JP2013123780A - Polishing cloth - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、精密研磨用の研磨布に関するものであり、さらに詳しくは、ハードディスク用アルミニウム基板およびガラス基板、液晶ディスプレイ用ガラス基板、シリコンウエハ等の研磨に好適な研磨布に関するものである。 The present invention relates to a polishing cloth for precision polishing, and more particularly to a polishing cloth suitable for polishing hard disk aluminum substrates and glass substrates, glass substrates for liquid crystal displays, silicon wafers, and the like.
従来、ハードディスク用アルミニウム基板およびガラス基板、液晶ディスプレイ用ガラス基板、シリコンウエハ等の被研磨物は、高精度な平坦性が要求されるため、研磨布を用いた研磨加工が行われている。 2. Description of the Related Art Conventionally, an object to be polished such as an aluminum substrate for hard disk and a glass substrate, a glass substrate for liquid crystal display, and a silicon wafer is required to have high precision flatness, and therefore polishing using a polishing cloth has been performed.
これらの被研磨物の研磨加工は、通常、コロイダルシリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化セリウム等の研磨剤を含むスラリ状の研磨液を供給しながら行われる。 Polishing of these objects is usually performed while supplying a slurry-like polishing liquid containing an abrasive such as colloidal silica, aluminum oxide, titanium oxide, cerium oxide or the like.
そしてこのような研磨加工における精密研磨用の研磨布としては、湿式成膜法や乾式成形法で作製された、発泡を有するシート状のものが一般に用いられている。 As a polishing cloth for precision polishing in such a polishing process, a foam-like sheet produced by a wet film forming method or a dry molding method is generally used.
この発泡を有するシート状の研磨布のうち、湿式成膜法によるものでは、エラストマー、樹脂等の凝固成分を水混和性の有機溶媒に溶解させた発泡用溶液を不織布等の基材に塗布した後、水系凝固液中に浸漬して凝固成分を凝固させることにより基材の表面にたて型発泡を有する樹脂シートが形成される。 Among the foamed sheet-like polishing cloths, in the case of the wet film forming method, a foaming solution in which a coagulation component such as an elastomer or a resin is dissolved in a water-miscible organic solvent is applied to a substrate such as a nonwoven fabric. Thereafter, the resin sheet having vertical foaming is formed on the surface of the base material by dipping in a water-based coagulation liquid to coagulate the coagulation component.
この発泡は、その形状を厚み方向の断面から観察すると下層部分は大きな発泡形状になり、下層部分から表面に向かうに従って緻密な発泡形状になる構造体である。そしてその表面には1μm以下の微細孔があり、表面から下層部分の発泡までは微細な連通孔にてつながっている。この発泡表面を研削処理し、発泡を開口した研磨布については、スェード研磨布と呼ばれている。 This foam is a structure in which the lower layer portion becomes a large foam shape when the shape is observed from a cross section in the thickness direction, and becomes a dense foam shape from the lower layer portion toward the surface. The surface has fine pores of 1 μm or less, and the surface to the lower layer portion are connected by fine communication holes. An abrasive cloth in which the foamed surface is ground to open the foam is called a suede abrasive cloth.
