JP2013054908A - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents
走査型電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013054908A JP2013054908A JP2011192266A JP2011192266A JP2013054908A JP 2013054908 A JP2013054908 A JP 2013054908A JP 2011192266 A JP2011192266 A JP 2011192266A JP 2011192266 A JP2011192266 A JP 2011192266A JP 2013054908 A JP2013054908 A JP 2013054908A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- scanning
- sample
- range
- image shift
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査する場合には、試料上の電子線の照射対象位置が、イメージシフトを制御可能な第一の範囲よりも小さな第二の範囲内にあるときにはイメージシフトを用いた視野移動を行い、前記第二の範囲を超えるときにはステージ移動を行う。このような構成によれば、ビーム径の影響を受けない条件下においてステージ移動に対する相対的なイメージシフトによる視野移動量を増大させることができるため、高速かつ高精度に試料の観察、測定を行うことが可能になる。
【選択図】 図1
Description
(X1−X0)2+(Y1−Y0)2≦r2 …(1)
2 第一陽極
3 第二陽極
4 電子線
5、6 集束レンズ
7 対物レンズ
8 絞り板
9 反射板
10 試料
11 試料ステージ
12 二次信号電子
13 偏向コイル(上段)
14 偏向コイル(下段)
15 変換二次電子
16 電磁界直交型偏向器(ExB偏向器)
17 信号検出器
18 信号増幅器
19 加速電極
21、22 イメージシフトの時の電子線軌道
23 偏向コイル
30 高電圧制御電源
31、32 集束レンズ制御電源
33 偏向コイル制御電源
36 対物レンズ制御電源
37 試料印加電源
38 加速電極電源
40 制御演算装置
41 画像メモリ
42 像表示装置
43 記憶装置
44 入力装置
Claims (18)
- 電子源と、
前記電子源から放出される電子線を加速する加速電圧が印加される電源と、
前記電子線を偏向走査する偏向器と、
試料を搭載する試料ステージと、
前記電子線が照射された試料から発生する電子から得られる信号を検出する検出器と、
前記試料上における電子線の照射対象位置が、前記試料の第一の範囲内にあるときには前記偏向器に偏向信号を与え、前記第一の範囲を超えるときには前記試料ステージを移動して前記電子線の照射位置を前記照射対象位置に近づけるように移動させる制御コンピュータと、を備えた走査型電子顕微鏡において、
前記制御コンピュータは、
前記電子線が所定の走査幅よりも大きい領域を走査する場合には、前記第一の範囲内において前記偏向器に偏向信号を与え、
前記電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査する場合には、
前記試料上の電子線の照射対象位置が、前記試料の第一の範囲よりも小さい第二の範囲内にあるときには前記偏向器に偏向信号を与え、前記第二の範囲を超えるときには前記試料ステージを移動することを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記制御コンピュータは、
前記電子線の偏向位置と、前記電子線のビーム径に関する値の変化量とを関連付けたデータを記憶する記憶部を備え、
前記第二の範囲は、前記記憶部に記憶されたデータに基づいて設定されることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項2において、
前記第二の範囲は、前記電子線のビーム径に関する値の変化量が最も小さくなるときの前記試料上の偏向位置を中心位置として設定されることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記所定の走査幅は、
前記制御コンピュータが前記検出器に検出される信号に基づいて形成する画像における画素の大きさが、前記電子線のビーム径よりも小さくなるときの走査幅であることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項2において、
前記電子線のビーム径に関する値は、
当該検出器が検出した信号に基づいて形成される画像のコントラストの変化によって求められる特徴量であることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項5において、
前記特徴量は、
像シャープネス値であることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項2において、
前記電子線のビーム径に関する値は、
当該検出器が検出した信号に基づいて形成されるラインプロファイルに基づいて求められる寸法値であることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項2において、
前記記憶部は、前記制御コンピュータによって制御される光学条件ごとに、
前記電子線の偏向位置と、前記電子線のビーム径に関する値の変化量とを関連付けたデータを記憶することを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項8において、
前記光学条件は、
前記電源に印加する電圧、対物レンズに与える信号、或いは電子線のビーム開き角のうち、少なくとも1つ以上であることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項2において、
前記制御コンピュータは、
前記記憶部に記憶させるデータに関する情報を入力する入力部を備えることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項10において、
前記制御コンピュータは、
前記入力部に入力する情報、及び入力結果を画面上に表示するユーザインターフェースを備えたことを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 電子源と、
前記電子源から放出される電子線を集束する集束レンズと、
前記電子線を偏向する複数の偏向器と、
試料を搭載する試料ステージと、
前記電子線が照射された試料から発生する電子から得られる信号を検出する検出器と、
前記試料上の電子線の照射目的位置が、前記試料の所定の範囲内にあるときには前記偏向器に偏向信号を与え、前記所定の範囲を超えるときには前記試料ステージを移動して前記電子線の照射位置を制御する制御コンピュータと、を備えた走査型電子顕微鏡において、
前記制御コンピュータは、
前記電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査するとき、
前記複数の偏向器のうち、少なくとも1つ以上の偏向器に選択的に偏向信号を与えることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項11において、
前記所定の走査幅は、
前記制御コンピュータが前記検出器に検出される信号に基づいて形成する画像における画素の大きさが、前記電子線のビーム径よりも小さくなるときの走査幅であることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項11において、
前記制御コンピュータは、
前記電子線のビーム径に関する値の変化量が最も小さくなるように、
前記複数の偏向器のうち、
少なくとも1つ以上の偏向器に選択的に信号を与えることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項13において、
当該選択的に信号が与えられる偏向器には、
前記集束レンズのクロスオーバーが存在する位置に配置された偏向器が含まれることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 試料上における電子線の照射対象位置が、前記試料の第一の範囲内にあるときには偏向器を制御して前記電子線を偏向し、前記第一の範囲を超えるときには前記試料を搭載する試料ステージを移動して前記電子線の照射位置を移動する電子線の照射方法において、
前記電子線が所定の走査幅よりも大きい領域を走査する場合には、前記第一の範囲内において前記偏向器に偏向信号を与え、
前記電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査する場合には、
前記試料上の電子線の照射対象位置が、前記試料の第一の範囲よりも小さい第二の範囲内にあるときには前記偏向器に偏向信号を与え、前記第二の範囲を超えるときには前記試料ステージを移動することを特徴とする電子線の移動方法。 - 請求項16において、
前記電子線の偏向位置と、前記電子線のビーム径に関する値の変化量とを関連付けたデータを記憶し、
前記第二の範囲は、当該記憶されたデータに基づいて設定されることを特徴とする電子線の移動方法。 - 請求項16において、
前記所定の走査幅は、
前記制御コンピュータが前記検出器に検出される信号に基づいて形成する画像における画素の大きさが、前記電子線のビーム径よりも小さくなるときの走査幅であることを特徴とする電子線の移動方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011192266A JP5588944B2 (ja) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 走査型電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011192266A JP5588944B2 (ja) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 走査型電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013054908A true JP2013054908A (ja) | 2013-03-21 |
JP5588944B2 JP5588944B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=48131726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011192266A Active JP5588944B2 (ja) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 走査型電子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5588944B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010177479A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム装置 |
