JP2013071816A

JP2013071816A - Shelf, shelf board, and method of catching dust

Info

Publication number: JP2013071816A
Application number: JP2011212410A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Maruno; 吉明丸野
Original assignee: Lapis Semiconductor Co Ltd
Current assignee: Lapis Semiconductor Co Ltd
Priority date: 2011-09-28
Filing date: 2011-09-28
Publication date: 2013-04-22

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that in a semiconductor manufacturing process or the like in a clean room, dust is generated when transporting containers are stored in a shelf or dust attached to transporting containers in the other areas falls and attaches to other transporting containers stored in the same shelf.SOLUTION: A shelf 10 to be used in the clean room has at least one shelf board 11. Each shelf board 11 includes an upper board part 12 and a lower board part 13 which are arranged vertically at a predetermined interval G in a manner that both parts face each other. The upper board part 12 has a plurality of openings 14 to allow air to pass. The lower board part 13 includes a dust catching part (an adhesive mat 15) which catches dust at least at the parts facing the openings 14 of the upper board part 12.

Description

この発明は、半導体の製造プロセスなど、クリーンルームで行われる製造プロセスで使用される棚およびその棚板、並びに、棚に運搬容器を載置する際に発生する（または他のエリアから持ち込まれる）塵埃を捕捉する方法に関する。 The present invention relates to a shelf used in a manufacturing process performed in a clean room such as a semiconductor manufacturing process and its shelf board, and dust generated when a transport container is placed on the shelf (or brought in from another area). It is related with the method of capturing.

一般に、半導体製品（例えばウエハ）などの電子部品の製造は、空気清浄度が管理されたクリーンルーム内で行われる。 In general, manufacture of electronic components such as semiconductor products (for example, wafers) is performed in a clean room in which air cleanliness is controlled.

クリーンルーム内では、製品を収納する運搬容器（例えばウエハキャリア）を保管するため、棚（作業台も含む）が用いられる。棚は、例えば複数段の棚板を備えており、その棚板の上に運搬容器が載置される。 In a clean room, a shelf (including a work table) is used to store a transport container (for example, a wafer carrier) that stores products. The shelf is provided with, for example, a plurality of shelf boards, and a transport container is placed on the shelf board.

ここで、運搬容器の外側に塵埃が付着すると、運搬容器の蓋を開けた際に、製品に塵埃が付着する可能性がある。例えばウエハに塵埃が付着すると、塵埃がマスクとなって回路パターンの形成不良や配線間のショートを生じ、また、塵埃上に絶縁膜が形成されることにより絶縁膜の膜厚の不均一を生じ、また、真空下で塵埃からアウトガスが発生することにより配線膜の変色を生じるなど、さまざまな製品不良につながる可能性がある。 Here, if dust adheres to the outside of the transport container, the dust may adhere to the product when the cover of the transport container is opened. For example, when dust adheres to the wafer, the dust serves as a mask, resulting in poor circuit pattern formation and short-circuiting between wirings, and the formation of an insulating film on the dust causes non-uniform thickness of the insulating film. In addition, the generation of outgas from dust under vacuum may cause discoloration of the wiring film, leading to various product defects.

塵埃を除去するため、運搬容器を自動洗浄するコンテナ洗浄部を設けた保管棚が提案されている（特許文献１参照）。 In order to remove dust, a storage shelf provided with a container cleaning unit that automatically cleans a transport container has been proposed (see Patent Document 1).

特開平５−２０１５０６号公報（段落００３５〜００３９、図１参照）Japanese Patent Laid-Open No. 5-201506 (see paragraphs 0035-0039 and FIG. 1)

しかしながら、上記の従来技術では、運搬容器の自動洗浄のための大掛かりなシステムが必要になるため、導入コストが高く、製造コストの上昇の原因となる。 However, since the above-described conventional technology requires a large-scale system for automatic cleaning of the transport container, the introduction cost is high and causes an increase in manufacturing cost.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、製品への塵埃の付着を抑制することが可能な棚、棚板、および塵埃の捕捉方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a shelf, a shelf board, and a dust capturing method capable of suppressing the adhesion of dust to a product.

本発明に係る棚は、クリーンルームで用いられる棚であって、少なくとも１段の棚板を備え、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部は、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有することを特徴とする。 The shelf according to the present invention is a shelf used in a clean room, and includes at least one shelf plate, and each shelf plate is arranged with an upper plate portion and a lower plate portion facing each other vertically with a predetermined interval therebetween. The upper plate portion has a plurality of openings for allowing air to pass therethrough, and the lower plate portion has a dust trapping portion for trapping dust at a portion facing at least the plurality of openings of the upper plate portion. It is characterized by that.

また、本発明に係る棚板は、クリーンルームで用いられる棚の少なくとも１段を構成する棚板であって、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部は、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有することを特徴とする。 The shelf board according to the present invention is a shelf board that constitutes at least one stage of a shelf used in a clean room, and has an upper board part and a lower board part that are vertically opposed to each other with a predetermined interval. The upper plate portion has a plurality of openings that allow air to pass therethrough, and the lower plate portion has a dust trapping portion that traps dust at least in a portion facing the plurality of openings of the upper plate portion. Features.

また、本発明に係る塵埃の捕捉方法は、クリーンルームにおいて、少なくとも１段の棚板を有する棚であって、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、上板部が、空気を通過させる複数の開口部を有し、下板部が、少なくとも上板部の複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有する棚を用い、棚板に、製品を収納した運搬容器を載置し、塵埃捕捉部により、運搬容器から落下した塵埃を捕捉することを特徴とする。 In addition, the dust capturing method according to the present invention is a shelf having at least one shelf in a clean room, and each shelf is disposed above and below the upper plate with a predetermined spacing therebetween. A dust catcher that catches dust at a portion of the upper plate portion that faces at least the plurality of openings of the upper plate portion. It is characterized by using a shelf having a section, placing a transport container storing the product on a shelf board, and capturing dust falling from the transport container by a dust capturing section.

本発明によれば、下板部の塵埃捕捉部によって塵埃を捕捉することができるため、運搬容器に塵埃が付着することを防止できる。そのため、運搬容器から更に製品に塵埃が付着することを防止し、製品不良の発生を抑制することができる。 According to the present invention, since dust can be captured by the dust capturing part of the lower plate part, it is possible to prevent the dust from adhering to the transport container. Therefore, it is possible to prevent dust from further adhering to the product from the transport container and to suppress the occurrence of product defects.

第１の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the shelf in 1st related technology. 第２の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the shelf in 2nd related technology. 第３の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the shelf in 3rd related technology. 第４の関連技術における棚の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the shelf in 4th related technology. 図１に示した棚の使用状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the use condition of the shelf shown in FIG. 運搬容器に付着した塵埃が製品に付着する様子を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that the dust adhering to a conveyance container adheres to a product. 運用容器と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure for suppressing the dust generation by the contact with an operation container and a shelf board. 運用容器と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure for suppressing the dust generation by the contact with an operation container and a shelf board. 本発明の第１の実施の形態における棚の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the shelf in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施の形態における棚の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the shelf in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施の形態における上板部と下板部との組み合わせを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the combination of the upper board part and lower board part in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施の形態の変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modification of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施の形態における棚の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the shelf in the 3rd Embodiment of this invention.