供給口からの研磨液を研磨布表面と被研磨物の間全体に行き渡らせるために、格子柄、菱形柄、亀甲柄等任意の形状の溝を研磨布表面に形成したスェード研磨布が開示されている(例えば、特許文献1〜4参照)。
A suede polishing cloth is disclosed in which grooves of any shape such as lattice pattern, rhombus pattern, turtle shell pattern, etc. are formed on the polishing cloth surface in order to spread the polishing liquid from the supply port between the polishing cloth surface and the object to be polished. (For example, see
これらのスェード研磨布の樹脂シートは疎水性が高いため、研磨液は研磨布に吸水されにくく、研磨布表面に形成した溝の深さが基材上の樹脂シートの厚み以下であるため、溝内の研磨液の多くは研磨加工時の遠心力により研磨液は溝を通って、研磨布内に保持、研磨布表面に供給されることなく、研磨布の周辺に移動し、研磨布の外へ流出する。 Since the resin sheets of these suede polishing cloths are highly hydrophobic, the polishing liquid is not easily absorbed by the polishing cloth, and the depth of the grooves formed on the surface of the polishing cloth is less than the thickness of the resin sheet on the substrate. Most of the polishing liquid in the inside passes through the groove due to the centrifugal force during the polishing process, and is held in the polishing cloth and moved to the periphery of the polishing cloth without being supplied to the surface of the polishing cloth. Spill to
このように、溝内の研磨液のほんどが研磨に寄与することなく系外へ流れ出るため、多く研磨液の供給が必要であり、時間当たりの研磨量の低下を招いていた。 Thus, since most of the polishing liquid in the groove flows out of the system without contributing to polishing, a large amount of polishing liquid must be supplied, resulting in a decrease in the amount of polishing per hour.
本発明は、上記観点に鑑み創作されたものであり、被研磨物の品質に影響を与えずに、研磨機械装置や研磨機で使用する研磨液の量や濃度、加工圧を増やすことなく、研磨加工に有効に作用する研磨液を増やし、被研磨物の平坦性を確保するための研磨時間を短縮できる研磨布を提供することを課題としている。 The present invention was created in view of the above viewpoint, without affecting the quality of the object to be polished, without increasing the amount and concentration of the polishing liquid used in the polishing machine or polishing machine, and the processing pressure. An object of the present invention is to provide a polishing cloth capable of increasing the number of polishing liquids that effectively act on the polishing process and shortening the polishing time for ensuring the flatness of the object to be polished.
本発明は、上記の課題を解決するための、
第1の解決手段は、不織布に樹脂を含浸させて形成した基材に、湿式成膜法により形成した樹脂シートを積層した研磨布において、前記研磨布の研磨面からの深さが最も深い溝最底部が樹脂シートと基材の積層面に達する溝を有することを特徴とする研磨布を構成としたものである。
The present invention solves the above-described problems,
A first solving means is a polishing cloth in which a resin sheet formed by a wet film forming method is laminated on a base material formed by impregnating a nonwoven fabric with a resin, and the groove having the deepest depth from the polishing surface of the polishing cloth The polishing cloth is characterized in that the bottommost portion has a groove reaching the laminated surface of the resin sheet and the substrate.
第2の解決手段は、前記溝最底部が前記基材に入り込んでいることを特徴とする研磨布を構成としたものである。 The second solving means is a polishing cloth characterized in that the bottom of the groove enters the base material.
第3の解決手段は、前記基材が前記樹脂シートより、単位体積当たりの吸水量が多いことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨布を構成としたものである。
The third solving means is the polishing cloth according to
(作用)
上記第1、第2の課題解決手段による作用は、研磨加工時に基材においても研磨液を保持できる。特に第2の課題解決手段によれば、第1の課題解決手段に比べ、基材が溝と接する面が増えるため、より多くの研磨液を基材内に保持することができる。
(Function)
The action of the first and second problem solving means can hold the polishing liquid even on the base material during polishing. In particular, according to the second problem solving means, since the surface where the base material comes into contact with the groove is increased as compared with the first problem solving means, more polishing liquid can be held in the base material.
上記第3の課題解決手段による作用は、溝の研磨液の吸水量を増やすことができる。 The action of the third problem solving means can increase the water absorption of the polishing liquid in the groove.
本発明によれば、上記構成、作用よって、被研磨物と研磨布の研磨面間に有効に供給される研磨液量が増え、研磨液の供給量や濃度、加工圧を増やしたりすることなく、被研磨物の平坦性を確保するための研磨時間の短縮が図れる。 According to the present invention, the amount of polishing liquid effectively supplied between the workpiece and the polishing surface of the polishing cloth is increased by the above-described configuration and operation, and the supply amount, concentration, and processing pressure of the polishing liquid are not increased. The polishing time for ensuring the flatness of the object to be polished can be shortened.
以下、本発明を詳細に説明する。
図1は、本発明の研磨布の一実施形態を概略的に示す断面図である。
同図に示すように、本発明の研磨布1は、湿式成膜法により発泡5が形成された樹脂シート2を備えている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of the polishing cloth of the present invention.
As shown in the figure, the
すなわち、凝固成分を水混和性の有機溶剤に溶解させた発泡用溶液を基材3に塗布し、次いで発泡用溶液を塗布した基材3を水系凝固液中に浸漬して凝固成分を凝固させることにより発泡5を有する樹脂シート2を積層する。
That is, a foaming solution in which a coagulation component is dissolved in a water-miscible organic solvent is applied to the
本発明において、樹脂シート2を湿式成膜法により製造する場合、凝固成分としては、特に限定されないが、ポリウレタンエラストマーが好ましく用いられる。
ポリウレタンエラストマーは、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系あるいはこれらの共重合体等を用いることができ、目的に応じて単独でまたは2種類以上を混合して用いることができる。
In the present invention, when the
The polyurethane elastomer may be polyester, polyether, polycarbonate, or a copolymer thereof, and may be used alone or in combination of two or more depending on the purpose.
凝固成分としてポリウレタンエラストマーの固形分濃度は、好ましくは10〜40質量%、より好ましくは15〜30質量%である。エラストマーの固形分濃度が低過ぎる場合、基材上に良好な発泡層が形成されにくくなる。エラストマーの固形分濃度が高過ぎる場合、粘度その他の点で製造上の支障が生じる場合がある。 The solid content concentration of the polyurethane elastomer as the coagulating component is preferably 10 to 40% by mass, more preferably 15 to 30% by mass. When the solid content concentration of the elastomer is too low, it is difficult to form a good foam layer on the substrate. If the solid content concentration of the elastomer is too high, production problems may occur in terms of viscosity and other points.
凝固成分としてのポリウレタンエラストマーを溶解する水混和性の有機溶剤としては、特に限定されないが、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、エチルアセテート、ジオキサン等が挙げられる。有機溶剤は目的に応じて単独でまたは2種類以上を混合して用いることができる。 The water-miscible organic solvent that dissolves the polyurethane elastomer as the coagulating component is not particularly limited, and examples thereof include dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, dimethylacetamide, ethyl acetate, and dioxane. The organic solvent can be used alone or in combination of two or more depending on the purpose.
そして本発明では、凝固成分を水混和性の有機溶剤に溶解させた溶液に顔料、発泡助剤、親水剤、撥水剤等を配合した発泡用溶液を用いる。 In the present invention, a foaming solution is used in which a coagulation component is dissolved in a water-miscible organic solvent and a pigment, a foaming aid, a hydrophilic agent, a water repellent and the like are blended.
本発明に用いられる基材3としては、研磨液を保持する空隙を有する、レーヨン、ポリアミド、ポリエステル等の繊維またはこれらの混合物からなる編織布や不織布が挙げられる。
Examples of the
本発明の研磨布1を製造するには、例えば次の様にすればよい。即ち、上述の如き組成に調整されたポリウレタンエラストマー溶液(発泡用溶液)を前記基材3上にロールコーター、ナイフコーター等の適宜な塗布手段を用いて、150〜1,500g/m2の塗布量(溶液として)になるように塗布し、次いで水或は水とポリウレタンエラストマーの溶剤との混合液中に浸漬して湿式凝固せしめた後、脱溶剤のための水洗、乾燥をすることにより、基材3上に、積層面4にほぼ垂直にならぶ紡錘状発泡5を有する樹脂シート2を形成する。
In order to manufacture the
さらに、樹脂シート2の表面(基材3の反対側)をサンドペーパー等で研削処理し、発泡5を開口させ、研磨面6を形成する
Further, the surface of the resin sheet 2 (opposite side of the base material 3) is ground with sandpaper or the like, the
次に、研磨面6に溝7を形成し、研磨布1を作製した。
溝7の加工手段としては、切削または研削加工、もしくはレーザー加工によるものがあるが、これらに限定されるものではない。
Next, a
