JP2013216605A - ３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法 - Google Patents
３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013216605A JP2013216605A JP2012087643A JP2012087643A JP2013216605A JP 2013216605 A JP2013216605 A JP 2013216605A JP 2012087643 A JP2012087643 A JP 2012087643A JP 2012087643 A JP2012087643 A JP 2012087643A JP 2013216605 A JP2013216605 A JP 2013216605A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- atom
- hydrogen atom
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 Cc1c(*)cn[n]1* Chemical compound Cc1c(*)cn[n]1* 0.000 description 5
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、医薬及び農薬の製造中間体として有用な３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（２）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させる、下記一般式（３）で表される化合物を製造する方法。
【化１】
【選択図】なし
【解決手段】下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（２）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させる、下記一般式（３）で表される化合物を製造する方法。
【化１】
【選択図】なし
Description
本発明は、医薬及び農薬の製造中間体として有用な３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法に関する。
本発明によって得られる３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物は、医薬及び農薬の成分である、下記３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸の製造中間体として非常に有用である。
これまでに、３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を得る方法としては、ジフルオロ酢酸エチル等のジフルオロ酢酸誘導体を出発原料とし、これと酢酸エチルを反応させ、さらにアルコキシ化合物と反応させ、さらにメチルヒドラジンを反応させるなどの、複数の工程を経て合成する方法が知られている（特許文献１参照）。また、クロロジフルオロメチル酸クロリドとケテンからケトエステルを合成した後に環化することにより、３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を得る方法も知られている（特許文献２参照）。
しかしながら、上記特許文献１に記載の方法においては、ジフルオロ酢酸誘導体から３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を得るために、３工程の反応工程を要する。そのため、目的物の製造における操作や作業が煩雑になるばかりか、反応に長時間を要することとなる。また、出発原料のジフルオロ酢酸誘導体は高価である。
一方、特許文献２に記載の方法では、複雑な技術（ケテンの使用）を必要とする。
そこで、上記従来技術に対して、操作や作業が簡便で、工程時間的にも有利な、３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法の開発が望まれていた。
一方、特許文献２に記載の方法では、複雑な技術（ケテンの使用）を必要とする。
そこで、上記従来技術に対して、操作や作業が簡便で、工程時間的にも有利な、３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法の開発が望まれていた。
上記のような状況に鑑み、本発明者は、３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を製造する方法について鋭意研究を重ねた結果、ピラゾール化合物をハロゲン化ジフルオロメタンと反応させることにより、３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を単一工程で合成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の＜１＞〜＜３＞に関するものである。
＜１＞ 下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（２）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させる、下記一般式（３）で表される化合物を製造する方法。
＜１＞ 下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（２）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させる、下記一般式（３）で表される化合物を製造する方法。
（式中、
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
＜２＞ 下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（４）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させ、下記一般式（５）で表される化合物を得て、前記一般式（５）で表される化合物を還元する、下記一般式（６）で表される化合物を製造する方法。
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
＜２＞ 下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（４）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させ、下記一般式（５）で表される化合物を得て、前記一般式（５）で表される化合物を還元する、下記一般式（６）で表される化合物を製造する方法。
（式中、
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
＜３＞ 下記一般式（７）で表される化合物。
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
＜３＞ 下記一般式（７）で表される化合物。
（式中、
