JP2013014659A - Optically isotropic support plate and inner touch panel - Google Patents
Optically isotropic support plate and inner touch panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013014659A JP2013014659A JP2011147325A JP2011147325A JP2013014659A JP 2013014659 A JP2013014659 A JP 2013014659A JP 2011147325 A JP2011147325 A JP 2011147325A JP 2011147325 A JP2011147325 A JP 2011147325A JP 2013014659 A JP2013014659 A JP 2013014659A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- support plate
- carbon atoms
- isotropic support
- thermoplastic resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 148
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 148
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 claims abstract description 121
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 118
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 113
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 55
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 18
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 17
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 16
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 14
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 241001659321 ANME-2 cluster Species 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 149
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 description 62
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 54
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 44
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 42
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 22
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 19
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 19
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 12
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 9
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 9
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 9
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 9
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 101150095408 CNMD gene Proteins 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 4
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 3
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N cyclooctylcyclooctane Chemical group C1CCCCCCC1C1CCCCCCC1 NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 3
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 3
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)N1C(=O)C=CC1=O NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004204 2-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- XCOLWDZEHYDCOP-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethyl-1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(C)=C(C)C(=O)N1C1=CC=CC=C1 XCOLWDZEHYDCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;oxirane Chemical compound C1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 2
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- VRFCNQCFVJBFMC-UHFFFAOYSA-N cyclooctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCCCC1 VRFCNQCFVJBFMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMSLOZQEMPDGPI-UHFFFAOYSA-N p-Mentha-1,3,5,8-tetraene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C)C=C1 MMSLOZQEMPDGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004205 trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- HAYWJKBZHDIUPU-UHFFFAOYSA-N (2,4,6-tribromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=C(Br)C=C(Br)C=C1Br HAYWJKBZHDIUPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006652 (C3-C12) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHFAOQSAXNMPBB-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-triphenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 KHFAOQSAXNMPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CORMBJOFDGICKF-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethoxy 2-vinyl benzene Natural products COC1=CC(OC)=C(C=C)C(OC)=C1 CORMBJOFDGICKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJCVRMIJBXTMNR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C=C YJCVRMIJBXTMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONEIBTGSNPDDSB-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6-tribromophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound BrC1=CC(Br)=CC(Br)=C1N1C(=O)C=CC1=O ONEIBTGSNPDDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZNWHPFWQMQXII-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CCC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O GZNWHPFWQMQXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJDGDRYFCIHDPX-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound COC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O LJDGDRYFCIHDPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIYKOUEZOEMMC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylpropyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)CN1C(=O)C=CC1=O NBIYKOUEZOEMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCXAYTWCHGRQPA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-nitrophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O SCXAYTWCHGRQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FECSFBYOMHWJQG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-bromophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O FECSFBYOMHWJQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDAWPZGMRHZLRB-UHFFFAOYSA-N 1-anthracen-1-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 KDAWPZGMRHZLRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSZOCHFYWWVSAI-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1C=C SSZOCHFYWWVSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQJQPCJDKBKSLV-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=CC(C=C)=C1 KQJQPCJDKBKSLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C=C1 WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGVFUFNUTOTCIA-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(Br)C=C1 OGVFUFNUTOTCIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRXJYTZCORKVNA-UHFFFAOYSA-N 1-bromoethenylbenzene Chemical compound BrC(=C)C1=CC=CC=C1 SRXJYTZCORKVNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVQCIDBZXNFEJ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(C=C)=C1 BOVQCIDBZXNFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQDGTJOEMPEHHL-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(Cl)C=C1 WQDGTJOEMPEHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTWURKQUGPWYKI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclobutylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCC1 MTWURKQUGPWYKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKGDLGZPBRJNDN-UHFFFAOYSA-N 1-cycloheptylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCCC1 YKGDLGZPBRJNDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRNPKHZKMCIRIP-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-3,4-diphenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C(=O)N1C1CCCCC1 GRNPKHZKMCIRIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDDDRVNOHLVEED-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-3-[1-[[1-(cyclohexylcarbamoylamino)cyclohexyl]diazenyl]cyclohexyl]urea Chemical compound C1CCCCC1(N=NC1(CCCCC1)NC(=O)NC1CCCCC1)NC(=O)NC1CCCCC1 CDDDRVNOHLVEED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFWWPVJMEIYJKD-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=C(C=2C=CC=CC=2)C(=O)N1C1CCCCC1 GFWWPVJMEIYJKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCCVUVFZSHLCID-UHFFFAOYSA-N 1-cyclooctylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCCCC1 OCCVUVFZSHLCID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEAIIFHWFHOYMQ-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopentylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCC1 YEAIIFHWFHOYMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJALBKKIIRSGQN-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopropylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CC1 BJALBKKIIRSGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZYHZMFAUFITLK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-difluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(C=C)C(F)=C1 IZYHZMFAUFITLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNQXOOPPJWSXMW-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1C=C YNQXOOPPJWSXMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJSKEGAHBAHFON-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC(C=C)=C1 ZJSKEGAHBAHFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWVTWJNGILGLAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(C=C)C=C1 JWVTWJNGILGLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIXHMBLBLJSGIB-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-4-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(F)C=C1 VIXHMBLBLJSGIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAWHYOHVWHQWFQ-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 BAWHYOHVWHQWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLZCMFSCBLOLX-UHFFFAOYSA-N 1-octadecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O HOLZCMFSCBLOLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQMWZHUIGYNOAL-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)C1=CC=CC=C1 BQMWZHUIGYNOAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHFKMZKTASAMH-UHFFFAOYSA-N 2,4-dibromo-1-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C(Br)=C1 NTHFKMZKTASAMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNYXCUDBQKCMU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C(Cl)=C1 OMNYXCUDBQKCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 2-chlorostyrene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=C ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDELBHCVXBSVPJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C=C)C(C)=C1 PDELBHCVXBSVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBWWINQJTZYDFK-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C=C)=C1 DBWWINQJTZYDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CC IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVONJMOVBKMLOM-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanenitrile Chemical compound CCC(=C)C#N TVONJMOVBKMLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFXJQPKMZNLMP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylprop-2-enenitrile Chemical compound N#CC(=C)C1=CC=CC=C1 RLFXJQPKMZNLMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAVUFFJVZGZJMO-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(C)=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 QAVUFFJVZGZJMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutan-2-ylcyclopropane Chemical compound CC(C)C(C)C1CC1 JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C=C ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXXZODOCQIRRQA-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCC1=CC=CC=C1 RXXZODOCQIRRQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGOZKWNMOGHQIY-UHFFFAOYSA-N 3-sulfonylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1CC(=S(=O)=O)C(=O)N1 LGOZKWNMOGHQIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPVVTRJJQZINNG-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC(Cl)=CC=C1C=C BPVVTRJJQZINNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIAMNIZMAHGANW-UHFFFAOYSA-N C(C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)N1C(C=CC1=O)=O.CC1=C(C(=CC(=C1)C)C)N1C(C=CC1=O)=O Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)N1C(C=CC1=O)=O.CC1=C(C(=CC(=C1)C)C)N1C(C=CC1=O)=O JIAMNIZMAHGANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005915 C6-C14 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 0 CC*(C)C(*)(C(*)(*(C)CC)C(N1*)=O)C1=O Chemical compound CC*(C)C(*)(C(*)(*(C)CC)C(N1*)=O)C1=O 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000694440 Colpidium aqueous Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N [(e)-prop-1-enyl]benzene Chemical compound C\C=C\C1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-KXFIGUGUSA-N [(z)-prop-1-enyl]benzene Chemical compound C\C=C/C1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-KXFIGUGUSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- VBWIZSYFQSOUFQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarbonitrile Chemical compound N#CC1CCCCC1 VBWIZSYFQSOUFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077844 iodine / potassium iodide Drugs 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N trans-beta-methyl styrene Natural products CC=CC1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光学等方性に優れる光学等方性支持板及びインナータッチパネルに関する。 The present invention relates to an optical isotropic support plate and an inner touch panel that are excellent in optical isotropy.
