JP2013042157A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターンをパターニングデバイスから基板Wに転写するように構成されたリソグラフィ装置で、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板テーブルを基板テーブルサポート構造にクランプするように構成された第一クランプシステム40,128と、基板テーブルが基板テーブルサポート構造にクランプされた後に、基板を基板テーブルにクランプするように構成された第二クランプシステム40,129とを含む。
【選択図】図3B
Description
Claims (27)
- パターニングデバイスから基板へとパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、
パターニングデバイスを保持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスが転写すべきパターンを基板に提供するように構成された、サポートと
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルを基板テーブルサポート構造にクランプするように構成された第一クランプシステムと、
前記基板テーブルが前記基板テーブルサポート構造にクランプされた後に、基板を前記基板テーブルにクランプするように構成された第二クランプシステムと
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記パターンをパターニングデバイスから前記基板へと転写した後に、前記基板を次の基板と自動的に交換するように構成され、前記基板の少なくとも1つを交換中に、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを解放するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルサポート構造に、前記第一クランプシステムの少なくとも一部、および前記第二クランプシステムの少なくとも一部を設ける、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルに、前記第一クランプシステムの少なくとも一部、および前記第二クランプシステムの少なくとも一部を設ける、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一および第二クランプシステムが、真空を発生して真空クランプを提供するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルと基板テーブルサポート構造が、異なる熱膨張率を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、前記基板テーブルが基板を支持していない場合に、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを解放するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、パターンが基板に転写されていない期間の少なくとも一部で、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを解放するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、パターンをパターニングデバイスから各特定量またはバッチの基板に転写した後、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを一時的に解放し、前記基板テーブルを前記基板テーブルサポート構造に再びクランプするように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、特定の期間の後、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを一時的に解放し、前記基板テーブルを前記基板テーブルサポート構造に再びクランプするように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、前記基板が前記基板テーブルに接触した状態で、前記基板テーブルを前記基板テーブルサポート構造から解放するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、積極的な解放力で前記基板テーブルを前記基板テーブルサポート構造から解放するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
基板を基板テーブルにクランプする前に、前記基板テーブルをサポート構造にクランプし、
パターンをパターニングデバイスから前記基板に転写することを含む方法。 - 前記基板を前記基板テーブルに装填する前に、前記基板テーブルが前記サポート構造と熱平衡にされる、請求項13に記載の方法。
- パターンが基板に転写されていない期間の少なくとも一部で、前記基板テーブルが前記サポート構造から解放される、請求項13に記載の方法。
- 複数の基板をその後に処理することを含み、前記処理することが、パターンを前記複数の基板の各基板に転写し、前記処理中に少なくとも1回、前記サポート構造から前記基板テーブルを一時的に解放することを含む、請求項15に記載の方法。
- 前記基板を次の基板と交換する場合に、前記基板テーブルが前記サポート構造から一時的に解放される、請求項13に記載の方法。
- 前記基板テーブルがバールテーブルであり、前記基板テーブルとサポート構造との間のクランプが真空クランプによって実行され、前記基板テーブルと基板との間のクランプが真空クランプによって実行される、請求項13に記載の方法。
- パターンをパターニングデバイスから各特定量またはバッチの基板に転写した後、前記基板テーブルが前記サポート構造から一時的に解放され、それに再びクランプされる、請求項13に記載の方法。
- 前記基板テーブルが前記サポート構造から一時的に解放され、特定の期間の後にそれに再びクランプされる、請求項13に記載の方法。
- パターンを前記基板に転写中に、前記基板テーブルが前記基板の保持に使用されていない期間の少なくとも一部で、前記基板テーブルが前記サポート構造から解放される、請求項13に記載の方法。
- 基板テーブルクランプ装置であって、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルを基板テーブルサポート構造にクランプするように構成された第一クランプシステムと、
前記基板テーブルを前記基板テーブルサポート構造にクランプした後に、基板を前記基板テーブルにクランプするように構成された第二クランプシステムとを備える基板テーブルクランプ装置。 - 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、前記基板テーブルが基板を支持していない場合に、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを解放するように構成される、請求項22に記載の基板テーブルクランプ装置。
- 前記基板テーブルサポート構造に、前記第一クランプシステムの少なくとも一部、および前記第二クランプシステムの少なくとも一部が設けられる、請求項22に記載の基板テーブルクランプ装置。
- 前記基板テーブルに、前記第一クランプシステムの少なくとも一部、および前記第二クランプシステムの少なくとも一部が設けられる、請求項22に記載の基板テーブルクランプ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、前記基板が前記基板テーブルと接触した状態で、前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを解放するように構成される、請求項22に記載の基板テーブルクランプ装置。
- 前記第一クランプシステム、第二クランプシステム、またはその両方は、積極的解放力で前記基板テーブルサポート構造から前記基板テーブルを解放するように構成される、請求項22に記載の基板テーブルクランプ装置。
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