JP2013218906A - 位相差透過型電子顕微鏡用位相板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】位相板には、複数の位相変調構造Sがランダムに配置されている。たとえば、5μm×5μmのサイズの位相板に、数100から数1000個の位相変調構造Sがランダムに配置されている。
【選択図】 図1
Description
d1>d2≧0
を満足し、厚膜d1、d2の厚膜差は電子ビームの電子波の位相ずれがπ/2×m(m=1,3,5,…)となるように調整されているものである。これにより、1つの位相変調構造が劣化しても位相板を廃棄することはない。
12:厚膜層(炭素層)
12’:薄膜層(炭素層)
13:コロイド
14:犠牲層
21:ガラス基板
22:コロイド
23:厚膜層(炭素層)
23a:穴
24:厚膜層(炭素層)
101:試料
102:対物レンズ
103:位相板
103a:穴
103b:薄膜層
104:結像面
S:位相変調構造
DW:直接透過波
SW:散乱波
Claims (9)
- 電子ビームの位相を局所的に変換する位相差透過型電子顕微鏡において、
複数の位相変調構造がランダムに配置され、
前記各位相変調構造は、
厚膜d1を有する厚膜層と、
厚膜d2を有する薄膜層と
を具備し、前記厚膜層及び前記薄膜層の一方は円形形状をなし、前記厚膜層及び前記薄膜層の他方によって囲まれており、前記厚膜d1、d2は
d1>d2≧0
を満足し、前記厚膜d1、d2の厚膜差は前記電子ビームの電子波の位相ずれがπ/2×m(m=1,3,5,…)となるように調整されていることを特徴とする位相差透過型電子顕微鏡用位相板。 - 前記厚膜層は前記電子ビームの直接透過波に相当する1次回折光を透過させるためのものであり、前記厚膜層の外周に設けられた前記薄膜層は前記電子ビームの散乱波を透過させるためのものである請求項1に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板。
- 前記厚膜層は、前記薄膜層に対応する中央に中空を有し、
前記中空は電子ビームの直接透過波を透過させるためのものであり、
前記厚膜層は前記電子ビームの散乱波を透過させるためのものである請求項1に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板。 - 前記薄膜層は前記電子ビームの直接透過波に相当する1次回折光を透過させるためのものであり、前記厚膜層は前記薄膜層の外周に設けられ、前記電子ビームの散乱波を透過させるためのものである請求項1に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板。
- 複数のコロイドをランダムに配置して該コロイドを用いたリソグラフィー法によって複数の位相変調構造を形成する位相差透過型電子顕微鏡用位相板の製造方法。
- 基板上に厚膜層を形成する工程と、
前記厚膜層上に前記コロイドをランダムに堆積する工程と、
前記コロイドをマスクとして前記厚膜層を所定量だけエッチングする工程と、
前記エッチング後に前記コロイドを除去する工程と、
該コロイド除去後に前記基板を剥離する工程と
を具備する請求項5に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板の製造方法。 - 基板上に前記コロイドをランダムに堆積する工程と、
前記コロイドの堆積後に、前記基板上に犠牲層を堆積する工程と、
前記犠牲層の堆積後に、前記コロイドを除去する工程と、
前記コロイドの除去後に前記基板上及び前記犠牲層上に厚膜層を堆積する工程と、
前記厚膜層の堆積後に前記犠牲層を除去する工程と、
前記犠牲層の除去後に前記基板を剥離する工程と
を具備する請求項5に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板の製造方法。 - 基板上に前記コロイドをランダムに堆積する工程と、
前記コロイドの堆積後に、前記基板上に厚膜層を堆積する工程と、
前記厚膜層の堆積後に、前記コロイドを除去する工程と、
前記厚膜層の除去後に、前記基板を剥離する工程と
を具備する請求項5に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板の製造方法。 - さらに、前記コロイドの除去後かつ前記基板の剥離前に薄膜層を堆積する工程を具備する請求項8に記載の位相差透過型電子顕微鏡用位相板の製造方法。
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JP2012089090A JP2013218906A (ja) | 2012-04-10 | 2012-04-10 | 位相差透過型電子顕微鏡用位相板及びその製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107622934A (zh) * | 2017-09-22 | 2018-01-23 | 中国科学院生物物理研究所 | 一种用于透射电镜成像的相位板更换转移装置 |
CN111213220A (zh) * | 2017-10-17 | 2020-05-29 | 安特卫普大学 | 带电粒子束的空间相位操纵 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58120255A (ja) * | 1981-12-31 | 1983-07-18 | エクソン・リサ−チ・アンド・エンジニアリング・カンパニ− | 平版印刷マスクの製造方法 |
JPH0273321A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Ricoh Co Ltd | ソフトフォーカス方法 |
JP2001273866A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Jeol Ltd | 位相差電子顕微鏡用薄膜位相板並びに位相差電子顕微鏡及び位相板帯電防止法 |
JP2010504421A (ja) * | 2006-09-21 | 2010-02-12 | 富士レビオ株式会社 | 微小構造を製造するための方法および装置 |
-
2012
- 2012-04-10 JP JP2012089090A patent/JP2013218906A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58120255A (ja) * | 1981-12-31 | 1983-07-18 | エクソン・リサ−チ・アンド・エンジニアリング・カンパニ− | 平版印刷マスクの製造方法 |
JPH0273321A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Ricoh Co Ltd | ソフトフォーカス方法 |
JP2001273866A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Jeol Ltd | 位相差電子顕微鏡用薄膜位相板並びに位相差電子顕微鏡及び位相板帯電防止法 |
JP2010504421A (ja) * | 2006-09-21 | 2010-02-12 | 富士レビオ株式会社 | 微小構造を製造するための方法および装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107622934A (zh) * | 2017-09-22 | 2018-01-23 | 中国科学院生物物理研究所 | 一种用于透射电镜成像的相位板更换转移装置 |
CN107622934B (zh) * | 2017-09-22 | 2024-04-12 | 中国科学院生物物理研究所 | 一种用于透射电镜成像的相位板更换转移装置 |
CN111213220A (zh) * | 2017-10-17 | 2020-05-29 | 安特卫普大学 | 带电粒子束的空间相位操纵 |
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