抵抗膜方式タッチパネルは、フィルム状の上部絶縁基板の下面にＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）等の透明導電膜からなる上部電極が形成された上部電極板と、板状又はフィルム状の下部絶縁基板の上面に透明導電膜からなる下部電極が形成された下部電極板とを備え、上部電極板と下部電極板とが電極間に空気層を介して対向配置された構造を有する。抵抗膜方式タッチパネルは、コードレス電話機、携帯電話機、電卓、サブノートパソコン、ペンパソコン、ＰＤＡ（パーソナル・デジタル・アシスタント）、デジタルカメラ、ビデオカメラ、業務用通信機器、オートテラーマシーン等においてディスプレイと組み合わせた入力装置として広く利用されている。具体的には、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、有機ＥＬＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｄｉｓｐｌａｙ）等のディスプレイの表面に透明タッチパネルを実装した後、ディスプレイの表示面を透視しながら、タッチパネルの表面をペンや指等で押圧することによって、各種の入力、操作を行なう。 The resistive touch panel has an upper electrode plate in which an upper electrode made of a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) is formed on the lower surface of a film-like upper insulating substrate, and a plate-like or film-like lower insulating substrate And a lower electrode plate having a lower electrode made of a transparent conductive film formed on the upper surface thereof, and the upper electrode plate and the lower electrode plate are arranged to face each other via an air layer. Resistive touch panels are combined with displays in cordless phones, mobile phones, calculators, sub-notebook computers, pen computers, PDAs (personal digital assistants), digital cameras, video cameras, commercial communication equipment, auto teller machines, etc. Widely used as an input device. Specifically, after mounting a transparent touch panel on the surface of a display such as a CRT (Cathode Ray Tube), LCD (Liquid Crystal Display), or organic ELD (Electro Luminescence Display), the display surface of the display is seen through. Various inputs and operations are performed by pressing the surface with a pen or a finger.
このような抵抗膜方式タッチパネルにおいて、上部電極の透明導電層と下部電極の透明導電層とが接触と非接触とを繰り返すこととなる。一般に透明導電層の形成材料であるＩＴＯ等の透明導電性材料は、耐擦傷性が低く、タッチパネルの入力時に受ける繰り返し変形により亀裂が入り易い。特に変形の大きい上部電極では繰り返される透明導電層同士の接触、非接触により基材である高分子フィルムから剥離、脱落し易い傾向にある。 In such a resistive film type touch panel, the transparent conductive layer of the upper electrode and the transparent conductive layer of the lower electrode repeat contact and non-contact. In general, a transparent conductive material such as ITO, which is a material for forming a transparent conductive layer, has low scratch resistance, and is easily cracked due to repeated deformation received during touch panel input. In particular, the upper electrode having a large deformation tends to be peeled off from the polymer film as the substrate due to repeated contact or non-contact between the transparent conductive layers.
近年、外光の影響を受けやすいカーナビゲーションシステム等に多用されているタッチパネルとして、視認性やコントラストに優れる偏光板一体型インナータッチパネルが用いられている（特許文献１参照）。車載用途に用いられるタッチパネルにおいては、通常の室内で使用される各種タッチパネルよりも厳しい耐熱性や耐湿性が求められる。このことから、今以上に、透明導電層の耐久性が求められている。 In recent years, a polarizing plate integrated inner touch panel excellent in visibility and contrast has been used as a touch panel that is frequently used in car navigation systems and the like that are easily affected by external light (see Patent Document 1). In touch panels used for in-vehicle applications, stricter heat resistance and moisture resistance are required than various touch panels used in a normal room. For this reason, durability of the transparent conductive layer is required more than ever.
一般に、偏光板一体型タッチパネルには、偏光板の一方の面に偏光板保護膜、他方の面に光学等方性支持板が設けられ、該光学等方性支持板の偏光板側とは反対の面に透明導電層が設けられた構造を有している。 Generally, a polarizing plate-integrated touch panel is provided with a polarizing plate protective film on one surface of the polarizing plate and an optical isotropic support plate on the other surface, which is opposite to the polarizing plate side of the optical isotropic support plate. The surface has a structure in which a transparent conductive layer is provided.
光学等方性支持板としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）板を用いた場合、厳しい湿熱条件下で長期間使用するとＴＡＣ中のアセチル基が加水分解し、ポリマー構造が変化、複屈折が発生すると同時に、酢酸を生じることとなる。この酢酸は、光学等方性支持板上の透明導電層に損傷を与え、タッチパネルを故障させることがある。 When a triacetyl cellulose (TAC) plate is used as the optically isotropic support plate, the acetyl group in the TAC is hydrolyzed when used for a long time under severe wet heat conditions, the polymer structure is changed, and birefringence occurs. Acetic acid will be produced. This acetic acid may damage the transparent conductive layer on the optically isotropic support plate and cause the touch panel to fail.
そこで、偏光板一体型インナータッチパネルにおける光学等方性支持板に環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）を使用するという方法がある（特許文献２）。ＣＯＰは湿熱条件下において安定であるが、光学等方性支持板用途に用いる樹脂としては、複屈折が大きく、近年ますます高精彩化が進む同用途においては、加工後に成形ひずみをとるためアニーリング等を必要としている。また、ＣＯＰは透明導電層との密着性が十分ではなく、透明導電層を積層する前に一般的なプラズマ処理や、表面をポリシロキサンのアンダーコートを施す等密着性を向上するための表面処理が必要である（特許文献３）。 Therefore, there is a method in which a cyclic olefin polymer (COP) is used for the optically isotropic support plate in the polarizing plate integrated inner touch panel (Patent Document 2). COP is stable under wet heat conditions, but as a resin used for optical isotropic support plates, the birefringence is large. Etc. are needed. Also, COP does not have sufficient adhesion to the transparent conductive layer, and surface treatment to improve adhesion, such as general plasma treatment before laminating the transparent conductive layer, or polysiloxane undercoating on the surface. Is necessary (Patent Document 3).
また、このようなタッチパネル用途に使用が考えられる光学等方性支持板を得る方法としては、光学特性が異なる複数の樹脂を溶融積層化する方法が挙げられる（特許文献４）。この方法ではガラス転移温度の高い樹脂を積層することで、熱変形温度の向上がはかられる。しかしながら、光学特性として複屈折の大きい、複数の樹脂を積層化するため、夫々の層の厚み精度や歪の加わり方、特に、夫々の樹脂の線膨張係数が異なることによる、温度変化時の歪の加わり方までを均一に保つのは困難であり、結果、支持板面内での複屈折のばらつきが大きい傾向にある。 Moreover, as a method of obtaining the optically isotropic support plate considered to be used for such a touch panel application, there is a method of melting and laminating a plurality of resins having different optical characteristics (Patent Document 4). In this method, the heat distortion temperature can be improved by laminating a resin having a high glass transition temperature. However, since a plurality of resins with high birefringence are laminated as optical characteristics, the thickness accuracy of each layer and the way the strain is applied, especially the strain at the time of temperature change due to different linear expansion coefficients of each resin It is difficult to keep even the addition method, and as a result, variation in birefringence in the support plate surface tends to be large.
上述のように、近年要求される高度な精細度を求められる偏光板一体型インナータッチパネルに使用される光学等方性支持体には、湿熱安定性、低複屈折性及び無機密着性の全てを満足することが望まれている。 As described above, the optically isotropic support used for the polarizing plate-integrated inner touch panel, which is required in recent years for high definition, has all of wet heat stability, low birefringence and inorganic adhesion. Satisfaction is desired.
そこで本発明は、耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ、高度な光学等方性（低複屈折性）を有する光学等方性支持板及びこれを用いたインナータッチパネルを提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention provides an optically isotropic support plate having heat resistance, inorganic adhesion, and wet heat stability and having high optical isotropy (low birefringence) and an inner touch panel using the same. The purpose is to do.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、板状実装材料として、特定のアクリル系熱可塑性樹脂を熱成形することで、耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有する高度な光学等方性（低複屈折性）を持った光学等方性支持板が得られること、及びそれからなるインナータッチパネル用途向けの偏光板一体型光学等方性支持板が得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have thermoformed a specific acrylic thermoplastic resin as a plate-shaped mounting material, thereby achieving heat resistance, inorganic adhesion, and wet heat stability. It is possible to obtain an optical isotropic support plate having high optical isotropy (low birefringence), and to obtain a polarizing plate integrated optical isotropic support plate for an inner touch panel using the same. Based on this finding, the present invention has been completed.
