を含有する場合、紫外光を用いた全面露光を行うことにより、上記したように、表面抵抗がより低下した透明帯電コート材を形成できる。 There are no particular limitations on the method of overall exposure, and it can be appropriately selected according to the purpose. For example, exposure using ultraviolet rays such as an ultra-high pressure mercury lamp is preferable.
In particular, when the composition of the present invention contains, as a dispersant, the above-described easily decomposable organic substance that can be decomposed by irradiation with ultraviolet light, the entire surface is exposed using ultraviolet light, as described above. A transparent charge coating material with lower resistance can be formed.

よって、本発明は、
酸化インジウムスズ、三酸化アンチモン、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、銀、金、銅、ニッケル、及び、炭素よりなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子、硬化型化合物、及び、溶剤を含む透明帯電コート材用組成物を、絶縁性基板上に塗布して、塗布層を形成する工程、及び、
前記塗布層に、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの処理を行う工程
を含有する、透明帯電コート材の形成方法であって、
前記分散剤が、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの上記処理により分解可能な易分解性有機物である、透明帯電コート材の形成方法にも関する。 Thus, the present invention
Any one selected from the group consisting of indium tin oxide, antimony trioxide, zinc oxide optionally doped with aluminum, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, silver, gold, copper, nickel, and carbon Or a step of applying an electrically conductive fine particle comprising a plurality of materials, a curable compound, and a transparent charge coating material composition containing a solvent on an insulating substrate to form a coating layer; and
A method for forming a transparent charge coating material, comprising: a step of heating at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation on the coating layer,
The present invention also relates to a method for forming a transparent charge coating material, wherein the dispersant is an easily decomposable organic material that can be decomposed by at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation.

以上、硬化処理工程について説明したが、必要に応じて、硬化処理工程の前に、前加熱工程（プリベーク工程）を実施しても良い。
また、必要に応じて、硬化処理工程の後に、後加熱工程（ポストベーク工程）を実施しても良い。
前加熱工程及び後加熱工程における加熱温度は、通常、８０〜２５０℃であり、１２０℃〜２５０℃であることが好ましい。
前加熱工程及び後加熱工程における加熱時間は、通常、３０秒〜３００秒であり、６０秒〜３００秒であることが好ましい。 Although the curing treatment process has been described above, a preheating process (pre-baking process) may be performed before the curing treatment process as necessary.
Moreover, you may implement a post-heating process (post-baking process) after a hardening process process as needed.
The heating temperature in the preheating step and the postheating step is usually 80 to 250 ° C, and preferably 120 ° C to 250 ° C.
The heating time in the preheating step and the postheating step is usually 30 seconds to 300 seconds, and preferably 60 seconds to 300 seconds.

以上のようにして形成される透明帯電コート材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍがより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the transparent charging coating material formed as mentioned above, Although it can select suitably according to the objective, For example, 10 nm-1000 nm are preferable, and 50 nm-300 nm are more preferable.

本発明の組成物の粘度は、特に制限はなく、形成される透明帯電コート材の厚みなど目的に応じて適宜選択することができる。一例としては１０〜５００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１００〜３００００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the viscosity of the composition of this invention, According to the objectives, such as the thickness of the transparent charge coating material formed, it can select suitably. As an example, the pressure is preferably 10 to 50000 mPa · s, and more preferably 100 to 30000 mPa · s.

また、本発明は、上記した透明帯電コート材を有するカメラモジュールにも関する。この場合、透明帯電コート材の配置位置は、カメラモジュール内に存在する絶縁性基板のいずれかの上であれば、特に限定されない。   The present invention also relates to a camera module having the above-described transparent charging coating material. In this case, the arrangement position of the transparent charging coating material is not particularly limited as long as it is on any of the insulating substrates present in the camera module.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
下記表１に示す成分を下記表１に示す溶媒に溶解させ、孔径０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、実施例１Ａ〜７Ａ及び比較例１Ａ，２Ａの透明帯電コート材用組成物を調製した。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
The components shown in Table 1 below are dissolved in the solvent shown in Table 1 below and filtered through a polytetrafluoroethylene filter having a pore size of 0.2 μm, and the transparent charge coating materials of Examples 1A to 7A and Comparative Examples 1A and 2A are used. A composition was prepared.

