JP2013054072A - 露光マスク、ペリクル、半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ペリクルに一体的に、露光パタ―ンが形成されているレチクルの露光領域を避けて、可視光を透過するが紫外光は透過しないカバー膜を形成する。
【選択図】図3B
Description
図1は、本実施形態で使われるスキャナとよばれる縮小投影露光装置10の例を示す。
図9は、第2の実施形態で使われるレチクル14Bの構成を示す平面図である。図9中、先に図2Aで説明した部分には同一の参照符号を付し説明を省略する。
11 光源
11A 露光ビーム
11B 迷光
12 ウェハ走査ステージ
13 レチクル走査ステージ
14,44,140 露光マスク
14A,14B レチクル
15 ミラー
16 コリメートレンズ系
17 投影レンズ系
21 ガラス基板
22 遮光帯
23 露光領域
23A 露光パタ―ン
23B 位置合わせマーク
23C,23D 記号類
25,45 ペリクル
25A フレーム部材
25a,25b 接着剤層
25B ペリクル膜
25C,25D カバー膜
31 ガラス板
32 樹脂材料
Claims (8)
- パタ―ン形成面を有するレチクルと、
前記レチクルの前記パタ―ン形成面上に装着されたペリクルと、を含み、
前記レチクルは、前記パタ―ン形成面のうちの露光領域に露光パタ―ンを、また前記露光領域の外に非露光パタ―ンを担持し、
前記ペリクルは、前記レチクルの前記パタ―ン形成面上に装着され前記露光領域を囲むフレーム部材と、前記フレーム部材のうち、前記レチクルから遠い側の縁部に前記露光領域を覆って設けられ、露光波長の紫外光を透過する保護膜と、を含み、
前記ペリクルはさらに、前記レチクルのパタ―ン形成面の前記非露光パタ―ンを覆うカバー部材を含み、
前記カバー部材は可視光を透過し、前記露光波長の光を遮光する材料より構成されることを特徴とする露光マスク。 - 前記カバー部材は、前記レチクルのパタ―ン形成面のうち、少なくとも前記フレーム部材から遮光帯までの範囲を覆うことを特徴とする請求項1記載の露光マスク。
- 前記カバー部材は、さらに前記レチクルのパタ―ン形成面のうち、前記フレーム部材が装着される領域よりも外側の領域をも覆うことを特徴とする請求項2記載の露光マスク。
- 前記フレーム部材は、前記縁部に対向する縁部が前記パタ―ン形成面に、前記カバー部材を介して接着されていることを特徴とする請求項1〜3のうち、いずれか一項記載の露光マスク。
- 前記カバー部材は前記フレーム部材に対応する部分が前記パタ―ン形成面に、接着剤層を介して接着されていることを特徴とする請求項4記載の露光マスク。
- 前記カバー部材は、前記パタ―ン形成面から離間して設けられていることを特徴とする請求項1〜5のうち、いずれか一項記載の露光マスク。
- フレーム部材と、
前記フレーム部材の一の側の縁部に貼り付けられ、前記フレーム部材が囲む空間を覆う紫外光を透過する膜と、
前記フレームの他方の側の縁部に貼り付けられた、可視光を透過し紫外光を遮光する材料よりなるカバー膜と、を含むペリクルであって、
前記カバー膜は前記フレーム部材の内側において、前記ペリクルが装着されるレチクルのパタ―ン形成面のうち、露光パタ―ンが形成されている領域を避けて形成され、非露光パタ―ンが形成されている領域を覆うことを特徴とするペリクル。 - 請求項1〜6のうち、いずれか一項記載の露光マスクを使って被処理基板を露光する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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