すなわち、本発明は以下に関する。
［１］ 下記式（１）で表される第一の構造単位、下記式（２）で表される第二の構造単位及び下記式（３）で表される第三の構造単位を有するアクリル系熱可塑性樹脂から形成され、アクリル系熱可塑性樹脂が、その総量基準で、５０〜９５質量％の第一の構造単位と、０．１〜２０質量％の第二の構造単位と、０．１〜４９．９質量％の第三の構造単位とを有する、光学等方性支持板。
［式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］
［式中、Ｒ２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］
［式中、Ｒ５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］
［２］アクリル系熱可塑性樹脂の光弾性係数の絶対値が、３．０×１０−１２Ｐａ−１以下である［１］に記載の光学等方性支持板。
［３］アクリル系熱可塑性樹脂のハロゲン原子含有率が、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で０．４７質量％未満である［１］又は［２］に記載の光学等方性支持板。
［４］第二の構造単位の含有量の、第三の構造単位の含有量に対するモル比が０より大きく１５以下である［１］〜［３］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［５］ 上記Ｒ１が、メチル基又はベンジル基であり、上記Ｒ２が、フェニル基又は上記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有するフェニル基であり、上記Ｒ５が、シクロヘキシル基である［１］〜［４］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［６］アクリル系熱可塑性樹脂は、フィルム成形した場合の面内方向の位相差Ｒｅの絶対値が、１００μｍ厚み換算で３０ｎｍ以下となる樹脂である［１］〜［５］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［７］アクリル系熱可塑性樹脂は、フィルム成形した場合の厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が１００μｍ厚み換算で、３０ｎｍ以下となる樹脂である［１］〜［６］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［８］アクリル系熱可塑性樹脂は、フィルム成形した場合の延伸倍率（Ｓ）と、該延伸倍率での１００μｍ厚み換算複屈折（Δｎ（Ｓ））との最小二乗法近似直線関係式（ａ）における傾きαの値が、下記式（ｂ）を満たす樹脂である［１］〜［７］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
Δｎ（Ｓ）＝α×Ｓ＋β ・・・（ａ）
−０．３０×１０−５≦α≦０．３０×１０−５ ・・・（ｂ）
［式中、βは定数であり、無延伸時の複屈折を示す。］
［９］アクリル系熱可塑性樹脂のガラス転移温度が１３０℃以上である［１］〜［８］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［１０］表面の鉛筆硬度が３Ｈ以上である［１］〜［９］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［１１］厚みが２５〜３５００μｍである［１］〜［１０］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板。
［１２］［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の光学等方性支持板からなる、インナータッチパネル用光学等方性支持板。
［１３］［１２］に記載のインナータッチパネル用光学等方性支持板を備える、静電投影方式インナータッチパネル。
［１４］［１２］に記載のインナータッチパネル用光学等方性支持板を備える、抵抗膜方式インナータッチパネル。
［１５］［１２］に記載のインナータッチパネル用光学等方性支持板と、該光学等方性支持板の少なくとも一方の面に積層された偏光板とを有する、偏光板一体型インナータッチパネル用光学等方性支持板。
［１６］［１５］に記載の偏光板一体型インナータッチパネル用光学等方性支持板を備える、静電投影方式インナータッチパネル。
［１７］［１５］に記載の偏光板一体型インナータッチパネル用光学等方性支持板を備える、抵抗膜方式インナータッチパネル。
That is, the present invention relates to the following.
[1] An acrylic having a first structural unit represented by the following formula (1), a second structural unit represented by the following formula (2), and a third structural unit represented by the following formula (3) An acrylic thermoplastic resin based on the total amount thereof, 50 to 95% by mass of the first structural unit, 0.1 to 20% by mass of the second structural unit; An optically isotropic support plate having 1 to 49.9% by mass of a third structural unit.
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or And an aryl group having 6 to 14 carbon atoms and having at least one substituent selected from the following group A.
Group A: a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. ]
[Wherein, R 2 represents an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms having at least one substituent selected from the following group B: R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms.
Group B: a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms. ]
[Wherein, R 5 represents a hydrogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or at least one substituent having at least one substituent selected from the following group C. R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms.
Group C: a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. ]
[2] The optically isotropic support plate according to [1], wherein the absolute value of the photoelastic coefficient of the acrylic thermoplastic resin is 3.0 × 10 −12 Pa −1 or less.
[3] The optically isotropic support plate according to [1] or [2], wherein a halogen atom content of the acrylic thermoplastic resin is less than 0.47% by mass based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin.
[4] The optical isotropy according to any one of [1] to [3], wherein the molar ratio of the content of the second structural unit to the content of the third structural unit is greater than 0 and 15 or less. Sex support plate.
[5] The R 1 is a methyl group or a benzyl group, the R 2 is a phenyl group or a phenyl group having at least one substituent selected from the group B, and the R 5 is a cyclohexyl group. The optically isotropic support plate according to any one of [1] to [4].
[6] The acrylic thermoplastic resin is a resin in which the absolute value of the retardation Re in the in-plane direction when the film is formed is 30 nm or less in terms of 100 μm thickness, and any one of [1] to [5] An optically isotropic support plate according to 1.
[7] The acrylic thermoplastic resin is a resin in which the absolute value of the retardation Rth in the thickness direction when a film is formed is a resin having a thickness of 30 nm or less in terms of thickness of 100 μm, in any one of [1] to [6] The optically isotropic support plate described.
[8] The acrylic thermoplastic resin is a least-squares approximate linear relational expression (a) between the draw ratio (S) when film-forming and 100 μm-thickness converted birefringence (Δn (S)) at the draw ratio. The optically isotropic support plate according to any one of [1] to [7], wherein the value of the slope α is a resin that satisfies the following formula (b).
Δn (S) = α × S + β (a)
−0.30 × 10 −5 ≦ α ≦ 0.30 × 10 −5 (b)
[In the formula, β is a constant and indicates birefringence at the time of non-stretching. ]
[9] The optically isotropic support plate according to any one of [1] to [8], wherein the glass transition temperature of the acrylic thermoplastic resin is 130 ° C. or higher.
[10] The optically isotropic support plate according to any one of [1] to [9], wherein the surface has a pencil hardness of 3H or more.
[11] The optically isotropic support plate according to any one of [1] to [10], which has a thickness of 25 to 3500 μm.
[12] An optical isotropic support plate for an inner touch panel, comprising the optical isotropic support plate according to any one of [1] to [11].
[13] An electrostatic projection type inner touch panel comprising the optical isotropic support plate for an inner touch panel according to [12].
[14] A resistive film type inner touch panel comprising the optically isotropic support plate for an inner touch panel according to [12].
[15] An optical plate for an inner touch panel integrated with a polarizing plate, comprising the optical isotropic support plate for an inner touch panel according to [12] and a polarizing plate laminated on at least one surface of the optical isotropic support plate. Isotropic support plate.
[16] An electrostatic projection type inner touch panel comprising the optically isotropic support plate for a polarizing plate integrated inner touch panel according to [16].
[17] A resistive film type inner touch panel comprising the optically isotropic support plate for a polarizing plate integrated inner touch panel according to [15].
本発明によれば、耐熱性、無機密着性及び湿熱安定性を有する高度な光学等方性（低複屈折性）をもった光学等方性支持板を提供することができ、それを用いることで良好な視認性と信頼性を有するインナータッチパネルを提供することができる。 According to the present invention, an optically isotropic support plate having high optical isotropy (low birefringence) having heat resistance, inorganic adhesion, and wet heat stability can be provided and used. An inner touch panel having good visibility and reliability can be provided.
