JP2013171988A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1とフォトマスク2のパターンの図形から、対応する位置にある一対の図形を選択し、これを基準マーク40、41とし、これらの近傍を撮影して部分画像を得て、該部分画像内で基準マークモデルを設定し、基準マーク登録装置20に登録する。露光すべき基板1が搬入されると、基準マーク40,41の近傍を撮像装置4により撮影し、登録されている基準マークモデルを用いて、同一の画像となる範囲を基準マーク識別範囲として検出し、基準マーク40,41として設定した図形を検出する。この図形、即ち基準マーク40,41を用いて位置合わせを行い、位置合わせが終了したら露光する。
【選択図】図1
Description
しかし、プリント配線基板及びフォトマスク上には、工程上の都合等により位置合わせマークを設けることができない場合もあり、その場合には位置決めピンなどによるメカニカル的な位置合わせを行っているが、近年の高密度パターンのプリント配線基板の製造では精度が不十分になってきている。
一方、プリント配線基板の製造工程において、既にパターンを形成した基板に更にパターンを露光して、絶縁層を取り除く工程がある。この工程では、基板に形成されたパターンとフォトマスクに描かれたパターンには対応部分があり、位置が一致する図形も存在する。
前記基板基準マークモデル内における前記基板マークの位置を記憶し、前記マスクマークを含む領域を撮影したフォトマスクの部分画像内で、該マスクマークを含む所定のエリアで区切られた画像であって、該部分画像内で他に同一の画像がなく唯一であるように選択された画像をマスク基準マークモデルとして記憶し、前記マスク基準マークモデル内における前記マスクマークの位置を記憶する、基準マーク登録装置と、プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせに際して撮像される前記基板マークを含む領域内において、前記基準マーク登録装置に記憶された基板基準マークモデルに基づいて基板基準マークモデルと同一の画像部分を基板マーク識別範囲として検出し、該検出された基板マーク識別範囲内の前記基板マークを検出し、プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせに際して撮像される前記マスクマークを含む領域内において、前記記憶されたマスク基準マークモデルに基づいて、マスク基準マークモデルと同一の画像部分をマスクマーク識別範囲として検出し、該検出されたマスクマーク識別範囲内の前記マスクマークを検出する、基準マーク検出装置と、を備え、前記検出された基板マークとマスクマークに基づいて、前記プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせを行い、該位置合わせ後に露光を行う、ことを特徴とする。
露光されるべきプリント配線基板1はステージ3上に載置されており、ステージ3はxyz及びθ方向に移動可能になっている。
ステージ3の上方には、光学系6が配置され、更にその上方には露光パターンを有するフォトマスク2が配置されている。フォトマスク2の上方には更に露光光源5が配置されており、ここから露光光を照射して、フォトマスク2上のパターンを光学系6を介して基板1上に露光するように構成されている。
基板基準マーク40及びマスク基準マーク41は、複数個所に複数個設定しても良い。一般的には各2つ、精度よくアライメントするためには4つ設けるのが一般的である。3つ、5つなどの数であっても良く、必要に応じて決めればよいが、その数と位置は一致させる。
撮像装置4は、基板基準マーク40及びマスク基準マーク41の数に応じて複数台設けてもよいし、あるいは1台で兼用してもよい。
該位置合わせの後に前記露光光源5からの露光光による露光が行われる。
撮像装置4は、撮像装置位置制御装置19によりその位置を制御され、前記したアライメントの基準となるパターンである基板基準マーク40、マスク基準マーク41を撮像することができる位置に撮像装置4を位置合わせできるように構成されている。
該位置はあらかじめ操作装置18より設定しておくことにより自動で移動させることも可能であるし、操作装置18を操作することにより手動で移動させることも可能である。
なお、撮像系はマスク2及び基板1についてそれぞれ独立した撮像系を用いても良い。
また、制御装置14は、画像処理装置13に対して画像処理の実施ならびに画像処理に関する設定等の指示を行うことができ、画像処理の結果から算出した位置情報等を表示器17を介して表示することができるように構成されている。