JP2015035379A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡を用いた処理装置及び処理方法 |
WO2017018432A1 (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP2018132514A (ja) * | 2017-02-18 | 2018-08-23 | 株式会社ホロン | 長寸法測定方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01211843A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
JPH03257750A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-18 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JPH05325861A (ja) * | 1992-05-19 | 1993-12-10 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡等における試料撮影装置 |
JPH1050245A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置における焦点合わせ方法 |
JP2000067797A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-03-03 | Hitachi Ltd | パターン検査装置およびその方法 |
JP2002286663A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Jeol Ltd | 試料分析および試料観察装置 |
JP2005019001A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-20 | Jeol Ltd | 静電型偏向器および静電型偏向器を備えた荷電粒子ビーム装置 |
JP2007220615A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線画像生成方法 |
JP2010175318A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
-
2011
- 2011-09-05 JP JP2011192266A patent/JP5588944B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01211843A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
JPH03257750A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-18 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JPH05325861A (ja) * | 1992-05-19 | 1993-12-10 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡等における試料撮影装置 |
JPH1050245A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置における焦点合わせ方法 |
JP2000067797A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-03-03 | Hitachi Ltd | パターン検査装置およびその方法 |
JP2002286663A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Jeol Ltd | 試料分析および試料観察装置 |
JP2005019001A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-20 | Jeol Ltd | 静電型偏向器および静電型偏向器を備えた荷電粒子ビーム装置 |
JP2007220615A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線画像生成方法 |
JP2010175318A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010177479A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム装置 |
JP2015035379A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡を用いた処理装置及び処理方法 |
WO2017018432A1 (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US10304654B2 (en) | 2015-07-29 | 2019-05-28 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
JP2018132514A (ja) * | 2017-02-18 | 2018-08-23 | 株式会社ホロン | 長寸法測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5588944B2 (ja) | 2014-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9922796B1 (en) | Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device | |
US10453645B2 (en) | Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device | |
US6853143B2 (en) | Electron beam system and method of manufacturing devices using the system | |
JP5103033B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
US8222601B2 (en) | Scanning electron microscope and method of imaging an object by using the scanning electron microscope | |
JP4679978B2 (ja) | 荷電粒子ビーム応用装置 | |
JP6966255B2 (ja) | 画像取得装置の光学系調整方法 | |
US8338781B2 (en) | Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus | |
TW202004816A (zh) | 多電子束影像取得裝置以及多電子束光學系統的定位方法 | |
JP2001273861A (ja) | 荷電ビーム装置およびパターン傾斜観察方法 | |
WO2017018432A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2013178103A (ja) | パターン寸法測定装置、及びコンピュータプログラム | |
JP2014123565A (ja) | 2次電子光学系及び検出デバイス | |
JP4359232B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5588944B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP2020119682A (ja) | マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム照射方法 | |
JP2016189335A (ja) | 試料観察方法及び試料観察装置 | |
JP2009170150A (ja) | 検査計測装置および検査計測方法 | |
JPWO2012042738A1 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP6632863B2 (ja) | 電子ビーム検査・測長装置用の電子ビーム径制御方法及び電子ビーム径制御装置、並びに電子ビーム検査・測長装置 | |
US10297418B2 (en) | Method of reducing coma and chromatic aberration in a charged particle beam device, and charged particle beam device | |
JP5548244B2 (ja) | 検査計測装置および検査計測方法 | |
US20230402253A1 (en) | Multi charged particle beam evaluation method, multi charged particle beam writing method, inspection method for aperture array substrate for multi charged particle beam irradiation apparatus, and computer-readable recording medium | |
US20240212968A1 (en) | Lens for a charged particle beam apparatus, charged particle beam apparatus, and method of focusing a charged particle beam | |
US20240170249A1 (en) | Charged particle beam system, corrector for aberration correction of a charged particle beam, and method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140408 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140606 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140701 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140728 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5588944 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |