JP2013134350A - メタマテリアルの製造方法およびメタマテリアル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電磁波に対して共振する電磁波共振体を備えるメタマテリアルの製造方法であって、(a)ナノインプリント法またはフォトリソグラフィー法により、電磁波共振体が形成される部分を有する支持体を形成するステップと、(b)前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を蒸着し、前記支持体に前記電磁波共振体を配置するステップと、を含む、メタマテリアルの製造方法。
【選択図】図1
Description
(a)ナノインプリント法またはフォトリソグラフィー法により、電磁波共振体が形成される部分を有する支持体を形成するステップと、
(b)前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を蒸着し、前記支持体に前記電磁波共振体を配置するステップと、
を含む、メタマテリアルの製造方法が提供される。
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成されても良い。
(b1)前記支持体の前記部分に第1の誘電体を蒸着するステップと、
(b2)前記(b1)ステップの後、前記支持体の前記部分に、導電性材料および/または第2の誘電体を蒸着するステップと、
を有しても良い。
あるいは、前記(b)のステップは、
(b3)前記支持体の前記部分に金属膜を蒸着するステップと、
(b4)前記金属膜上に、グラフェン膜を蒸着するステップと、
を有しても良い。
(b5)前記グラフェン膜を有する前記支持体を、前記グラフェン膜のある側が内側となるようにして、第2の支持体と一体化させるステップと、
(b6)前記支持体および前記金属膜を選択的に除去して、前記グラフェン膜を有する第2の支持体を得るステップと、
を有しても良い。
(c)前記支持体を液体中に選択的に溶解させるステップと、
(d)前記電磁波共振体が誘電体マトリクス中に分散された状態のメタマテリアルを形成するステップと、
を有しても良い。
(e)前記支持体に配置された前記電磁波共振体を、粘着性を有する材料に転写させるステップ、
を有しても良い。
(f)前記電磁波共振体が転写された前記粘着性を有する材料を、前記電磁波共振体が積層方向に揃うようにして積層するステップ、
を有しても良い。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各突起に、二つの端部を有する略逆U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアルが提供される。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記複数の凸状部を構成する各突起は、水平方向の断面が略C字型となるように形成され、略C字型の上部と、略角柱状の側部とを有し、
前記電磁波共振体は、前記突起の前記上部と前記側部の少なくとも一部とに形成されており、
前記側部の一つの面および該面と反対側の面において、前記電磁波共振体の高さ方向の寸法は異なることを特徴とするメタマテリアルが提供される。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つの突起は、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つの突起に配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアルが提供される。
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各くぼみに、二つの端部を有する略U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアルが提供される。
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つのくぼみは、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つのくぼみに配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアルが提供される。
(a)ナノインプリント法またはフォトリソグラフィー法により、電磁波共振体が形成される部分を有する支持体を形成するステップと、
(b)前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を蒸着し、前記支持体に前記電磁波共振体を配置するステップと、
を含む、メタマテリアルの製造方法が提供される。
(c)電磁波共振体を有する支持体を液体中に選択的に溶解させるステップ、および
(d)残った電磁波共振体を後に透明な誘電体となる液体中に分散させ、該液体を固化させることにより、電磁波共振体を誘電体マトリクス中に分散させるステップ、
を実施した場合、電磁波共振体がマトリクス中に無秩序に分散されたメタマテリアルを得ることができる。
(e)支持体に配置された電磁波共振体を、粘着性を有する材料に転写させるステップ、および必要な場合、これに加えて、
(f)電磁波共振体が転写された粘着性を有する材料を、電磁波共振体が積層方向に揃うようにして積層するステップ、
を実施しても良い。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各突起に、二つの端部を有する略逆U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアル。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記複数の凸状部を構成する各突起は、水平方向の断面が略C字型となるように形成され、略C字型の上部と、略角柱状の側部とを有し、