更に制御装置14は操作装置18あるいは画像処理の結果に基づき撮像系制御装置19を介して撮像系の位置を制御でき、前記したようにステージ制御装置11とステージ位置検出装置12を介してステージ位置を制御できるように構成されている。
フォトマスク2には該絶縁層を取り除く部分の大きさと位置を描画してあり、基板1にフォトマスク2のパターンを露光し、その後化学処理などにより該絶縁層部分の除去が行われる。
該エリアを拡大した部分画像38、部分画像39を図3に示す。部分画像38と部分画像39とを重ね合わせたものが、図4に示す重ね合わせ画像37である。マスクパターン32のパターンを基板パターン31上に露光することにより重ね合わせ画像37のように該パターンが重ねあわされ、マスクパターン32のパターンの露光により規定される所定の位置の絶縁層を取り除く処理が可能になる。
そこで本発明の露光装置においては、基板1上の既に形成されたパターンの一部と、フォトマスク2に描画されたパターンの一部を基準マーク登録装置20により基板基準マーク40、マスク基準マーク41として設定するように構成されている。この設定は作業者により行われ、基準マーク登録装置20により登録される。
この際、後に説明する基準マークモデル44、45の設定が可能な位置の画像を選択する。
また基板基準マーク40、マスク基準マーク41として設定するパターンは円形などの比較的単純な形状のパターンが望ましい。
この部分画像38と部分画像39の中に選択した基板基準マーク40、マスク基準マーク41が存在する。
そして基板基準マーク領域54の基板基準マークモデル44に対する位置を登録する。
なお、基板基準マークモデル44とマスク基準マークモデル45の大きさと位置は必ずしも一致しなくても良い。
上記のように基準マーク登録装置20において登録した内容に基づいて、露光時の基板1とフォトマスク2の位置合わせの際に、最初に基準マーク検出装置21により自動的に基準マーク40,41が検出される。
露光対象の基板1がステージ3上に搬入されると、最初に機械的な位置合わせ機構(図示せず)を使用し、フォトマスク2に対して基板1の位置を調整し、マスクパターン32上のマスク基準マーク41が含まれるエリア34と基板31上の基板基準マーク40が含まれるエリア33を、概略一致させ、このエリアを撮像装置4により同時に撮像する。撮像装置4の2系列の撮像系により図3に示す部分画像38´、部分画像39´が得られる。
なお、前記機械的な位置合わせ機構の精度は、撮像装置4がマスク基準マーク41と基板基準マーク40を同時に撮像できる程度のもので良い。
即ち基準マーク検出装置21は、基板基準マークモデル45と同サイズのエリアを部分画像39´のxy方向に所定の解像度でスキャンし、マスク基準マークモデル45と照合しながら同一の範囲を検出する。
基板基準マークモデル45と一致する範囲43´が検出されたら、該エリア43´の中にあるマスク基準マーク41を検出する。基準マーク検出装置21は、登録してある基板基準マーク領域54内で、登録してあるマーク41の形状と大きさに基づいて、該マーク41を検出し、その中心点の座標を位置情報として記憶する。
この実施形態では、前記したように図2に示す4カ所で位置合わせを行っており、残りの3ケ所においても同じ処理を行う。
位置合わせ後、露光光源5により露光光を照射し、基板1の基板パターン31上にマスクパターン32を焼き付けて、所定の部分の絶縁層を取り除く処理を行う。
図7により基準マーク登録装置20を用いた登録動作を説明する。
基板1とフォトマスク2のパターンの図形から、対応する位置にある一対の図形を選択し、これを基準マーク40、41とし、その形状と大きさを記憶する(ステップS1)。撮像装置4により基準マーク40、41の近傍を撮影し、部分画像38,39を得て(ステップS2)、該部分画像38,39内で基準マークモデル44、45を設定すし(ステップS3)、更に基準マークモデル44、45内の基準マーク40、41を囲む基準マーク領域54,55を設定する(ステップS4)。これら設定、記憶した内容を基準マーク登録装置20に登録する(ステップS5)。
ステージ3上に、露光すべき基板1が搬入されると(ステップS10)、基準マーク40,41の近傍を撮像装置4により撮影し(ステップS11)、登録されている基準マークモデル44と45を用いて、同一の画像となる範囲を基準マーク識別範囲42´、43´として検出する(ステップS12)。該基準マーク識別範囲42´、43´内で基準マーク領域54,55を検出し、基準マーク40,41として設定した図形を検出する(ステップS13)。この図形、即ち基準マーク40,41を用いて位置合わせを行い(ステップS14)、位置合わせが終了したら露光する(ステップS15)。
次に搬入された基板1についても、同様の動作を繰り返す(ステップS16)。
Claims (4)
