JP2013225490A - アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 - Google Patents
アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013225490A JP2013225490A JP2013023602A JP2013023602A JP2013225490A JP 2013225490 A JP2013225490 A JP 2013225490A JP 2013023602 A JP2013023602 A JP 2013023602A JP 2013023602 A JP2013023602 A JP 2013023602A JP 2013225490 A JP2013225490 A JP 2013225490A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle beam
- cathode
- beam irradiation
- concave
- array type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】アレイ状に多数配置されたカソード群10とアノード12よりなる、引出し電極のない2極型構造であって、前記カソード群10と電気的に接続されたウェネルト14を有し、該カソード群10とアノード12とウェネルト14の内少なくとも2つを進退させる位置調整機構16、18を有するアレイ型粒子線照射装置であって、前記カソード群10の各カソードから放出された粒子ビームが収束あるいは直進するように設定すると共に、前記カソード群10の各カソードと同形状の透過窓20を相対配置する。
【選択図】図5
Description
5〜50mm、加速電圧が30〜200kVの範囲において、収束あるいは直進性を保つカソード群10とウェネルト14の位置関係を電子ビーム軌道の2次元軸対称シミュレーションにより求めた。
10…カソード群(CNT成膜領域)
12…アノード
14…ウェネルト
16…ウェネルト位置調整機構
18…カソード位置調整機構
20…透過窓
21…薄膜窓
24…透過窓フランジ
26…押えフレーム
30…直流(DC)電源
36…制御装置
Claims (14)
- アレイ状に多数配置されたカソード群とアノードよりなる、引出し電極のない2極型構造であって、前記カソード群と電気的に接続されたウェネルトを有し、該カソード群とアノードとウェネルトの内少なくとも2つを進退させる位置調整機構を有するアレイ型粒子線照射装置であって、
前記カソード群の各カソードから放出された粒子ビームが収束あるいは直進するように設定されると共に、
前記カソード群の各カソードと同形状の透過窓が相対配置されていることを特徴とするアレイ型粒子線照射装置。 - 前記カソード群が配設されるカソード体の粒子線放出面が、全体として凹面型とされていることを特徴とする請求項1に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として台形となるよう形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として2次曲線あるいは円錐曲線となるよう形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として三角関数曲線型となるよう形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記粒子線放出面における粒子線発生領域が、前記凹面型の中央部のみとされていることを特徴とする請求項2乃至5のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記カソード群が粒子ビーム照射方向と直角に複数に分割され、該分割された各群ごとに前記位置調整機構を設けたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置。
- アレイ状に多数配置されたカソード群とアノードよりなる、引出し電極のない2極型構造であって、前記カソード群と電気的に接続されたウェネルトを有し、該カソード群とアノードとウェネルトの内少なくとも2つを進退させる位置調整機構と、前記カソード群と相対配置された、該カソード群の各カソードと同形状の透過窓を有するアレイ型粒子線照射装置の制御方法であって、
前記カソード群の各カソードから放出された粒子ビームを収束あるいは直進するように制御することを特徴とするアレイ型粒子線照射装置の制御方法。 - 前記カソード群が配設されるカソード体の粒子線放出面が、全体として凹面型とされていることを特徴とする請求項8に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として台形となるよう形成されていることを特徴とする請求項9に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として2次曲線あるいは円錐曲線型となるよう形成されていることを特徴とする請求項9に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として三角関数曲線型となるよう形成されていることを特徴とする請求項9に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記粒子線放出面における粒子線発生領域が、前記凹面型の中央部のみとされていることを特徴とする請求項9乃至12のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 粒子ビーム照射方向と直角に複数に分割された前記カソード群を、該分割された各群ごとに位置調整することを特徴とする請求項8乃至13のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013023602A JP6024500B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-02-08 | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012064573 | 2012-03-21 | ||
JP2012064573 | 2012-03-21 | ||
JP2013023602A JP6024500B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-02-08 | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013225490A true JP2013225490A (ja) | 2013-10-31 |
JP6024500B2 JP6024500B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=49595392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013023602A Active JP6024500B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-02-08 | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6024500B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6206541B1 (ja) * | 2016-06-13 | 2017-10-04 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および改質処理方法 |
US10424457B2 (en) | 2016-06-23 | 2019-09-24 | Meidensha Corporation | Field emission device and reforming treatment method |
US10651001B2 (en) | 2016-06-24 | 2020-05-12 | Meidensha Corporation | Field emission device and field emission method |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002141009A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Nikon Corp | 電子線装置及びその電子線装置を用いたデバイスの製造方法 |
JP2002182000A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Ushio Inc | 電子ビーム処理装置 |
JP2005127800A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 |
JP2008311174A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Jfe Engineering Kk | 電子線発生装置およびその制御方法 |