前記電磁波共振体は、前記突起の前記上部と前記側部の少なくとも一部とに形成されており、
前記側部の一つの面および該面と反対側の面において、前記電磁波共振体の高さ方向の寸法は異なることを特徴とするメタマテリアル。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つの突起は、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つの突起に配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアル。
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各くぼみに、二つの端部を有する略U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアル。
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つのくぼみは、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つのくぼみに配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアル。
図1には、本発明の第一の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法を説明する図を示す。図1(a)は、本発明の第一の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における支持体を説明する図である。図1(b)は、本発明の第一の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法におけるメタマテリアルを説明する図である。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各突起に、二つの端部を有する略逆U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアル。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記複数の凸状部を構成する各突起は、水平方向の断面が略C字型となるように形成され、略C字型の上部と、略角柱状の側部とを有し、
前記電磁波共振体は、前記突起の前記上部と前記側部の少なくとも一部とに形成されており、
前記側部の一つの面および該面と反対側の面において、前記電磁波共振体の高さ方向の寸法は異なることを特徴とするメタマテリアル。
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つの突起は、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つの突起に配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアル。
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各くぼみに、二つの端部を有する略U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアル。
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つのくぼみは、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つのくぼみに配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアル。
図3(a)〜(b)は、本発明の第二の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法を説明する図である。図3(a)は、本発明の第一の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法におけるメタマテリアルを製造する装置を示す図である。図3(b)は、本発明の第一の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法において製造されるメタマテリアルを示す図である。
図4は、本発明の第三の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法を説明する図である。
図5(a)〜(b)は、本発明の第四の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法を説明する図である。図5(a)は、本発明の第四の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法の第一のステップを示す図である。図5(b)は、本発明の第四の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法の第二のステップを示す図である。図5(b)に示すように、電磁波共振体を支持体から分離してもよい。分離の際は、液体中で行っても良い。
