JP2013124378A - プラズマ溶射装置及びその制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマアーク中又はプラズマジェット中に投入され、溶融された溶射粉末材料を吹き付けることにより、基材表面に前記溶射粉末材料の皮膜を形成させるプラズマ溶射装置に、前記プラズマアーク中又は前記プラズマジェット中に前記溶射粉末材料を投入する溶射粉末材料投入管と、前記プラズマアーク又は前記プラズマジェットの温度分布を計測する温度分布計測手段と、前記温度分布の最高温度領域に前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動させる制御手段と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、基材表面に溶射粉末材料の皮膜を効率的に形成することができるプラズマ溶射装置及びその制御方法を提供することを目的とする。
Claims (7)
- プラズマアーク中又はプラズマジェット中に投入され、溶融された溶射粉末材料を吹き付けることにより、基材表面に前記溶射粉末材料の皮膜を形成させるプラズマ溶射装置であって、
前記プラズマアーク中又は前記プラズマジェット中に前記溶射粉末材料を投入する溶射粉末材料投入管と、
前記プラズマアーク又は前記プラズマジェットの温度分布を計測する温度分布計測手段と、
前記温度分布の最高温度領域に前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動させる制御手段と、
を備えるプラズマ溶射装置。 - 前記温度分布計測手段が、サーモグラフィカメラであることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ溶射装置。
- 前記サーモグラフィカメラを複数備え、
前記複数のサーモグラフィカメラは、異なる方向から前記プラズマアーク又は前記プラズマジェットの二次元温度分布をそれぞれ計測できるように設置されており、
前記制御手段は、前記複数のサーモグラフィカメラによって計測された前記複数の二次元温度分布から三次元温度分布を作成し、前記三次元温度分布の最高温度領域に前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動させることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ溶射装置。 - 前記サーモグラフィカメラを2台備え、
前記2台のサーモグラフィカメラは、前記プラズマアーク又は前記プラズマジェットの中心軸に対して真上と真横に設置され、異なる方向から前記プラズマアーク又は前記プラズマジェットの二次元温度分布をそれぞれ計測できるように設置されており、
前記制御手段は、前記2台のサーモグラフィカメラによって計測された2つの二次元温度分布データから三次元温度分布データを作成し、前記三次元温度分布データの最高温度領域に前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動させることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ溶射装置。 - 前記温度分布は、三次元温度分布であり、
前記制御手段は、前記三次元温度分布の最高温度領域に前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動させることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ溶射装置。 - 前記温度分布計測手段は、前記温度分布を連続計測し、
前記制御手段は、前記温度分布の最高温度領域の変化に基づいて前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動させることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ溶射装置。 - 溶射粉末材料投入管からプラズマアーク又はプラズマジェットに投入され、溶融された溶射粉末材料を吹き付けることにより、基材表面に前記溶射粉末材料の皮膜を形成させるプラズマ溶射装置の制御方法であって、
前記プラズマアーク又は前記プラズマジェットの温度分布を計測する工程と、
前記温度分布の最高温度領域に前記溶射粉末材料投入管の投入口を移動する工程と、
を含むことを特徴とするプラズマ溶射装置の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011272560A JP5496992B2 (ja) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | プラズマ溶射装置及びその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011272560A JP5496992B2 (ja) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | プラズマ溶射装置及びその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013124378A true JP2013124378A (ja) | 2013-06-24 |
JP5496992B2 JP5496992B2 (ja) | 2014-05-21 |
Family
ID=48775833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011272560A Expired - Fee Related JP5496992B2 (ja) | 2011-12-13 | 2011-12-13 | プラズマ溶射装置及びその制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5496992B2 (ja) |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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