JP2013161991A - Exposure equipment and method for manufacturing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、露光装置および該露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus and a device manufacturing method for manufacturing a device using the exposure apparatus.
フォトリソグラフィー技術を用いてデバイスを製造する際に露光装置が使用される。露光装置は、原版に形成されたパターンを投影光学系によってウエハまたはプレートなどの基板に投影して該基板を露光する。これにより、該基板に塗布されている感光剤にパターンが転写される。 An exposure apparatus is used when manufacturing a device using a photolithography technique. The exposure apparatus projects a pattern formed on the original plate onto a substrate such as a wafer or a plate by a projection optical system to expose the substrate. As a result, the pattern is transferred to the photosensitive agent applied to the substrate.
例えば、液晶デバイスを製造するための露光装置においては、プレートの大型化や回路パターンの微細化に伴って、原版とプレートとの高いアライメント精度（位置決め精度が）が要求されている。例えば、原版を保持するステージやプレートを保持するプレートを搭載して駆動するステージには、現在のところ、０．１ｕｍ以下のアライメント精度が求められている。ステージの位置の測定には、レーザ干渉計が使用される。このレーザ干渉計の光路上の空気の屈折率の変化が測定誤差の要因となっている。空気の屈折率は、温度および湿度の影響を受ける。例えば、屈折率の温度依存性は、約１ｐｐｍ／℃である。したがって、測定距離を３０００ｍｍとすると、温度による測定誤差を０．２ｕｍ以下にするためには、空気の温度変化を０．０６℃以下に抑えなければならない。 For example, in an exposure apparatus for manufacturing a liquid crystal device, a high alignment accuracy (positioning accuracy) between an original and a plate is required with an increase in the size of a plate and the miniaturization of a circuit pattern. For example, an alignment accuracy of 0.1 μm or less is currently required for a stage that holds an original plate or a stage that is mounted and driven by a plate that holds a plate. A laser interferometer is used to measure the position of the stage. A change in the refractive index of air on the optical path of the laser interferometer causes a measurement error. The refractive index of air is affected by temperature and humidity. For example, the temperature dependence of the refractive index is about 1 ppm / ° C. Therefore, if the measurement distance is 3000 mm, the temperature change of the air must be suppressed to 0.06 ° C. or less in order to make the measurement error due to temperature 0.2 μm or less.
そこで、露光装置は、ステージの周囲を空調するための空調機構を備えており、ステージの上方からのダウンフロー、又はステージの側方からのサイドフローによって、レーザ干渉計の光路上における空気の温度変化が低減されうる。 Therefore, the exposure apparatus is equipped with an air conditioning mechanism for air-conditioning the periphery of the stage, and the temperature of the air on the optical path of the laser interferometer by the down flow from above the stage or the side flow from the side of the stage. Changes can be reduced.
特許文献１には、干渉計からのレーザビームの光路の上に配置されたガイド部材の下面の近傍に向けて気体を噴射する構成を有する露光装置が記載されている。この気体は、コアンダ効果によってガイド部材に下面に沿って高速で流れる。この高速に流れる気体によるベルヌーイ効果によって、光路に対してその近傍の気体が引き寄せられる。これにより、光路の近傍の空気のゆらぎが抑制される。 Patent Document 1 describes an exposure apparatus having a configuration in which a gas is ejected toward the vicinity of the lower surface of a guide member disposed on the optical path of a laser beam from an interferometer. This gas flows at high speed along the lower surface of the guide member due to the Coanda effect. Due to the Bernoulli effect caused by the gas flowing at high speed, the gas in the vicinity thereof is attracted to the optical path. Thereby, the fluctuation of the air in the vicinity of the optical path is suppressed.
特許文献１に記載された構成では、ベルヌーイ効果によって干渉計の光路に引き寄せられる気体は、ステージが移動する空間の気体であるので、アクチュエータやそれを駆動する回路部品等が発生する熱の影響を受ける。したがって、ステージが移動する空間の空気を干渉計の光路に引き寄せる構成は、測定誤差を招きうる。 In the configuration described in Patent Document 1, since the gas attracted to the optical path of the interferometer by the Bernoulli effect is a gas in the space where the stage moves, the influence of the heat generated by the actuator, the circuit components that drive the actuator, etc. receive. Therefore, the configuration that draws the air in the space in which the stage moves to the optical path of the interferometer can cause measurement errors.
本発明は、上記の課題認識を契機としてなされたものであり、露光装置においてステージの位置を高い精度で測定するための有利な技術を提供することを目的とする。 The present invention has been made in light of the above problem recognition, and an object thereof is to provide an advantageous technique for measuring the position of a stage with high accuracy in an exposure apparatus.
本発明の１つの側面は、原版のパターンを基板に転写する露光装置に係り、前記露光装置は、前記基板を保持する基板ステージと、前記基板ステージの位置を測定するレーザ干渉計と、エアーを吹き出す第１吹き出し部と、前記レーザ干渉計の光路に沿って配置されたダクトと、エアーを噴射し、該エアーによるベルヌーイ効果によって、前記第１吹き出し部から吹き出されたエアーを前記ダクトの中に引き込む引き込み部と、を備え、前記ダクトは、前記ダクトの中を流れるエアーを前記光路に向けて吹き出すための第２吹き出し部を有し、前記第２吹き出し部から吹き出されるエアーによって前記光路における温度が調整される。 One aspect of the present invention relates to an exposure apparatus that transfers an original pattern onto a substrate. The exposure apparatus includes a substrate stage that holds the substrate, a laser interferometer that measures the position of the substrate stage, and air. A first blowout part that blows out, a duct arranged along the optical path of the laser interferometer, and air is injected, and the air blown out from the first blowout part is injected into the duct by the Bernoulli effect by the air. A pull-in section that draws in, and the duct has a second blowing section for blowing out air flowing in the duct toward the optical path, and the air is blown out from the second blowing section in the optical path. The temperature is adjusted.
本発明によれば、露光装置においてステージの位置を高い精度で測定するための有利な技術が提供される。 According to the present invention, an advantageous technique for measuring the position of a stage with high accuracy in an exposure apparatus is provided.
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図１は、本発明の１つの実施形態の露光装置１００の構成を示す図である。露光装置１００は、原版６のパターンをウエハまたはプレートなどの基板９に転写するように構成される。露光装置１００の本体１は、恒温チャンバ２内に収められている。恒温チャンバ２の中は、空調機械室３で温度が調整されたエアーにより一定の温度に管理される。原版ステージ５によって保持された原版６は、照明光学系４から発せられた光によって照明され、原版６のパターンは、基板ステージ８によって保持された基板９に投影光学系７によって投影される。これにより基板９が露光され、原版６のパターンが基板９に転写される。 FIG. 1 is a view showing the arrangement of an exposure apparatus 100 according to one embodiment of the present invention. The exposure apparatus 100 is configured to transfer the pattern of the original 6 to a substrate 9 such as a wafer or a plate. The main body 1 of the exposure apparatus 100 is housed in a constant temperature chamber 2. The constant temperature chamber 2 is controlled at a constant temperature by air whose temperature is adjusted in the air conditioning machine room 3. The original 6 held by the original stage 5 is illuminated by the light emitted from the illumination optical system 4, and the pattern of the original 6 is projected onto the substrate 9 held by the substrate stage 8 by the projection optical system 7. Thereby, the substrate 9 is exposed, and the pattern of the original 6 is transferred to the substrate 9.
基板ステージ８の位置は、レーザ干渉計１０によって測定される。レーザ干渉計１０からの測定光は、レーザ干渉計１０の光路１１を進み、その後、基板ステージ８に設けられた反射鏡１２で反射させて光路１１を通ってレーザ干渉計１０に戻る。基板ステージ８は、レーザ干渉計１０による測定結果に基づいて、リニアモータなどのアクチュエータによって駆動されうる。原版６を保持する原版ステージ５の位置は、レーザ干渉計３０によって測定される。レーザ干渉計３０から発せられた測定光は、レーザ干渉計３０の光路３１を進み、原版ステージ５に設けられた反射鏡３２で反射させて光路３１を通ってレーザ干渉計３０に戻る。原版ステージ５は、レーザ干渉計３０による測定結果に基づいて、リニアモータなどのアクチュエータによって駆動されうる。 The position of the substrate stage 8 is measured by a laser interferometer 10. The measurement light from the laser interferometer 10 travels along the optical path 11 of the laser interferometer 10, and then is reflected by the reflecting mirror 12 provided on the substrate stage 8 and returns to the laser interferometer 10 through the optical path 11. The substrate stage 8 can be driven by an actuator such as a linear motor based on the measurement result by the laser interferometer 10. The position of the original stage 5 holding the original 6 is measured by a laser interferometer 30. The measurement light emitted from the laser interferometer 30 travels along the optical path 31 of the laser interferometer 30, is reflected by the reflecting mirror 32 provided on the original stage 5, and returns to the laser interferometer 30 through the optical path 31. The original stage 5 can be driven by an actuator such as a linear motor based on the measurement result by the laser interferometer 30.
露光装置１００は、第１吹き出し部１３と、レーザ干渉計１０の光路１１に沿って配置されたダクト１４と、引き込み部１５とを備えうる。第１吹き出し部１３は、基板ステージ８が移動する空間である基板ステージ空間の温度を調整するためのエアーを吹き出す。当該基板ステージ空間には、レーザ干渉計１０の光路１１が含まれうる。引き込み部１５は、エアーを噴射し、該エアーによるベルヌーイ効果によって、吹き出し部１３から吹き出されたエアーをダクト１４の中に引き込むように構成されうる。 The exposure apparatus 100 can include a first blowing unit 13, a duct 14 disposed along the optical path 11 of the laser interferometer 10, and a drawing unit 15. The first blowing unit 13 blows out air for adjusting the temperature of the substrate stage space that is a space in which the substrate stage 8 moves. The substrate stage space can include the optical path 11 of the laser interferometer 10. The drawing-in part 15 can be configured to inject air and draw the air blown out from the blowing part 13 into the duct 14 by the Bernoulli effect by the air.
露光装置１００はまた、第３吹き出し部３３を備えている。第３吹き出し部３３は、原版ステージ５が移動する空間である原版ステージ空間の温度を調整するためのエアーを吹き出す。当該原版ステージ空間には、レーザ干渉計３０の光路３１が含まれうる。ここで、レーザ干渉計３０の光路３１の温度を調整するために、レーザ干渉計１０の光路１１のために設けられたダクト１４および引き込み部１５と同様のダクトおよび引き込み部が設けられうる。 The exposure apparatus 100 also includes a third blowing unit 33. The third blowing unit 33 blows out air for adjusting the temperature of the original stage space, which is the space in which the original stage 5 moves. The original stage space can include the optical path 31 of the laser interferometer 30. Here, in order to adjust the temperature of the optical path 31 of the laser interferometer 30, a duct and a lead-in part similar to the duct 14 and the lead-in part 15 provided for the optical path 11 of the laser interferometer 10 can be provided.
空調機械室３で温度が調整されたエアーが第１吹き出し部１３および第３吹き出し部３３に供給され、第１吹き出し部１３および第３吹き出し部３３からエアーが吹き出されうる。第１吹き出し部１３および第３吹き出し部３３は、典型的には、エアーを水平方向に吹き出すように構成されるが、他の方向にエアーを吹き出すように構成されてもよい。第１吹き出し部１３および第２吹き出し部３３は、例えば、ＵＬＰＡフィルタなどの除塵フィルタを有し、清浄度の高いエアーを吹き出す。 The air whose temperature is adjusted in the air conditioning machine room 3 is supplied to the first blowing unit 13 and the third blowing unit 33, and the air can be blown out from the first blowing unit 13 and the third blowing unit 33. The first blowing unit 13 and the third blowing unit 33 are typically configured to blow air in the horizontal direction, but may be configured to blow air in other directions. The 1st blowing part 13 and the 2nd blowing part 33 have dust removal filters, such as a ULPA filter, for example, and blow off the air with high cleanliness.