Ｒ１’は−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａを表す。Ｒ２’は水素原子、ハロゲン原子又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。Ｒ３’は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｒ１ａは、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
Ｒ１’は−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａを表す。Ｒ２’は水素原子、ハロゲン原子又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。Ｒ３’は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｒ１ａは、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
本発明によれば、一般式（３）で表される３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を、一般式（１）で表されるピラゾール化合物から単一工程で製造することができる。本発明にかかる３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法は、単一工程であるために、操作や作業が簡便で、工程時間的にも工業的な規模での製造に有利であることから、工業的製造方法として極めて有用である。
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、「一般式（Ｘ）で表される化合物」を「化合物（Ｘ）」とも記載する。
なお、「一般式（Ｘ）で表される化合物」を「化合物（Ｘ）」とも記載する。
本発明の製造方法では、下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（２）で表されるハロゲン化ジフルオロメタンとを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させる。これによりピラゾール環の３位にジフルオロアルキル基を直接導入することができ、下記一般式（３）で表される３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を単一工程で得ることができる。
＜一般式（１）で表される化合物＞
一般式（１）におけるＲ１〜Ｒ３の定義は以下のとおりである。
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
一般式（１）におけるＲ１〜Ｒ３の定義は以下のとおりである。
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
上記フェニル基、ナフチル基及びヘテロアリール基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜４のアルキルチオ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ｆ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｇＲ１ｈ、−Ｓ（＝Ｏ）−Ｒ１ｉ及びーＳ（＝Ｏ）２−Ｒ１ｊが挙げられる。フェニル基、ナフチル基及びヘテロアリール基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
ここで、Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ及びＲ１ｆは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
ここで、ベンジル基及びフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基及びフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
ここで、ベンジル基及びフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基及びフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
ここで、ベンジル基、フェニル基及びビフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基、フェニル基及びビフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
ここで、ベンジル基、フェニル基及びビフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基、フェニル基及びビフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
Ｒ１ｃ、Ｒ１ｇおよびＲ１ｈは、それぞれ独立に、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
ここで、ベンジル基及びフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基及びフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
ここで、ベンジル基及びフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基及びフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基である。
Ｒ１としては、合成法の観点から、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ又は−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃとしては、合成法の観点から、各々独立に、水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃとしては、合成法の観点から、各々独立に、水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかが好ましい。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃの意味は上記Ｒ１において説明したＲ１ｂ、Ｒ１ｃと同様である。
Ｒ２としては、合成法の観点から、水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃが好ましい。
Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃとしては、各々独立に、水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかが好ましい。
Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃとしては、各々独立に、水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかが好ましい。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
ここで、ベンジル基及びフェニル基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられる。ベンジル基及びフェニル基は、上記から独立に選択される置換基を１〜３個有してよい。
Ｒ３としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
＜一般式（２）で表される化合物＞
一般式（２）ＣＦ２ＸＹにおいて、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
なかでも、取り扱いの観点から、Ｘは水素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、Ｙは臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。
Ｘが水素原子であれば、出発原料のピラゾール化合物（１）から目的とする化合物３−ジフルオロメチルピラゾール（後述する一般式（６））を直接合成できるため、後述する還元反応工程を省略できる。
また、Ｘが水素原子以外の場合、ＸとＹは同一でも異なっていてもよく、Ｘ、Ｙが共に臭素原子又はヨウ素原子の場合が好ましい。
一般式（２）ＣＦ２ＸＹにおいて、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
なかでも、取り扱いの観点から、Ｘは水素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、Ｙは臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。
Ｘが水素原子であれば、出発原料のピラゾール化合物（１）から目的とする化合物３−ジフルオロメチルピラゾール（後述する一般式（６））を直接合成できるため、後述する還元反応工程を省略できる。
また、Ｘが水素原子以外の場合、ＸとＹは同一でも異なっていてもよく、Ｘ、Ｙが共に臭素原子又はヨウ素原子の場合が好ましい。
上記一般式（１）のピラゾール化合物及び一般式（２）のジフルオロメタン化合物はいずれも、公知の物質を用いることができる。
＜反応開始剤＞
反応開始剤としては、還元剤、ラジカル開始剤又は光照射等を使用することができる。
還元剤としては、例えば亜ジチオン酸ナトリウム、亜ジチオン酸カリウム等の亜ジチオン酸塩又は亜鉛−亜硫酸水等を使用でき、その使用量は特に限定されないが、通常は反応原料（ピラゾール化合物（１））１に対し約１／１００から１０当量程度であり、好ましくは１／１０から２当量の範囲である。
ラジカル開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）などのアゾ化合物；ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエートなどの過酸化物；およびテトラエチルチウラムジスルフィドなどのジチオカルバメート；などを使用できる。
光照射として使用する光源は反応開始に充分なエネルギーを有するものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、高圧水銀ランプ等を使用することができる。反応開始剤としての還元剤、ラジカル開始剤又は光照射は、各々単独で使用してもよく、両方を併用して使用することもできる。
反応開始剤としては、還元剤、ラジカル開始剤又は光照射等を使用することができる。
還元剤としては、例えば亜ジチオン酸ナトリウム、亜ジチオン酸カリウム等の亜ジチオン酸塩又は亜鉛−亜硫酸水等を使用でき、その使用量は特に限定されないが、通常は反応原料（ピラゾール化合物（１））１に対し約１／１００から１０当量程度であり、好ましくは１／１０から２当量の範囲である。
ラジカル開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）などのアゾ化合物；ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエートなどの過酸化物；およびテトラエチルチウラムジスルフィドなどのジチオカルバメート；などを使用できる。
光照射として使用する光源は反応開始に充分なエネルギーを有するものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、高圧水銀ランプ等を使用することができる。反応開始剤としての還元剤、ラジカル開始剤又は光照射は、各々単独で使用してもよく、両方を併用して使用することもできる。
＜塩基＞
塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用することができる。無機塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物等の無機塩基類、有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基類を使用することができる。
塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用することができる。無機塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物等の無機塩基類、有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基類を使用することができる。
＜相間移動触媒＞
ピラゾール化合物（１）とジフルオロメタン化合物（２）との反応に際しては、相間移動触媒を用いることが好ましい。相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート等の四級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロミド等の有機燐塩化合物、トリス（メトキシエトキシエチル）アミン等のアルキルポリエーテルアルキルアミン化合物類等を使用できる。相関移動触媒は必ずしも必要ではないが、用いた方が良好な結果を与える場合もある。相間移動触媒を用いる量は限定されないが、通常反応原料（ピラゾール化合物（１））１に対し、約１／５００から２当量程度であり、好ましくは１／５０から１当量程度の範囲である。
ピラゾール化合物（１）とジフルオロメタン化合物（２）との反応に際しては、相間移動触媒を用いることが好ましい。相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート等の四級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロミド等の有機燐塩化合物、トリス（メトキシエトキシエチル）アミン等のアルキルポリエーテルアルキルアミン化合物類等を使用できる。相関移動触媒は必ずしも必要ではないが、用いた方が良好な結果を与える場合もある。相間移動触媒を用いる量は限定されないが、通常反応原料（ピラゾール化合物（１））１に対し、約１／５００から２当量程度であり、好ましくは１／５０から１当量程度の範囲である。
＜不活性溶媒＞
不活性溶媒としては、反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ニトロベンゼン等の不活性ベンゼン系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、ピバロニトリル等のニトリル系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、水等を使用することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