- 既にパターンが形成されているプリント配線用の基板に、該パターンに対応し、該パターンの図形と同一の位置に図形を有するパターンを描いたフォトマスクを用いて露光する、プリント配線基板の露光装置において;
前記同一の位置にある図形の中から選択された1対の図形のそれぞれの形状と大きさを夫々位置合わせ用の基板マークとマスクマークとして記憶し、
前記基板マークを含む領域を撮影した基板の部分画像内で、該基板マークを含む所定のエリアで区切られた画像であって、該部分画像内で他に同一の画像がなく唯一であるように選択された画像を基板基準マークモデルとして記憶し、
前記基板基準マークモデル内における前記基板マークの位置を記憶し、
前記マスクマークを含む領域を撮影したフォトマスクの部分画像内で、該マスクマークを含む所定のエリアで区切られた画像であって、該部分画像内で他に同一の画像がなく唯一であるように選択された画像をマスク基準マークモデルとして記憶し、
前記マスク基準マークモデル内における前記マスクマークの位置を記憶する、
基準マーク登録装置と;
プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせに際して撮像される前記基板マークを含む領域内において、前記基準マーク登録装置に記憶された基板基準マークモデルに基づいて基板基準マークモデルと同一の画像部分を基板マーク識別範囲として検出し、
該検出された基板マーク識別範囲内の前記基板マークを検出し、
プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせに際して撮像される前記マスクマークを含む領域内において、前記記憶されたマスク基準マークモデルに基づいて、マスク基準マークモデルと同一の画像部分をマスクマーク識別範囲として検出し、
該検出されたマスクマーク識別範囲内の前記マスクマークを検出する、基準マーク検出装置と、を備え;
前記検出された基板マークとマスクマークに基づいて、前記プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせを行い、該位置合わせ後に露光を行う;
ことを特徴とするプリント配線基板の露光装置。 - 前記基板基準マークモデルが、基板パターンと基板パターンのない空白部分を含み、該基板パターンと該空白部分との組み合わせにより、前記部分画像内で他に同一の画像がなく唯一の画像であるように選択され、
前記マスク基準マークモデルがマスクパターンとマスクパターンのない空白部分を含み、該マスクパターンと該空白部分との組み合わせにより、前記部分画像内で他に同一の画像がなく唯一の画像であるように選択されている、
請求項1のプリント配線基板の露光装置。 - 前記所定のエリアが矩形である、
請求項1のプリント配線基板の露光装置。 - 既にパターンが形成されているプリント配線用の基板に、該パターンに対応し、該パターンの図形と同一の位置に図形を有するパターンを描いたフォトマスクを用いて露光する、プリント配線基板の露光方法において、
前記同一の位置にある図形の中の1対を夫々位置合わせ用の基板マークとマスクマークとして選択し、
前記基板マークを含む領域と前記マスクマークを含む領域をそれぞれ撮像装置で撮影して基板の部分画像とフォトマスクの部分画像を得て、
前記基板の部分画像内で、該基板マークを含む基板上の所定のエリアで区切られた画像を基板基準マークモデルとして記憶し、
前記基板基準マークモデル内における前記基板マークの位置を記憶し、
前記マスクの部分画像内で、該マスクマークを含むフォトマスク上の所定のエリアで区切られた画像をマスク基準マークモデルとして記憶し、
前記マスク基準マークモデル内における前記マスクマークの位置を記憶し、
前記基板基準マークモデルと前記マスク基準マークモデルは、前記部分画像内で、他に同一の画像がなく、唯一である、ように選択され、
プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせに際して、前記基板マークを含む領域と前記マスクマークを含む領域をそれぞれ撮像装置で撮像し、
前記記憶された基板基準マークモデルに基づいて、該撮像視野内において基板基準マークモデルと同一の画像部分を基板識別範囲として検出し、
該検出された基板識別範囲内の前記基板マークを検出し、
前記記憶されたマスク基準マークモデルに基づいて、該撮像視野内においてマスク基準マークモデルと同一の画像部分をマスク識別範囲として検出し、
該検出されたマスク識別範囲内の前記マスクマークを検出し、
前記検出された基板マークとマスクマークに基づいて、前記プリント配線基板とフォトマスクの位置合わせを行い、
該位置合わせ後に露光を行う、
ことを特徴とするプリント配線基板の露光方法。
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