図２は、レーザ干渉計１０の光路１１の周辺部を示す図である。図３は、引き込み部１５の構成を示す図である。図２および図３を参照しながらレーザ干渉計１０の光路１１の温度を調整するための構成について説明する。前述のように、第１吹き出し部１３は、空調機械室３から供給されたエアーを基板ステージ空間に吹き出す。引き込み部１５は、エアーを噴射し、該エアーによるベルヌーイ効果によって、第１吹き出し部１３から吹き出されたエアーをダクト１４の中に引き込む。 FIG. 2 is a view showing a peripheral portion of the optical path 11 of the laser interferometer 10. FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of the drawing unit 15. A configuration for adjusting the temperature of the optical path 11 of the laser interferometer 10 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. As described above, the first blowing unit 13 blows the air supplied from the air conditioning machine room 3 into the substrate stage space. The drawing portion 15 injects air and draws the air blown from the first blowing portion 13 into the duct 14 by the Bernoulli effect of the air.
引き込み部１５は、ダクト１４の入口またはその近傍に配置されたノズル５１を含みうる。ノズル５１は、エアー２５を噴射する噴射口５２を有する。噴射口５２は、例えば環状のスリットでありうる。引き込み部１５の噴射口５２からは、エアー２５が高速で噴射される。エアー２５が高速で流れることによって、エアー２５が流れている空間が負圧となり、第１吹き出し部１３から吹き出されたエアー２１が当該空間に引き込まれる。これにより、第１吹き出し部１３から吹き出されたエアーがダクト１４の中に引き込まれる。つまり、噴射口５２から高速で噴射されたエアーによるベルヌーイ効果によって、第１吹き出し部１３から吹き出されたエアーがダクト１４の中に引き込まれる。 The lead-in part 15 can include a nozzle 51 disposed at or near the inlet of the duct 14. The nozzle 51 has an injection port 52 through which the air 25 is injected. The injection port 52 can be, for example, an annular slit. From the injection port 52 of the drawing-in part 15, the air 25 is injected at high speed. When the air 25 flows at a high speed, the space in which the air 25 flows becomes negative pressure, and the air 21 blown out from the first blowing unit 13 is drawn into the space. As a result, the air blown out from the first blowing section 13 is drawn into the duct 14. That is, the air blown out from the first blowing portion 13 is drawn into the duct 14 by the Bernoulli effect caused by the air jetted from the jet port 52 at a high speed.
更に、引き込み部１５は、噴射口５２から噴射されたエアー２５をコアンダ効果によってダクト１４の中に誘導する誘導面５３を有しうる。噴射口５２から噴射されたエアー２５の方向をダクト１４に向かう方向に変更することにより、第１吹き出し部１３から吹き出されたエアー２１をダクト１４の中に引き込む効果が高められうる。ここで、ベルヌーイ効果に加えてコアンダ効果が得られる場合、即ち誘導面５３が設けられた場合、例えば、引き込み部１５へのエアーの供給量の２０〜３０倍のエアー２１がダクト１４の中に引き込まれうる。誘導面５３が設けられない場合には、噴射口５２は、ダクト１４の方向に向けてエアー２１を噴射するように構成されうる。ノズル５１は、ダクト１４へのエアーの流路を取り囲む管形状部を有し、噴射口５２は、管形状部の内側に設けられうる。管形状部は、例えば、リング状または矩形枠状でありうる。 Further, the lead-in portion 15 can have a guide surface 53 that guides the air 25 injected from the injection port 52 into the duct 14 by the Coanda effect. By changing the direction of the air 25 injected from the injection port 52 to the direction toward the duct 14, the effect of drawing the air 21 blown out from the first blowing portion 13 into the duct 14 can be enhanced. Here, when the Coanda effect is obtained in addition to the Bernoulli effect, that is, when the guide surface 53 is provided, for example, the air 21 that is 20 to 30 times the supply amount of the air to the drawing-in portion 15 enters the duct 14. Can be drawn. When the guide surface 53 is not provided, the injection port 52 can be configured to inject the air 21 toward the duct 14. The nozzle 51 has a tube-shaped portion surrounding the air flow path to the duct 14, and the injection port 52 can be provided inside the tube-shaped portion. The tube-shaped portion can be, for example, a ring shape or a rectangular frame shape.
