JP2013046060A - リソグラフィ装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを供給する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、基板を保持する基板ホルダと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える。このリソグラフィ装置は、第1方向の明視野強度分布と、第1方向に略垂直な第2方向の暗視野強度分布とを有する放射を用いて、少なくとも使用中、パターンを基板上に結像する。
【選択図】図1
Description
−放射ビームPB(例えば、紫外線またはEUV放射)を調整する照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持し、かつ投影レンズPLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第1位置決めデバイスPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
−基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持し、かつ投影レンズPLに対して基板を正確に位置決めする第2位置決めデバイスPWに連結された基板ホルダ(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームPBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に結像するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズ)PLと、を備える。
1.ステップモードにおいては、サポート構造MTおよび基板ホルダWTを基本的に静止状態に保ちつつ、ビームPBに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板ホルダWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造MTおよび基板ホルダWTを同期的にスキャンする一方で、ビームPBに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造MTに対する基板ホルダWTの速度および方向は、投影システムPLの(縮小)拡大率および像反転特性によって決める。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造MTを基本的に静止状態に保ち、また基板ホルダWTを動かす、またはスキャンする一方で、ビームPBに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板ホルダWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
1)ラインのうちの1つ以上のラインの各々の幅より長く、および/または
2)当該1つ以上のラインより大きいピッチ、および/またはより孤立したフィーチャを有し、および/または
3)暗視野ダイポールの位置合わせ方向に対して垂直に延在するコンポーネント(すなわち、Y方向に延在するギャップエッジ、X方向に延在する暗視野ダイポール)を有するのであり、暗視野放射は、例えば、散乱または回折されて、暗視野放射によって良好なコントラストで結像されるラインのギャップがもたらされる。結果として、単一露光において、ラインおよびギャップの両方が良好なコントラストで解像され、結像されるというものである。
Claims (15)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを供給する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、
基板を保持する基板ホルダと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備え、
前記リソグラフィ装置は、
第1方向の明視野強度分布と、
前記第1方向に略垂直な第2方向の暗視野強度分布と、を有する放射を用いて、少なくとも使用中、パターンを前記基板上に結像する、リソグラフィ装置。 - 前記照明システムは、少なくとも使用中、
前記第1方向の明視野強度分布と、
前記第2方向の暗視野強度分布と、を有する放射を含む照明モードを与えるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記パターニングデバイスは、前記基板上に結像される実質的なラインアンドスペースパターンを与えるように構成され、1つ以上のラインは、各々がラインを分断する1つ以上のギャップを持つ、請求項1または請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ以上のラインは、前記第2方向に沿って延在する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスは、前記1つ以上のギャップの各々が前記1つ以上のラインの各々の幅より長いように構成される、請求項3または請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスは、前記1つ以上のギャップが前記1つ以上のラインより大きいピッチを有し、および/または、前記1つ以上のラインより孤立したフィーチャであるように構成される、請求項3乃至5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスは、前記明視野によって使用中に結像される前記1つ以上のラインをもたらす1つ以上の寸法および/または向きを有する1つ以上のラインを与え、
前記パターニングデバイスは、前記暗視野によって使用中に結像される前記1つ以上のギャップをもたらす1つ以上の寸法および/または向きを有する1つ以上のギャップを与える、請求項3乃至6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記パターニングデバイスは、ほぼ前記明視野のみによって使用中に結像される前記1つ以上のラインをもたらす1つ以上の寸法および/または向きを有する1つ以上のラインを与え、
前記パターニングデバイスは、ほぼ前記暗視野のみによって使用中に結像される前記1つ以上のギャップをもたらす1つ以上の寸法および/または向きを有する1つ以上のギャップを与える、請求項3乃至7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記暗視野強度分布は、前記明視野強度分布より高い強度を有する、請求項1乃至8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記明視野強度分布は、少なくともダイポールを形成し、および/または、
前記暗視野強度分布は、少なくともダイポールを形成する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記パターニングデバイスの下流に位置するマスク構成をさらに備え、該マスク構成は、前記第1方向に分布する暗視野放射が確実に存在するように、前記第1方向に分布する明視野放射の少なくとも一部を遮蔽するように構成される、請求項1乃至10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスは、ハーフトーン型位相シフトパターニングデバイスを含む、または、ハーフトーン型位相シフトパターニングデバイスである、請求項1乃至11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ方法であって、
第1方向の明視野強度分布と、
前記第1方向に略垂直な第2方向の暗視野強度分布と、を有する放射を用いてパターンを基板上に結像することを含む、方法。 - 照明モードであって、
第1方向の明視野強度分布と、
前記第1方向に略垂直な第2方向の暗視野強度分布と、を有する放射を含む、照明モード。 - 瞳面において、前記明視野強度分布は前記第1方向にあり、前記暗視野強度分布は前記第2方向にある、請求項13に記載のリソグラフィ方法、または、請求項14に記載の照明モード。
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