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
［アクリル系熱可塑性樹脂］
本実施形態の光学等方性支持板は、アクリル系熱可塑性樹脂からなる。アクリル系熱可塑性樹脂は、第一の構造単位、第二の構造単位及び第三の構造単位を有する。以下、各構造単位について説明する。
[Acrylic thermoplastic resin]
The optically isotropic support plate of the present embodiment is made of an acrylic thermoplastic resin. The acrylic thermoplastic resin has a first structural unit, a second structural unit, and a third structural unit. Hereinafter, each structural unit will be described.
（第一の構造単位）
第一の構造単位は、下記式（１）で表される構造単位である。
(First structural unit)
The first structural unit is a structural unit represented by the following formula (1).
式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。ここで、Ａ群は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基からなる群である。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or The C6-C14 aryl group which has at least 1 type of substituent chosen from the following A group is shown. Here, group A is a group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
なお、本明細書中、アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、アリールアルキル基中のアルキル基及びアルコキシ基中のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。 In the present specification, the alkyl group may be linear or branched. Further, the alkyl group in the arylalkyl group and the alkyl group in the alkoxy group may be linear or branched.
Ｒ１における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ１における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系熱可塑性樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 1, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 1, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, an isobutyl group, t- butyl, 2-ethylhexyl, nonyl , Decanyl group, lauryl group, etc. Among these, in terms of further improving the transparency and weather resistance of acrylic thermoplastic resin, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl Group, isobutyl group, t-butyl group and 2-ethylhexyl group are preferable, and methyl group is more preferable.
また、Ｒ１における炭素数５〜１２のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ビシクロオクチル基、トリシクロドデシル基、イソボルニル基、アダマンチル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられ、これらのうち、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ビシクロオクチル基、トリシクロドデシル基、イソボルニル基が好適である。 Examples of the cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms in R 1 include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a tricyclodecyl group, a bicyclooctyl group, a tricyclododecyl group, an isobornyl group, and an adamantyl group. And tetracyclododecyl group. Among these, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, a tricyclodecyl group, a bicyclooctyl group, a tricyclododecyl group, and an isobornyl group are preferable.
また、Ｒ１における炭素数７〜１４のアリールアルキル基としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、６−フェニルヘキシル基、８−フェニルオクチル基が挙げられ、これらのうち、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基が好適である。 Examples of the arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms in R 1 include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, 6-phenylhexyl group, and 8-phenyloctyl group. Among these, benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, and 3-phenylpropyl group are preferable.
また、Ｒ１における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、フェニル基が好適である。 The aryl group having 6 to 14 carbon atoms in R 1, a phenyl group, a naphthyl group, anthracenyl group and the like, among these, phenyl groups are preferred.
また、Ｒ１は置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基であってもよく、ここで置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基からなる群（Ａ群）より選ばれる基である。 R 1 may be an aryl group having 6 to 14 carbon atoms having a substituent, wherein the substituent is a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or 1 carbon atom. A group selected from the group consisting of ˜12 alkyl groups (Group A).
Ｒ１において、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、置換基を有するフェニル基が好ましい。また、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、２，４，６−トリブロモフェニル基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等が挙げられ、これらのうち難燃性が付与される点において、２，４，６−トリブロモフェニル基が好適である。 In R 1 , the aryl group having 6 to 14 carbon atoms having a substituent is preferably a phenyl group having a substituent. Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms having a substituent include 2,4,6-tribromophenyl group, 2-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group, 2, Examples include 4,6-trimethylphenyl group. Among these, 2,4,6-tribromophenyl group is preferable in terms of imparting flame retardancy.
第一の構造単位の含有量は、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で５０〜９５質量％であり、好ましくは６０〜９２質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。第一の構造単位の含有量が、５０質量％以上であれば高い全光線透過率及び耐環境性が発現する。 The content of the first structural unit is 50 to 95% by mass, preferably 60 to 92% by mass, more preferably 70 to 90% by mass, based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. When the content of the first structural unit is 50% by mass or more, high total light transmittance and environmental resistance are exhibited.
アクリル系熱可塑性樹脂は、第一の構造単位を一種のみ含有していてもよく、第一の構造単位を二種以上含有していてもよい。 The acrylic thermoplastic resin may contain only one kind of the first structural unit, or may contain two or more kinds of the first structural unit.
例えば、アクリル系熱可塑性樹脂は、Ｒ１がアルキル基である構造単位と、Ｒ１がアリールアルキル基又はアリール基である構造単位と、を有するものとすることができる。このとき後者の構造単位の含有量は、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましく、０．１〜６質量％であることがさらに好ましい。この範囲にあるアクリル系熱可塑性樹脂によれば、大きな耐熱性低下を伴わずに、複屈折等の光学特性の改良効果が得られる。 For example, the acrylic thermoplastic resin may have a structural unit in which R 1 is an alkyl group and a structural unit in which R 1 is an arylalkyl group or an aryl group. At this time, the content of the latter structural unit is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 8% by mass, based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. More preferably, it is -6 mass%. According to the acrylic thermoplastic resin in this range, an effect of improving optical characteristics such as birefringence can be obtained without a large decrease in heat resistance.
第一の構造単位は、例えば、メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル類から選ばれる第一の単量体から形成される。第一の単量体は、下記式（１−ａ）で表すことができる。 The first structural unit is formed from, for example, a first monomer selected from methacrylic acid monomers and methacrylic acid esters. The first monomer can be represented by the following formula (1-a).
式中、Ｒ１は式（１）におけるＲ１と同義である。
Wherein, R 1 has the same meaning as R 1 in Formula (1).
メタクリル酸エステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル；メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロオクチル、メタクリル酸トリシクロデシル、メタクリル酸微シクロオクチル、メタクリル酸トリシクロドデシル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸１−フェニルエチル、メタクリル酸２−フェノキシエチル、メタクリル酸３−フェニルプロピル、メタクリル酸２，４，６−トリブロモフェニル等が挙げられる。これらの第一の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用して用いる場合もある。メタクリル酸エステルのうち、得られるアクリル系熱可塑性樹脂の透明性や耐候性が優れる点でメタクリル酸メチル及びメタクリル酸ベンジルが好ましい。 Examples of the methacrylic acid ester include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate; methacrylic acid. Cyclopentyl, cyclohexyl methacrylate, cyclooctyl methacrylate, tricyclodecyl methacrylate, fine cyclooctyl methacrylate, tricyclododecyl methacrylate, isobornyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, 1-phenylethyl methacrylate, methacrylic acid Examples include 2-phenoxyethyl, 3-phenylpropyl methacrylate, 2,4,6-tribromophenyl methacrylate, and the like. These first monomers may be used alone or in combination of two or more. Of the methacrylic acid esters, methyl methacrylate and benzyl methacrylate are preferred because the acrylic thermoplastic resin obtained has excellent transparency and weather resistance.
（第二の構造単位）
第二の構造単位は、下記式（２）で表される構造単位である。
(Second structural unit)
The second structural unit is a structural unit represented by the following formula (2).
式中、Ｒ２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。Ｂ群は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基からなる群である。
In the formula, R 2 is an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms having at least one substituent selected from the following group B; R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Group B is a group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms.
Ｒ２における炭素数７〜１４のアリールアルキル基としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、６−フェニルヘキシル基、８−フェニルオクチル基が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性などの光学的特性が一層向上する点において、ベンジル基が好適である。 Examples of the arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms in R 2 include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, 6-phenylhexyl group, and 8-phenyloctyl group. Of these, a benzyl group is preferred in terms of further improving optical properties such as heat resistance and low birefringence.
また、Ｒ２における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性等の光学的特性が一層向上する点において、フェニル基が好適である。 Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms in R 2 include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group, and among these, optical characteristics such as heat resistance and low birefringence are further improved. In the formula, a phenyl group is preferred.
また、Ｒ２は置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基であってもよく、ここで置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基からなる群（Ｂ群）より選ばれる基である。 R 2 may be an aryl group having 6 to 14 carbon atoms having a substituent, wherein the substituent is a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or 1 carbon atom. A group selected from the group consisting of ˜12 alkyl groups and arylalkyl groups having 7 to 14 carbon atoms (Group B).