本発明の各実施の形態について説明する前に、本発明の前提となる関連技術について説明する。これらの関連技術は、半導体製造プロセスなど、クリーンルームで行われる製造プロセスで用いられる棚に関する。 Prior to describing each embodiment of the present invention, a related technique as a premise of the present invention will be described. These related technologies relate to a shelf used in a manufacturing process performed in a clean room such as a semiconductor manufacturing process.

図１は、第１の関連技術における棚４０の構成を示す斜視図である。図１に示す棚４０は、少なくとも１段（ここでは３段）のメッシュ棚板４１を備えている。各メッシュ棚板４１は、複数の棒状部材４２を柵状（または網状）に組み合わせたものであり、隣り合う棒状部材４２の間にスリット状の開口部４３が形成されている。メッシュ棚板４１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱４５により支持されている。 FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a shelf 40 in the first related technology. A shelf 40 shown in FIG. 1 includes at least one level (here, three levels) mesh shelf 41. Each mesh shelf 41 is a combination of a plurality of rod-shaped members 42 in a fence shape (or net shape), and slit-shaped openings 43 are formed between adjacent rod-shaped members 42. The mesh shelf board 41 is substantially rectangular in a top view and is supported by four support columns 45.

図２は、第２の関連技術における棚５０の構成を示す斜視図である。図２に示す棚５０は、少なくとも１段（ここでは３段）のスノコ棚板５１を備えている。各スノコ棚板５１は、板状部材５２の全面に亘って、互いに平行な複数のスリット状の開口部５３を形成したものである。スノコ棚板５１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱５５により支持されている。 FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the shelf 50 in the second related technology. The shelf 50 shown in FIG. 2 includes at least one level (here, three levels) snowboard shelf 51. Each snowboard shelf 51 is formed by forming a plurality of slit-like openings 53 parallel to each other over the entire surface of the plate-like member 52. The snowboard shelf 51 is substantially rectangular in top view and is supported by four columns 55.

図３は、第３の関連技術における棚６０の構成を示す斜視図である。図３に示す棚６０は、少なくとも１段（ここでは２段）のパンチング棚板６１を備えている。各パンチング棚板６１は、板状部材６２の全面に亘って、例えば円形の開口部６３を形成したものである。パンチング棚板６１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱６５により支持されている。 FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of the shelf 60 in the third related technology. The shelf 60 shown in FIG. 3 includes at least one (here, two) punching shelf 61. Each punching shelf 61 is formed by forming, for example, a circular opening 63 over the entire surface of the plate-like member 62. The punching shelf 61 is substantially rectangular when viewed from above, and is supported by four struts 65.

図４は、第４の関連技術における棚７０の構成を示す斜視図である。図４に示す棚７０は、少なくとも１段（ここでは３段）のベタ棚板７１を備えている。各ベタ棚板７１は、板状部材に開口部を形成していないものである。ベタ棚板７１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱７５により支持されている。図１〜図４に示した棚板４１，５１，６１，７１は、いずれもステンレスで形成されている。 FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of the shelf 70 in the fourth related technology. The shelf 70 shown in FIG. 4 includes at least one level (here, three levels) solid shelf 71. Each of the solid shelf boards 71 is one in which no opening is formed in the plate-like member. The solid shelf 71 is substantially rectangular when viewed from above, and is supported by four columns 75. The shelf boards 41, 51, 61 and 71 shown in FIGS. 1 to 4 are all made of stainless steel.

半導体製造が行われるクリーンルームでは、フィルタを通過させた清浄な空気（クリーンエア）を、必要なエリアにダウンフロー（Ｆ）として供給しているため、図４に示すようなベタ棚板７１を使用した棚７０では、ベタ棚板７１の上側に気流溜まり７２が生じ、ベタ棚板７１の下側には気流の巻き込み７３が生じる。これに対し、図１〜３に示した棚４０，５０，６０は、空気を通過させる開口部４３，５３，６３を有しているため、気流溜まりが生じにくいという利点がある。 In a clean room where semiconductors are manufactured, clean air (clean air) that has passed through a filter is supplied as a downflow (F) to a necessary area, so a solid shelf 71 as shown in FIG. 4 is used. In the shelf 70, an airflow pool 72 is generated above the solid shelf 71, and an airflow entrainment 73 is generated below the solid shelf 71. On the other hand, the shelves 40, 50, and 60 shown in FIGS. 1 to 3 have the advantage that airflow accumulation is less likely to occur because the shelves 40, 50, and 60 have the openings 43, 53, and 63 through which air passes.

図５は、図１に示した棚４０の使用状態を示す図である。ここでは、棚４０の棚板４１上に、製品（例えばウエハ）を収容した運搬容器１（例えばウエハキャリア）を載置して保管している。棚板４１には開口部４３が多数形成されているため、上段から下段にダウンフローＦの空気が流れる。 FIG. 5 is a diagram illustrating a usage state of the shelf 40 illustrated in FIG. 1. Here, a transport container 1 (for example, a wafer carrier) containing products (for example, wafers) is placed and stored on a shelf plate 41 of the shelf 40. Since many openings 43 are formed in the shelf board 41, the air of the downflow F flows from the upper stage to the lower stage.

そのため、作業者が運搬容器１を棚板４１上に載置する際には、運搬容器１と棚板４１との接触により発生する塵埃、および作業者自身が発生する塵埃（以下、これらをまとめて、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃と称する）、並びに他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃（いずれも符号３で示す）が、棚板４１の開口部４３を通過して、符号８１で示すように下段の棚板４１上の運搬容器１に降りかかる可能性がある。 Therefore, when the worker places the transport container 1 on the shelf board 41, dust generated by contact between the transport container 1 and the shelf board 41 and dust generated by the worker himself (hereinafter, these will be summarized). In addition, the dust generated when the transport container 1 is handled) and the dust brought into the transport container 1 from other areas (all indicated by reference numeral 3) pass through the opening 43 of the shelf board 41. Then, as indicated by reference numeral 81, there is a possibility of falling on the transport container 1 on the lower shelf 41.

また、取り扱い中の運搬容器１の真下に他の運搬容器１が無い場合でも、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３は、クリーンルームの床（グレーチング１０１）等に設置されているプレフィルタ１０２で捕捉されるまでの間は、クリーンルーム内で漂い、作業者や台車１０３などの移動に伴う気流の乱れ１０４によって巻き上がるため、符号８２で示すように、運搬容器１に付着する可能性がある。 Even when there is no other transport container 1 directly under the transport container 1 being handled, the dust 3 generated during the handling of the transport container 1 and the dust 3 brought into the transport container 1 from other areas are brought in. Until it is captured by the pre-filter 102 installed on the floor of the clean room (grating 101) etc., it drifts in the clean room and winds up due to the turbulence 104 of the air flow accompanying the movement of the worker, the carriage 103, etc. As indicated by reference numeral 82, there is a possibility of adhering to the transport container 1.

ここでは、図１の棚４０について説明したが、図２および図３の棚５０，６０についても、同様のことが言える。 Although the shelf 40 in FIG. 1 has been described here, the same applies to the shelves 50 and 60 in FIGS. 2 and 3.

このようにして運搬容器１に付着した塵埃３は、図６に模式的に示すように、運搬容器１の蓋１Ａを開けた際に、運搬容器１内の製品２（ウエハ）に付着する可能性がある。製品２に塵埃３が付着すると、後工程において、塵埃３がマスクとなって回路パターンの形成不良や配線間のショートを生じ、また、塵埃３上に絶縁膜が形成されることにより絶縁膜の膜厚の不均一を生じ、また、真空下で塵埃３からアウトガスが発生することにより配線膜の変色を生じるなど、さまざま製品不良につながる可能性がある。 The dust 3 adhering to the transport container 1 in this way can adhere to the product 2 (wafer) in the transport container 1 when the cover 1A of the transport container 1 is opened, as schematically shown in FIG. There is sex. When the dust 3 adheres to the product 2, in the subsequent process, the dust 3 serves as a mask to cause poor circuit pattern formation or short-circuiting between wirings. In addition, an insulating film is formed on the dust 3, thereby forming an insulating film. This may lead to various product defects such as non-uniform film thickness and discoloration of the wiring film due to outgassing from the dust 3 under vacuum.

図７および図８は、運用容器１と棚板との接触による発塵を抑制するための構成を示す。図７に示す構成は、図４に示した棚７０の棚板７１上に、運搬容器１との接触により発塵を生じにくい材質で形成された板（またはシート）７６を敷いたものである。 7 and 8 show a configuration for suppressing dust generation due to contact between the operation container 1 and the shelf board. In the configuration shown in FIG. 7, a plate (or sheet) 76 made of a material that hardly generates dust by contact with the transport container 1 is laid on the shelf plate 71 of the shelf 70 shown in FIG. 4. .

図８に示す構成は、図１に示した棚４０のメッシュ棚板４１に、運搬容器１との接触面積を少なくして発塵量を減少させるためのコマ４６を置いたものである。コマ４６は、例えば、運搬容器１の下面の４隅に配置される。 In the configuration shown in FIG. 8, a top 46 for reducing the amount of dust generation by reducing the contact area with the transport container 1 is placed on the mesh shelf 41 of the shelf 40 shown in FIG. The tops 46 are disposed at, for example, the four corners of the lower surface of the transport container 1.

また、棚板の上に溜まった塵埃３を、ワイパーやセントラルクリーナ方式（屋外排気）の真空掃除機などを使用して定期的に除去することも考えられる。 It is also conceivable to periodically remove the dust 3 accumulated on the shelf board using a wiper, a central cleaner type (outdoor exhaust) vacuum cleaner, or the like.

このような構成（図７，８）は、運搬容器１と棚板４１，７１との接触による発塵量を減少させることはできるが、塵埃３の発生自体を防止することはできない。また、棚板上に溜まった塵埃３を真空掃除機などで除去したとしても、塵埃３のない清浄な状態を維持することは難しい。そのため、塵埃３が製品２に付着することによる上述した各問題を解消するには至らない。 Such a configuration (FIGS. 7 and 8) can reduce the amount of dust generated by the contact between the transport container 1 and the shelf boards 41 and 71, but cannot prevent the generation of dust 3 itself. Even if the dust 3 collected on the shelf board is removed by a vacuum cleaner or the like, it is difficult to maintain a clean state without the dust 3. Therefore, the problems described above due to the dust 3 adhering to the product 2 cannot be solved.

以上を踏まえ、本発明の各実施の形態について、以下に説明する。 Based on the above, each embodiment of the present invention will be described below.

第１の実施の形態．
図９は、本発明の第１の実施の形態における棚１０を示す斜視図である。図９に示す棚１０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板１１を備えている。ここでは、上下に３段の棚板１１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板１１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱１７によって支持されている。各棚板１１は、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部１２と下板部１３とを有している。 First embodiment.
FIG. 9 is a perspective view showing the shelf 10 according to the first embodiment of the present invention. The shelf 10 shown in FIG. 9 includes a shelf plate 11 on which the transport container 1 storing products is placed. Here, although the three-stage shelf board 11 is provided on the upper and lower sides, the number of stages is arbitrary and may be one stage. Each shelf board 11 is substantially rectangular when viewed from above, and is supported by four support columns 17. Each shelf plate 11 has an upper plate portion 12 and a lower plate portion 13 which are opposed to each other vertically with a predetermined interval.

上板部１２は、ここでは、複数の棒状部材１２ｂを組み合わせたメッシュ棚板とする。メッシュ棚板１２の隣り合う棒状部材１２ｂの間に、スリット状の開口部１２ａが形成される。但し、メッシュ棚板の代わりに、スリット状の開口部を有するスノコ棚板や（図２参照）、円形の開口部を有するパンチング棚板（図３参照）などを用いてもよい。 Here, the upper plate portion 12 is a mesh shelf board in which a plurality of rod-shaped members 12b are combined. A slit-shaped opening 12 a is formed between the adjacent bar-shaped members 12 b of the mesh shelf 12. However, instead of the mesh shelf, a drainboard shelf having a slit-like opening (see FIG. 2), a punching shelf having a circular opening (see FIG. 3), or the like may be used.

上板部１２は、その上に、所定の数（図９の例では３個）の運搬容器１を保持するものである。そのため、上板部１２は、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有し、なお且つ、運搬容器１との接触による発塵ができるだけ少ない材質で構成される。 The upper plate portion 12 holds a predetermined number (three in the example of FIG. 9) of the transport containers 1 thereon. For this reason, the upper plate portion 12 is made of a material that has sufficient strength to support the transport container 1 and that generates as little dust as possible due to contact with the transport container 1.

運搬容器１の材質がポリプロピレンである場合、上板部１２をポリテトラフルオロエチレン（テフロン：登録商標）で構成すると、運搬容器１と上板部１２との接触による発塵は殆ど発生しないが、静電対策を施す必要がある。一方、上板部１２を運搬容器１と同様の静電対策品のポリプロピレンで構成すると、テフロンで構成した場合より発塵はあるが、接触による帯電が生じにくい。また、発塵抑制の観点から、上板部１２は、運搬容器１との接触部の面粗さが滑らかで、角がない形状であることが好ましい。 When the material of the transport container 1 is polypropylene, if the upper plate portion 12 is made of polytetrafluoroethylene (Teflon: registered trademark), dust generation due to contact between the transport container 1 and the upper plate portion 12 is hardly generated. It is necessary to take countermeasures against static electricity. On the other hand, when the upper plate portion 12 is made of the same anti-static polypropylene as that of the transport container 1, there is dust generation compared to the case of the Teflon, but charging due to contact is less likely to occur. Further, from the viewpoint of suppressing dust generation, it is preferable that the upper plate portion 12 has a shape in which the surface roughness of the contact portion with the transport container 1 is smooth and has no corners.

一方、下板部１３は、支持板１４の表面に、塵埃３を捕捉するための粘着マット１５（塵埃捕捉部）を設けたものである。支持板１４は、粘着マット１５を支持する強度を有するものであれば、ベタ棚板であってもよく、また、メッシュ棚板、スノコ棚板、あるいはパンチング棚板であってもよい。なお、支持板を使用しない場合には、板部１２の裏側に直接粘着マットを貼り付けてもよい。 On the other hand, the lower plate portion 13 is provided with an adhesive mat 15 (dust capturing portion) for capturing the dust 3 on the surface of the support plate 14. The support plate 14 may be a solid shelf as long as it has strength to support the adhesive mat 15, and may also be a mesh shelf, a slatted shelf, or a punching shelf. In addition, when not using a support plate, you may affix an adhesive mat directly on the back side of the board part 12. FIG.