図6(a)〜(d)は、本発明の第五の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法を説明する図である。図6(a)は、本発明の第五の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における支持体を説明する図である。図6(b)は、本発明の第五の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における第一のステップを説明する図である。図6(c)は、本発明の第五の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における第二のステップを説明する図である。図6(d)は、本発明の第五の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における電磁波共振体を説明する図である。
図7(a)〜(e)は、本発明の第六の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法を説明する図である。図7(a)は、本発明の第六の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における支持体を説明する図である。図7(b)は、本発明の第六の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における第一のステップを説明する図である。図7(c)は、本発明の第六の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における第二のステップを説明する図である。図7(d)は、本発明の第六の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法における第三のステップを説明する図である。図7(e)は、本発明の第六の実施形態に係るメタマテリアルを製造する方法におけるメタマテリアルを説明する図である。
以下の方法で、メタマテリアルを作製した。
次に示す手順で、電磁波共振体がグラフェンで形成されたメタマテリアルを製造した。
まず、表面に転写パターンを有するモールドと、縦20mm×横20mm×厚さ0.5mmの石英ガラス基板とを準備した。
次に、モールド160のパターン面162に、フッ素系UV光硬化樹脂(旭硝子株式会社製 NIF−A−2)を約2μmの厚さで塗布し、ナノインプリント装置を用いて、石英ガラス基板の5mm×5mmの領域に対して、モールド160を押し当てた。フッ素系UV光硬化樹脂が硬化した後、モールド160を取り外すことで、石英ガラス基板に、図16に示した凹凸パターンとは逆の凹凸パターンを有する、UV光硬化樹脂で構成された突起構造を転写した。その後、酸素プラズマアッシング法により、石英ガラス基板のパターン形成面の、底面部分に付着した不要膜を除去し、突起のみを残留させた。
次に、スッパタ装置を用いて、石英ガラス基板のパターン面に、金属ニッケル膜を成膜した。スッパタリングは、石英ガラス基板のパターン面に対して垂直な方向から実施した。このため、金属ニッケル膜は、突起の上面と、石英ガラス基板の突起のない表面とに成膜された。
次に、石英ガラス基板170の表面172に対して、異なる斜めの2方向からアルミニウムの蒸着を行った。これにより、各ピラー175に対して、アルミニウムを逆U字型に蒸着した。
次に、メタン、アルゴンおよび水素の混合ガスを用いて、CVD法により、各ピラー175に対して、グラフェン膜を成膜した。各ガスの流量は、メタン27SCCM、アルゴン18SCCM、水素9SCCMとした。また、成膜圧力は3Paとし、成膜温度は320℃とし、成膜時間は200秒とした。これにより、各ピラー175のアルミニウム膜上に、グラフェン膜が成膜された。
次に、得られた石英ガラス基板のパターン面に、エポキシ樹脂系UV光硬化樹脂(セメダイン社 エクセルエポ・透明タイプ)を約30μmの厚さで塗布し、その上から、撥液処理を行った第2の石英ガラス基板を押し付けた。さらに、フッ素系UV光硬化樹脂を紫外線により硬化させた。その後、第2の石英ガラス基板を取り外すことにより、アルミニウム膜およびグラフェン膜を有する石英ガラス基板と、フッ素系UV光硬化樹脂とからなる組立体を得た。
次に、5%のフッ化水素水溶液に組立体を浸漬させ、石英ガラス基板およびアルミニウム膜を選択的に溶解させることにより、グラフェン膜の凹パターンを有するフッ素系UV光硬化樹脂(メタマテリアル)を作製した。
次に示す手順で、電磁波共振体がグラフェンで形成されたメタマテリアルを製造した。
まず、表面に転写パターンを有するモールドと、縦20mm×横20mm×厚さ0.5mmのシリコン基板とを準備した。モールドには、実施例2と同様のものを使用した。ただし、モールドのパターンには、図16に示すパターンにおいて、凹凸が反転したパターンを使用した。
次に、モールドのパターン面に、フッ素系UV光硬化樹脂(旭硝子株式会社製 NIF−A−2)を約3μmの厚さで塗布し、ナノインプリント装置を用いて、シリコン基板の5mm×5mmの領域に対して、モールドを押し当てた。フッ素系UV光硬化樹脂が硬化した後、モールドを取り外したところ、シリコン基板に突起構造が転写された。その後、酸素プラズマアッシング法により、シリコン基板のパターン形成面の、底面部分に付着した不要膜を除去し、硬化樹脂製の突起のみを残留させた。
次に、SF6をエッチングガスとして用い、硬化樹脂製の突起をマスクとして、RIE(Reactive Ionic Etching)装置により、シリコン基板に対してエッチングを行った。なお、このエッチング処理により、硬化樹脂製の突起自身もエッチングされる。ただし、そのエッチング速度は、シリコン基板の表面の硬化樹脂製の突起を有さない部分に比べて、有意に小さい。このため、シリコン基板の表面において、硬化樹脂製の突起を有さない部分が、硬化樹脂製の突起に比べて、より深くエッチングされた。エッチングは、硬化樹脂製の突起が完全に除去されるまで実施し、最終的に、シリコン基板に、縦100mm×横100mm×高さ350nmのピラーの配列からなるパターンが形成された。