置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom as a substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基がより好ましい。また、置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−デシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基等が挙げられる。 As a C1-C12 alkoxy group as a substituent, a C1-C10 alkoxy group is preferable and a C1-C8 alkoxy group is more preferable. Moreover, as a C1-C12 alkoxy group as a substituent, a methoxy group, an ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, t-butyloxy group, 2-ethylhexyl An oxy group, 1-decyloxy group, 1-dodecyloxy group, etc. are mentioned.
置換基としての炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基としては、Ｒ１における炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基として例示された基が同様に例示される。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and the arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms as the substituent are exemplified as the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and the arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms in R 1 . Groups are exemplified as well.
Ｒ２において、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、置換基を有するフェニル基、置換基を有するナフチル基が好ましい。また、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、２，４，６−トリブロモフェニル基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等が挙げられ、これらのうち、難燃性が付与される点において、２，４，６−トリブロモフェニル基が好適である。 In R 2 , the aryl group having 6 to 14 carbon atoms having a substituent is preferably a phenyl group having a substituent or a naphthyl group having a substituent. Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms having a substituent include 2,4,6-tribromophenyl group, 2-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group, 2, Examples include 4,6-trimethylphenyl group. Among these, 2,4,6-tribromophenyl group is preferable in that flame retardancy is imparted.
Ｒ３及びＲ４における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ３及びＲ４における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系熱可塑性樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 3 and R 4, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, as a C1-C12 alkyl group in R < 3 > and R < 4 >, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group , Nonyl group, decanyl group, lauryl group, etc. Among these, in terms of further improving the transparency and weather resistance of the acrylic thermoplastic resin, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, An n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and a 2-ethylhexyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.
Ｒ３及びＲ４における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性等の光学的特性が一層向上する点において、フェニル基が好適である。 Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms in R 3 and R 4 include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group, and among these, optical characteristics such as heat resistance and low birefringence are further improved. In this respect, a phenyl group is preferred.
Ｒ３及びＲ４は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。 R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, and more preferably a hydrogen atom.
第二の構造単位の含有量としては、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で０．１〜４９．９質量％であり、好ましくは０．１〜３５質量％、より好ましくは０．１質量％〜２０質量％である。第二の単量体の含有量がこの範囲であればアクリル系熱可塑性樹脂の透明性を維持し、黄変を伴わず、また耐環境性を損なうことなく耐熱性が向上する。 The content of the second structural unit is 0.1 to 49.9% by mass, preferably 0.1 to 35% by mass, more preferably 0.1% by mass based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. ˜20 mass%. If the content of the second monomer is within this range, the transparency of the acrylic thermoplastic resin is maintained, and the heat resistance is improved without yellowing and without impairing the environmental resistance.
アクリル系熱可塑性樹脂は、第二の構造単位を一種のみ含有していてもよく、第二の構造単位を二種以上含有していてもよい。 The acrylic thermoplastic resin may contain only one second structural unit, or may contain two or more second structural units.
第二の構造単位は、例えば、下記式（２−ａ）で表されるＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第二の単量体から形成される。 The second structural unit is formed from, for example, a second monomer selected from N-substituted maleimide compounds represented by the following formula (2-a).
式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ式（２）におけるＲ２、Ｒ３及びＲ４と同義である。
Wherein,
第二の単量体としては、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−ニトロフェニル）マレイミド、Ｎ−（２、４、６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２、４、６−トリブロモフェニル）マレイミド、Ｎ−ナフチルマレイミド、Ｎ−アントラセニルマレイミド、３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１，３−ジフェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１，３，４−トリフェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン等が挙げられる。これらの第二の単量体のうち、アクリル系熱可塑性樹脂の耐熱性、及び複屈折等の光学的特性が優れることからが優れる点で、Ｎ−フェニルマレイミド及びＮ−ベンジルマレイミドが好ましい。これらの第二の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用して用いる場合もある。
As the second monomer, N-phenylmaleimide, N-benzylmaleimide, N- (2-chlorophenyl) maleimide, N- (4-chlorophenyl) maleimide, N- (4-bromophenyl) maleimide, N- ( 2-methylphenyl) maleimide, N- (2-ethylphenyl) maleimide, N- (2-methoxyphenyl) maleimide, N- (2-nitrophenyl) maleimide, N- (2,4,6-trimethylphenyl) maleimide N- (4-benzylphenyl) maleimide, N- (2,4,6-tribromophenyl) maleimide, N-naphthylmaleimide, N-anthracenylmaleimide, 3-methyl-1-phenyl-1H-
（第三の構造単位）
第三の構造単位は、下記式（３）で表される構造単位である。
(Third structural unit)
The third structural unit is a structural unit represented by the following formula (3).
式中、Ｒ５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。Ｃ群は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基からなる群である。
In the formula, R 5 is a hydrogen atom, a C 3-12 cycloalkyl group, a C 1-12 alkyl group, or a C 1-12 having at least one substituent selected from the following group C. An alkyl group, and R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Group C is a group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
Ｒ５における炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ビシクロオクチル基、トリシクロドデシル基、イソボルニル基、アダマンチル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられ、これらのうち、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が好適であり、アクリル系熱可塑性樹脂の耐候性及び透明性などの光学特性が一層向上するとともに、低吸水性を付与できる点からは、シクロヘキシル基がより好適である。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms in R 5 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a tricyclodecyl group, a bicyclooctyl group, a tricyclododecyl group, Isobornyl group, adamantyl group, tetracyclododecyl group, etc., among them, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group are preferred, and acrylic thermoplastic resin A cyclohexyl group is more preferable in terms of further improving optical properties such as weather resistance and transparency and imparting low water absorption.
また、Ｒ５における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ５における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、２−エチルヘキシル基、１−デシル基、１−ドデシル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系熱可塑性樹脂の耐候性及び透明性等の光学特性が一層向上することから、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好適である。 The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 5, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 5, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, an isobutyl group, t- butyl group, n- pentyl group, n- Hexyl group, n-octyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, 2-ethylhexyl group, 1-decyl group, 1-dodecyl group, and the like. Among these, weather resistance of acrylic thermoplastic resin and A methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because optical properties such as transparency are further improved.
また、Ｒ５は置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基であってもよく、ここで置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基からなる群（Ｃ群）より選ばれる基である。 R 5 may be a C 1-12 alkyl group having a substituent, wherein the substituent is a group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group and a C 1-12 alkoxy group ( Group C).
置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom as a substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基がより好ましい。また、置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−デシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基等が挙げられる。 As a C1-C12 alkoxy group as a substituent, a C1-C10 alkoxy group is preferable and a C1-C8 alkoxy group is more preferable. Moreover, as a C1-C12 alkoxy group as a substituent, a methoxy group, an ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, t-butyloxy group, 2-ethylhexyl An oxy group, 1-decyloxy group, 1-dodecyloxy group, etc. are mentioned.
Ｒ５において、置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基としては、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロエチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられ、これらのうち、トリフルオロエチル基が好適である。 In R 5 , examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms having a substituent include a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a trifluoroethyl group, and a hydroxyethyl group, and among these, a trifluoroethyl group is preferable. It is.
Ｒ６及びＲ７における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ６及びＲ７における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系熱可塑性樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 6 and R 7, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 6 and R 7, methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, an isobutyl group, t- butyl group, a 2-ethylhexyl group , Nonyl group, decanyl group, lauryl group, etc. Among these, in terms of further improving the transparency and weather resistance of the acrylic thermoplastic resin, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, An n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and a 2-ethylhexyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.
Ｒ６及びＲ７における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性などの光学的特性が一層向上する点において、フェニル基が好適である。 Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms in R 6 and R 7 include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group, and among these, optical characteristics such as heat resistance and low birefringence are further improved. In this respect, a phenyl group is preferred.
Ｒ６及びＲ７は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。 R 6 and R 7 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, and more preferably a hydrogen atom.
第三の構造単位の含有量としては、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で０．１〜４９．９質量％であり、好ましくは０．１質量〜３５質量％、より好ましくは０．１〜３０質量％である。第三の構造単位の含有量がこの範囲であれば、透明性を維持し、低吸湿性が発揮される。 The content of the third structural unit is 0.1 to 49.9% by mass, preferably 0.1 to 35% by mass, and more preferably 0.1 to 35% by mass based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. 30% by mass. If content of a 3rd structural unit is this range, transparency will be maintained and low hygroscopicity will be exhibited.