The processing means for the
溝7の溝最底部8は基材3と樹脂シート2の積層面4に達していなければならない。さらに、溝7の溝最底部8は積層面4より基材3に0.1mm以上入り込んでいることが好ましい。溝最底部8が樹脂シート2である場合は、本願発明の効果である研磨加工時間を短縮することが困難である。また、溝最底部8が積層面4より基材3に0.1mm以上入り込んでいる場合は、より一層の研磨加工時間の短縮が図れる。
The
また、溝7の幅、間隔(ピッチ)および断面の形状(例えば、凹状、U字状、V字状等)、形態(例えば、格子状、同心円状、斜交状、亀の甲状、放射状等)については適宜選択することができる。
In addition, the width, interval (pitch), and cross-sectional shape (for example, concave, U-shaped, V-shaped, etc.) and form (for example, lattice, concentric, oblique, turtle shell, radial, etc.) of the
本発明の研磨布1を用いた被研磨物の研磨加工は、通常、コロイダルシリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化セリウム等の研磨剤を含むスラリ状の研磨液を供給しながら行われる。
Polishing of an object to be polished using the
本発明の研磨布1は、例えば、ハードディスク用アルミニウム基板およびガラス基板、液晶ディスプレイ用ガラス基板、シリコンウエハ等の研磨に好適である。
The
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all.
<実施例1>
図1は実施例1による研磨布1の断面図を示す。
ポリエステル短繊維(繊度1.5dtex、長さ51mm)よりなるニードルパンチされた不織布(目付125g/m2、厚み0.8mm)に、ポリウレタンエラストマー溶液を含浸させ、水に浸漬して湿式凝固せしめた後、水洗乾燥、研削処理し、厚さ0.4mmの基材3を得た。
<Example 1>
FIG. 1 shows a cross-sectional view of a
A needle-punched non-woven fabric (125 g / m 2 basis weight, thickness 0.8 mm) made of polyester short fibers (fineness 1.5 dtex, length 51 mm) was impregnated with a polyurethane elastomer solution and wet-solidified by dipping in water. Thereafter, washing and drying and grinding were performed to obtain a
一方、固形分濃度30%のポリエステル系ポリウレタンエラストマー溶液100質量部に、ジメチルホルムアミド60質量部、発泡助剤1.5質量部、および顔料であるカーボンブラックを20質量%含有するジメチルホルムアミド分散液10質量部を加え、ポリウレタンエラストマー溶液(発泡用溶液)を作製した。
On the other hand,
得られた溶液(発泡用溶液)を基材3にロールコーターで1000g/m2塗布した後、凝固浴の中に浸漬して凝固させ、温水で十分に脱溶媒した後、100℃にて熱風乾燥を行った。
The obtained solution (foaming solution) was applied to the
このようにして不織布の基材3上にポリウレタンエラストマーの発泡5を有する樹脂シート2を積層し、次に、樹脂シート2の表面(基材3の反対側)を、サンドペーパー#240、クリアランス1.0、ラインスピード1.5m/分、ペーパー回転数1000rpmの条件で、穴開け研削し、樹脂シート2上に研磨面6を形成し、樹脂シート2の厚みを0.6mmとした。
In this way, the
上述の研削処理後、溝切り加工機(三菱マテリアルテクノ株式会社製 直線溝入れ加工機)により、溝幅2mm、溝の間隔20mm、研磨面6からの深さ0.6mmの碁盤目状(縦横の格子状)の溝7を研磨面6に形成し、厚み1.0mmの研磨布1を得た。 次に溝加工後の研磨布1の溝7を目視し、溝最底部8が積層面4に達していることを確認した。
After the above-mentioned grinding treatment, a grooving machine (linear grooving machine manufactured by Mitsubishi Materials Techno Co., Ltd.) has a grid shape (vertical and horizontal) having a groove width of 2 mm, a groove interval of 20 mm, and a depth of 0.6 mm from the polished surface 6. (Grid-like)
<実施例2>
図2は実施例2による研磨布1の断面図を示す。
実施例2では、研磨面6に形成する溝7の研磨面6からの深さを0.7mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布1を得た。樹脂シート2の厚みは0.6mmであるから、溝7の最底部8は積層面4より基材3に0.1mm入り込んでいる。溝7を目視し、その溝最底部8が基材3であることを確認した。
<Example 2>
FIG. 2 is a sectional view of the
In Example 2, the
<比較例1>
図3に比較例1、2による研磨布9の断面図を示す。
比較例1では、研磨面6に形成する溝10の研磨面6からの深さを0.5mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布9を得た。次に溝加工後の研磨布9の溝10を目視し、その溝最底部11が樹脂シート2であることを確認した。
<Comparative Example 1>
FIG. 3 shows a cross-sectional view of the polishing pad 9 according to Comparative Examples 1 and 2. As shown in FIG.
In Comparative Example 1, a polishing pad 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the depth of the
<比較例2>
比較例3では、樹脂シート2の厚さを0.8mm、基材3の厚さを0.2mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布9を得た。次に溝加工後の研磨布9の溝10を目視し、その最底面部11が樹脂シート2であることを確認した。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 3, a polishing pad 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the
<吸水量測定のための試料の作製>
樹脂シート2および基材3の吸水量を測定するための試料12について、図4にその概略を示す。
<Preparation of sample for water absorption measurement>
About the sample 12 for measuring the water absorption of the
<試料の作製>
試料12は、図4に示すように、樹脂シート2および基材3の測定用シート13(100mm×100mmの正方形)の水を吸水させる面以外からの水の侵入を防ぐために、その両面に測定シート13の大きさを上回る、水を透過しない粘着シート14を測定シート13の両面に貼着し、測定シート13を密閉する。さらに水を吸水させる面の粘着シート14の中央をφ40の円形に剥がし、吸水窓15を設けたものである。
<Preparation of sample>
As shown in FIG. 4, the sample 12 was measured on both sides of the
<樹脂シートの測定用シート>
樹脂シート2の測定用シート13は、PET(ポリエチレンテレフタラート)基材上に実施例1と同様の樹脂シート2を形成し、樹脂シート2からPET基材を剥がし、上述の大きさに切断加工したものである。
<樹脂シートの測定用シート>
基材3の測定用シート13は、実施例1と同様に作製した基材3上の樹脂シート2を研削処理にて取り除き、上述の大きさに切断加工したものである。
<Measurement sheet for resin sheet>
The
<Measurement sheet for resin sheet>
The
<吸水量の測定方法>
上述の試験片12を十分乾燥させ、吸水前の重量を測定した。次に、水を満たした水槽中に試験片12を沈め、90時間放置後、水槽から取り出し表面の余分な水分を拭き取り、吸水後の重量を測定した。吸水後の重量から吸水前の重量を引き、樹脂シート2、基材3の吸水量を算出した。
<Measurement method of water absorption>
The above-mentioned test piece 12 was sufficiently dried, and the weight before water absorption was measured. Next, the test piece 12 was submerged in a water tank filled with water, left for 90 hours, then removed from the water tank, wiped off excess water on the surface, and the weight after water absorption was measured. The weight before water absorption was subtracted from the weight after water absorption, and the water absorption amount of the
上述の吸水量の測定方法により、樹脂シート2および基材3ついて、おのおの5枚の試料12を測定し、その平均値を表1に示す。
Five samples 12 were measured for the
実施例1、2および比較例3、4の研磨布について次の研磨試験を行った。
オスカー式の片面研磨装置を用い、予め板厚を精密に測定した、板厚0.7mm、サイズ680mm×880mmの液晶用向けガラス基板を、径1200mmの上方の加圧盤の下面に貼着された厚さ1mmの水を含んだバックパッドに押圧して接触させ吸着固定させた。
The following polishing tests were performed on the polishing cloths of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 3 and 4.