不図示のエアー供給源、または、該エアー供給源から引き込み部１５へのエアーの供給経路１８には、引き込み部１５に供給されるエアーの温度を調整する温度調整部１９が設けられうる。温度調整部１９は、例えば、冷媒によってエアーを冷却し、その後にヒータで該エアーを目標温度まで加熱するように構成されうる。温度調整部１９は、あるいは、温度が調整された空間の中に管路を配置し、該管路を通るエアーを当該空間の温度に一致させる方式でエアーの温度を調整してもよい。 An air supply source (not shown) or an air supply path 18 from the air supply source to the drawing section 15 may be provided with a temperature adjusting section 19 that adjusts the temperature of the air supplied to the drawing section 15. The temperature adjustment unit 19 can be configured to cool the air with a refrigerant and then heat the air to a target temperature with a heater, for example. Alternatively, the temperature adjusting unit 19 may adjust the temperature of the air by arranging a pipe line in the temperature-adjusted space and matching the air passing through the pipe line with the temperature of the space.
ダクト１４の中には、噴射口５２から噴射されたエアー２５と第１吹き出し部１３から吹き出されたエアー２１とを混合する混合部１６が配置されうる。混合部１６は、噴射口５２から噴射されたエアー２５と第１吹き出し部１３から吹き出されたエアー２１とを混合して温度ムラを低減するために有用である。混合部１６は、例えば、１又は複数のファンを含みうる。当該ファンは、ダクト１４の中を流れるエアーの流速を高めるために有用である。 In the duct 14, a mixing unit 16 that mixes the air 25 ejected from the ejection port 52 and the air 21 blown out from the first blowing unit 13 may be disposed. The mixing unit 16 is useful for reducing temperature unevenness by mixing the air 25 ejected from the ejection port 52 and the air 21 blown out from the first blowing unit 13. The mixing unit 16 can include, for example, one or a plurality of fans. The fan is useful for increasing the flow velocity of air flowing through the duct 14.
第１吹き出し部１３から吹き出されたエアーがダクト１４の中に引き込まれる量は、引き込み部１５へのエアーの供給量よりも十分に多い。したがって、圧縮されたエアーが噴射口５２から噴射されることによる断熱膨張による温度低下がダクト１４を通るエアーの全体に対して与える影響は限定的である。しかしながら、混合部１６を設けることによって僅かな温度分布も低減され、光路１１の温度をより高精度に制御することができる。混合部１６は、例えば、パンチングメタル等の抵抗体、しきり板または網などであってもよい。 The amount of air blown out from the first blowing portion 13 is drawn into the duct 14 is sufficiently larger than the amount of air supplied to the drawing portion 15. Therefore, the influence of the temperature drop due to the adiabatic expansion caused by the compressed air being injected from the injection port 52 on the entire air passing through the duct 14 is limited. However, by providing the mixing unit 16, a slight temperature distribution is also reduced, and the temperature of the optical path 11 can be controlled with higher accuracy. The mixing unit 16 may be, for example, a resistor such as punching metal, a threshold plate, or a net.
ダクト１４は、その中を流れるエアーをレーザ干渉計１０の光路１１に向けて吹き出すための第２吹き出し部１７を有し、第２吹き出し部１７を通して吹き出されるエアーによって光路１１における温度が調整される。第２吹き出し部１７は、例えば、パンチングメタル、メッシュまたは多孔質体などで構成され、複数の孔を有する。複数の孔の配置密度(単位面積当たりの個数）および／または面積は、第２吹き出し部１７から吹き出されるエアーが均一になるように調整されうる。 The duct 14 has a second blowout part 17 for blowing out the air flowing through it toward the optical path 11 of the laser interferometer 10, and the temperature in the optical path 11 is adjusted by the air blown through the second blowout part 17. The The second blowing portion 17 is made of, for example, a punching metal, a mesh, or a porous body, and has a plurality of holes. The arrangement density (number per unit area) and / or area of the plurality of holes can be adjusted so that the air blown out from the second blowing portion 17 is uniform.
以上のように、露光装置１００は、レーザ干渉計１０の光路１１に沿って配置されたダクト１４と、第１吹き出し部１３から吹き出されたエアーをベルヌーイ効果によってダクト１４の中に引き込む引き込み部１５とを備える。ダクト１４に引き込まれたエアーは、ダクト１４に設けられた第２吹き出し部１７から光路１１に向けて吹き出される。これにより、光路１１の温度を高精度に調整することができる。これにより、基板ステージ８の位置を高い精度に測定することができる。これは、基板９に対する原版６のパターンの位置合わせ精度を向上させるために有利である。 As described above, the exposure apparatus 100 includes the duct 14 arranged along the optical path 11 of the laser interferometer 10 and the drawing unit 15 that draws the air blown from the first blowing unit 13 into the duct 14 by the Bernoulli effect. With. The air drawn into the duct 14 is blown out toward the optical path 11 from the second blowing part 17 provided in the duct 14. Thereby, the temperature of the optical path 11 can be adjusted with high accuracy. Thereby, the position of the substrate stage 8 can be measured with high accuracy. This is advantageous for improving the alignment accuracy of the pattern of the original 6 with respect to the substrate 9.
また、第１吹き出し部１３からダクト１４を分離して配置することにより、空調機械室３から振動が伝達されやすい第１吹き出し部１３からダクト１４への振動伝達を抑えることができる。これにより、投影光学系７などの構成要素の振動を低減することができる。投影光学系７などの構成要素の振動の低減は、基板９へのパターンの転写精度の向上に有利である。 In addition, by disposing the duct 14 separately from the first blowing portion 13, it is possible to suppress vibration transmission from the first blowing portion 13 to the duct 14 where vibration is easily transmitted from the air conditioning machine room 3. Thereby, the vibration of components, such as the projection optical system 7, can be reduced. Reduction of vibration of components such as the projection optical system 7 is advantageous for improving the accuracy of pattern transfer onto the substrate 9.
以下、図４を参照しながら本発明の第２実施形態を説明する。なお、第２実施形態として言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。ダクト１４の入口から遠い部分では、エアーの流速が低下しうる。特に、露光装置１００が液晶表示装置などの表示装置を製造するための露光装置として構成される場合には、基板９のサイズが大きく、光路１１が長くなるので、エアーの流速の低下が大きくなりうる。そこで、第２実施形態の露光装置１００は、ダクト１４の中を流れるエアーの流速を高めるようにダクト１４の中に配置された１又は複数の流速制御部２２を備えている。 Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that matters not mentioned in the second embodiment can follow the first embodiment. In a portion far from the entrance of the duct 14, the air flow rate can be reduced. In particular, when the exposure apparatus 100 is configured as an exposure apparatus for manufacturing a display device such as a liquid crystal display device, the size of the substrate 9 is large and the optical path 11 is long, so the air flow rate is greatly reduced. sell. Therefore, the exposure apparatus 100 according to the second embodiment includes one or a plurality of flow rate control units 22 arranged in the duct 14 so as to increase the flow rate of the air flowing in the duct 14.
流速制御部２２は、例えば、引き込み部１５と同様の構成を有しうる。図４に示す例では、流速制御部２２は、引き込み部１５と同様の構成を有し、流速制御部２２には、供給経路１８と通してエアーが供給されうる。流速制御部２２は、例えばファンを含んでもよく、第１実施形態における混合部１６の一例としてのファンは、流速制御部２２としても機能しうる。 The flow rate control unit 22 may have the same configuration as that of the pull-in unit 15, for example. In the example shown in FIG. 4, the flow rate control unit 22 has the same configuration as the drawing unit 15, and air can be supplied to the flow rate control unit 22 through the supply path 18. The flow rate control unit 22 may include a fan, for example, and the fan as an example of the mixing unit 16 in the first embodiment may function as the flow rate control unit 22.
流速制御部２２を設けることにより、ダクト１４の入口から遠い部分からレーザ干渉計１０の光路１１に吹き出されるエアーの流量を高め、光路１１の全体にわたるエアーの供給量の不均一性を低減することができる。 By providing the flow velocity control unit 22, the flow rate of air blown from the portion far from the entrance of the duct 14 to the optical path 11 of the laser interferometer 10 is increased, and the nonuniformity of the air supply amount over the entire optical path 11 is reduced. be able to.
以下、図５を参照しながら本発明の第３実施形態を説明する。なお、第３実施形態として言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。ダクト１４の入口から遠い部分では、エアーの圧力が低下しうる。特に、露光装置１００が液晶表示装置などの表示装置を製造するための露光装置として構成される場合には、基板９のサイズが大きく、光路１１が長くなるので、エアーの圧力の低下が大きくなりうる。そこで、第３実施形態の露光装置１００は、ダクト１４の中における圧力の分布を制御する１又は複数の圧力制御部２３を備えている。 Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that matters not mentioned in the third embodiment can follow the first embodiment. In a portion far from the entrance of the duct 14, the air pressure can be reduced. In particular, when the exposure apparatus 100 is configured as an exposure apparatus for manufacturing a display device such as a liquid crystal display device, the size of the substrate 9 is large and the optical path 11 is long, so that the air pressure is greatly reduced. sell. Therefore, the exposure apparatus 100 according to the third embodiment includes one or a plurality of pressure control units 23 that control the pressure distribution in the duct 14.
圧力制御部２３は、例えば、ダクト１４の中に回動可能に配置された回動部材を含みうる。回動部材は、ダクト１４の中を流れるエアーから受ける力によって回動する。ダクト１４の中の流路の断面積（流路抵抗）は、回動部材の回動量によって定まる。回動部材の回動量が大きくなると、流路の断面積が大きくなり、これによりダクト１４の中を流れるエアーの圧力が低くなる。逆に、回動部材の回動量が小さくなると、流路の断面積が小さくなり、これによりダクト１４の中を流れるエアーの圧力が高められる。つまり、ダクト１４に引き込まれるエアーの量が多いと、回動部材の回動量が大きくなり、これによりダクト１４の中を流れるエアーの圧力が低くなる。逆に、ダクト１４に引き込まれるエアーの量が少ないと、回動部材の回動量が小さくなり、これによりダクト１４の中を流れるエアーの圧力が高くなる。したがって、圧力制御部２３としての回転部材は、ダクト１４に引き込まれるエアーの量の変化によるダクト１４の中を流れるエアーの圧力の変化を低減するように作用する。これにより、第２吹き出し部１７から吹き出されるエアーの量の変化が低減される。 The pressure control unit 23 can include, for example, a rotation member that is rotatably disposed in the duct 14. The rotating member is rotated by the force received from the air flowing through the duct 14. The cross-sectional area (flow path resistance) of the flow path in the duct 14 is determined by the rotation amount of the rotation member. As the amount of rotation of the rotating member increases, the cross-sectional area of the flow path increases, thereby reducing the pressure of air flowing through the duct 14. Conversely, when the amount of rotation of the rotating member is reduced, the cross-sectional area of the flow path is reduced, thereby increasing the pressure of the air flowing through the duct 14. In other words, when the amount of air drawn into the duct 14 is large, the amount of rotation of the rotating member increases, thereby reducing the pressure of the air flowing through the duct 14. On the other hand, when the amount of air drawn into the duct 14 is small, the amount of rotation of the rotating member becomes small, thereby increasing the pressure of the air flowing through the duct 14. Accordingly, the rotating member as the pressure control unit 23 acts to reduce the change in the pressure of the air flowing through the duct 14 due to the change in the amount of air drawn into the duct 14. Thereby, the change in the amount of air blown out from the second blowing unit 17 is reduced.
複数の回転部材（圧力制御部２３）をダクト１４の中に流路に沿って配置した場合、それらは、ダクト１４の中のエアーの圧力を均一化するように作用する。 When a plurality of rotating members (pressure control unit 23) are arranged in the duct 14 along the flow path, they act so as to equalize the pressure of air in the duct 14.
レーザ干渉計１０の光路１１の長さは、基板ステージ８の移動に応じて変化する。そこで、光路１１の長さの変化、即ち基板ステージ８の移動に応じて、ダクト１４に引き込まれるエアーの量を変化させてもよい。これは、流量制御部２４を設けて、引き込み部１５に供給されるエアーの流量を流量制御部２４によって制御することによって行われうる。ここで、引き込み部１５に供給されるエアーの流量を変化させることは、引き込み部１５の噴射口５２から噴射されるエアーの流量を変化させることと等価である。引き込み部１５によってダクト１４に引き込まれるエアーの量は、引き込み部１５の噴射口５２から噴射されるエアーの流量に依存する。 The length of the optical path 11 of the laser interferometer 10 changes according to the movement of the substrate stage 8. Therefore, the amount of air drawn into the duct 14 may be changed according to the change in the length of the optical path 11, that is, the movement of the substrate stage 8. This can be performed by providing the flow rate control unit 24 and controlling the flow rate of the air supplied to the drawing unit 15 by the flow rate control unit 24. Here, changing the flow rate of the air supplied to the drawing-in portion 15 is equivalent to changing the flow rate of the air injected from the injection port 52 of the drawing-in portion 15. The amount of air drawn into the duct 14 by the drawing portion 15 depends on the flow rate of air injected from the injection port 52 of the drawing portion 15.