アクリル系熱可塑性樹脂は、第三の構造単位を一種のみ含有していてもよく、第三の構造単位を二種以上含有していてもよい。 The acrylic thermoplastic resin may contain only one third structural unit, or may contain two or more third structural units.
第三の構造単位は、例えば、下記式（３−ａ）で表されるＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第三の単量体から形成される。 The third structural unit is formed of, for example, a third monomer selected from N-substituted maleimide compounds represented by the following formula (3-a).
式中、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ式（３）におけるＲ５、Ｒ６及びＲ７と同義である。 Wherein, R 5, R 6 and R 7 have the same meanings as R 5, R 6 and R 7 in each formula (3).
第三の単量体としては、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘプチルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−ステアリルマレイミド、Ｎ−シクロプロピルマレイミド、Ｎ−シクロブチルマレイミド、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド、１−シクロヘキシル−３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１−シクロヘキシル−３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１−シクロヘキシル−３−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１−シクロヘキシル−３，４−ジフェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン等が挙げられる。これらの第三の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用して用いる場合もある。アクリル系熱可塑性樹脂の耐候性が優れる点から、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドが好ましく、近年光学材料に求められている低吸湿性に優れることからＮ−シクロヘキシルマレイミドが特に好ましい。 Examples of the third monomer include N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, Nn-propylmaleimide, N-isopropylmaleimide, Nn-butylmaleimide, N-isobutylmaleimide, and Ns-butyl. Maleimide, Nt-butylmaleimide, Nn-pentylmaleimide, Nn-hexylmaleimide, Nn-heptylmaleimide, Nn-octylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-stearylmaleimide, N-cyclo Propylmaleimide, N-cyclobutylmaleimide, N-cyclopentylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-cycloheptylmaleimide, N-cyclooctylmaleimide, 1-cyclohexyl-3-methyl-1-phenyl-1H-pyrrole-2,5 -Dione, 1-cyclohex 3,4-dimethyl-1-phenyl-1H-pyrrole-2,5-dione, 1-cyclohexyl-3-phenyl-1H-pyrrole-2,5-dione, 1-cyclohexyl-3,4-diphenyl- 1H-pyrrole-2,5-dione and the like can be mentioned. These third monomers may be used alone or in combination of two or more. N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-isopropylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide are preferable because of the excellent weather resistance of the acrylic thermoplastic resin, and low hygroscopicity that is recently required for optical materials is excellent. N-cyclohexylmaleimide is particularly preferred.
アクリル系熱可塑性樹脂において、第二の構造単位及び第三の構造単位の総含有量は、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で５〜５０質量％であることが好ましい。より好ましくは５〜４０質量％、更に好ましくは１０〜３５質量％、より一層好ましくは１０〜３０質量％、特に好ましくは１５〜３０質量％である。この範囲内にあるとき、アクリル系熱可塑性樹脂はより十分な耐熱性改良効果が得られ、また、耐候性、低吸水性、光学特性についてより好ましい改良効果が得られる。なお、第二の構造単位の含有量及び第三の構造単位の含有量が５０質量％を超えると、重合反応時に単量体成分の反応性が低下して、未反応で残存する単量体量が多くなり、アクリル系熱可塑性樹脂の物性が低下してしまう場合がある。 In the acrylic thermoplastic resin, the total content of the second structural unit and the third structural unit is preferably 5 to 50% by mass based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. More preferably, it is 5-40 mass%, More preferably, it is 10-35 mass%, More preferably, it is 10-30 mass%, Most preferably, it is 15-30 mass%. When it is within this range, the acrylic thermoplastic resin has a more sufficient heat resistance improvement effect, and more preferable improvement effects in terms of weather resistance, low water absorption, and optical properties. In addition, when the content of the second structural unit and the content of the third structural unit exceeds 50% by mass, the reactivity of the monomer component is reduced during the polymerization reaction, and the monomer that remains unreacted The amount increases, and the physical properties of the acrylic thermoplastic resin may decrease.
アクリル系熱可塑性樹脂において、第二の構造単位の含有量Ｃ２と第三の構造単位の含有量Ｃ３のモル比Ｃ２／Ｃ３は、望ましくは０より大きく１５以下である。後述する光学特性（低い複屈折、低い光弾性係数）の観点から、モル比Ｃ２／Ｃ３は、より好ましくは１０以下である。モル比Ｃ２／Ｃ３がこの範囲にあるとき、本発明のアクリル系熱可塑性樹脂はより一層良好な光学特性を発現する。 In the acrylic thermoplastic resin, the molar ratio C 2 / C 3 between the content C 2 of the second structural unit and the content C 3 of the third structural unit is desirably greater than 0 and 15 or less. From the viewpoint of optical characteristics (low birefringence, low photoelastic coefficient) described later, the molar ratio C 2 / C 3 is more preferably 10 or less. When the molar ratio C 2 / C 3 is in this range, the acrylic thermoplastic resin of the present invention exhibits even better optical properties.
アクリル系熱可塑性樹脂において、第一の構造単位、第二の構造単位及び第三の構造単位の合計の含有量は、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で、８０質量％以上であってもよい。これにより、アクリル系熱可塑性樹脂は一層良好な光学特性を発現する。 In the acrylic thermoplastic resin, the total content of the first structural unit, the second structural unit, and the third structural unit may be 80% by mass or more based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. . As a result, the acrylic thermoplastic resin exhibits better optical characteristics.
（第四の構造単位）
アクリル系熱可塑性樹脂は、上記以外の構造単位をさらに含有していてもよい。例えば、アクリル系熱可塑性樹脂は、発明の目的を損なわない範囲で、上記第一、第二及び第三の単量体と共重合可能なその他の単量体に由来する構造単位を、さらに有していてもよい。以下、アクリル系熱可塑性樹脂中の第一、第二及び第三の構造単位以外の構造単位を、第四の構造単位と称する。
(Fourth structural unit)
The acrylic thermoplastic resin may further contain a structural unit other than the above. For example, the acrylic thermoplastic resin further has a structural unit derived from another monomer copolymerizable with the first, second, and third monomers as long as the object of the invention is not impaired. You may do it. Hereinafter, structural units other than the first, second, and third structural units in the acrylic thermoplastic resin are referred to as fourth structural units.
共重合可能なその他の単量体としては、芳香族ビニル；不飽和ニトリル；シクロヘキシル基、ベンジル基又は炭素数１〜１８のアルキル基を有するアクリル酸エステル；オレフィン；ジエン；ビニルエーテル；ビニルエステル；フッ化ビニル；プロピオン酸アリル等の飽和脂肪酸モノカルボン酸のアリルエステル又はメタリルエステル；多価（メタ）アクリレート；多価アリレート；グリシジル化合物；不飽和カルボン酸類等を挙げることができる。その他の単量体は、これらの群より選ばれる１種又は２種以上の組み合わせであり得る。 Other monomers that can be copolymerized include aromatic vinyl; unsaturated nitrile; cyclohexyl group, benzyl group, or acrylic acid ester having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; olefin; diene; vinyl ether; vinyl ester; Examples thereof include vinyl chloride; allyl ester or methallyl ester of saturated fatty acid monocarboxylic acid such as allyl propionate; polyvalent (meth) acrylate; polyvalent arylate; glycidyl compound; unsaturated carboxylic acid. The other monomer may be one or a combination of two or more selected from these groups.
上記芳香族ビニルとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。上記不飽和ニトリルとしては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、フェニルアクリロニトリル等が挙げられる。また、上記アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｔ−ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸オクチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等が挙げられる。 Examples of the aromatic vinyl include styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, and the like. Examples of the unsaturated nitrile include acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, phenylacrylonitrile and the like. Examples of the acrylic ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, amyl acrylate, isoamyl acrylate, and acrylic acid. Examples include octyl, 2-ethylhexyl acrylate, decyl acrylate, lauryl acrylate, cyclohexyl acrylate, and benzyl acrylate.
また、上記オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ジイソブチレン等が挙げられる。また、上記ジエンとしては、ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。また、上記ビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等が挙げられる。また、上記ビニルエステルとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げられる。また、上記フッ化ビニルとしては、フッ化ビニリデン等が挙げられる。 Examples of the olefin include ethylene, propylene, isobutylene, diisobutylene and the like. Examples of the diene include butadiene and isoprene. Examples of the vinyl ether include methyl vinyl ether and butyl vinyl ether. Examples of the vinyl ester include vinyl acetate and vinyl propionate. Examples of the vinyl fluoride include vinylidene fluoride.
上記多価（メタ）アクリレートとしては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド付加物のジ、又はトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the polyvalent (meth) acrylate include ethylene glycol (meth) acrylate, diethylene glycol (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, di (meth) acrylate of bisphenol A ethylene oxide or propylene oxide adduct, di (meth) acrylate of halogenated bisphenol A ethylene oxide or propylene oxide adduct, isocyanurate ethylene oxide or propylene Examples thereof include di- or tri (meth) acrylates of oxide adducts.
多価アリレート単量体としては、ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレート等が挙げられる。グリシジル化合物単量体としては、グリシジル（メタ）アクリレート、及びアリルグリシジルエーテル等が挙げられる。不飽和カルボン酸単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、及びこれらの半エステル化物又は無水物が挙げられる。 Examples of the polyvalent arylate monomer include diallyl phthalate and triallyl isocyanurate. Examples of the glycidyl compound monomer include glycidyl (meth) acrylate and allyl glycidyl ether. Examples of the unsaturated carboxylic acid monomer include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and half-esterified products or anhydrides thereof.
アクリル系熱可塑性樹脂中の第四の構造単位の含有量は、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１５質量％であることがより好ましく、０．１〜１０質量％であることがさらに好ましい。含有量が上記範囲であると、アクリル系熱可塑性樹脂の吸湿性が一層改善される。耐候性の観点からは、１０質量％未満であることが好ましく、７質量％未満であることがより好ましい。 The content of the fourth structural unit in the acrylic thermoplastic resin is preferably 0.1 to 20% by mass, and preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.1-10 mass%. When the content is in the above range, the hygroscopicity of the acrylic thermoplastic resin is further improved. From the viewpoint of weather resistance, the content is preferably less than 10% by mass, and more preferably less than 7% by mass.
アクリル系熱可塑性樹脂は、第四の構造単位を一種のみ有していてもよく、二種以上を有していてもよい。 The acrylic thermoplastic resin may have only one kind of the fourth structural unit, or may have two or more kinds.
第四の構造単位の一例として、下記式（４）で表される構造単位が挙げられる。 An example of the fourth structural unit is a structural unit represented by the following formula (4).
式中、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ９はハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基を示し、ａは１〜３の整数を示す。 In the formula, R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R 9 represents a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. A represents an integer of 1 to 3.
Ｒ８における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ９における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、１−デシル基、１−ドデシル基等が挙げられ、これらのうちメチル基が好適である。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 8, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 9 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, 1- A decyl group, 1-dodecyl group, etc. are mentioned, Among these, a methyl group is suitable.
Ｒ９におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom for R 9 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
また、Ｒ９における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ９における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、１−デシル基、１−ドデシル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系熱可塑性樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。 The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 9, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 9 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, 1- Decyl group, 1-dodecyl group and the like. Among these, in terms of further improving the transparency and weather resistance of the acrylic thermoplastic resin, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n- A butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, and a 2-ethylhexyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.
また、Ｒ９における炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基がより好ましい。また、置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−デシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基等が挙げられ、これらのうち、メトキシ基が好適である。 Further, the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms in R 9, preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. Moreover, as a C1-C12 alkoxy group as a substituent, a methoxy group, an ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, t-butyloxy group, 2-ethylhexyl Examples thereof include an oxy group, a 1-decyloxy group, and a 1-dodecyloxy group, and among these, a methoxy group is preferable.
式（４）で表される構造単位は、例えば、下記式（４−ａ）で表される単量体から形成することができる。 The structural unit represented by the formula (4) can be formed from, for example, a monomer represented by the following formula (4-a).
式中、Ｒ８、Ｒ９及びａはそれぞれ式（４）におけるＲ８、Ｒ９及びａと同義である。
Wherein,
第四の単量体としては、例えば、スチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、２−メチル−４−クロロスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、α―メチルスチレン、ｃｉｓ−β−メチルスチレン、ｔｒａｎｓ−β−メチルスチレン、４−メチル−α−メチルスチレン、４−フルオロ−α−メチルスチレン、４−クロロ−α−メチルスチレン、４−ブロモ−α−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、２−フルオロスチレン、３−フルオロスチレン、４−フルオロスチレン、２，４−ジフルオロスチレン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロスチレン、２−ブロモスチレン、３−ブロモスチレン、４−ブロモスチレン、２，４−ジブロモスチレン、α−ブロモスチレン、β−ブロモスチレン、２−ヒドロキシスチレン、４−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。アクリル系熱可塑性樹脂を構成する第一の単量体、第二の単量体及び第三の単量体との共重合性に優れ、その光学特性の調整が少量の使用で可能な点からスチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。これらの第四の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用して用いる場合もある。 Examples of the fourth monomer include styrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, and 2-methyl-4-chlorostyrene. 2,4,6-trimethylstyrene, α-methylstyrene, cis-β-methylstyrene, trans-β-methylstyrene, 4-methyl-α-methylstyrene, 4-fluoro-α-methylstyrene, 4-chloro -Α-methylstyrene, 4-bromo-α-methylstyrene, 4-t-butylstyrene, 2-fluorostyrene, 3-fluorostyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 2-chlorostyrene, 3 -Chlorostyrene, 4-chlorostyrene, 2,4-dichlorostyrene, 2,6-dichlorostyrene, 2-bromostyrene Down, 3-bromostyrene, 4-bromostyrene, 2,4-dibromostyrene, alpha-bromostyrene, beta-bromostyrene, 2-hydroxystyrene, 4-hydroxystyrene, and the like. From the point that it is excellent in copolymerizability with the first monomer, the second monomer and the third monomer constituting the acrylic thermoplastic resin, and the optical properties can be adjusted with a small amount of use. Styrene and α-methylstyrene are particularly preferred. These fourth monomers may be used alone or in combination of two or more.
本実施形態に係るアクリル系熱可塑性樹脂は、１種の共重合体から構成されていてもよいし、第一の構造単位、第二の構造単位及び第三の構造単位のうち１種以上の構造単位を有する２種以上の共重合体のブレンド物であってもよい。例えば、アクリル系熱可塑性樹脂は、第一の構造単位、第二の構造単位、及び第三の構造単位を有する１種の共重合体から構成される樹脂であり得る。あるいは、アクリル系熱可塑性樹脂は、第一の構造単位と、第二の構造単位、及び／又は第三の構造単位とを有する２種類以上の共重合体から構成されるブレンド物であってもよいし、第一の構造単位を有する重合体と、第二の構造単位を有する重合体と、第三の構造単位を有する重合体とから構成されるブレンド物であってもよい。透明性や均一性の観点から、アクリル系熱可塑性樹脂は、第一の構造単位、第二の構造単位、及び第三の構造単位を有する共重合体であるか、第一の構造単位と、第二の構造単位、及び／又は第三の構造単位とを有する２種類以上の共重合体から構成されるブレンド物であることが好ましく、第一の構造単位、第二の構造単位、及び第三の構造単位を有する共重合体であることが特に好ましい。 The acrylic thermoplastic resin according to the present embodiment may be composed of one kind of copolymer, or one or more kinds of the first structural unit, the second structural unit, and the third structural unit. It may be a blend of two or more copolymers having structural units. For example, the acrylic thermoplastic resin may be a resin composed of one kind of copolymer having a first structural unit, a second structural unit, and a third structural unit. Alternatively, the acrylic thermoplastic resin may be a blend composed of two or more types of copolymers having a first structural unit, a second structural unit, and / or a third structural unit. Alternatively, it may be a blend composed of a polymer having the first structural unit, a polymer having the second structural unit, and a polymer having the third structural unit. From the viewpoint of transparency and uniformity, the acrylic thermoplastic resin is a copolymer having the first structural unit, the second structural unit, and the third structural unit, or the first structural unit, It is preferably a blend composed of two or more kinds of copolymers having the second structural unit and / or the third structural unit. The first structural unit, the second structural unit, and the first structural unit A copolymer having three structural units is particularly preferred.