粘着マット１５は、塵埃３を効果的に捕捉できるよう、例えば１８０ｇｆ／２５ｍｍ±４０ｇ程度の粘着力を有することが好ましい。また、運搬容器１に静電気の影響を及ぼさないように、粘着マット１５の表面抵抗が例えば１０^９〜１０^１０Ω程度であることが好ましい。このような粘着マット１５としては、例えば、一般にクリーンルームの床などに敷いて用いられる静電対策用の粘着マットを利用することができる。 The adhesive mat 15 preferably has an adhesive force of, for example, about 180 gf / 25 mm ± 40 g so that the dust 3 can be effectively captured. Moreover, it is preferable that the surface resistance of the adhesive mat 15 is, for example, about 10 ⁹ to 10 ¹⁰ Ω so that the transport container 1 is not affected by static electricity. As such an adhesive mat 15, for example, an anti-static adhesive mat generally used on a clean room floor or the like can be used.

具体的には、粘着マット１５は、例えば、ポリエチレンフィルムに水系の接着剤（２エチルヘキシル・アクリル酸塩３０％、ブチル・アクリル酸塩９％、酢酸ビニル３％および水）を塗布したものを、複数層（例えば３０〜４０層）重ね合わせたものを用いることができる。各フィルム（すなわち１層分）の厚さは、例えば５０μｍである。 Specifically, the adhesive mat 15 is, for example, a polyethylene film coated with a water-based adhesive (2 ethylhexyl acrylate 30%, butyl acrylate 9%, vinyl acetate 3% and water). A plurality of layers (for example, 30 to 40 layers) overlapped can be used. The thickness of each film (that is, one layer) is, for example, 50 μm.

このような粘着マット１５はフィルムを一枚ずつ剥がすことができるため、塵埃３の堆積状況に応じて、最上層のフィルムを剥がし、新しいフィルムを露出させて使用することができる。 Since such an adhesive mat 15 can peel off the films one by one, the uppermost film can be peeled off and a new film can be exposed depending on the accumulation state of the dust 3.

粘着マット１５は、最下層のフィルムが両面に粘着性を有しており、下面の保護フィルムを剥がすことで、支持板１４上に固定することができる。なお、粘着マット１５の３０〜４０層を数枚ずつに分けて使用する場合には、両面テープやセロファンテープを用いて支持板１４に固定してもよい。あるいは、エラストマー樹脂などの両面接着シートを用いれば、同じ両面接着シートを繰り返し利用することができる。 The adhesive mat 15 has a lowermost film having adhesiveness on both sides, and can be fixed on the support plate 14 by peeling off the lower protective film. In addition, when using 30-40 layers of the adhesive mat 15 by dividing into several sheets, you may fix to the support plate 14 using a double-sided tape or a cellophane tape. Alternatively, if a double-sided adhesive sheet such as an elastomer resin is used, the same double-sided adhesive sheet can be used repeatedly.

なお、粘着マット１５は、塵埃３を捕捉できるものであればよく、上記の静電対策用の粘着マットに限定されるものではない。また、接着剤として、例えばトルエンを使用しているものであってもよい。 The adhesive mat 15 is not limited to the above-mentioned adhesive mat for anti-static measures as long as it can capture the dust 3. Further, for example, toluene may be used as the adhesive.

上板部１２と下板部１３の間隔Ｇは、短い方が好ましい。塵埃３が浮遊してから粘着マット１５で捕捉するまでの時間が短くなり、気流の乱れの影響を受けにくくなるためである。 The gap G between the upper plate portion 12 and the lower plate portion 13 is preferably shorter. This is because the time from when the dust 3 floats to when it is captured by the adhesive mat 15 is shortened, and is less susceptible to the turbulence of the airflow.

図９に示す例では、粘着マット１５を、下板部１３の支持板１４上に前方（矢印Ａで示す方向）から挿入するが、この場合には、上板部１２と下板部１３との間隔Ｇは、例えば３ｃｍ程度が好ましい。一方、下板部１３の支持板１４が棚１０から引き出し可能に構成されている場合には、支持板１４を引き出した状態で粘着マット１５を取り付けることができるため、間隔Ｇは３ｃｍよりも狭くてもよい。 In the example shown in FIG. 9, the adhesive mat 15 is inserted on the support plate 14 of the lower plate portion 13 from the front (in the direction indicated by the arrow A). In this case, the upper plate portion 12, the lower plate portion 13, The interval G is preferably about 3 cm, for example. On the other hand, when the support plate 14 of the lower plate portion 13 is configured to be drawable from the shelf 10, the adhesive mat 15 can be attached with the support plate 14 being pulled out, and therefore the gap G is narrower than 3 cm. May be.

棚１０が配置されるクリーンルームでは、例えば風速０．３ｍ／秒のダウンフロー（Ｆ）が形成されており、塵埃３を落下させて、クリーンルームの床に配設されたプレフィルタ１０２（図５）で捕捉するようになっている。 In the clean room in which the shelf 10 is arranged, for example, a down flow (F) with a wind speed of 0.3 m / sec is formed, and the pre-filter 102 (FIG. 5) disposed on the floor of the clean room by dropping the dust 3. It is supposed to be captured by.

そのため、作業者が運搬容器１を棚板１１の上板部１２に載置する際に、運搬容器１と上板部１２との接触により発生する塵埃３、および作業者自身が発生する塵埃３（これらをまとめて、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃と称する）、並びに他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が落下する。しかしながら、本実施の形態では、上板部１２の開口部１２ａから落下した塵埃３は、下板部１３の粘着マット１５の表面に捕捉される。そのため、下段の運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。 Therefore, when the worker places the transport container 1 on the upper plate portion 12 of the shelf board 11, the dust 3 generated by the contact between the transport container 1 and the upper plate portion 12 and the dust 3 generated by the worker himself / herself. (These are collectively referred to as dust generated when the transport container 1 is handled), and dust 3 brought into the transport container 1 from other areas falls. However, in the present embodiment, the dust 3 that has fallen from the opening 12 a of the upper plate portion 12 is captured by the surface of the adhesive mat 15 of the lower plate portion 13. Therefore, the dust 3 is prevented from falling on the lower transport container 1.

また、粘着マット１５に捕捉された塵埃３は、粘着マット１５の粘着力により移動しにくいため、作業者や台車１０３（図５）などの移動に伴う気流の乱れ１０４（図５）の影響を受ける塵埃３は、運搬容器１から落下してから粘着マット１５に捕捉されるまでの僅かな量の塵埃３（すなわち間隔Ｇの区間を落下している塵埃３）のみである。そのため、気流の乱れによって塵埃３が運搬容器１や製品２に付着する可能性が大幅に低減する。 Further, since the dust 3 captured by the adhesive mat 15 is difficult to move due to the adhesive force of the adhesive mat 15, the influence of the turbulence 104 (FIG. 5) on the air flow accompanying the movement of the operator, the carriage 103 (FIG. 5), etc. The dust 3 received is only a small amount of dust 3 (that is, the dust 3 falling in the interval G) from when it falls from the transport container 1 until it is captured by the adhesive mat 15. Therefore, the possibility that the dust 3 adheres to the transport container 1 and the product 2 due to the turbulence of the airflow is greatly reduced.