不活性溶媒としては、反応の進行を著しく阻害しないものであればよく、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ニトロベンゼン等の不活性ベンゼン系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、ピバロニトリル等のニトリル系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、水等を使用することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
また、相間移動触媒を使用する場合、不活性溶媒として水と水以外のその他の不活性溶媒とを組み合わせて二相系で反応を行うこともできる。その他の不活性溶媒は上記不活性溶媒から適宜選択して使用することができる。水とその他の不活性溶媒の二相系を用いることにより良好な結果を与える。
＜反応温度＞
反応温度は、−２０℃から用いる溶媒のその条件下での沸点の範囲付近で反応を行うことができる。好ましくは０℃乃至５０℃程度で実施することが工業生産上有利である。
反応温度は、−２０℃から用いる溶媒のその条件下での沸点の範囲付近で反応を行うことができる。好ましくは０℃乃至５０℃程度で実施することが工業生産上有利である。
＜反応時間＞
反応時間は反応条件により異なるが、通常は数分から数十時間であり、好ましくは３０分から２４時間程度である。
本反応は、反応終了後、反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて精製等を行うことにより、下記一般式（３）で表される目的化合物を製造することができる。
反応時間は反応条件により異なるが、通常は数分から数十時間であり、好ましくは３０分から２４時間程度である。
本反応は、反応終了後、反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて精製等を行うことにより、下記一般式（３）で表される目的化合物を製造することができる。
＜一般式（３）で表される化合物＞
下記一般式（３）で表される３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物における、Ｒ１〜Ｒ３及びＸの意味は、上記一般式（１）及び（２）における意味と同義である。
下記一般式（３）で表される３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物における、Ｒ１〜Ｒ３及びＸの意味は、上記一般式（１）及び（２）における意味と同義である。
Ｒ１が−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ以外の場合、加水分解等の後処理を行うことにより、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨに変換することができる。例えば、Ｒ１が−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａの場合、水酸化ナトリウム等を用いて加水分解を行うことにより、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨに変換することができる。
Ｒ２が水素原子の場合、ピラゾールの位置異性体も生成する可能性がある。しかし、精製等で分離を行うことにより、目的の３位にジフルオロアルキル基を有する化合物を得ることができる。また、ピラゾールの位置異性体は、異性化によって、３位にジフルオロアルキル基を有する化合物に変換することができる（国際公開第２０１２／０１９９５０号参照）。そのため、ピラゾールの位置異性体が生成しても、実質目的物を得ることができる。
Ｒ２が水素原子以外の場合、還元的処理を行うことによってＲ２を水素原子に変換することができる。例えば、Ｒ２が−ＮＨ２の場合、ジアゾニウム塩を経由することで還元的に水素原子に変換することができる。窒素原子上の置換基が保護基の場合は、通常有機合成反応で用いられる脱保護反応を行うことにより、窒素原子上の置換基を水素原子に変換することができる。
式（３）で表される化合物としては、下記一般式（７）で表される化合物が好ましい。
（式中、Ｒ１’は−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａを表す。Ｒ２’は水素原子、ハロゲン原子又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。Ｒ３’は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃは前記と同様の意味を示す。）
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃは前記と同様の意味を示す。）
合成後の目的化合物（３）の単離方法は特に制限されないが、目的化合物は、反応終了後の有機層だけでなく、水層にも多少溶解しているので、水層からジエチルエーテルなどの有機溶媒を用いて抽出することが好ましい。抽出は３回以上行うことがより好ましい。
元の有機層と水層から抽出した有機層とを併せて脱溶媒、濾過した後に、溶媒を留去する。脱溶媒剤は通常用いられるものを使用すればよいが、硫酸ナトリウムが好ましく用いられる。また、有機溶媒の留去は常圧蒸留又は減圧蒸留が好ましく用いられる。
有機溶媒を留去した後の残余物を精製し、目的化合物を得ることができる。精製法も特に限定されないが、再結晶、シリカカラムクロマトグラフィー等が挙げられる。
元の有機層と水層から抽出した有機層とを併せて脱溶媒、濾過した後に、溶媒を留去する。脱溶媒剤は通常用いられるものを使用すればよいが、硫酸ナトリウムが好ましく用いられる。また、有機溶媒の留去は常圧蒸留又は減圧蒸留が好ましく用いられる。
有機溶媒を留去した後の残余物を精製し、目的化合物を得ることができる。精製法も特に限定されないが、再結晶、シリカカラムクロマトグラフィー等が挙げられる。
また、本発明に係る３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法は単一工程であるために、合成反応終了後の残留物を再度利用し、同様の合成過程を経ることによって目的化合物の収率を実質的に高めることができる。
＜還元反応＞
本発明において、一般式（４）に示すハロゲン化ジフルオロメタンＣＦ２Ｘ’Ｙを用いた場合、先述した反応によって得られる化合物（５）は下記一般式（５−１）〜（５−３）で表される化合物のいずれかである。
本発明において、一般式（４）に示すハロゲン化ジフルオロメタンＣＦ２Ｘ’Ｙを用いた場合、先述した反応によって得られる化合物（５）は下記一般式（５−１）〜（５−３）で表される化合物のいずれかである。
これら一般式（５−１）〜（５−３）で表される化合物を還元することにより、下記一般式（６）で表される化合物を合成することができる。
還元反応としては金属触媒を用いた還元反応又は光照射反応等を使用できる。
金属触媒としては、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウムなどの遷移金属触媒を用い、水素雰囲気下で反応することができる。
光照射として使用する光源は反応開始に充分なエネルギーを有するものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、高圧水銀ランプ等を使用することができ、水素又はイソプロピルアルコール等の水素供給源存在下で反応することができる。
金属触媒としては、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウムなどの遷移金属触媒を用い、水素雰囲気下で反応することができる。
光照射として使用する光源は反応開始に充分なエネルギーを有するものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、高圧水銀ランプ等を使用することができ、水素又はイソプロピルアルコール等の水素供給源存在下で反応することができる。
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。
＜実施例１：エチル ５−アミノ−３−ブロモジフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレートの合成＞
２００ｍＬオートクレーブ中で、公知の手法により合成したエチル ５−アミノ−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレート（１０ｇ）、ジブロモジフルオロメタン（アルドリッチ社製、２４．８ｇ）、亜ジチオン酸ナトリウム（東京化成社製、２０．６ｇ）、炭酸水素ナトリウム（関東化学社製、９．９ｇ）及びテトラブチルアンモニウムブロミド（純正化学社製、１．９ｇ）をアセトニトリル（３５．５ｍＬ）及び水（４１．４ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、有機層と水層とに分離し、水層をジエチルエーテル（１００ｍＬ）で３回抽出した。有機層とジエチルエーテルで抽出した層を併せて硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、有機溶媒を減圧留去した。これを、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標掲化合物を淡黄色固体として得た（収量３．３ｇ、収率２０％）。
２００ｍＬオートクレーブ中で、公知の手法により合成したエチル ５−アミノ−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレート（１０ｇ）、ジブロモジフルオロメタン（アルドリッチ社製、２４．８ｇ）、亜ジチオン酸ナトリウム（東京化成社製、２０．６ｇ）、炭酸水素ナトリウム（関東化学社製、９．９ｇ）及びテトラブチルアンモニウムブロミド（純正化学社製、１．９ｇ）をアセトニトリル（３５．５ｍＬ）及び水（４１．４ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、室温にて２０時間攪拌した。反応終了後、有機層と水層とに分離し、水層をジエチルエーテル（１００ｍＬ）で３回抽出した。有機層とジエチルエーテルで抽出した層を併せて硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、有機溶媒を減圧留去した。これを、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、標掲化合物を淡黄色固体として得た（収量３．３ｇ、収率２０％）。
得られた化合物（ａ）は１Ｈ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲにて同定を行った。ＮＭＲチャートの結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、重クロロホルム）：δ＝１．３８（ｔ，３Ｈ）、３．６６（ｓ，３Ｈ）、４．３１（ｑ，２Ｈ）、５．４２（ｂｒ ｓ，２Ｈ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、重クロロホルム））：δ＝−４７．１（ｓ，２Ｆ）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、重クロロホルム）：δ＝１．３８（ｔ，３Ｈ）、３．６６（ｓ，３Ｈ）、４．３１（ｑ，２Ｈ）、５．４２（ｂｒ ｓ，２Ｈ）
１９Ｆ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、重クロロホルム））：δ＝−４７．１（ｓ，２Ｆ）
＜実施例２：エチル ３−ジフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレートの合成＞
エチル ５−アミノ−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレートに代えてエチル １−メチルピラゾール−４−カルボキシレート、ジブロモジフルオロメタンに代えてジフルオロヨードメタンを用い、実施例１と同様の条件で反応を行い、標掲化合物とその異性体の混合物を得た。
エチル ５−アミノ−１−メチルピラゾール−４−カルボキシレートに代えてエチル １−メチルピラゾール−４−カルボキシレート、ジブロモジフルオロメタンに代えてジフルオロヨードメタンを用い、実施例１と同様の条件で反応を行い、標掲化合物とその異性体の混合物を得た。
本発明によれば、医薬や農薬などの製造中間体として有用な３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物を単一工程によって得られることから、医薬・農薬品そのものについても、簡便で工程時間的にも有利な製造が期待される。
Claims (3)
- 下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（２）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させる、下記一般式（３）で表される化合物を製造する方法。
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。） - 下記一般式（１）で表されるピラゾール化合物と、一般式（４）で表される化合物とを、反応開始剤、塩基及び不活性溶媒の存在下で反応させ、下記一般式（５）で表される化合物を得て、前記一般式（５）で表される化合物を還元する、下記一般式（６）で表される化合物を製造する方法。
Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、シアノ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１ｂＲ１ｃ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＳＲ１ｄ又は−Ｃ（＝Ｓ）−ＳＲ１ｅを表す。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数３〜８のシクロアルキルチオ基、炭素数２〜８のアルケニルチオ基又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。
Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｄ及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。） - 下記一般式（７）で表される化合物。
Ｒ１’は−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１ａを表す。Ｒ２’は水素原子、ハロゲン原子又は−ＮＲ１ｂＲ１ｃを表す。Ｒ３’は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｒ１ａは、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいビフェニル基を表す。
Ｒ１ｃは、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基を有する炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、置換基を有してもよいベンジル基又は置換基を有してもよいフェニル基を表す。
Ｘ’は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012087643A JP2013216605A (ja) | 2012-04-06 | 2012-04-06 | ３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012087643A JP2013216605A (ja) | 2012-04-06 | 2012-04-06 | ３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013216605A true JP2013216605A (ja) | 2013-10-24 |
Family
ID=49589178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012087643A Pending JP2013216605A (ja) | 2012-04-06 | 2012-04-06 | ３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2013216605A (ja) |
-
2012
- 2012-04-06 JP JP2012087643A patent/JP2013216605A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2018519280A (ja) | ｛１−（エチルスルホニル）−３−［４−（７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン−４−イル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アゼチジン−３−イル｝アセトニトリルの調製方法及び中間体 | |
| WO2015037460A1 (ja) | 光学活性な３－（ビフェニル－４－イル）－２－［（ｔ－ブトキシカルボニル）アミノ］プロパン－１－オールの製造方法 | |
| JP2023011667A (ja) | スルホンアミド構造のキナーゼ阻害剤の製造方法 | |
| ES2657424T3 (es) | Procedimiento de preparación de 1-alquil-3-difluorometil-5-fluor-1H-pirazol-4-carbaldehídos y 1-alquil-3-difluorometil-5-fluor-1H-pirazol-4-carboxilatos | |
| EP2894150B1 (en) | Method for producing 1-substituted-3-fluoroalkylpyrazole-4-carboxylic acid ester | |
| JP5504898B2 (ja) | ジフルオロシクロプロパン化合物の製造方法 | |
| JP2013216605A (ja) | ３−ジフルオロアルキルピラゾール化合物の製造方法 | |
| JP6197868B2 (ja) | ピリダジノン化合物の製造方法 | |
| CN109134306B (zh) | 一种烷基酮酰胺和其肟酰胺类化合物及其制备与应用 | |
| JP2009073739A (ja) | 医薬品中間体として許容しうる高純度な光学活性１−アリール−１，３−プロパンジオールの製造方法 | |
| JP2012097041A (ja) | フルオロアルキル基を有するテトラヒドロピラゾロピラゾロン誘導体及びその製造方法 | |
| US9815768B2 (en) | Method for producing 2-(halogenomethyl)-3-methylnitrobenzene | |
| JP2007153823A (ja) | アレンカルボン酸エステル類の製造法 | |
| CN107778168B (zh) | 一种顺式-3-羟基-环戊烷羧酸酯或环己烷羧酸酯及其衍生物的合成方法 | |
| JP2008013506A (ja) | フラン誘導体の製造方法 | |
| JP6755775B2 (ja) | ４−フルオロイソキノリンの製法 | |
| AU2017258665A1 (en) | Process for the preparation of herbicidal compounds | |
| JP2004231521A (ja) | ３−クロロ−５−ニトロトルエンの合成方法 | |
| CZ2014475A3 (cs) | Způsob přípravy Abirateron acetátu o vysoké čistotě aplikovatelný v průmyslovém měřítku | |
| JP4896476B2 (ja) | メチルオキシメチルアミノピリジン誘導体及びその製造方法 | |
| Armitage et al. | Process Development and GMP Production of a Potent NEDD8-Activating Enzyme (NAE) Inhibitor: Pevonedistat | |
| Tatsugi et al. | Halogenation of 1-alkyl-7-azaisatins using N-halosuccinimides: regioselective synthesis of 1-alkyl-5-halo-7-azaisatins | |
| JP4854255B2 (ja) | ２−含フッ素アルコキシ脂肪酸エステル化合物の製造方法 | |
| JP2024045205A (ja) | ２－ヒドロキシ－２－（パーフルオロアルキル）マロン酸エステル誘導体の製造方法、並びに２－（トリメチルシリルオキシ）－２－（パーフルオロアルキル）マロン酸エステル誘導体及び５－ヒドロキシ－５－（パーフルオロアルキル）ピリミジン－２，４，６（１ｈ，３ｈ，５ｈ）－トリオンとそれらの製造方法 | |
| JP2013043831A (ja) | 第三級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体及びその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140210 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150202 |