実施例及び比較例の組成物に用いた各成分は以下の通りである。   Each component used for the composition of an Example and a comparative example is as follows.

〔導電性材料〕
Ｅ−ＩＴＯ：三菱マテリアル社製の酸化インジウムスズ（ＩＴＯ） [Conductive material]
E-ITO: Indium tin oxide (ITO) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation

〔分散剤〕
ＤＰ―１３０４：富士フイルムファインケミカルズ社製の分散剤
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ ５５０００：Ｌｕｂｒｉｚｏｌ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ製の分散剤（上述の立体反発部位としてポリウレタン部位を有する分散剤）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ ７６４００：Ｌｕｂｒｉｚｏｌ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ製の分散剤（上述の立体反発部位としてポリウレタン部位を有する分散剤） [Dispersant]
DP-1304: Dispersant manufactured by FUJIFILM Fine Chemicals Corporation SOLPERSE 55000: Dispersant manufactured by Lubrizol Advanced Materials Inc. (Dispersant having a polyurethane site as the above-mentioned steric repulsion site)
SOLPERSE 76400: Dispersant manufactured by Lubrizol Advanced Materials Inc. (Dispersant having a polyurethane moiety as the above-mentioned steric repulsion part)

〔導電性材料／分散剤〕
Ｏｒｍｅｃｏｎ：日産化学工業社製のポリアニリンエタノール分散液 [Conductive material / dispersant]
Ormecon: polyaniline ethanol dispersion manufactured by Nissan Chemical Industries

〔硬化型化合物〕
ＪＥＲ１５７Ｓ６５：ジャパンエポキシレジン社製のフェノールノボラック型エポキシ化合物
ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬(株)製）
ＣＢ−１：富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製のベンジルメタクリレート（７０ｗｔ％）／メタクリル酸（３０ｗｔ％）共重合体（重量平均分子量２万５千） [Curing compound]
JER157S65: Phenol novolac type epoxy compound manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. DPHA: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
CB-1: benzyl methacrylate (70 wt%) / methacrylic acid (30 wt%) copolymer (weight average molecular weight 25,000) manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.

〔溶剤〕
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 〔solvent〕
PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

〔研磨材微粒子分散液（研磨材微粒子／溶剤）〕
炭化珪素微粒子分散液１：ベータランダムウルトラファイン（イビデン社製の炭化珪素微粒子（平均粒子径：０．１６μｍ））０．５５質量部、下記の合成方法により得られるスルホン酸ナトリウム塩基含有ポリウレタンＡ（分散剤）０．１７質量部、及び、シクロヘキサノンとＰＧＭＥＡとの混合溶剤（質量比１：９）９９．２８質量部を混合して得た分散液 [Abrasive Fine Particle Dispersion (Abrasive Fine Particle / Solvent)]
Silicon carbide fine particle dispersion 1: Beta Random Ultra Fine (silicon carbide fine particles (average particle size: 0.16 μm) manufactured by Ibiden) 0.55 parts by mass, sodium sulfonate group-containing polyurethane A obtained by the following synthesis method ( (Dispersant) 0.17 parts by mass and a dispersion obtained by mixing 99.28 parts by mass of a mixed solvent of cyclohexanone and PGMEA (mass ratio 1: 9)