このように運搬容器１への塵埃３の付着を防止することができるため、運搬容器１に付着した塵埃３が更に製品２に付着して生じる製品不良（回路パターンの形成不良、配線間のショート、絶縁膜厚の不均一等）を防止することができる。 In this way, it is possible to prevent the dust 3 from adhering to the transport container 1, so that a product defect (circuit pattern formation defect, short circuit between wirings) caused by the dust 3 adhering to the transport container 1 further adhering to the product 2. , Non-uniform insulation film thickness, etc.) can be prevented.

なお、粘着マット１５上に塵埃３が堆積すると、その塵埃３の上に落下した塵埃３は粘着マット１５で捕捉されずに飛散する可能性があるため、定期的に粘着マット１５の最上層のフィルムを剥がし、次のフィルムを露出させる必要がある。このメンテナンス周期は、使用する環境（発塵量）や、粘着マット１５上の塵埃３の付着状況に応じて決定する。 In addition, when the dust 3 accumulates on the adhesive mat 15, the dust 3 dropped on the dust 3 may be scattered without being captured by the adhesive mat 15. It is necessary to peel off the film and expose the next film. This maintenance cycle is determined according to the environment (amount of dust generation) to be used and the adhesion state of the dust 3 on the adhesive mat 15.

また、粘着マット１５は空気を通過させないため、粘着マット１５の上下に気流溜まり１８が発生する可能性があるが、塵埃３は粘着マット１５に捕捉されるため、気流溜まりによって塵埃３が浮遊することが防止される。 Further, since the adhesive mat 15 does not allow air to pass therethrough, there is a possibility that an airflow pool 18 is generated above and below the adhesive mat 15, but since the dust 3 is captured by the adhesive mat 15, the dust 3 floats due to the airflow pool. It is prevented.

また、作業時に発生する塵埃３は、通常は感知（例えば視認）できないが、粘着マット１５を設けることにより、付着した塵埃３が視認できるようになる。そのため、「塵埃の見える化」が可能になり、作業者の発塵に対する認識を向上させることができる。また、通常状態での塵埃の付着量を把握することで、これよりも多い量の塵埃の付着が見られた場合に、何らかの異常の可能性を検知することができる。また、粘着マット１５に捕捉された塵埃３は、発塵の対策や改善のための調査用サンプルとして活用することができる。 In addition, the dust 3 generated during the operation cannot be normally detected (for example, visually recognized), but by providing the adhesive mat 15, the attached dust 3 can be visually recognized. Therefore, “visualization of dust” becomes possible, and the worker's recognition of dust generation can be improved. In addition, by grasping the amount of dust attached in a normal state, when a larger amount of dust attached is observed, the possibility of some abnormality can be detected. Further, the dust 3 captured by the adhesive mat 15 can be used as a sample for investigation for countermeasures and improvement of dust generation.

以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、棚板１１を、上板部１２と下板部１３とで構成すると共に、上板部１２に空気を通過させる開口部１２ａを設け、下板部１３に粘着マット１５（塵埃保持部）を設けたため、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３を、粘着マット１５で捕捉することができる。その結果、運搬容器１（および運搬容器１に収納された製品２）への塵埃３の付着を防止することができ、製品不良の低減に資することができる。 As described above, according to the first embodiment of the present invention, the shelf plate 11 is constituted by the upper plate portion 12 and the lower plate portion 13, and the opening through which air passes through the upper plate portion 12. 12a is provided, and the adhesive mat 15 (dust holding portion) is provided on the lower plate portion 13, so that dust 3 generated during handling of the transport container 1 and dust 3 brought into the transport container 1 from other areas are brought in. It can be captured by the adhesive mat 15. As a result, the dust 3 can be prevented from adhering to the transport container 1 (and the product 2 stored in the transport container 1), which can contribute to the reduction of product defects.

なお、ここでは、塵埃３を捕捉するために粘着マット１５を用いたが、粘着マット１５に限らず、塵埃３を吸着等により捕捉できるものであればよい。 Here, the adhesive mat 15 is used to capture the dust 3. However, the adhesive mat 15 is not limited to the adhesive mat 15 as long as it can capture the dust 3 by suction or the like.

また、ここでは、下板部１３の全面に粘着マット１５を設けたが、下板部１３のうち、上板部１２の開口部１２ａに対向する部分にのみ部分的に粘着マット１５を設けてもよい。このような構成であっても、上板部１２の開口部１２ａから落下した塵埃３を捕捉することができる。 Here, the adhesive mat 15 is provided on the entire surface of the lower plate portion 13, but the adhesive mat 15 is partially provided only on the portion of the lower plate portion 13 that faces the opening 12 a of the upper plate portion 12. Also good. Even with such a configuration, the dust 3 falling from the opening 12a of the upper plate portion 12 can be captured.

また、粘着マット１５の代わりに、プレフィルタのように、空気を通過させて塵埃３を捕捉する構造を有するものを用いてもよい。風速０．３ｍ／秒のダウンフローにより落下する塵埃３を捕捉する場合、プレフィルタは、例えば孔径が数十μｍ〜数百μｍの細孔を有し、５ｍｍ程度の厚みを有していればよい。プレフィルタは、塵埃３を捕捉することができるだけでなく、空気を通過させるため、気流溜まり１８（図９）が生じにくいという利点がある。 Further, instead of the adhesive mat 15, a pre-filter having a structure that allows air to pass through and captures the dust 3 may be used. When capturing the dust 3 falling by a down flow with a wind speed of 0.3 m / second, the prefilter has, for example, pores with a pore diameter of several tens of μm to several hundreds of μm and a thickness of about 5 mm. Good. The prefilter not only can capture the dust 3 but also allows air to pass therethrough, so that there is an advantage that the air flow pool 18 (FIG. 9) hardly occurs.

第２の実施の形態．
図１０は、本発明の第２の実施形態における棚２０を示す斜視図である。棚２０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板２１を備えている。ここでは、上下に２段の棚板２１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板２１は、上板部２２と下板部２３とで構成されている。また、各棚板２１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱２７によって支持されている。 Second embodiment.
FIG. 10 is a perspective view showing the shelf 20 in the second embodiment of the present invention. The shelf 20 includes a shelf plate 21 on which the transport container 1 that stores products is placed. Here, although the two-stage shelf board 21 is provided in the upper and lower sides, the number of stages is arbitrary and may be one stage. Each shelf plate 21 includes an upper plate portion 22 and a lower plate portion 23. Each shelf board 21 is substantially rectangular in top view, and is supported by four support columns 27.

上板部２２は、板状部材の全面に亘って、例えば円形の開口部２４を形成したパンチング棚板で形成されており、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有している。一方、下板部２３も、板状部材の全面に亘って、例えば円形の開口部２５を形成したパンチング棚板で形成されている。但し、下板部２３の開口部２５は、上板部２２の開口部２４に対してずれた位置に形成されている。そのため、上板部２２の開口部２４から落下した塵埃３は、下板部２３の開口部２５以外の部分２６に当接して、そこに留まる。この下板部２３の開口部２５以外の部分２６（上板部２２の開口部２３に対向する部分）が、第２の実施の形態における塵埃捕捉部を構成する。 The upper plate portion 22 is formed of, for example, a punching shelf plate in which a circular opening 24 is formed over the entire surface of the plate-like member, and has sufficient strength to support the transport container 1. On the other hand, the lower plate portion 23 is also formed of a punching shelf plate in which, for example, a circular opening 25 is formed over the entire surface of the plate-like member. However, the opening 25 of the lower plate portion 23 is formed at a position shifted from the opening 24 of the upper plate portion 22. Therefore, the dust 3 that has fallen from the opening 24 of the upper plate portion 22 contacts the portion 26 other than the opening 25 of the lower plate portion 23 and stays there. A portion 26 of the lower plate portion 23 other than the opening portion 25 (a portion facing the opening portion 23 of the upper plate portion 22) constitutes a dust trapping portion in the second embodiment.

図１１は、上板部２２と下板部２３との組み合わせを説明するための模式図である。上板部２２および下板部２３は、図１１（Ａ）に示すように、互いに同じ直径の開口部２４，２５を同じ配列パターンで形成したものである。例えば、上板部２２を、下板部２３に対して相対的に１８０度回転させることにより、図１１（Ｃ）に示すように、上板部２２の開口部２４の位置と下板部２３の開口部２５の位置とがずれた配置が得られる。 FIG. 11 is a schematic diagram for explaining a combination of the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23. As shown in FIG. 11A, the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 are formed by forming openings 24 and 25 having the same diameter in the same arrangement pattern. For example, by rotating the upper plate portion 22 relative to the lower plate portion 23 by 180 degrees, the position of the opening 24 of the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 are shown in FIG. An arrangement in which the position of the opening 25 is shifted is obtained.

ここでは、上板部２２および下板部２３の開口部２４，２５の直径（内径）を５ｍｍとし、配列ピッチを１３ｍｍとする。なお、開口部２４，２５の直径や配列ピッチがこれらに限定されないことは言うまでもない。 Here, the diameters (inner diameters) of the openings 24 and 25 of the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 are 5 mm, and the arrangement pitch is 13 mm. Needless to say, the diameters and arrangement pitch of the openings 24 and 25 are not limited to these.

上板部２２と下板部２３とを同じ構成にすることで、棚板２１を効率よく製造することができるため、棚２０の製造コストを低減することができる。他の構成は、第１の実施の形態で説明したとおりである。 Since the upper plate part 22 and the lower plate part 23 have the same configuration, the shelf board 21 can be efficiently manufactured, and thus the manufacturing cost of the shelf 20 can be reduced. Other configurations are as described in the first embodiment.

本実施の形態では、図１０に示すように、運搬容器１の取り扱い時に発生する塵埃３や、他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が、上板部２２の開口部２４から落下すると、下板部２３の開口部２５以外の部分２６に当接して、そこに留まる。そのため、下段の棚板２１に置かれた運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。 In the present embodiment, as shown in FIG. 10, dust 3 generated during handling of the transport container 1 or dust 3 brought into the transport container 1 from other areas is brought into the opening of the upper plate portion 22. When falling from 24, it comes into contact with the portion 26 other than the opening 25 of the lower plate portion 23 and stays there. Therefore, the dust 3 is prevented from falling on the transport container 1 placed on the lower shelf board 21.

また、上板部２２および下板部２３が、空気を通過させる開口部２４，２５を有しているため、気流溜まり１８（図９）が生じにくい。 Moreover, since the upper plate part 22 and the lower plate part 23 have the openings 24 and 25 through which air passes, the air flow pool 18 (FIG. 9) is unlikely to occur.

なお、下板部２３（開口部２５以外の部分２６）の上には塵埃３が堆積するため、その堆積状況に応じて、真空掃除機等により除去することが好ましい。 In addition, since the dust 3 accumulates on the lower plate part 23 (part 26 other than the opening part 25), it is preferable to remove with a vacuum cleaner etc. according to the deposition condition.

以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、棚板２１を、何れも開口部を有する上板部２２と下板部２３とで構成し、上板部２２と下板部２３とを、互いの開口部２４，２５の位置がずれるように配置したため、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３、または他のエリアから運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３を、下板部２３の開口部２５以外の部分２６で捕捉することができる。これにより、下段の運搬容器１への塵埃３の付着を防止し、製品不良の低減に資することができる。 As described above, according to the second embodiment of the present invention, the shelf plate 21 is composed of the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 each having an opening, and the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 are formed. Since the plate portion 23 is arranged so that the positions of the openings 24 and 25 are shifted from each other, the dust 3 generated when the transport container 1 is handled, or the dust 3 brought into the transport container 1 from another area and brought into the transport container 1. Can be captured by the portion 26 other than the opening 25 of the lower plate portion 23. Thereby, adhesion of the dust 3 to the lower conveyance container 1 can be prevented, and it can contribute to reduction of a product defect.

なお、ここでは、上板部２２および下板部２３が、円形の開口部２４，２５を有する場合について説明したが、上板部２２および下板部２３の開口部の位置が互いにずれていれば、例えばスリット状の開口部であってもよい。 Here, the case where the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 have circular openings 24 and 25 has been described, but the positions of the openings of the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 are shifted from each other. For example, it may be a slit-shaped opening.

変形例．
図１２は、第２の実施の形態の変形例に係る棚２０Ａを示す斜視図である。この変形例の棚２０Ａでは、下板部２３の開口部２５の周囲に、塵埃飛散防止用の縁２８が形成されている。また、下板部２３の外周縁に沿って、縁２９が形成されている。縁２８，２９の高さは、例えば１ｍｍ程度である。このように縁２８，２９を形成することにより、下板部２３の開口部２５以外の部分２６上に留まった塵埃３が、気流の影響により飛散して開口部２５から落下し、下段に置かれた運搬容器１に付着することが防止される。 Modified example.
FIG. 12 is a perspective view showing a shelf 20A according to a modification of the second embodiment. In the shelf 20 </ b> A of this modification, an edge 28 for preventing dust scattering is formed around the opening 25 of the lower plate part 23. Further, an edge 29 is formed along the outer peripheral edge of the lower plate portion 23. The height of the edges 28 and 29 is, for example, about 1 mm. By forming the edges 28 and 29 in this way, the dust 3 remaining on the portion 26 other than the opening portion 25 of the lower plate portion 23 is scattered by the influence of the air flow and falls from the opening portion 25 and is placed on the lower stage. Adhering to the transport container 1 is prevented.

第３の実施の形態．
図１３は、第３の実施の形態における棚３０を示す斜視図である。第３の実施の形態における棚３０は、第１の実施の形態で説明した粘着マットと、第２の実施の形態で説明した構成とを組み合わせたものである。 Third embodiment.
FIG. 13 is a perspective view showing the shelf 30 in the third embodiment. The shelf 30 in the third embodiment is a combination of the adhesive mat described in the first embodiment and the configuration described in the second embodiment.

棚３０は、製品を収納した運搬容器１を載置するための棚板３１を備えている。ここでは、上下に２段の棚板３１を備えているが、段数は任意であり、１段であってもよい。各棚板３１は、上板部３２と下板部３３とで構成されている。また、各棚板３１は、上面視で略長方形であり、４本の支柱３７によって支持されている。 The shelf 30 includes a shelf plate 31 on which the transport container 1 that stores products is placed. Here, although two-stage shelf boards 31 are provided on the upper and lower sides, the number of stages is arbitrary and may be one. Each shelf 31 includes an upper plate portion 32 and a lower plate portion 33. Each shelf 31 is substantially rectangular when viewed from above, and is supported by four columns 37.

上板部３２は、板状部材の全面に亘って円形の開口部３４を形成したパンチング棚板で形成されており、運搬容器１を支持するのに十分な強度を有している。 The upper plate portion 32 is formed of a punching shelf plate in which a circular opening 34 is formed over the entire surface of the plate-like member, and has sufficient strength to support the transport container 1.

一方、下板部３３は、板状部材の全面に亘って円形の開口部を形成したパンチング棚板（支持板３８）の表面に、粘着マット３５（塵埃捕捉部）を取り付けたものである。粘着マット３５は、第１の実施の形態で説明した粘着マット１５（図９）とほぼ同様であるが、粘着マット３５の全面に亘って開口部３６が形成されている点が異なる。粘着マット３５の開口部３６は、支持板３８の開口部と同じ形状、同じ大きさで、なお且つ互いに重なり合うように形成されている。 On the other hand, the lower plate portion 33 is obtained by attaching an adhesive mat 35 (dust trapping portion) to the surface of a punching shelf plate (support plate 38) in which a circular opening is formed over the entire surface of the plate-like member. The adhesive mat 35 is substantially the same as the adhesive mat 15 (FIG. 9) described in the first embodiment, except that an opening 36 is formed over the entire surface of the adhesive mat 35. The opening 36 of the adhesive mat 35 is formed to have the same shape and the same size as the opening of the support plate 38 and overlap each other.

粘着マット３５の開口部３６は、上板部３２の開口部３４に対してずれた位置に形成されている。上板部３３と下板部３４の開口部３４，３６の関係は、第２の実施の形態における上板部２２と下板部２３の開口部２４，２５の関係と同様である。他の構成は、第２の実施の形態において説明したとおりである。 The opening portion 36 of the adhesive mat 35 is formed at a position shifted from the opening portion 34 of the upper plate portion 32. The relationship between the openings 34 and 36 of the upper plate portion 33 and the lower plate portion 34 is the same as the relationship between the openings 24 and 25 of the upper plate portion 22 and the lower plate portion 23 in the second embodiment. Other configurations are as described in the second embodiment.

本実施の形態では、運搬容器１の取り扱い時に発生した塵埃３や、運搬容器１に付着して持ち込まれた塵埃３が、上板部３２の開口部３４から落下すると、下板部３３の粘着マット３５によって捕捉されるため、下段の運搬容器１に塵埃３が降りかかることが防止される。加えて、粘着マット３５の粘着力により塵埃３を捕捉することで、塵埃３の飛散防止効果をさらに向上することができる。 In the present embodiment, when the dust 3 generated during handling of the transport container 1 or the dust 3 brought in contact with the transport container 1 falls from the opening 34 of the upper plate portion 32, the adhesion of the lower plate portion 33. Since it is captured by the mat 35, the dust 3 is prevented from falling on the lower transport container 1. In addition, by capturing the dust 3 by the adhesive force of the adhesive mat 35, the effect of preventing the dust 3 from scattering can be further improved.

また、上板部３２および下板部３３が、開口部３４，３６を有するため、気流溜まり１８（図９）が生じにくい。さらに、仮に気流溜まり１８（図９）が生じても、粘着マット３５により塵埃３を捕捉できるため、運搬容器１や製品２への付着を防止することができる。 Moreover, since the upper board part 32 and the lower board part 33 have the opening parts 34 and 36, the airflow pool 18 (FIG. 9) does not arise easily. Furthermore, even if the air flow pool 18 (FIG. 9) is generated, the dust 3 can be captured by the adhesive mat 35, so that adhesion to the transport container 1 and the product 2 can be prevented.

なお、ここでは、上板部３２および下板部３３が、円形の開口部３４，３６を有する場合について説明したが、上板部３２および下板部３３の開口部の位置が互いにずれていれば、例えばスリット状の開口部であってもよい。 Here, the case where the upper plate portion 32 and the lower plate portion 33 have circular openings 34 and 36 has been described. However, the positions of the openings of the upper plate portion 32 and the lower plate portion 33 are shifted from each other. For example, it may be a slit-shaped opening.

上述した実施の形態１〜３では、製品２を収納した運搬容器１を保管するための棚１０，２０，２０Ａ，３０について説明したが、本発明は、製品の組み立て等を行う作業台に適用することもできる。この場合には、作業台の作業面（上面）をなす部分を、各実施の形態で説明した上板部と下板部で構成すればよい。なお、本明細書では、作業台も含む概念として「棚」という語を使用している。 In Embodiments 1 to 3 described above, the shelves 10, 20, 20A, and 30 for storing the transport container 1 containing the product 2 have been described. However, the present invention is applied to a workbench that performs product assembly and the like. You can also In this case, the portion forming the work surface (upper surface) of the workbench may be constituted by the upper plate portion and the lower plate portion described in each embodiment. In this specification, the term “shelf” is used as a concept including a work table.

また、上述した実施の形態１〜３は、半導体の製造プロセスに限らず、例えば、液晶やプラズマディスプレイなどの電子部品の製造プロセスにも適用することができる。 The first to third embodiments described above can be applied not only to a semiconductor manufacturing process but also to a manufacturing process of an electronic component such as a liquid crystal display or a plasma display.

１運搬容器、１Ａ蓋、２製品、３塵埃、１０棚、１１棚板、１２上板部、１２ａ開口部、１３下板部、１４支持板、１５粘着マット（塵埃捕捉部）、１７支柱、１８気流溜まり、２０，２０Ａ棚、２１棚板、２２上板部、２３下板部、２４，２５開口部、２６開口部以外の部分（塵埃捕捉部）、２７支柱、２８，２９縁、３０棚、３１棚板、３２上板部、３３下板部、３４，３６開口部、３５粘着マット（塵埃捕捉部）、３７支柱、３８支持板、１０１グレーチング、１０２プレフィルタ、１０３台車、１０４気流。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transport container, 1A Cover, 2 Product, 3 Dust, 10 Shelf, 11 Shelf board, 12 Upper board part, 12a Opening part, 13 Lower board part, 14 Support plate, 15 Adhesive mat (Dust capture part), 17 Prop, 18 Airflow accumulation, 20, 20A Shelf, 21 Shelf plate, 22 Upper plate part, 23 Lower plate part, 24, 25 Opening part, 26 Parts other than the opening part (dust trapping part), 27 Prop, 28, 29 edge, 30 Shelf, 31 Shelf, 32 Upper plate, 33 Lower plate, 34, 36 Opening, 35 Adhesive mat (dust trapping part), 37 Support, 38 Support plate, 101 Grating, 102 Prefilter, 103 Dolly, 104 Airflow .

Claims

クリーンルームで用いられる棚であって、
少なくとも１段の棚板を備え、
各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、
前記上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、
前記下板部は、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有すること
を特徴とする棚。 A shelf used in a clean room,
With at least one shelf
Each shelf plate has an upper plate portion and a lower plate portion that are arranged to be opposed to each other vertically with a predetermined interval,
The upper plate portion has a plurality of openings through which air passes,
The shelf, wherein the lower plate portion has a dust trapping portion that traps dust at least in a portion of the upper plate portion facing the plurality of openings.

前記棚は、半導体製造プロセスにおいて、製品を収容した運搬容器の保管に用いられることを特徴とする請求項１に記載の棚。 The shelf according to claim 1, wherein the shelf is used for storing a transport container containing a product in a semiconductor manufacturing process.

前記塵埃捕捉部は、粘着性を有する部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の棚。 The shelf according to claim 1 or 2, wherein the dust trapping part is an adhesive member.

前記粘着性を有する部材は、粘着マットであることを特徴とする請求項３に記載の棚。 The shelf according to claim 3, wherein the adhesive member is an adhesive mat.

