JP2013044545A - 磁気センサ装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板10と、基板10の上に設けられた下地犠牲層20と、下地犠牲層20に接触すると共に下地犠牲層20に接触する部分の面積が下地犠牲層20よりも広い一面31を有するフレキシブル層30と、を備える。フレキシブル層30に複数の磁気抵抗素子部42が設けられている。そして、一つの磁気抵抗素子部42のピン磁性層42aの磁化の向きが基板10の表面11に対して平行に向けられていることによりX軸方向もしくはY軸方向の磁化が検出される。また、フレキシブル層30が下地犠牲層20との接触箇所を起点として半円筒状に反っていることにより、一つの磁気抵抗素子部42のピン磁性層42aの磁化の向きがX軸およびY軸に対して傾けられ、これによりZ軸方向の磁化が検出される。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。本実施形態に係る磁気センサ装置は、例えば自動車用のエンジン回転数検出やハンドル回転角検出等に使用されるものである。本実施形態では、磁気センサ装置として回転角を検出する回転角センサを例に説明する。
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分について説明する。図7は、本実施形態に係る磁気センサ装置の概略斜視図である。この図に示されるように、フレキシブル層30は保護部材50で覆われている。保護部材50の材料としては例えば樹脂材料が用いられる。
本実施形態では、第1、第2実施形態と異なる部分について説明する。図8は、本実施形態に係る磁気センサ装置の概略斜視図である。この図に示されるように、フレキシブル層30は、円筒状に反っている。このような形態は、図6(b)に示す工程において、フレキシブル層30のうちX軸方向における一端部側と反対側の他端部側とが接触するまでフレキシブル層30を反らせることで実現することができる。
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分について説明する。図9は、本実施形態に係る磁気センサ装置の概略斜視図である。この図に示されるように、フレキシブル層30は椀状に反っている。ここで、「椀状」とは、球状体の殻の一部の形状であったり、コンタクトレンズの形状を指す。
上記各実施形態で示された磁気センサ装置の構成は一例であり、上記で示した構成に限定されることなく、本発明を実現できる他の構成とすることもできる。例えば、上記各実施形態では、磁気センサ装置は車両に適用されるものとして説明したが、もちろん車両に限らず回転角度を検出するものとして広く利用できる。
11 表面
20 下地犠牲層
30 フレキシブル層
31 一面
42 磁気抵抗素子部
42a ピン磁性層
42c フリー磁性層
50 保護部材
Claims (10)
- 表面(11)を有する基板(10)と、
前記基板(10)の表面(11)に設けられた下地犠牲層(20)と、
前記下地犠牲層(20)に接触すると共に前記下地犠牲層(20)に接触する部分の面積が前記下地犠牲層(20)よりも大きい一面(31)を有するフレキシブル層(30)と、
外部の磁場の影響を受けて磁化の向きが変化するフリー磁性層(42c)と、磁化の向きが固定されたピン磁性層(42a)と、を有し、前記フレキシブル層(30)に形成された複数の磁気抵抗素子部(42)と、
を備え、
前記複数の磁気抵抗素子部(42)のピン磁性層(42a)の磁化の向きが前記フレキシブル層(30)の一面(31)に平行な面方向の一方向にそれぞれ向けられており、
前記複数の磁気抵抗素子部(42)が外部の磁場の影響を受けたときの前記複数の磁気抵抗素子部(42)の抵抗値の変化に基づいて物理量を検出する磁気センサ装置であって、
前記基板(10)の表面(11)に平行な一方向をX軸とし、当該基板(10)の表面(11)において前記X軸に垂直な方向をY軸とし、これらX軸およびY軸に垂直な方向をZ軸とすると、
前記複数の磁気抵抗素子部(42)のうちの一部のピン磁性層(42a)の磁化の向きが前記基板(10)の表面(11)に対して平行に向けられていることにより前記X軸方向もしくは前記Y軸方向の物理量が検出され、
前記フレキシブル層(30)が前記下地犠牲層(20)との接触箇所を起点として反っていると共に、前記複数の磁気抵抗素子部(42)の一部とは異なる一部のピン磁性層(42a)の磁化の向きが前記X軸および前記Y軸に対して傾けられていることにより、前記Z軸方向の物理量が検出されることを特徴とする磁気センサ装置。 - 前記フレキシブル層(30)は、半円筒状に反っていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ装置。
- 前記フレキシブル層(30)は、円筒状に反っていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ装置。
- 前記フレキシブル層(30)は、椀状に反っていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ装置。
- 前記フレキシブル層(30)は、保護部材(50)により覆われていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の磁気センサ装置。
- 表面(11)を有する基板(10)と、
前記基板(10)の表面(11)に設けられた下地犠牲層(20)と、
前記下地犠牲層(20)に接触すると共に前記下地犠牲層(20)に接触する部分の面積が前記下地犠牲層(20)よりも大きい一面(31)を有するフレキシブル層(30)と、
外部の磁場の影響を受けて磁化の向きが変化するフリー磁性層(42c)と、磁化の向きが固定されたピン磁性層(42a)と、を有し、前記フレキシブル層(30)に形成された複数の磁気抵抗素子部(42)と、
を備え、
前記複数の磁気抵抗素子部(42)のピン磁性層(42a)の磁化の向きが前記フレキシブル層(30)の一面(31)に平行な面方向の一方向にそれぞれ向けられており、