（スルホン酸ナトリウム塩基含有ポリウレタンＡの合成）
還流式冷却器、攪拌機を具備し、予め窒素置換した容器に水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのプロピレンオキシド付加物（分子量７００）、ポリプロピレングリコール（分子量４００）、及び、ビス（２−ヒドロキシエチル）スルホイソフタレートのナトリウム塩を各々モル比で２４：１４：１０：２で、シクロヘキサノンとジメチルアセトアミドを５０：５０の重量比で含む混合溶媒に溶解し、窒素気流下で６０℃で溶解した。触媒として、ジ−ｎ−ジブチルスズジラウレートを使用した原料の総量に対して６０ｐｐｍ加えた。次に、ＭＤＩ（４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート）をジオールの総和と等モル加え９０℃にて６時間加熱反応し、エーテル基を４．０ｎｍｏｌ／ｇ含有し、かつ−ＳＯ３Ｎａ基が８×１０−５ｍｏｌ／ｇ導入されたＭｗ４５０００でＭｎ２５０００のスルホン酸ナトリウム塩基含有ポリウレタンＡを得た。 (Synthesis of sodium sulfonate base-containing polyurethane A)
A reflux condenser, a stirrer, and hydrogenated bisphenol A, a propylene oxide adduct of bisphenol A (molecular weight 700), polypropylene glycol (molecular weight 400), and bis (2-hydroxyethyl) sulfone were previously placed in a nitrogen-substituted container. The sodium salt of isophthalate was dissolved in a mixed solvent containing a molar ratio of 24: 14: 10: 2 and cyclohexanone and dimethylacetamide in a weight ratio of 50:50, respectively, and dissolved at 60 ° C. under a nitrogen stream. As a catalyst, 60 ppm was added with respect to the total amount of raw materials using di-n-dibutyltin dilaurate. Next, equimolar amount of MDI (4,4-diphenylmethane diisocyanate) and the total amount of diols were added and reacted by heating at 90 ° C. for 6 hours to contain 4.0 nmol / g of ether groups and 8 × -SO 3 Na groups. 10-5 mol / g Mw of 25,000 Mw of 25,000 sodium sulfonate group-containing polyurethane A was obtained.

〔潤滑剤溶液（潤滑剤／溶剤）〕
潤滑剤溶液１：ＢＹＫ−３３７（ビックケミージャパン社製の潤滑剤）１．０質量部、及び、ＰＧＭＥＡ９９．０質量部を混合して得た溶液 [Lubricant solution (lubricant / solvent)]
Lubricant solution 1: solution obtained by mixing 1.0 part by mass of BYK-337 (Lubricant manufactured by BYK Japan) and 99.0 parts by mass of PGMEA

〔重合開始剤〕
ＯＸＥ０１：ＩＲＧＡＣＵＲ ＯＸＥ ０１（ＢＡＳＦ社製） (Polymerization initiator)
OXE01: IRGACUR OXE 01 (manufactured by BASF)

〔透明帯電コート材の形成〕
（実施例１Ｂ）
実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物をガラス基板上にスピンコート法（１５００ｒｐｍ）により塗布し、１００℃，２分間のソフトベークを実施した後、２００℃，５分間のハードベークを実施し、膜厚８８ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 [Formation of transparent charge coating material]
(Example 1B)
The transparent charge coating material composition of Example 1A was applied on a glass substrate by spin coating (1500 rpm), and after soft baking at 100 ° C. for 2 minutes, hard baking at 200 ° C. for 5 minutes was performed. A transparent charge coating material having a film thickness of 88 nm was formed.

（実施例２Ｂ）
実施例２Ａの透明帯電コート材用組成物をガラス基板上にスピンコート法（１５００ｒｐｍ）により塗布し、１００℃，２分間のソフトベークを実施した後、紫外線による全面露光を行った（露光量：１００Ｊ／ｃｍ２）。その後、２００℃，５分間のハードベークを実施し、膜厚８３ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Example 2B)
The composition for transparent charge coating material of Example 2A was applied on a glass substrate by a spin coating method (1500 rpm), soft baking was performed at 100 ° C. for 2 minutes, and then the entire surface was exposed to ultraviolet rays (exposure amount: 100 J / cm 2 ). Thereafter, hard baking was performed at 200 ° C. for 5 minutes to form a transparent charge coating material having a film thickness of 83 nm.

（実施例３Ｂ）
実施例３Ａの透明帯電コート材用組成物をガラス基板上にスピンコート法（１５００ｒｐｍ）により塗布し、１００℃，２分間のソフトベークを実施した後、２５０℃，５分間のハードベークを実施し、膜厚８４ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Example 3B)
The composition for transparent charge coating material of Example 3A was applied on a glass substrate by spin coating (1500 rpm), followed by soft baking at 100 ° C. for 2 minutes, followed by hard baking at 250 ° C. for 5 minutes. A transparent charge coating material having a film thickness of 84 nm was formed.

（実施例４Ｂ）
上記（実施例１Ｂ）において、実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物に代えて実施例４Ａの透明帯電コート材用組成物を使用した以外は同様にして、膜厚１２０ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Example 4B)
In the same manner as in the above (Example 1B), except that the transparent charge coating material composition of Example 4A was used instead of the transparent charge coating material composition of Example 1A, a transparent charge coating material having a film thickness of 120 nm was used. Formed.