前記粘着マットは、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項４に記載の棚。 The shelf according to claim 4, wherein the adhesive mat is configured by stacking a plurality of peelable films.

前記塵埃捕捉部は、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の棚。 The shelf according to claim 1, wherein the dust capturing unit is a member having a structure that allows air to pass therethrough but captures dust.

前記塵埃捕捉部は、プレフィルタであることを特徴とする請求項６に記載の棚。 The shelf according to claim 6, wherein the dust catcher is a pre-filter.

前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項１から７までのいずれか１項に記載の棚。 The lower plate portion has a plurality of openings formed at positions that do not overlap with the plurality of openings of the upper plate portion,
The shelf according to any one of claims 1 to 7, wherein a portion of the lower plate portion other than the plurality of openings constitutes the dust trapping portion.

前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項８に記載の棚。 The upper plate portion and the lower plate portion are arranged by rotating two plate-like members having a plurality of openings arranged in the same pattern relative to each other by 180 degrees. The shelf according to claim 8.

前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項８または９に記載の棚。 The shelf according to claim 8 or 9, wherein an edge portion having a predetermined height is provided around each of the plurality of openings of the lower plate portion.

クリーンルームで用いられる棚の少なくとも１段を構成する棚板であって、
所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、
前記上板部は、空気を通過させる複数の開口部を有し、
前記下板部は、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有すること
を特徴とする棚板。 A shelf board constituting at least one shelf used in a clean room,
It has an upper plate portion and a lower plate portion that are arranged opposite to each other at a predetermined interval,
The upper plate portion has a plurality of openings through which air passes,
The lower plate part has a dust catching part for catching dust at least in a portion facing the plurality of openings of the upper plate part.

前記棚板は、半導体製造プロセスにおいて、製品を収容した運搬容器の保管に用いられることを特徴とする請求項１１に記載の棚板。 The shelf board according to claim 11, wherein the shelf board is used for storage of a transport container containing a product in a semiconductor manufacturing process.

前記塵埃捕捉部は、粘着性を有する部材であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の棚板。 The shelf according to claim 11 or 12, wherein the dust catcher is an adhesive member.

前記粘着性を有する部材は、粘着マットであることを特徴とする請求項１３に記載の棚板。 The shelf board according to claim 13, wherein the adhesive member is an adhesive mat.

前記粘着マットは、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項１４に記載の棚板。 The shelf board according to claim 14, wherein the adhesive mat is configured by stacking a plurality of peelable films.

前記塵埃捕捉部は、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の棚板。 The shelf according to claim 11 or 12, wherein the dust trapping part is a member having a structure for trapping dust while allowing air to pass therethrough.

前記塵埃捕捉部は、プレフィルタであることを特徴とする請求項１６に記載の棚板。 The shelf board according to claim 16, wherein the dust trapping part is a pre-filter.

前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項１１から１７までのいずれか１項に記載の棚板。 The lower plate portion has a plurality of openings formed at positions that do not overlap with the plurality of openings of the upper plate portion,
The shelf board according to any one of claims 11 to 17, wherein a part of the lower plate part other than the plurality of openings constitutes the dust catching part.

前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項１８に記載の棚板。 The upper plate portion and the lower plate portion are arranged by rotating two plate-like members having a plurality of openings arranged in the same pattern relative to each other by 180 degrees. The shelf board according to claim 18.

前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項１８または１９に記載の棚板。 The shelf board according to claim 18 or 19, wherein an edge portion having a predetermined height is provided around each of the plurality of openings of the lower plate portion.

クリーンルームにおいて、
少なくとも１段の棚板を有する棚であって、各棚板が、所定の間隔をあけて上下に対向配置された上板部と下板部とを有し、前記上板部が、空気を通過させる複数の開口部を有し、前記下板部が、少なくとも前記上板部の前記複数の開口部に対向する部分に、塵埃を捕捉する塵埃捕捉部を有する棚を用い、
前記棚板に、製品を収納した運搬容器を載置し、
前記塵埃捕捉部により、前記運搬容器から落下した塵埃を捕捉すること
を特徴とする塵埃の捕捉方法。 In a clean room,
It is a shelf having at least one shelf plate, and each shelf plate has an upper plate portion and a lower plate portion that are vertically opposed to each other with a predetermined interval, and the upper plate portion has air. Using a shelf having a plurality of openings to be passed, and the lower plate portion having a dust catching portion for catching dust at least in a portion facing the plurality of openings of the upper plate portion,
On the shelf plate is placed a transport container containing the product,
The method for capturing dust, wherein the dust capturing unit captures dust that has fallen from the transport container.

前記塵埃の捕捉方法は、半導体製造プロセスにおいて行われることを特徴とする塵埃の請求項２１に記載の塵埃の捕捉方法。 The dust capturing method according to claim 21, wherein the dust capturing method is performed in a semiconductor manufacturing process.

前記塵埃捕捉部として、粘着性を有する部材を用いることを特徴とする請求項２１または２２に記載の塵埃の捕捉方法。 The dust trapping method according to claim 21 or 22, wherein an adhesive member is used as the dust trapping part.

前記粘着性を有する部材として、粘着マットを用いることを特徴とする請求項２３に記載の塵埃の捕捉方法。 The dust capturing method according to claim 23, wherein an adhesive mat is used as the adhesive member.

前記粘着マットとして、剥離可能な複数層のフィルムを重ね合わせたものを用いることを特徴とする請求項２４に記載の塵埃の捕捉方法。 The dust trapping method according to claim 24, wherein the adhesive mat is a laminate of a plurality of peelable films.

前記塵埃捕捉部として、空気は通過させるが、塵埃を捕捉する構造を有する部材を用いることを特徴とする請求項２１または２２に記載の塵埃の捕捉方法。 23. The dust capturing method according to claim 21, wherein a member having a structure that captures dust is used as the dust capturing unit, although air is allowed to pass therethrough.

前記塵埃捕捉部として、プレフィルタを用いることを特徴とする請求項２６に記載の塵埃の捕捉方法。 27. The dust capturing method according to claim 26, wherein a pre-filter is used as the dust capturing unit.

前記下板部は、前記上板部の複数の開口部と重なり合わない位置に形成された複数の開口部を有し、
前記下板部の前記複数の開口部以外の部分が、前記塵埃捕捉部を構成することを特徴とする請求項２１から２７までのいずれか１項に記載の塵埃の捕捉方法。 The lower plate portion has a plurality of openings formed at positions that do not overlap with the plurality of openings of the upper plate portion,
The dust trapping method according to any one of claims 21 to 27, wherein portions other than the plurality of openings of the lower plate portion constitute the dust trapping portion.

前記上板部および前記下板部は、互いに同一のパターンで配列された複数の開口部を有する２つの板状部材を、相対的に１８０度回転させて配置したものであることを特徴とする請求項２８に記載の塵埃の捕捉方法。 The upper plate portion and the lower plate portion are arranged by rotating two plate-like members having a plurality of openings arranged in the same pattern relative to each other by 180 degrees. The dust capturing method according to claim 28.

前記下板部の前記複数の開口部のそれぞれの周囲に、所定の高さの縁部を設けたことを特徴とする請求項２８または２９に記載の塵埃の捕捉方法。
30. The dust capturing method according to claim 28, wherein an edge portion having a predetermined height is provided around each of the plurality of openings of the lower plate portion.