JP2013021331A - 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、空間からの半径方向外向きの液浸流体の通過に抵抗するメニスカス固定特徴部と、線形アレイ状の複数のガス供給開口と、を備える。複数のガス供給開口はひとつ以上のメニスカス固定特徴部を少なくとも部分的に囲み、複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部の半径方向外側に設けられる。線形アレイ状の複数のガス供給開口は、同様のまたは同じサイズを有する。
【選択図】図1
Description
ある態様によると、投影システムの最終要素と基板との間の空間に閉じ込められた液浸液を通じてパターン形成された放射ビームを投影することと、線形アレイ状の複数のガス供給開口を通じて、液浸液のメニスカスに隣接する位置に、ガスを提供することと、を含み、複数のガス供給開口を通じて提供されるガスは、線形アレイの単位長さ当たりで実質的に一様なガスの流れを有する、デバイス製造方法が提供される。
Claims (15)
- リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、
前記空間からの半径方向外向きの液浸流体の通過に抵抗するひとつ以上のメニスカス固定特徴部と、
線形アレイ状の複数のガス供給開口と、を備え、
前記複数のガス供給開口は前記メニスカス固定特徴部を少なくとも部分的に囲み、前記複数のガス供給開口は前記メニスカス固定特徴部の半径方向外側に設けられ、
前記複数のガス供給開口は前記線形アレイの単位長さ当たりで実質的に一様なガスの流れを供給するよう構成される、流体ハンドリング構造。 - 線形アレイ状の前記複数のガス供給開口は、同様のまたは同じサイズを有する、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。
- 線形アレイ状の前記複数のガス供給開口は、所定のサイズの5%以内のサイズを有する、請求項2に記載の流体ハンドリング構造。
- 線形アレイ状の前記複数のガス供給開口は、線に沿った周期的パターンで配置される、請求項1から3のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 線形アレイ状の前記複数のガス供給開口は等間隔に配置されている、請求項1から4のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記メニスカス固定特徴部は、線形アレイ状に配置された複数の液体抽出開口を含む、請求項1から5のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 隣接する液体抽出開口と線形アレイにおけるガス供給開口との距離が実質的に一定に維持されるように、前記複数のガス供給開口の線形アレイは前記複数の液体抽出開口の線形アレイに大まかに追随する、請求項6に記載の流体ハンドリング構造。
- ガス開口の前記線形アレイから離間して配置されたひとつ以上の外側抽出器をさらに備える、請求項1から7のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- ガス開口の前記線形アレイと前記外側抽出器との間に延びるひとつ以上の溝をさらに備える、請求項8に記載の流体ハンドリング構造。
- 線形アレイ状の前記複数のガス供給開口は、1メートル当たり6.0×10−5m2以下の開口面積を有する、請求項1から9のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 線形アレイ状の前記複数のガス供給開口の各ガス供給開口は、実質的に円形の断面を有する、請求項1から10のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 対向表面と本流体ハンドリング構造との間に延びるメニスカスに隣接する領域に、二酸化炭素を供給するよう構成されたガス供給デバイスをさらに備える、請求項1から11のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、
線形アレイ状に配置された複数のガス供給開口であって前記空間を少なくとも部分的に囲む複数のガス供給開口と、
前記線形アレイから離間して配置されたひとつ以上の外側抽出器と、を備える、流体ハンドリング構造。 - 請求項1から13のいずれかに記載の流体ハンドリング構造を備える液浸リソグラフィ装置。
- 投影システムの最終要素と基板との間の空間に閉じ込められた液浸液を通じてパターン形成された放射ビームを投影することと、
線形アレイ状の複数のガス供給開口を通じて、前記液浸液のメニスカスに隣接する位置に、ガスを提供することと、を含み、
前記複数のガス供給開口を通じて提供される前記ガスは、前記線形アレイの単位長さ当たりで実質的に一様なガスの流れを有する、デバイス製造方法。
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