（実施例５Ｂ）
上記（実施例１Ｂ）において、実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物に代えて実施例５Ａの透明帯電コート材用組成物を使用した以外は同様にして、膜厚１２６ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Example 5B)
In the same manner as in (Example 1B), except that the composition for transparent charge coating material of Example 5A was used instead of the composition for transparent charge coating material of Example 1A, a transparent charge coating material having a film thickness of 126 nm was used. Formed.

（実施例６Ｂ）
上記（実施例１Ｂ）において、実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物に代えて実施例６Ａの透明帯電コート材用組成物を使用した以外は同様にして、膜厚１１７ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Example 6B)
In the same manner as in the above (Example 1B), except that the transparent charge coating material composition of Example 6A was used instead of the transparent charge coating material composition of Example 1A, a transparent charge coating material having a film thickness of 117 nm was used. Formed.

（実施例７Ｂ）
上記（実施例１Ｂ）において、実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物に代えて実施例７Ａの透明帯電コート材用組成物を使用した以外は同様にして、膜厚２１７ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Example 7B)
In the same manner as in the above (Example 1B), except that the transparent charge coating material composition of Example 7A was used instead of the transparent charge coating material composition of Example 1A, a transparent charge coating material having a film thickness of 217 nm was used. Formed.

（比較例１Ｂ）
上記（実施例１Ｂ）において、実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物に代えて比較例１Ａの透明帯電コート材用組成物を使用した以外は同様にして、膜厚９１ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Comparative Example 1B)
In the same manner as in (Example 1B), except that the transparent charge coating material composition of Comparative Example 1A was used instead of the transparent charge coating material composition of Example 1A, a transparent charge coating material having a film thickness of 91 nm was used. Formed.

（比較例２Ｂ）
上記（実施例１Ｂ）において、実施例１Ａの透明帯電コート材用組成物に代えて比較例２Ａの透明帯電コート材用組成物を使用した以外は同様にして、膜厚３６０ｎｍの透明帯電コート材を形成した。 (Comparative Example 2B)
In the same manner as in the above (Example 1B), except that the transparent charge coating material composition of Comparative Example 2A was used instead of the transparent charge coating material composition of Example 1A, a transparent charge coating material having a film thickness of 360 nm was used. Formed.

〔可視光透過率〕
上記のようにして得た実施例１Ｂ〜７Ｂ及び比較例１Ｂ，２Ｂの透明帯電コート材の４００〜７００ｎｍの可視光領域における最小透過率（４００〜７００ｎｍの可視光領域における、１００ｎｍ換算の厚み方向の光透過率の最小値）を、大塚電子株式会社製の分光光度計ＭＣＰＤ−３０００を用いて測定した。測定結果を表２に示す。 [Visible light transmittance]
The minimum transmittance in the visible light region of 400 to 700 nm of the transparent charge coating materials of Examples 1B to 7B and Comparative Examples 1B and 2B obtained as described above (thickness direction in terms of 100 nm in the visible light region of 400 to 700 nm) Was measured using a spectrophotometer MCPD-3000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The measurement results are shown in Table 2.

〔表面抵抗〕
上記のようにして得た実施例１Ｂ〜７Ｂ及び比較例１Ｂ，２Ｂの透明帯電コート材の表面抵抗を、株式会社三菱化学アナリテック製の抵抗率計ＭＣＰ−Ｈ４５０を用いて測定した（単位：Ω／□（Ω／ｓｑ．ともいう））。測定結果を表２に示す。 [Surface resistance]
The surface resistances of the transparent charge coat materials of Examples 1B to 7B and Comparative Examples 1B and 2B obtained as described above were measured using a resistivity meter MCP-H450 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. (unit: Ω / □ (also referred to as Ω / sq.)). The measurement results are shown in Table 2.

〔耐傷性〕
上記のようにして得た実施例１Ｂ〜７Ｂ及び比較例１Ｂ，２Ｂの透明帯電コート材の表面に対して、新東科学株式会社製の引っかき試験機Ｔｒｉｂｏｇｅａｒを用いて、引っかき試験を行った。引っかき試験は、先端曲率半径０．４ｍｍのアルミナ針を使用し、針先荷重３ｇで行った。以下の基準に基づき、耐傷性を判定した。判定結果を表２に示す。 [Scratch resistance]
The surface of the transparent charge coat materials of Examples 1B to 7B and Comparative Examples 1B and 2B obtained as described above was subjected to a scratch test using a scratch tester Tribogear manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. The scratch test was performed using an alumina needle having a tip curvature radius of 0.4 mm and a needle tip load of 3 g. The scratch resistance was determined based on the following criteria. Table 2 shows the determination results.

Ｓ：引っかき痕、膜剥れ、及び、パーティクルの発生のいずれも起こらなかった。
Ａ：引っかき痕は残ったが、膜剥がれ、及び、パーティクルの発生のいずれも起こらなかった。
Ｂ：膜剥がれ、及び、パーティクルの発生のいずれかが発生した。
Ｃ：膜剥がれ、及び、パーティクルの発生のいずれかが著しく発生した。 S: Scratches, film peeling, and generation of particles did not occur.
A: Although scratch marks remained, neither film peeling nor particle generation occurred.
B: Either film peeling or particle generation occurred.
C: Either film peeling or particle generation occurred remarkably.

〔耐薬性〕
上記のようにして得た実施例１Ｂ〜７Ｂ及び比較例１Ｂ，２Ｂの透明帯電コート材を、テトラメチルアンモニウムヒドロオキサイド（ＴＭＡＨ）のジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）溶液（ＴＭＡＨの濃度は５質量％）（４０℃）に、３０分間浸漬し、その後、純水でリンスを行った。以下の基準に基づき、耐薬性を判定した。判定結果を表２に示す。 [Chemical resistance]
The transparent charge coat materials of Examples 1B to 7B and Comparative Examples 1B and 2B obtained as described above were added to a dimethyl sulfoxide (DMSO) solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH) (TMAH concentration is 5% by mass) ( (40 ° C.) for 30 minutes, and then rinsed with pure water. The chemical resistance was determined based on the following criteria. Table 2 shows the determination results.

Ａ：[{（耐薬性試験前の透明帯電コート材の厚み）−（耐薬性試験後の透明帯電コート材の厚み）}／耐薬性試験前の透明帯電コート材の厚み］×１００（％）で表される厚み変化率が０〜１０％であり、かつ、耐薬性試験後の透明帯電コート材の上記測定方法による表面抵抗が、耐薬性試験前の透明帯電コート材の上記測定方法による表面抵抗と同じ、又は、それ以下である。
Ｂ：上記Ａの判定に適合しない。 A: [{(Thickness of transparent charge coating material before chemical resistance test) − (Thickness of transparent charge coating material after chemical resistance test)}} / Thickness of transparent charge coating material before chemical resistance test] × 100 (%) And the surface resistance according to the measurement method of the transparent charge coating material after the chemical resistance test is 0% to 10%, and the surface resistance according to the measurement method of the transparent charge coating material before the chemical resistance test is Same or less than resistance.
B: Does not conform to the determination of A above.

〔耐熱性〕
上記のようにして得た実施例１Ｂ〜７Ｂ及び比較例１Ｂ，２Ｂの透明帯電コート材を、２６０℃で５分間加熱した。以下の基準に基づき、耐熱性を判定した。判定結果を表２に示す。 〔Heat-resistant〕
The transparent charge coating materials of Examples 1B to 7B and Comparative Examples 1B and 2B obtained as described above were heated at 260 ° C. for 5 minutes. The heat resistance was determined based on the following criteria. Table 2 shows the determination results.

Ａ：[｛（耐熱試験前の透明帯電コート材の可視光領域における最小透過率）−（耐熱試験後の透明帯電コート材の可視光領域における最小透過率）｝／耐熱試験前の透明帯電コート材の可視光領域における最小透過率]×１００（％）で表される透明性変化率が、０〜５％である。
Ｂ：上記Ａの判定に適合しない。 A: [{(Minimum transmittance in the visible light region of the transparent charge coating material before the heat test) − (Minimum transmittance in the visible light region of the transparent charge coating material after the heat test)} / Transparent charge coat before the heat test The transparency change rate represented by the minimum transmittance in the visible light region of the material] × 100 (%) is 0 to 5%.
B: Does not conform to the determination of A above.

〔静電スプレー性〕
上記のようにして得た実施例１Ｂ〜７Ｂ及び比較例１Ｂ，２Ｂの、ガラス基板上に形成された透明帯電コート材（透明帯電コート材付ガラス基板）に浜松ナノテクノロジー株式会社製の静電スプレーコーターＰＤＳ−Ｐにより、ドデカンチオール官能化金ナノ粒子分散液（６６０４３４）（シグマアルドリッチ社製）をスプレーコーティングし、金ナノ粒子塗布膜を形成した。以下の基準に基づき、静電スプレー性を判定した。判定結果を表２に示す。 [Electrostatic spray]
The electrostatic charge made by Hamamatsu Nano Technology Co., Ltd. was applied to the transparent charge coat material (glass substrate with a transparent charge coat material) formed on the glass substrate of Examples 1B to 7B and Comparative Examples 1B and 2B obtained as described above. Using a spray coater PDS-P, a dodecanethiol-functionalized gold nanoparticle dispersion (660434) (manufactured by Sigma-Aldrich) was spray-coated to form a gold nanoparticle coating film. The electrostatic sprayability was determined based on the following criteria. Table 2 shows the determination results.

Ａ：金ナノ粒子塗布膜において、金ナノ粒子が充分に分散しており、金ナノ粒子の凝集が殆ど確認されない、あるいは、わずかながら確認された。
Ｂ：金ナノ粒子塗布膜において、金ナノ粒子の凝集が確認された
Ｃ：金ナノ粒子塗布膜において、金ナノ粒子の凝集が目立って確認された。 A: In the gold nanoparticle coating film, the gold nanoparticles were sufficiently dispersed, and the aggregation of the gold nanoparticles was hardly confirmed or slightly confirmed.
B: Aggregation of gold nanoparticles was confirmed in the gold nanoparticle coating film C: Aggregation of gold nanoparticles was conspicuously confirmed in the gold nanoparticle coating film.

表１及び表２の結果より、実施例１Ａ〜７Ａの組成物を使用した場合、比較例１Ａ及び２Ａの組成物を使用した場合と比較して、耐傷性及び静電スプレー性の両方に優れる透明帯電コート材を形成できることが分かった。
また、硬化型化合物としてエポキシ系化合物を含む実施例１Ａ〜６Ａを使用した場合、耐薬性をより向上できることが分かった。
また、上記した易分解性有機物に相当する分散剤を含む実施例２Ａ又は３Ａの組成物を使用するとともに、紫外線による全面露光又は２５０℃，５分間のハードベークを実施した場合は、透明帯電コート材の表面抵抗をより低減できることが分かった。よって、これらの形態は、静電スプレーコートを可能とするための下地層としてより好適である。
また、導電性材料として有機導電性材料を含む実施例４Ａの組成物を使用した場合は、透明帯電コート材の表面抵抗を非常に低減でき、静電スプレーコートを可能とするための下地層としての観点からは非常に好ましいことが分かった。
また、研磨材を含む実施例５Ａの組成物を使用した場合、及び、潤滑剤を含む実施例６Ａの組成物を使用した場合は、引っかき痕、膜剥れ、及び、パーティクルの発生のいずれも起こらず、耐傷性がより向上できることが分かった。 From the results of Tables 1 and 2, when the compositions of Examples 1A to 7A are used, both the scratch resistance and the electrostatic spray property are excellent as compared with the case of using the compositions of Comparative Examples 1A and 2A. It was found that a transparent charging coating material can be formed.
Moreover, when Example 1A-6A containing an epoxy-type compound as a curable compound was used, it turned out that chemical resistance can be improved more.
In addition, when the composition of Example 2A or 3A containing a dispersant corresponding to the above-described easily decomposable organic substance is used, and the entire surface is exposed to ultraviolet rays or hard baking is performed at 250 ° C. for 5 minutes, a transparent charge coat It was found that the surface resistance of the material can be further reduced. Therefore, these forms are more suitable as a base layer for enabling electrostatic spray coating.
Moreover, when the composition of Example 4A containing an organic conductive material is used as the conductive material, the surface resistance of the transparent charge coating material can be greatly reduced, and as an underlayer for enabling electrostatic spray coating From the point of view, it was found to be very preferable.
Further, when the composition of Example 5A containing an abrasive is used and when the composition of Example 6A containing a lubricant is used, any of scratch marks, film peeling, and generation of particles are observed. It did not occur, and it was found that the scratch resistance could be further improved.