A glass substrate for liquid crystal having a plate thickness of 0.7 mm and a size of 680 mm × 880 mm, which was measured in advance using an Oscar-type single-side polishing apparatus, was attached to the lower surface of an upper pressure plate having a diameter of 1200 mm. The back pad containing water having a thickness of 1 mm was pressed and brought into contact and fixed by adsorption.
前記片面研磨装置の下方の径1500mm加圧盤の上面に研磨布を両面テープにより貼着し、加圧盤を回転させ、酸化セリウムからなる研磨砥粒を水に分散させ研磨液とした市販の研磨液を毎分5リットル供給しつつ、ガラス基板を加圧盤にて研磨布に押しつけ研磨を行った。 A commercially available polishing liquid in which a polishing cloth is adhered to the upper surface of a 1500 mm diameter pressure plate below the single-side polishing apparatus with a double-sided tape, the pressure plate is rotated, and abrasive grains made of cerium oxide are dispersed in water and used as a polishing solution. The glass substrate was pressed against a polishing cloth with a pressure plate and polished while supplying 5 liters per minute.
その際の自転軸を中心に自転可能な上方の加圧盤の揺動幅を380mm、揺動速度を50mm/秒、下方の加圧盤の回転数を90rpm(回転数/分)、研磨圧を100g/cm2とし、研磨を行い、ガラス基板表面に0.01μm〜0.03μmの表面凹凸がなくなるまでの研磨時間を測定した。 At that time, the upper pressure plate capable of rotating about the rotation axis has a swinging width of 380 mm, a swinging speed of 50 mm / second, a lower pressure plate rotating at 90 rpm (rotations per minute), and a polishing pressure of 100 g. / Cm < 2 >, polishing was performed, and the polishing time until the surface unevenness of 0.01 [mu] m to 0.03 [mu] m disappeared on the glass substrate surface was measured.
ガラス基板における表面凹凸の有無については、表面粗さ計(株式会社東京精密社製、サーフコム1400)を用い測定した。 About the presence or absence of the surface unevenness | corrugation in a glass substrate, it measured using the surface roughness meter (The Tokyo Seimitsu Co., Ltd. make, Surfcom 1400).
上述の研磨加工試験により、実施例および比較例の研磨布について、おのおのガラス基板10枚を研磨し、その平均研磨時間を表2に示す。 With the above polishing process test, 10 glass substrates were polished for the polishing cloths of Examples and Comparative Examples, and the average polishing time is shown in Table 2.
表2に示すように、研磨面6より積層面4まで達する溝を形成した実施例1による研磨布1を用いた研磨時間は平均297秒、研磨面6より基材3まで入り込んでいる溝を形成した実施例2による研磨布1を用いた研磨時間は平均276秒、研磨面より基材3まで及ばない溝を形成した比較例1の研磨布9を用いた研磨時間は平均325秒であった。よって、比較例1に比較し、ガラス基板表面に0.01μm〜0.03μmの表面凹凸がなくなるまでの研磨時間が実施例1では28秒、実施例2では49秒短縮した。
また、実施例2と比較例2の比較より、同じ溝の深さであっても、基材3まで入り込む溝を形成した場合は、ガラス基板表面に0.01μm〜0.03μmの表面凹凸がなくなるまでの研磨時間が43秒短縮した。
As shown in Table 2, the polishing time using the polishing
Further, from the comparison between Example 2 and Comparative Example 2, even when the groove depth is the same, when the groove entering the
よって、上述の吸水量、研磨加工試験に示すように、基材が樹脂シートより単位体積当たりの吸水量が大きい研磨面の溝を形成した研磨布において、溝最底部が、積層面もしくは基材までおよぶ研磨布は、研磨加工時間の短縮が図れる。 Therefore, as shown in the water absorption amount and polishing processing test described above, in the polishing cloth in which the substrate has a groove with a polishing surface having a larger water absorption amount per unit volume than the resin sheet, the bottom of the groove is the laminated surface or the substrate. A polishing cloth extending up to this can shorten the polishing time.