JP2009513972A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 電子ビームを感知するための露出導体システム及び方法 |
WO2010131209A1 (en) * | 2009-05-12 | 2010-11-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray source with a plurality of electron emitters |
-
2013
- 2013-02-08 JP JP2013023602A patent/JP6024500B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002141009A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Nikon Corp | 電子線装置及びその電子線装置を用いたデバイスの製造方法 |
JP2002182000A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Ushio Inc | 電子ビーム処理装置 |
JP2005127800A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 |
JP2009513972A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 電子ビームを感知するための露出導体システム及び方法 |
JP2008311174A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Jfe Engineering Kk | 電子線発生装置およびその制御方法 |
WO2010131209A1 (en) * | 2009-05-12 | 2010-11-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray source with a plurality of electron emitters |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6206541B1 (ja) * | 2016-06-13 | 2017-10-04 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および改質処理方法 |
WO2017217051A1 (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および改質処理方法 |
JP2017224399A (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および改質処理方法 |
CN109314027A (zh) * | 2016-06-13 | 2019-02-05 | 株式会社明电舍 | 电场放射装置和改质处理方法 |
CN109314027B (zh) * | 2016-06-13 | 2020-01-21 | 株式会社明电舍 | 电场放射装置和改质处理方法 |
US10607801B2 (en) | 2016-06-13 | 2020-03-31 | Meidensha Corporation | Electric field radiation device and regeneration processing method |
US10424457B2 (en) | 2016-06-23 | 2019-09-24 | Meidensha Corporation | Field emission device and reforming treatment method |
US10651001B2 (en) | 2016-06-24 | 2020-05-12 | Meidensha Corporation | Field emission device and field emission method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6024500B2 (ja) | 2016-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9991085B2 (en) | Apparatuses and methods for generating distributed x-rays in a scanning manner | |
EP2740331B1 (en) | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus | |
KR101810349B1 (ko) | 전자 소스, x선원 및 그 x선원을 사용한 설비 | |
RU2635372C2 (ru) | Многокатодный распределенный рентгеновский аппарат с управлением катодом и устройство компьютерной томографии, имеющее упомянутый аппарат | |
US7197116B2 (en) | Wide scanning x-ray source | |
CN101395691B (zh) | 多x射线发生器以及多x射线摄影设备 | |
JP6259524B2 (ja) | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス | |
JP6496321B2 (ja) | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス | |
US9653251B2 (en) | X-ray apparatus and a CT device having the same | |
US9734980B2 (en) | Graphene serving as cathode of X-ray tube and X-ray tube thereof | |
US8488737B2 (en) | Medical X-ray imaging system | |
JP2012049122A (ja) | 工業用x線管 | |
JP2007095689A (ja) | 冷電子源によるx線発生装置 | |
US11183357B2 (en) | MBFEX tube | |
US20140254755A1 (en) | X-ray generation tube, x-ray generation device including the x-ray generation tube, and x-ray imaging system | |
KR101247453B1 (ko) | 냉각 및 차폐 기능이 있는 엑스레이 소스 | |
JP6024500B2 (ja) | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 | |
Frutschy et al. | High power distributed x-ray source | |
KR100665881B1 (ko) | 탄소나노튜브 기반의 엑스-선관의 전자빔 발생용 음극 모듈 | |
Bhattacharjee et al. | Development of electron guns for linacs and DC accelerator | |
Choi et al. | Development of new X-ray source based on carbon nanotube field emission and application to the non destructive imaging technology | |
Bhattacharjee et al. | Design and development of a 40 kV Pierce electron gun | |
JP4204717B2 (ja) | 透過型x線管装置 | |
US20190189384A1 (en) | Bipolar grid for controlling an electron beam in an x-ray tube | |
CN112017930A (zh) | 一种三极型栅控冷阴极x射线管 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130913 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150421 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160315 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160415 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160913 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160926 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6024500 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |