JP2013206198A - タッチセンサー - Google Patents
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Abstract
【課題】電極パターンの交差領域で、点状又は線状の高輝度部分が生じたり、液晶画面表示が見えにくくなる点状又は線状の黒色部分が目立たないタッチセンサーの提供。
【解決手段】透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第1電極パターン及び複数の透明な第2電極パターンを有するタッチセンサーで、第1電極パターンは、基板上の第1方向に間隔をあけて形成された複数の第1島状電極部と、隣接する第1島状電極部の間に電気的に接続形成された第1ブリッジ配線部とを有し、第2電極パターンは、第1方向と交差する第2方向に間隔をあけて形成された複数の第2島状電極部を有する。第1電極パターンの第1ブリッジ配線部上に形成された透明な絶縁膜上を跨ぐように、第2電極パターンの隣接する第2島状電極部の間に電気的に接続形成された第2ブリッジ配線部が形成され、第2ブリッジ配線部の金属細線を黒色化する。
【選択図】図2
【解決手段】透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第1電極パターン及び複数の透明な第2電極パターンを有するタッチセンサーで、第1電極パターンは、基板上の第1方向に間隔をあけて形成された複数の第1島状電極部と、隣接する第1島状電極部の間に電気的に接続形成された第1ブリッジ配線部とを有し、第2電極パターンは、第1方向と交差する第2方向に間隔をあけて形成された複数の第2島状電極部を有する。第1電極パターンの第1ブリッジ配線部上に形成された透明な絶縁膜上を跨ぐように、第2電極パターンの隣接する第2島状電極部の間に電気的に接続形成された第2ブリッジ配線部が形成され、第2ブリッジ配線部の金属細線を黒色化する。
【選択図】図2
Description
本発明は、表示装置等の前面に配設される投影型の静電容量タッチセンサーに関する。
従来より、携帯電話機等に採用されている静電容量タッチセンサーその他の装置は、例えば、図4に示すように積層されている(特許文献1)。
図4に示す例では、液晶表示装置70と、その前面に配設される投影型の静電容量タッチセンサー71と、その前面に配設されるカバーガラス72の例を示している。図4において、表示装置70を構成する一対の透明基板81,82は、シール材84により封止された空間に、液晶83を挟持している。この他、透明基板81,82には、液晶表示用電極85が形成され、偏光板86が配設されている。なお、87は駆動用ICであり、この駆動用IC87は、フレキシブル基板88を介して画像データの送信元となる制御基板等(図示せず。)に接続される。
このような液晶表示装置70の前面に、センサ用電極92が設けられた透明基板91を備える静電容量タッチセンサー71が配置されている。投影型の静電容量タッチセンサー71では、この透明基板91に設けられたセンサ電極92に、人間の指などの導電体が近づくことで発生する静電容量の変化を捉えてタッチ位置を検出する。より具体的には、センサ用電極92に指が近づくことにより、指とセンサ用電極92との間に容量が形成され、その変化をフレキシブル基板95を介して接続される投影型静電容量センサ用IC(図示せず)が検知する。なお、図4では、センサ用電極92を互いに交差する2方向に伸びる列電極として形成する例を示している。このため、ある一方向に伸びる第1電極パターンと他方向に伸びる第1電極パターンとの間に、電気的に非接触状態とするための絶縁膜93が設けられている。また、静電容量タッチセンサー71には、センサ用電極92を保護するための保護層96が設けられている。
なお、図4に示す例では、静電容量タッチセンサー71の上に、さらに光学接着層99を介してカバーガラス72が配設されている例が示されている。カバーガラス72は、周辺部に黒色印刷97が施されたり、穴が開けられたりといった装飾が施されることが多い。
ところで、特許文献1では、透明基板1の片側の面に、センサ電極92として第1の方向に伸びる複数の第1電極パターンと第2の方向に伸びる複数の第2電極パターンとが、交差領域で第2電極パターンが分断された形状で形成されており(図5では、第1の方向に間隔をあけて形成された2以上の第1島状電極部201c,201d及びその間に形成された第1ブリッジ配線部202と、第2の方向に間隔をあけて形成された2以上の第2島状電極部201a,201b)、さらに交差領域で分断されずに形成された第1電極パターンを当該交差領域で覆う絶縁膜9と、交差領域で分断されて形成されている第2電極パターンの第2島状電極部どうしを当該交差領域で接続状態とするために形成される配線であって、前記絶縁膜9を跨ぐように形成される第2ブリッジ配線部4とを備え(図6参照)、第2ブリッジ配線部4は金属材料により形成され、絶縁膜は遮蔽性および絶縁性を有する材料で形成されているものが開示されている。
このように、交差領域で分断されずに形成される第1電極パターンの第1ブリッジ配線部202と第2ブリッジ配線部4との間に設ける絶縁膜9を、遮蔽性材料で形成することにより、金属材料のブリッジ配線4の反射による視認性の劣化、すなわち第1電極パターンと第2電極パターンの交差領域に眩しくなる高輝度部分が点状又は線状に生じて使用者が液晶画面を見るにあたり不具合又は視覚的な不快感を覚えてしまうことを抑えることができる。
なお、前記特許文献1において、上記構成の静電容量タッチセンサーは以下のように製造される。まず、透明基板の片側の面に、透明電導膜のパターニングにより、第1の方向に伸びる第1電極パターンと、前記第1の方向と交差する方向である第2の方向に伸びる第2電極パターンとを含む透明電極パターンであって、前記第1電極パターンと前記第2電極パターンの交差領域で第2電極パターンが分断された形状となる透明電極パターンを形成する。次に、前記第1電極パターンと前記第2電極パターンとの交差領域に、遮蔽性および絶縁性を有する材料による絶縁遮蔽層を設けることにより、交差領域で分断されずに形成された前記第1電極パターンを覆う絶縁膜とする。次いで、前記絶縁遮蔽層が形成された透明基板の同一面に、金属製の導電物質を成膜した金属膜によるパターニングにより、第2ブリッジ配線部を形成する。
しかし、特許文献1に記載の発明では、遮蔽性を有する絶縁膜9の幅は、これを跨ぐように形成される金属材料からなる第2ブリッジ配線部4の幅よりも広く形成される。これは第2ブリッジ配線部4とこれに交差する第1電極パターンの第1ブリッジ配線部202との接触を確実に防止するため、交差領域で積層する各層の位置ずれ許容度を考慮したものである。その結果、今度は遮蔽性を有する絶縁膜9の幅広い遮光による視認性の劣化、すなわち透明電極パターンの交差領域に点灯画素を常時遮光する黒色部分が点状又は線状に生じて液晶画面表示の妨げになるという新たな問題が生ずる。
したがって、本発明の目的は、前記課題を解決することにあって、透明電極パターンの交差領域に、眩しくなる点状又は線状の高輝度部分が生じたり、液晶画面表示が見えにくくなる点状又は線状の黒色部分が目立ったりすることがないタッチセンサーを提供することにある。
本発明の第1態様によれば、透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第1電極パターン及び複数の透明な第2電極パターンを有するタッチセンサーであって、
前記第1電極パターンは、
前記基板上の第1方向に間隔をあけて形成された複数の第1島状電極部と、
隣接する前記第1島状電極部の間に電気的に接続形成された第1ブリッジ配線部と、を有し、
前記第2電極パターンは、
前記基板上であって、前記第1方向と交差する第2方向に間隔をあけて形成された複数の第2島状電極部を有し、
さらに、前記第1電極パターンの少なくとも前記第1ブリッジ配線部上に形成された透明な絶縁膜上を跨ぐように、前記第2電極パターンの隣接する前記第2島状電極部の間に電気的に接続形成された第2ブリッジ配線部が形成され、当該第2ブリッジ配線部が、金属細線を黒色化したものであるタッチセンサーを提供する。
前記第1電極パターンは、
前記基板上の第1方向に間隔をあけて形成された複数の第1島状電極部と、
隣接する前記第1島状電極部の間に電気的に接続形成された第1ブリッジ配線部と、を有し、
前記第2電極パターンは、
前記基板上であって、前記第1方向と交差する第2方向に間隔をあけて形成された複数の第2島状電極部を有し、
さらに、前記第1電極パターンの少なくとも前記第1ブリッジ配線部上に形成された透明な絶縁膜上を跨ぐように、前記第2電極パターンの隣接する前記第2島状電極部の間に電気的に接続形成された第2ブリッジ配線部が形成され、当該第2ブリッジ配線部が、金属細線を黒色化したものであるタッチセンサーを提供する。
また、本発明の第2態様によれば、前記金属細線の黒色化が、黒色めっきによるものである第1態様のタッチセンサーを提供する。
また、本発明の第3態様によれば、前記金属細線の黒色化が、電着塗装によるものである第1態様のタッチセンサーを提供する。
また、本発明の第4態様によれば、前記金属細線の黒色化が、化成処理によるものである第1態様のタッチセンサーを提供する。
また、本発明の第5態様によれば、前記金属細線が、銅、アルミニウム、ニッケルのいずれかである第1〜4態様のいずれかのタッチセンサーを提供する。
また、本発明の第65態様によれば、さらに、前面に偏光板を備える第1〜5態様のいずれかのタッチセンサーを提供する。
本発明のタッチセンサーは、分断された電極パターンの島状電極部の間に形成されるブリッジ配線部が金属細線を黒色化したものであり、透明な絶縁膜を跨ぐように形成されるように構成する。したがって、金属材料からなるブリッジ配線部が黒色化によって反射しないので、透明電極パターンの交差領域に眩しくなる点状又は線状の高輝度部分が生じることがない。また、絶縁膜の幅ではなく黒色化されたブリッジ配線部の幅で遮光するので、透明電極パターンの交差領域に液晶画面表示が見えにくくなる点状又は線状の黒色部分が目立つこともない。
[実施形態1]
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図1は、タッチセンサーの例を示す概略図である。図2は、交差領域付近の部分拡大図である。また、図3は、図1中の線I―Iの部分拡大断面図である。図1に示す投影型の静電容量タッチセンサー101は、1枚の透明基板1と、該透明基板1上に形成されるセンサ用電極14とを備える。この透明基板1に設けられたセンサ用電極14に、人間の指などの導電体が近づくことで発生する静電容量の変化を捉えてタッチ位置を検出する。容量変化によって指の近づきを検知するため、指が直接にセンサ用電極14に触れる必要はない。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図1は、タッチセンサーの例を示す概略図である。図2は、交差領域付近の部分拡大図である。また、図3は、図1中の線I―Iの部分拡大断面図である。図1に示す投影型の静電容量タッチセンサー101は、1枚の透明基板1と、該透明基板1上に形成されるセンサ用電極14とを備える。この透明基板1に設けられたセンサ用電極14に、人間の指などの導電体が近づくことで発生する静電容量の変化を捉えてタッチ位置を検出する。容量変化によって指の近づきを検知するため、指が直接にセンサ用電極14に触れる必要はない。
より具体的には、センサ用電極14に指が近づくことにより、指とセンサ用電極14との間に容量が形成され、その変化をフレキシブル基板(図示せず)を介して接続される静電容量センサ用IC(図示せず)が検知することによって、タッチ位置を検出する。センサ用電極14とフレシブル基板とは、引き回し配線5によって接続されている。なお、静電容量センサ用ICをフレキシブル基板上に搭載させてもよいし、透明基板1上に搭載させてもよい。
図1に示す例において、センサ用電極14は、透明基板1の片側の面に、複数の第1電極パターンとしてのX電極パターン10及び複数の第2電極パターンとしてのY電極パターン20を有する。
X電極パターン10は、図示で第1方向としてのX軸方向に沿って延在し、Y軸方向に互いに間隔をあけて複数配列されている。Y電極パターン20は、図示で第2方向としてのY軸方向に沿って延在し、X軸方向に互いに間隔をあけて複数配列されている。なお、X電極パターン10とY電極パターン20は交差しているため、交差領域でY電極パターン20は分断された形状で形成されている。
X電極パターン10は、X軸方向に間隔をあけて配列された複数の第1島状電極部12と、隣り合う第1島状電極部12同士を接続する第1ブリッジ配線部11とを一体の膜で有している。第1島状電極部12は、平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がX軸に沿うように配置されている。
Y電極パターン20は、Y軸方向に間隔をあけて配列された複数の第2島状電極部22を有している。第2島状電極部22は、平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がY軸に沿うように配置されている。第1島状電極部12と第2島状電極部22とは、X軸方向及びY軸方向において互い違いに配置(市松状配置)されており、矩形状の第1,第2島状電極部12,22が平面視においてマトリクス状に配置されている。
また、交差領域で分断されない形状に形成される透明なX電極パターン10においては、第1ブリッジ配線部11を覆うように透明な絶縁膜3を設けている。さらに、交差領域で分断されて形成されている透明な第2電極パターンにおいては、隣接する第2島状電極部22を当該交差領域で接続状態とするために形成される配線であって、前記透明な絶縁膜3を跨ぐように形成される第2ブリッジ配線部30を設けている(図2,図3参照)。つまり、第2電極パターン20の隣接する第2島状電極部22どうしが、透明電極パターンとは別体のこの第2ブリッジ配線部30によってによって電気的に接続される。なお、本発明において、第2ブリッジ配線部30が透明な絶縁膜3上を跨ぐようにとは、絶縁膜3の幅より長い第2ブリッジ配線部30によって絶縁膜3の上面を完全に横断することを意味する。
また、引き回し配線5が、透明な基板1の周縁部に形成され、その一端がX電極パターン10及びY電極パターン20に接続され、X電極パターン10及びY電極パターン20で感知した信号を外部に送信できるようにしている。引き回し配線5の他端は、タッチセンサーの内部あるいは外部装置に設けられた駆動部及び電気信号変換/演算部(いずれも図示は省略)と接続されている。
透明基板1は、電気絶縁性の基板であって、例えば、ガラス基板や、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PC(ポリカードネート)フィルム、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム、PVC(ポリ塩化ビニル)フィルムなどでよい。とくにCOPフィルムは、光学等方性に優れているだけでなく、寸法安定性、延いては加工精度にも優れている点で好ましい。なお、透明基板1がガラス基板である場合、0.3mm〜3mmの厚みであればよい。また、透明基板1が樹脂フィルムである場合、20μm〜3mmの厚みであればよい。
透明なX電極パターン10及びY電極パターン20を構成する材料としては、透明電導膜、例えば酸化インジウム・スズ(ITO)、酸化亜鉛・アルミニウム(AZO)、酸化インジウム・亜鉛(IZO)などの金属酸化物である。また、透明導電膜は、厚みは数十から数百nm程度で形成され、後述する金属細線からなる第2ブリッジ配線部30のパターニング形成の際に使用するエッチング液では容易にエッチングされないことが必要である。そして、80%以上の光線透過率、数mΩから数百Ωの表面抵抗値を示すことが好ましい。
透明な絶縁膜3を構成する透明性の電気絶縁性物質としては、例えば、SiO2などの無機材料やフォトリソ樹脂などの有機樹脂材料を用いることが可能である。
本実施形態では、第2ブリッジ配線部30及び引き回し配線5は、金属細線を黒色化したものである。金属細線の材質は、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、クロム、チタン等の金属や、これら金属を組み合わせた合金からなるものを用いることができる。このうち、導電性が高く、加工が容易で、安価であるという観点から銅、アルミニウム、ニッケル等を用いるのが望ましい。
これら金属細線の黒色化は、黒色めっきによるものとすることができる。例えば、黒色ニッケルメッキ処理、クロメートメッキ処理などや、スズ、ニッケルおよび銅を用いる黒色三元合金メッキ処理、スズ、ニッケルおよびモリブデンを用いる黒色三元合金メッキ処理などを施せばよい。
また、金属細線の黒色化は、電着塗装によるものとすることもできる。黒色の電着塗装では、黒色顔料が電着樹脂に分散された黒色塗料を用いる。黒色顔料としてはカーボンブラックなどが挙げられ、導電性を有する黒色顔料が好ましい。また、電着樹脂としては、アニオン系樹脂であってもよいしカチオン系樹脂であってもよく、具体的にはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる、これらの電着樹脂はそれぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。
また、金属細線の黒色化は、硫化処理や酸化処理といった化成処理によるものとすることもできる。硫化処理や酸化処理は公知の方法で行うことができる。
なお、本明細書において、黒色化の「黒色」は、明度がL*で1〜20、色度がa*、b*で各+5から−5であるものが好ましい。明度と色度は、色彩式差計により測定され、本明細書では、明度及び色度を、国際照明委員会(CIE)規定のL*a*b*表色系(JIS Z 8729にも採用されている)で規定する。明度は値が小さいほど黒く光を反射せずに見え難いことを意味し、理論的な最小値は0である。色度は色度図上の座標を表し、色相と彩度を表す。L*a*b*表色系において、a*b*の値が共に0の座標は理論的な無彩色を表す。明度がL*で1〜20の範囲では、金属細線の表面は黒く、差異を肉眼で識別することは困難である。明度はL*での値が低いほど好ましいが、通常、10〜20でも目的とする効果が得られる。一方、色度がa*、b*で各々+5から−5であると、肉眼では色相の識別が困難である。a*が+5を超えると金属細線が赤系色に見え、−5未満では緑系に見え、b*が+5を超えると黄系に、−5未満では青系に見える。a*のより好ましい範囲は、+4〜−2であり、b*のより好ましい範囲は+2〜−5である。
このように金属細線からなる第2ブリッジ配線部30及び引き回し配線5を金属細線を黒色化したもので構成することによって、金属細線からなる第2ブリッジ配線部30が反射しないので、X電極パターン10及びY電極パターン20の交差領域に眩しくなる点状又は線状の高輝度部分が生じることがない。また、図2に示すように、絶縁膜の幅ではなく金属細線からなる第2ブリッジ配線部30の幅で遮光するので、X電極パターン10及びY電極パターン20の交差領域に液晶画面表示が見えにくくなる点状又は線状の黒色部分が目立つこともない。
次に、本実施形態のタッチセンサー101の製造方法の一例について説明する。
まず、透明基板1の片側の面に、スパッタリング法などを用いて透明導電膜を成膜させ、成膜させた透明導電膜をフォトリソグラフィ技術などを利用してパターニングし、X軸方向に伸びる接続形状を有するX電極パターン10とY軸方向に伸びる分断形状を有するY電極パターン20とに加工することにより、センサ用電極14を形成する。
次に、センサ用電極14が形成されている透明基板1の同面(センサ用電極14が形成されている面)に対してスピンコート法などを用いて透明な絶縁性材料を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、センサ用電極14のX電極パターン10とY電極パターン20とが交差することになる領域に透明な絶縁膜3をパターニングして形成する。
次に、透明な絶縁膜3が形成されている透明基板1の同面(絶縁膜3が形成されている面)に対してスパッタリング法などを用いて全体的に金属材料の導電物質を成膜し、黒色めっき、電着塗装又は化成処理により金属膜を黒色化した後、この黒色化した金属膜をフォトリソグラフィ技術を用いて所定のパターン形状に形成する。すなわち、各絶縁膜3の上を跨ぐようにして第2電極パターンの隣接する第2島状電極部22の間に電気的に接続させる金属細線からなる第2ブリッジ配線部30と、引き回し配線5とを同時に形成する。このように第2ブリッジ配線部30と引き回し配線5とを同時に形成するので、工程数は少なくて済む。
[実施形態2]
本実施形態2では、引き回し配線5の材料に、上記実施形態1のように金属細線からなる第2ブリッジ配線部30と同じ材料ではなく、別の材料を用いる。例えば、銀ペーストなどのスクリーン印刷によって、引き回し配線5を形成することもできる。この場合、実施形態1と比べて、第2ブリッジ配線部30に不適な材料でも引き回し配線5に用いることができ、材料選択の幅が広がるという利点がある。また、厚く形成するなどの厚み調整も可能である。
本実施形態2では、引き回し配線5の材料に、上記実施形態1のように金属細線からなる第2ブリッジ配線部30と同じ材料ではなく、別の材料を用いる。例えば、銀ペーストなどのスクリーン印刷によって、引き回し配線5を形成することもできる。この場合、実施形態1と比べて、第2ブリッジ配線部30に不適な材料でも引き回し配線5に用いることができ、材料選択の幅が広がるという利点がある。また、厚く形成するなどの厚み調整も可能である。
[変化例]
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されない。例えば、透明基板1が樹脂フィルムである場合、λ/4の位相差を与えるものであってもよい。ここで、λ/4の位相差を与えるとは、理想的には可視光領域の全ての波長に対してλ/4の位相差を与えるという意味である。しかし波長550nmにおける位相差がλ/4であれば他の波長での位相差が多少λ/4からずれていても実用上は問題ない。波長550nmにおけるリターデーション値(Δnd)は125〜150nmであることが好ましく、131〜145nmであることがより好ましい。
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されない。例えば、透明基板1が樹脂フィルムである場合、λ/4の位相差を与えるものであってもよい。ここで、λ/4の位相差を与えるとは、理想的には可視光領域の全ての波長に対してλ/4の位相差を与えるという意味である。しかし波長550nmにおける位相差がλ/4であれば他の波長での位相差が多少λ/4からずれていても実用上は問題ない。波長550nmにおけるリターデーション値(Δnd)は125〜150nmであることが好ましく、131〜145nmであることがより好ましい。
また、透明基板1が樹脂フィルムは、λ/4位相差フィルム単層に限らない。例えば、λ/4位相差フィルムと光学等方性フィルムとを接着した積層体であってもよい。光学等方性フィルムとしては、例えばリターデーション(Δnd)値が30nm以下のものである。さらには、λ/2位相差フィルムとλ/4位相差フィルムとを接着した積層体を透明基板1が樹脂フィルムに用いてもよい。
また、透明導電膜は、前記した金属酸化物をスパッタリングした膜以外に、PEDOT:poly(3,4−ethylenedioxythiophene)などの導電性ポリマー膜、カーボンナノチューブやカーボンナノホーン、カーボンナノワイヤ、カーボンナノファイバー、グラファイトフィブリルなどの極細導電炭素繊維や銀素材からなる極細導電繊維をバインダーとして機能するポリマー材料に分散させた膜を、各種印刷法や塗布法、インクジェットなどで形成したものでもよい。これらは可撓性に優れており、透明基板1が樹脂フィルムである場合、静電容量タッチセンサー10を2.5次元曲面又は3次元曲面に沿わせて貼り付けることができる。
また、引き回し配線5は、センサ用電極14と同じ材料であってもよく、この場合、センサ用電極14と引き回し配線5とを同時に形成することができる。さらに、引き回し配線5は、センサ用電極14と同じ材料からなる層と別の材料からなる層との多層膜であってもよい。
また、透明基板1のセンサ用電極14、絶縁膜3、金属細線からなる第2ブリッジ配線部30、引き回し配線5が形成された面に、さらに保護層(図示せず)を形成してもよい。例えば、マスクを使用してスパッタリング法によりSiO2材料の膜を形成すればよい。SiO2膜は、例えば、引き回し配線5とフレキシブル基板とが接続される接続部を除いた全面に形成する。
また、本発明の投影型の静電容量タッチセンサーは、自己静電容量(Self Capacitance)方式、相互静電容量(Mutual Capacitance)方式のいずれでもよい。また、上記各実施形態のタッチセンサー101では、第1電極パターンとしてのX電極パターン10、第2電極パターンとしてのY電極パターン20を有するように構成されているが、逆に第1電極パターンとしてのY電極パターン、第2電極パターンとしてのX電極パターン20有するように構成してもよい。
また、本発明の投影型の静電容量タッチセンサーは、さらに前面に偏光板を備えるようにしてもよい。この構成のタッチセンサーをカラーフィルター上に配置すれば、偏光板とカラーフィルターとの間にタッチパネル機能を内蔵する、いわゆる「On−Cell型」と呼ばれる液晶表示装置となる。
本発明の技術内容および技術的特徴は上記のように開示したが、本発明が属する技術分野における当業者であれば、本発明の教示および開示に基づいて、本発明の技術的思想に違わない様々な置換および付加を行うことは可能である。したがって、本発明の保護範囲は実施例に開示するものに限定されることなく、本発明に違わない様々な置換および付加が含まれるものであるとともに、別紙の特許請求の範囲に含まれるものである。
1 透明基板
3 絶縁膜(透明)
4 第2ブリッジ配線部(反射)
9 絶縁膜(遮蔽)
14,92 センサ用電極
5 引き回し配線
10 X電極パターン
11,202 第1ブリッジ配線部
12,201c,201d 第1島状電極部
13,23 接続部
20 Y電極パターン
22,201a,201b 第2島状電極部
30 第2ブリッジ配線部(黒色化)
71,101 タッチセンサー
3 絶縁膜(透明)
4 第2ブリッジ配線部(反射)
9 絶縁膜(遮蔽)
14,92 センサ用電極
5 引き回し配線
10 X電極パターン
11,202 第1ブリッジ配線部
12,201c,201d 第1島状電極部
13,23 接続部
20 Y電極パターン
22,201a,201b 第2島状電極部
30 第2ブリッジ配線部(黒色化)
71,101 タッチセンサー
Claims (6)
- 透明な基板の一面上に形成され、互いに交差する方向に延在する複数の透明な第1電極パターン及び複数の透明な第2電極パターンを有するタッチセンサーであって、
前記第1電極パターンは、
前記基板上の第1方向に間隔をあけて形成された複数の第1島状電極部と、
隣接する前記第1島状電極部の間に電気的に接続形成された第1ブリッジ配線部と、を有し、
前記第2電極パターンは、
前記基板上であって、前記第1方向と交差する第2方向に間隔をあけて形成された複数の第2島状電極部を有し、
さらに、前記第1電極パターンの少なくとも前記第1ブリッジ配線部上に形成された透明な絶縁膜上を跨ぐように、前記第2電極パターンの隣接する前記第2島状電極部の間に電気的に接続形成された第2ブリッジ配線部が形成され、当該第2ブリッジ配線部が、金属細線を黒色化したものであることを特徴とするタッチセンサー。 - 前記金属細線の黒色化が、黒色めっきによるものである請求項1に記載のタッチセンサー。
- 前記金属細線の黒色化が、電着塗装によるものである請求項1に記載のタッチセンサー。
- 前記金属細線の黒色化が、化成処理によるものである請求項1に記載のタッチセンサー。
- 前記金属細線が、銅、アルミニウム、ニッケルのいずれかである請求項1〜4のいずれかに記載のタッチセンサー。
- さらに前面に偏光板を備える請求項1〜5のいずれかに記載のタッチセンサー。
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