本発明は、これまでに比べ、被研磨物の平坦性を確保するための研磨時間を短くできる研磨布を提供するため、研磨布の製造、販売に寄与し、産業上の利用可能性を有する。 The present invention provides an abrasive cloth capable of shortening the polishing time for ensuring the flatness of an object to be polished as compared with the prior art, and thus contributes to the manufacture and sale of the abrasive cloth and has industrial applicability. .
1、9 研磨布
2 樹脂シート
3 基材
4 積層面
5 発泡
6 研磨面
7、10 溝
8、11 溝最底部
12 試料
13 測定用シート
14 粘着シート
15 吸水窓
DESCRIPTION OF
このようにして不織布の基材3上にポリウレタンエラストマーの発泡5を有する樹脂シート2を積層し、次に、樹脂シート2の表面(基材3の反対側)を、サンドペーパー#240、クリアランス1.0mm、ラインスピード1.5m/分、ペーパー回転数1000rpmの条件で、穴開け研削し、樹脂シート2上に研磨面6を形成し、樹脂シート2の厚みを0.6mmとした。
In this way, the
<比較例2>
比較例2では、樹脂シート2の厚さを0.8mm、基材3の厚さを0.2mmとした以外は、実施例1と同様にし、研磨布9を得た。次に溝加工後の研磨布9の溝10を目視し、その最底面部11が樹脂シート2であることを確認した。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 2 , a polishing pad 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the
<試料の作製>
試料12は、図4に示すように、樹脂シート2および基材3の測定用シート13(100mm×100mmの正方形)の水を吸水させる面以外からの水の侵入を防ぐために、その両面に測定シート13の大きさを上回る、水を透過しない粘着シート14を測定シート13の両面に貼着し、測定シート13を密閉する。さらに水を吸水させる面の粘着シート14の中央をφ40mmの円形に剥がし、吸水窓15を設けたものである。
<Preparation of sample>
As shown in FIG. 4, the sample 12 was measured on both sides of the
<樹脂シートの測定用シート>
樹脂シート2の測定用シート13は、PET(ポリエチレンテレフタラート)基材上に実施例1と同様の樹脂シート2を形成し、樹脂シート2からPET基材を剥がし、上述の大きさに切断加工したものである。
<基材の測定用シート>
基材3の測定用シート13は、実施例1と同様に作製した基材3上の樹脂シート2を研削処理にて取り除き、上述の大きさに切断加工したものである。
<Measurement sheet for resin sheet>
The
<Measurement sheet for substrate >
The
実施例1、2および比較例1、2の研磨布について次の研磨試験を行った。
オスカー式の片面研磨装置を用い、予め板厚を精密に測定した、板厚0.7mm、サイズ680mm×880mmの液晶用向けガラス基板を、径1200mmの上方の加圧盤の下面に貼着された厚さ1mmの水を含んだバックパッドに押圧して接触させ吸着固定させた。
The following polishing test was performed on the polishing cloths of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 .
A glass substrate for liquid crystal having a plate thickness of 0.7 mm and a size of 680 mm × 880 mm, which was measured in advance using an Oscar-type single-side polishing apparatus, was attached to the lower surface of an upper pressure plate having a diameter of 1200 mm. The back pad containing water having a thickness of 1 mm was pressed and brought into contact and fixed by adsorption.
Claims (3)
The abrasive cloth according to claim 1 or 2, wherein the substrate has a larger amount of water absorption per unit volume than the resin sheet.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011274218A JP6189013B2 (en) | 2011-12-15 | 2011-12-15 | Polishing cloth |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011274218A JP6189013B2 (en) | 2011-12-15 | 2011-12-15 | Polishing cloth |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013123780A true JP2013123780A (en) | 2013-06-24 |
JP6189013B2 JP6189013B2 (en) | 2017-08-30 |
Family
ID=48775352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011274218A Active JP6189013B2 (en) | 2011-12-15 | 2011-12-15 | Polishing cloth |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6189013B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210039188A (en) * | 2019-10-01 | 2021-04-09 | (주)앰스코 | Abrasive element having fablic part to abrade prominence and depression part of object |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP6189013B2 (en) | 2017-08-30 |
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