JP2013157407A - 化合物半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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-
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Abstract
【解決手段】電子走行層103の上方に形成された電子供給層104と、電子供給層104の上方に形成された2次元電子ガス抑制層105と、が設けられている。2次元電子ガス抑制層105及び電子走行層103の上方に形成された絶縁膜107と、絶縁膜107の上方に形成されたゲート電極108gと、が設けられている。ゲート電極108gは、2次元電子ガス抑制層105に電気的に接続されている。
【選択図】図1
Description
先ず、第1の実施形態について説明する。図1は、第1の実施形態に係る化合物半導体装置の構造を示す断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。図9は、第2の実施形態に係る半導体装置の構造を示す図である。
次に、第3の実施形態について説明する。第3の実施形態は、電界集中を第2の実施形態よりも緩和することができる実施形態である。
次に、第4の実施形態について説明する。図15は、第4の実施形態に係る化合物半導体装置の構造を示す断面図である。
次に、第5の実施形態について説明する。第5の実施形態は、GaN系HEMTを含む化合物半導体装置のディスクリートパッケージに関する。図16は、第5の実施形態に係るディスクリートパッケージを示す図である。
次に、第6の実施形態について説明する。第6の実施形態は、GaN系HEMTを含む化合物半導体装置を備えたPFC(Power Factor Correction)回路に関する。図17は、第6の実施形態に係るPFC回路を示す結線図である。
次に、第7の実施形態について説明する。第7の実施形態は、GaN系HEMTを含む化合物半導体装置を備えた電源装置に関する。図18は、第7の実施形態に係る電源装置を示す結線図である。
次に、第8の実施形態について説明する。第8の実施形態は、GaN系HEMTを含む化合物半導体装置を備えた高周波増幅器に関する。図19は、第8の実施形態に係る高周波増幅器を示す結線図である。
電子走行層と、
前記電子走行層の上方に形成された電子供給層と、
前記電子供給層の上方に形成された2次元電子ガス抑制層と、
前記2次元電子ガス抑制層及び前記電子走行層の上方に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の上方に形成されたゲート電極と、
を有し、
前記ゲート電極は、前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続されていることを特徴とする化合物半導体装置。
前記電子供給層の上方で、平面視で前記2次元電子ガス抑制層を間に挟む位置に形成されたソース電極及びドレイン電極を有し、
前記ゲート電極は、当該ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分よりも前記ソース電極側において前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続されていることを特徴とする付記1に記載の化合物半導体装置。
前記電子走行層はGaN層であり、
前記電子供給層はAlGaN層であり、
前記2次元電子ガス抑制層はp型GaN層であることを特徴とする付記1又は2に記載の化合物半導体装置。
前記AlGaN層の厚さは5nm以上40nm以下であり、
前記AlGaN層のAl組成は15%以上40%未満であることを特徴とする付記3に記載の化合物半導体装置。
前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に位置し、前記ソース電極に電気的に接続されたフィールドプレートを有することを特徴とする付記2乃至4のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
前記フィールドプレートと前記電子供給層との間の厚さ方向の距離は、前記ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分と前記2次元電子ガス抑制層との間の厚さ方向の距離より短いことを特徴とする付記5に記載の化合物半導体装置。
前記フィールドプレートの下方において、前記電子供給層の表面にリセスが形成されていることを特徴とする付記5又は6に記載の化合物半導体装置。
前記ソース電極と前記ドレイン電極とを結ぶ直線上において、前記ゲート電極は前記2次元電子ガス抑制層の全体を覆っていることを特徴とする付記2乃至7のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
前記絶縁膜の厚さは20nm以上500nm以下であることを特徴とする付記1乃至8のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
付記1乃至9のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする電源装置。
付記1乃至9のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする高出力増幅器。
電子走行層の上方に電子供給層を形成する工程と、
前記電子供給層の上方に2次元電子ガス抑制層を形成する工程と、
前記2次元電子ガス抑制層及び前記電子走行層の上方に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の上方にゲート電極を形成する工程と、
を有し、
前記ゲート電極を、前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続することを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。
前記電子供給層の上方で、平面視で前記2次元電子ガス抑制層を間に挟む位置にソース電極及びドレイン電極を形成する工程を有し、
前記ゲート電極を、当該ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分よりも前記ソース電極側において前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続することを特徴とする付記12に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極を形成する工程は、
前記絶縁膜に前記2次元電子ガス抑制層の一部を露出する開口部を形成する工程と、
前記開口部を介して前記2次元電子ガス抑制層に接する導電膜を形成する工程と、
前記導電膜を、少なくとも一部が、前記2次元電子ガス抑制層と接する面よりも前記ドレイン電極側において前記絶縁膜上に位置するようにパターニングする工程と、
を有することを特徴とする付記13に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記電子走行層はGaN層であり、
前記電子供給層はAlGaN層であり、
前記2次元電子ガス抑制層はp型GaN層であることを特徴とする付記12乃至14のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記AlGaN層の厚さを5nm以上40nm以下とし、
前記AlGaN層のAl組成を15%以上40%未満とすることを特徴とする付記15に記載の化合物半導体装置の製造方法。
平面視で前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に、前記ソース電極に電気的に接続されるフィールドプレートを形成する工程を有することを特徴とする付記13乃至16のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記フィールドプレートと前記電子供給層との間の厚さ方向の距離を、前記ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分と前記2次元電子ガス抑制層との厚さ方向の距離より短くすることを特徴とする付記17に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記フィールドプレートを形成する工程の前に、
前記絶縁膜に第2の開口部を形成する工程と、
前記第2の開口部内に前記絶縁膜よりも薄い第2の絶縁膜を形成する工程と、
を有し、
前記フィールドプレートを前記第2の絶縁膜上に形成することを特徴とする付記18に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記第2の開口部を形成する工程と前記第2の絶縁膜を形成する工程との間に、前記電子供給層の前記第2の開口部から露出している表面にリセスを形成する工程を有することを特徴とする付記19に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極を、前記ソース電極と前記ドレイン電極とを結ぶ直線上において、前記2次元電子ガス抑制層の全体を覆うように形成することを特徴とする付記13乃至20のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記絶縁膜の厚さを20nm以上500nm以下とすることを特徴とする付記12乃至21のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
104:電子供給層
105:2次元電子ガス(2DEG)抑制層
108g:ゲート電極
112s:ソース電極
112d:ドレイン電極
107:保護膜
118:MIS形成部
119:接触面
121:フィールドプレート
131:リセス
132:絶縁膜
Claims (22)
- 電子走行層と、
前記電子走行層の上方に形成された電子供給層と、
前記電子供給層の上方に形成された2次元電子ガス抑制層と、
前記2次元電子ガス抑制層及び前記電子走行層の上方に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の上方に形成されたゲート電極と、
を有し、
前記ゲート電極は、前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続されていることを特徴とする化合物半導体装置。 - 前記電子供給層の上方で、平面視で前記2次元電子ガス抑制層を間に挟む位置に形成されたソース電極及びドレイン電極を有し、
前記ゲート電極は、当該ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分よりも前記ソース電極側において前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体装置。 - 前記電子走行層はGaN層であり、
前記電子供給層はAlGaN層であり、
前記2次元電子ガス抑制層はp型GaN層であることを特徴とする請求項1又は2に記載の化合物半導体装置。 - 前記AlGaN層の厚さは5nm以上40nm以下であり、
前記AlGaN層のAl組成は15%以上40%未満であることを特徴とする請求項3に記載の化合物半導体装置。 - 前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に位置し、前記ソース電極に電気的に接続されたフィールドプレートを有することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
- 前記フィールドプレートと前記電子供給層との間の厚さ方向の距離は、前記ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分と前記2次元電子ガス抑制層との間の厚さ方向の距離より短いことを特徴とする請求項5に記載の化合物半導体装置。
- 前記フィールドプレートの下方において、前記電子供給層の表面にリセスが形成されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の化合物半導体装置。
- 前記ソース電極と前記ドレイン電極とを結ぶ直線上において、前記ゲート電極は前記2次元電子ガス抑制層の全体を覆っていることを特徴とする請求項2乃至7のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
- 前記絶縁膜の厚さは20nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の化合物半導体装置。
- 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする電源装置。
- 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の化合物半導体装置を有することを特徴とする高出力増幅器。
- 電子走行層の上方に電子供給層を形成する工程と、
前記電子供給層の上方に2次元電子ガス抑制層を形成する工程と、
前記2次元電子ガス抑制層及び前記電子走行層の上方に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の上方にゲート電極を形成する工程と、
を有し、
前記ゲート電極を、前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続することを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。 - 前記電子供給層の上方で、平面視で前記2次元電子ガス抑制層を間に挟む位置にソース電極及びドレイン電極を形成する工程を有し、
前記ゲート電極を、当該ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分よりも前記ソース電極側において前記2次元電子ガス抑制層に電気的に接続することを特徴とする請求項12に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極を形成する工程は、
前記絶縁膜に前記2次元電子ガス抑制層の一部を露出する開口部を形成する工程と、
前記開口部を介して前記2次元電子ガス抑制層に接する導電膜を形成する工程と、
前記導電膜を、少なくとも一部が、前記2次元電子ガス抑制層と接する面よりも前記ドレイン電極側において前記絶縁膜上に位置するようにパターニングする工程と、
を有することを特徴とする請求項13に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記電子走行層はGaN層であり、
前記電子供給層はAlGaN層であり、
前記2次元電子ガス抑制層はp型GaN層であることを特徴とする請求項12乃至14のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記AlGaN層の厚さを5nm以上40nm以下とし、
前記AlGaN層のAl組成を15%以上40%未満とすることを特徴とする請求項15に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 平面視で前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に、前記ソース電極に電気的に接続されるフィールドプレートを形成する工程を有することを特徴とする請求項13乃至16のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記フィールドプレートと前記電子供給層との間の厚さ方向の距離を、前記ゲート電極の前記絶縁膜上に位置する部分と前記2次元電子ガス抑制層との厚さ方向の距離より短くすることを特徴とする請求項17に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記フィールドプレートを形成する工程の前に、
前記絶縁膜に第2の開口部を形成する工程と、
前記第2の開口部内に前記絶縁膜よりも薄い第2の絶縁膜を形成する工程と、
を有し、
前記フィールドプレートを前記第2の絶縁膜上に形成することを特徴とする請求項18に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記第2の開口部を形成する工程と前記第2の絶縁膜を形成する工程との間に、前記電子供給層の前記第2の開口部から露出している表面にリセスを形成する工程を有することを特徴とする請求項19に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート電極を、前記ソース電極と前記ドレイン電極とを結ぶ直線上において、前記2次元電子ガス抑制層の全体を覆うように形成することを特徴とする請求項13乃至20のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁膜の厚さを20nm以上500nm以下とすることを特徴とする請求項12乃至21のいずれか1項に記載の化合物半導体装置の製造方法。
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