流量制御部２４は、光路１１の長さが短くなるときは、引き込み部１５に供給されるエアーの流量を低下させ、光路１１の長さが長くなるときは、引き込み部１５に供給されるエアーの流量を増加させる。なお、ダクト１４の入口側がレーザ干渉計１０の側に配置される。流量制御部２４は、例えば、供給経路１８の途中に配置された電磁弁を含みうる。 The flow rate control unit 24 reduces the flow rate of air supplied to the drawing unit 15 when the length of the optical path 11 becomes short, and the air supplied to the drawing unit 15 when the length of the optical path 11 becomes long. Increase the flow rate. The inlet side of the duct 14 is disposed on the laser interferometer 10 side. The flow rate control unit 24 may include, for example, an electromagnetic valve disposed in the middle of the supply path 18.
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶デバイス等のデバイスの製造に好適である。前記方法は、感光剤が塗布された基板を、上記の露光装置を用いて露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、前記デバイス製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。 The device manufacturing method according to a preferred embodiment of the present invention is suitable for manufacturing a device such as a semiconductor device or a liquid crystal device. The method may include a step of exposing a substrate coated with a photosensitive agent using the above exposure apparatus, and a step of developing the exposed substrate. Furthermore, the device manufacturing method may include other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like).
Claims (11)
前記基板を保持する基板ステージと、
前記基板ステージの位置を測定するレーザ干渉計と、
エアーを吹き出す第１吹き出し部と、
前記レーザ干渉計の光路に沿って配置されたダクトと、
エアーを噴射し、該エアーによるベルヌーイ効果によって、前記第１吹き出し部から吹き出されたエアーを前記ダクトの中に引き込む引き込み部と、を備え、
前記ダクトは、前記ダクトの中を流れるエアーを前記光路に向けて吹き出すための第２吹き出し部を有し、前記第２吹き出し部から吹き出されるエアーによって前記光路における温度が調整される、
ことを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus for transferring an original pattern to a substrate,
A substrate stage for holding the substrate;
A laser interferometer for measuring the position of the substrate stage;
A first blowing section for blowing out air;
A duct disposed along the optical path of the laser interferometer;
Injecting air, and by a Bernoulli effect by the air, with a drawing portion that draws air blown from the first blowing portion into the duct,
The duct has a second blowing part for blowing out air flowing in the duct toward the optical path, and the temperature in the optical path is adjusted by the air blown from the second blowing part.
An exposure apparatus characterized by that.
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 The lead-in portion includes an injection port for injecting air and a guide surface for guiding the air injected from the injection port into the duct by the Coanda effect, and by the Bernoulli effect by the air injected from the injection port The exposure apparatus according to claim 1, wherein the air blown from the first blowing section is drawn into the duct.
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。 A temperature adjusting unit for adjusting the temperature of the air supplied to the drawing-in unit;
The exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。 A mixing unit that mixes the air jetted from the drawing-in part and the air blown out from the blowing part in the duct;
The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein
ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。 The mixing unit includes a fan,
The exposure apparatus according to claim 4, wherein:
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。 A flow rate controller disposed in the duct so as to increase a flow rate of air flowing in the duct;
The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein
ことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。 The flow rate control unit injects air, and by the Bernoulli effect by the air, increases the flow rate of air flowing through the duct,
The exposure apparatus according to claim 6.
ことを特徴とする、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。 A pressure control unit for controlling the distribution of air pressure in the duct;
It is characterized by
The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 7.
ことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。 The pressure control unit includes a rotating member that is rotatably arranged in the duct, and the rotating member is rotated by a force received from air flowing in the duct.
The exposure apparatus according to claim 8, wherein:
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。 A flow rate control unit for controlling the flow rate of air supplied to the blowing unit;
The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置によって基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 A device manufacturing method for manufacturing a device, comprising:
A step of exposing a substrate by the exposure apparatus according to claim 1;
Developing the substrate;
A device manufacturing method comprising:
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