次に、前述の実施例2の(第4工程)と同様の方法で、シリコン基板のパターン面にアルミニウムを蒸着した。すなわち、第1回目のアルミニウムの蒸着は、シリコン基板の厚み方向とのなす角度θ=約45゜となるようにして行った。また、第2回目のアルミニウムの蒸着は、シリコン基板の厚み方向とのなす角度θ=約−60゜となるようにして行った。これにより、各ピラーに、約30nmのアルミニウム膜が成膜された。このアルミニウム膜は、次に成膜するグラフェンに対する触媒として機能する。
次に、アセチレンガスとアルゴンの混合ガスを用いて、CVD法により、各ピラーに対して、グラフェン膜を成膜した。成膜圧力は1kPaとし、アセチレンガスの圧力は0.002Paとした。成膜温度は650℃とし、成膜時間は60秒とした。これにより、各ピラーのアルミニウム膜上に、グラフェン膜が成膜された。
次に、得られたシリコン基板のパターン面に、フッ素系UV光硬化樹脂(旭硝子株式会社製 NIF−A−2)を1mm以上の厚さで塗布し、その上から、撥液処理を行った石英ガラス基板を押し付けた。さらに、フッ素系UV光硬化樹脂を紫外線により硬化させた。その後、石英ガラス基板を取り外すことにより、アルミニウム膜およびグラフェン膜を有するシリコン基板と、フッ素系UV光硬化樹脂とからなる組立体を得た。
次に、5%のフッ化水素水溶液に組立体を浸漬させ、シリコン基板およびアルミニウム膜を選択的に溶解させることにより、グラフェン膜の凹状パターンを有するフッ素系UV光硬化樹脂(メタマテリアル)を作製した。
次に示す手順で、電磁波共振体がITOで形成されたメタマテリアルを製造した。
まず、表面に転写パターンを有するモールドと、縦20mm×横20mm×厚さ0.1mmのアルミノシリケートボロアルカリアースガラス(旭硝子株式会社製、EN−A1)シート(以下、「ガラスシート」と称する)とを準備した。モールドには、実施例2と同様のものを使用した。
次に、モールドのパターン面に、フッ素系UV光硬化樹脂(旭硝子株式会社製 NIF−A−2)を約3μmの厚さで塗布し、ナノインプリント装置を用いて、ガラスシートの5mm×5mmの領域に対して、モールドを押し当てた。フッ素系UV光硬化樹脂が硬化した後、モールドを取り外したところ、ガラスシートに突起構造が転写された。その後、酸素プラズマアッシング法により、ガラスシートのパターン形成面の、底面部分に付着した不要膜を除去し、硬化樹脂製の突起のみを残留させた。
次に、スッパタ装置を用いて、ガラスシートのパターン面に、金属ニッケル膜を成膜した。スッパタリングは、ガラスシートのパターン面に対して垂直な方向から実施した。このため、金属ニッケル膜は、突起の上面と、ガラスシートの突起のない表面とに成膜された。
次に、ガラスシートの表面に対して、異なる斜めの2方向からITOの蒸着を行った。これにより、各ピラーに対して、ITOを逆U字型に蒸着した。
12,34,42,52,63,72,83 電磁波に対して共振する電磁波共振体
13,35,81 メタマテリアル
15 突起
16a 上部
16b 側部
21 共振の性質を評価する装置
22 試料
23 光源
24 偏光板
25 分光光度計
31 メタマテリアルを製造する装置
33,41,51 粘着性を有する材料
36 加圧ローラー
43 ヒーター
53 誘電体
62 誘電体
73 硬化性樹脂
74,82 樹脂の硬化体
131 導体
132 支持体
133 解析モデルのユニットセル
160 モールド
162 パターン面
165 ピラー
170 石英ガラス基板
175 ピラー
Claims (25)
- 電磁波に対して共振する電磁波共振体を備えるメタマテリアルの製造方法であって、
(a)ナノインプリント法またはフォトリソグラフィー法により、電磁波共振体が形成される部分を有する支持体を形成するステップと、
(b)前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を蒸着し、前記支持体に前記電磁波共振体を配置するステップと、
を含む、メタマテリアルの製造方法。 - 前記(b)のステップは、前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を物理蒸着するステップを有する、請求項1に記載の製造方法。
- 前記部分は、1または2以上の凸状部を有する、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成される、請求項3に記載の製造方法。 - 前記(b)のステップにおいて、前記支持体の前記部分に、第1の方向から、電磁波共振体を形成する材料を蒸着することにより、前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着される、請求項4に記載の製造方法。
- 前記(b)のステップは、前記電磁波共振体を形成する材料を、異なる2以上の方向から前記支持体の前記部分に蒸着するステップを有する、請求項1乃至5のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記電磁波共振体は、前記支持体の側面方向から見たとき、前記部分に略逆U字型に蒸着され、または前記支持体の厚さ方向から見たとき、前記部分に略C字型に蒸着される、請求項1乃至6のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記電磁波共振体を形成する材料は、前記支持体の前記部分以外の箇所には蒸着されない、請求項1乃至7のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記支持体は、前記電磁波に対して透過性の材料で構成される、請求項1乃至8のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記電磁波共振体を形成する材料は、グラフェン、インジウムスズ酸化物、亜鉛酸化物、およびスズ酸化物からなる群から選定された、少なくとも一つである、請求項9に記載の製造方法。
- 前記(b)のステップは、
(b1)前記支持体の前記部分に第1の誘電体を蒸着するステップと、
(b2)前記(b1)ステップの後、前記支持体の前記部分に、導電性材料および/または第2の誘電体を蒸着するステップと、
を有する、請求項1乃至10のいずれか一つに記載の製造方法。 - 前記(b)のステップは、
(b3)前記支持体の前記部分に金属膜を蒸着するステップと、
(b4)前記金属膜上に、グラフェン膜を蒸着するステップと、
を有する、請求項1乃至10のいずれか一つに記載の製造方法。 - さらに、
(b5)前記グラフェン膜を有する前記支持体を、前記グラフェン膜のある側が内側となるようにして、第2の支持体と一体化させるステップと、
(b6)前記支持体および前記金属膜を選択的に除去して、前記グラフェン膜を有する第2の支持体を得るステップと、
を有する、請求項12に記載の製造方法。 - さらに、
(c)前記支持体を液体中に選択的に溶解させるステップと、
(d)前記電磁波共振体が誘電体マトリクス中に分散された状態のメタマテリアルを形成するステップと、
を有する、請求項1乃至10のいずれか一つに記載の製造方法。 - さらに、
(e)前記支持体に配置された前記電磁波共振体を、粘着性を有する材料に転写させるステップ、
を有する、請求項1乃至10のいずれか一つに記載の製造方法。 - さらに、
(f)前記電磁波共振体が転写された前記粘着性を有する材料を、前記電磁波共振体が積層方向に揃うようにして積層するステップ、
を有する、請求項15に記載の製造方法。 - 複数の凸状部を有する支持体と、各凸状部に配置された、電磁波に対して共振する電磁波共振体とを含むメタマテリアルであって、
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各突起に、二つの端部を有する略逆U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアル。 - 複数の凸状部を有する支持体と、各凸状部に配置された、電磁波に対して共振する電磁波共振体とを含むメタマテリアルであって、
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記複数の凸状部を構成する各突起は、水平方向の断面が略C字型となるように形成され、略C字型の上部と、略角柱状の側部とを有し、
前記電磁波共振体は、前記突起の前記上部と前記側部の少なくとも一部とに形成されており、
前記側部の一つの面および該面と反対側の面において、前記電磁波共振体の高さ方向の寸法は異なることを特徴とするメタマテリアル。 - 複数の凸状部を有する支持体と、各凸状部に配置された、電磁波に対して共振する電磁波共振体とを含むメタマテリアルであって、
前記各凸状部は、上部および側部を有する突起で構成され、
前記上部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記突起の上部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つの突起は、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つの突起に配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアル。 - 前記電磁波共振体は、前記支持体の前記突起以外の箇所には形成されていない、請求項17乃至19のいずれか一つに記載のメタマテリアル。
- 複数の凹状部を有する支持体と、前記凹状部に配置された、電磁波に対して共振する電磁波共振体とを含むメタマテリアルであって、
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
前記電磁波共振体は、前記支持体を側面から見たとき、各くぼみに、二つの端部を有する略U字型に形成されており、
各端部の長さは異なることを特徴とするメタマテリアル。 - 複数の凹状部を有する支持体と、前記凹状部に配置された、電磁波に対して共振する電磁波共振体とを含むメタマテリアルであって、
前記凹状部は、底部および側部を有するくぼみで構成され、
前記底部は、単一の平坦面、段差を有する複数の面、または頂点を有する曲面で構成され、
前記電磁波共振体を形成する材料は、前記くぼみの底部と、前記側部の少なくとも一部とに蒸着されており、
少なくとも2つのくぼみは、相互に相似形状となっており、
前記少なくとも2つのくぼみに配置されたそれぞれの電磁波共振体は、相似形状のまま、寸法が実質的に異なっていることを特徴とするメタマテリアル。 - 前記電磁波共振体は、前記支持体の前記くぼみ以外の箇所には形成されていない、請求項21または22に記載のメタマテリアル。
- 前記電磁波共振体は、可視域帯の電磁波を透過する導電体物質で構成される、請求項21乃至23のいずれか一つに記載のメタマテリアル。
- 前記電磁波共振体は、グラフェン、インジウムスズ酸化物、亜鉛酸化物、およびスズ酸化物からなる群から選定された、少なくとも一つである、請求項24に記載のメタマテリアル。
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