Claims (10)

導電性材料、硬化型化合物、及び、溶剤を含有する、絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   A composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate, comprising a conductive material, a curable compound, and a solvent. 前記硬化型化合物が、エポキシ系化合物である、請求項１に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   The composition for a transparent charge coating material for an insulating substrate according to claim 1, wherein the curable compound is an epoxy compound. 更に、分散剤を含有し、前記導電性材料が、酸化インジウムスズ、三酸化アンチモン、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、銀、金、銅、ニッケル、及び、炭素よりなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子である、請求項１又は２に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   Further, a dispersant is included, and the conductive material is indium tin oxide, antimony trioxide, zinc oxide which may be doped with aluminum, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, silver, gold, copper, nickel, And the composition for transparent charge coating materials of the insulating substrate of Claim 1 or 2 which is the electroconductive fine particles which consist of any 1 type or multiple types of materials chosen from the group which consists of carbon. 前記分散剤が、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかにより分解可能な易分解性有機物である、請求項３に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   The composition for a transparent charge coating material of an insulating substrate according to claim 3, wherein the dispersant is a readily decomposable organic substance that can be decomposed by heating at 200 ° C or higher and 250 ° C or lower and ultraviolet light irradiation. object. 更に、研磨材を含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   Furthermore, the composition for transparent charge coating materials of the insulating substrate of any one of Claims 1-4 containing an abrasive | polishing material. 前記研磨材として、アルミナ、ジルコニア、炭化珪素、窒化ホウ素、及び、ダイヤモンドからなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の研磨材微粒子を含む、請求項５に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   The transparent insulating substrate according to claim 5, wherein the abrasive includes one or more kinds of abrasive fine particles selected from the group consisting of alumina, zirconia, silicon carbide, boron nitride, and diamond. A composition for a charge coating material. 更に、潤滑剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   Furthermore, the composition for transparent charge coating materials of the insulating substrate of any one of Claims 1-6 containing a lubrication agent. 前記絶縁性基板が、可視光透過性を有する、電子光学機器用ガラス基板又は電子光学機器用樹脂基板である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物。   The transparent charging coating material for an insulating substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the insulating substrate is a glass substrate for electro-optical devices or a resin substrate for electro-optical devices having visible light transparency. Composition. 酸化インジウムスズ、三酸化アンチモン、アルミニウムによりドープされていてもよい酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、銀、金、銅、ニッケル、及び、炭素よりなる群から選ばれたいずれか１種又は複数種の材料よりなる導電性微粒子、分散剤、硬化型化合物、及び、溶剤を含む透明帯電コート材用組成物を、絶縁性基板上に塗布して、塗布層を形成する工程、及び、
前記塗布層に、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの処理を行う工程
を含有する、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法であって、
前記分散剤が、２００℃以上２５０℃以下の加熱、及び、紫外光照射の少なくともいずれかの上記処理により分解可能な易分解性有機物である、絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法。 Any one selected from the group consisting of indium tin oxide, antimony trioxide, zinc oxide optionally doped with aluminum, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, silver, gold, copper, nickel, and carbon Or a step of applying a conductive charge fine particle composition comprising a plurality of kinds of materials, a dispersing agent, a curable compound, and a solvent on an insulating substrate to form a coating layer; and
A method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate, comprising the step of subjecting the coating layer to at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation,
A method for forming a transparent charge coating material on an insulating substrate, wherein the dispersant is an easily decomposable organic substance that can be decomposed by at least one of heating at 200 ° C. to 250 ° C. and ultraviolet light irradiation. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材用組成物、又は、請求項９に記載の絶縁性基板の透明帯電コート材の形成方法により得られた、絶縁性基板の透明帯電コート材。   Insulation obtained by the method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate according to any one of claims 1 to 8, or the method for forming a transparent charge coating material for an insulating substrate according to claim 9. Transparent charge coating material for conductive substrates.
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