前記複数の磁気抵抗素子部(42)が外部の磁場の影響を受けたときの前記複数の磁気抵抗素子部(42)の抵抗値の変化に基づいて物理量を検出する磁気センサ装置の製造方法であって、
前記基板(10)を用意する工程と、
前記基板(10)の表面(11)に下地層(21)を形成する工程と、
前記下地層(21)の上に前記フレキシブル層(30)を形成し、このフレキシブル層(30)に前記複数の磁気抵抗素子部(42)を形成する工程と、
磁場の向きが前記フレキシブル層(30)の一面(31)の面方向の一方向に設定された磁場中に前記複数の磁気抵抗素子部(42)を配置し、前記複数の磁気抵抗素子部(42)を加熱して磁場中アニールを行うことにより、前記複数の磁気抵抗素子部(42)を構成するピン磁性層(42a)の磁化の向きをそれぞれ前記一方向に着磁する工程と、
前記下地層(21)のうち前記フレキシブル層(30)の一面(31)に接触する部分の面積が前記フレキシブル層(30)の一面(31)の面積よりも小さくなるように前記下地層(21)の一部を除去することにより、前記下地犠牲層(20)を形成する工程と、
前記基板(10)の表面(11)に平行な一方向をX軸とし、当該基板(10)の表面(11)において前記X軸に垂直な方向をY軸とし、これらX軸およびY軸に垂直な方向をZ軸と定義し、前記フレキシブル層(30)を前記下地犠牲層(20)との接触箇所を起点として反らせることにより、前記複数の磁気抵抗素子部(42)のうちの一部のピン磁性層(42a)の磁化の向きを前記基板(10)の表面(11)に平行な面方向に向けると共に、前記複数の磁気抵抗素子部(42)の一部とは異なる一部のピン磁性層(42a)の磁化の向きを前記基板(10)の表面(11)に対して傾ける工程と、を含んでいることを特徴とする磁気センサ装置の製造方法。 - 前記フレキシブル層(30)を反らせる工程では、前記フレキシブル層(30)を半円筒状に反らせることを特徴とする請求項6に記載の磁気センサ装置の製造方法。
- 前記フレキシブル層(30)を反らせる工程では、前記フレキシブル層(30)を円筒状に反らせることを特徴とする請求項6に記載の磁気センサ装置の製造方法。
- 前記フレキシブル層(30)を反らせる工程では、前記フレキシブル層(30)を椀状に反らせることを特徴とする請求項6に記載の磁気センサ装置の製造方法。
- 前記フレキシブル層(30)を反らせる工程の後、前記フレキシブル層(30)を保護部材(50)で覆う工程を含んでいることを特徴とする請求項6ないし9のいずれか1つに記載の磁気センサ装置の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JPH07244142A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Fujitsu Ltd | 磁気センサ |
JPH08510059A (ja) * | 1994-02-28 | 1996-10-22 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 磁束測定装置 |
JP2006010591A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Hitachi Metals Ltd | 3軸方位センサー |
JP2006261401A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Yamaha Corp | 磁気センサおよびその製法 |
US20070205766A1 (en) * | 2006-03-03 | 2007-09-06 | Futoyoshi Kou | Magnetoresistance effect element, substrate therefor and manufacturing method thereof |
JP2007235051A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Ricoh Co Ltd | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果素子の基板および磁気抵抗効果素子の製造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08510059A (ja) * | 1994-02-28 | 1996-10-22 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 磁束測定装置 |
JPH07244142A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Fujitsu Ltd | 磁気センサ |
JP2006010591A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Hitachi Metals Ltd | 3軸方位センサー |
JP2006261401A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Yamaha Corp | 磁気センサおよびその製法 |
US20070205766A1 (en) * | 2006-03-03 | 2007-09-06 | Futoyoshi Kou | Magnetoresistance effect element, substrate therefor and manufacturing method thereof |
JP2007235051A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Ricoh Co Ltd | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果素子の基板および磁気抵抗効果素子の製造方法 |
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