アクリル系熱可塑性樹脂中のハロゲン原子の含有量は、アクリル系熱可塑性樹脂の総量基準で０．４７質量％未満であることが好ましく、０．４５質量％以下であることがより好ましい。アクリル系熱可塑性樹脂がハロゲン原子を０．４７質量％未満とすることで、溶融成形等に際して高温でアクリル系熱可塑性樹脂を取り扱った場合でも、ハロゲン系ガスが発生し難く、ハロゲン系ガスに起因する装置の腐食や作業環境の悪化が防止される。また、アクリル系熱可塑性樹脂（又はその成形体等）を廃棄する際にも、環境負荷が比較的大きいハロゲン系ガスが発生し難いという利点がある。 The content of halogen atoms in the acrylic thermoplastic resin is preferably less than 0.47% by mass and more preferably 0.45% by mass or less based on the total amount of the acrylic thermoplastic resin. Because acrylic thermoplastic resin contains less than 0.47% by mass of halogen atoms, it is difficult to generate halogen gas even when acrylic thermoplastic resin is handled at high temperatures during melt molding, etc. Corrosion of equipment to be used and work environment deterioration are prevented. In addition, when the acrylic thermoplastic resin (or a molded product thereof) is discarded, there is an advantage that it is difficult to generate a halogen-based gas having a relatively large environmental load.
アクリル系熱可塑性樹脂のＧＰＣ測定法によるポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００〜１００００００であることが好ましい。Ｍｗが３０００以上であれば成形によって必要な強度を有する光学等方性偏光膜保護フィルムを得ることができる。また、Ｍｗが１００００００以下であれば各種溶融成形時に必要十分な熱流動性を得ることができる。Ｍｗは、より好ましくは３００００〜８０００００であり、更に好ましくは６００００〜６０００００である。特に好ましくは１０００００〜４０００００である。 It is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of polymethylmethacrylate conversion by the GPC measuring method of an acrylic thermoplastic resin is 3000-1 million. If Mw is 3000 or more, an optically isotropic polarizing film protective film having a required strength can be obtained by molding. Moreover, if Mw is 1000000 or less, necessary and sufficient heat fluidity can be obtained at the time of various melt molding. Mw is more preferably 30,000 to 800,000, still more preferably 60000 to 600,000. Particularly preferably, it is 100,000 to 400,000.
アクリル系熱可塑性樹脂のＧＰＣ測定法によるポリメチルメタクリレート換算の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１〜１０であることが好ましい。アクリル系熱可塑性樹脂は、リビングラジカル重合法で重合することも可能であり、必要に応じて分子量分布を調整可能である。成形加工に適した樹脂粘度に調整する観点からは、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１〜７．０であることがより好ましく、１．２〜５．０であることがさらに好ましく、１．５〜４．０とすることもできる。 It is preferable that the molecular weight distribution (Mw / Mn) in terms of polymethyl methacrylate by GPC measurement method of the acrylic thermoplastic resin is 1-10. The acrylic thermoplastic resin can be polymerized by a living radical polymerization method, and the molecular weight distribution can be adjusted as necessary. From the viewpoint of adjusting the resin viscosity suitable for molding processing, the molecular weight distribution (Mw / Mn) is more preferably 1.1 to 7.0, further preferably 1.2 to 5.0, It can also be set to 1.5 to 4.0.
アクリル系熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１２０℃以上であることが好ましい。Ｔｇが１２０℃以上であれば、近年の液晶ディスプレイ用フィルム成形体として必要十分な耐熱性を有している。Ｔｇは、好ましくは１３０℃以上であり、より好ましくは１３５℃以上である。一方、Ｔｇの上限としては、１８０℃以下であることが好ましい。 The glass transition temperature (Tg) of the acrylic thermoplastic resin is preferably 120 ° C. or higher. When Tg is 120 ° C. or higher, the film has necessary and sufficient heat resistance as a recent liquid crystal display film molded body. Tg is preferably 130 ° C. or higher, more preferably 135 ° C. or higher. On the other hand, the upper limit of Tg is preferably 180 ° C. or lower.
（アクリル系熱可塑性樹脂の光学特性）
（ｉ）光弾性係数Ｃの絶対値
アクリル系熱可塑性樹脂の光弾性係数Ｃの絶対値は、３．０×１０−１２Ｐａ−１以下であることが好ましく、より好ましくは、２．０×１０−１２Ｐａ−１以下であり、さらに好ましくは１．０×１０−１２Ｐａ−１以下である。
(Optical characteristics of acrylic thermoplastic resin)
(I) Absolute value of photoelastic coefficient C The absolute value of the photoelastic coefficient C of the acrylic thermoplastic resin is preferably 3.0 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 2.0 ×. It is 10 <-12> Pa < -1 > or less, More preferably, it is 1.0 * 10 <-12> Pa <-1> or less.
ここで、光弾性係数に関しては種々の文献に記載があり（例えば、化学総説，Ｎｏ．３９，１９９８（学会出版センター発行）参照）、下記式（ｉ−ａ）及び（ｉ−ｂ）により定義されるものである。光弾性係数ＣＲの値がゼロに近いほど、外力による複屈折変化が小さいことが判る。 Here, the photoelastic coefficient is described in various documents (see, for example, Chemical Review, No. 39, 1998 (published by the Academic Publishing Center)), and is defined by the following formulas (ia) and (ib). It is what is done. As the value of photoelastic coefficient C R is close to zero, it can be seen that change in birefringence due to an external force is small.
ＣＲ＝｜Δｎ｜／σＲ …（ｉ−１）
｜Δｎ｜＝ｎｘ−ｎｙ …（ｉ−２）
式中、ＣＲは光弾性係数、σＲは伸張応力、｜Δｎ｜は複屈折の絶対値、ｎｘは伸張方向の屈折率、ｎｙは面内で伸張方向と垂直な方向の屈折率、をそれぞれ示す。
C R = | Δn | / σ R (i-1)
| Δn | = nx−ny (i−2)
Wherein, C R photoelastic coefficient, sigma R is tensile stress, | [Delta] n | is the absolute value of the birefringence, nx is the refractive index of stretching direction, ny is the refractive index of stretching direction perpendicular to the direction in the plane, the Each is shown.
アクリル系熱可塑性樹脂の光弾性係数Ｃは、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂等）と比較して、十分に小さい。従って、外力に起因した（光弾性）複屈折を生じさせないために複屈折変化を受けにくい。また、成形時の残存応力に起因する（光弾性）複屈折を生じにくいために成形体内での複屈折分布も小さい。 The photoelastic coefficient C of the acrylic thermoplastic resin is sufficiently small as compared with existing resins (for example, PMMA, PC, triacetyl cellulose resin, cyclic olefin resin, etc.). Therefore, since it does not cause birefringence due to external force (photoelasticity), it is difficult to undergo birefringence change. In addition, since birefringence caused by residual stress at the time of molding (photoelasticity) hardly occurs, the birefringence distribution in the molded body is also small.
（ｉｉ）面内方向の位相差Ｒｅ
アクリル系熱可塑性樹脂は、フィルム成形した場合の面内方向の位相差Ｒｅの絶対値が、３０ｎｍ以下であることが好ましい。ここで位相差Ｒｅは、フィルムとして測定した値を１００μｍ厚に換算して求めた値である。
(Ii) In-plane phase difference Re
The acrylic thermoplastic resin preferably has an absolute value of the retardation Re in the in-plane direction of 30 nm or less when formed into a film. Here, the phase difference Re is a value obtained by converting a value measured as a film into a thickness of 100 μm.
位相差Ｒｅの絶対値は、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１１ｎｍ以下であることが特に好ましい。 The absolute value of the phase difference Re is more preferably 20 nm or less, further preferably 15 nm or less, and particularly preferably 11 nm or less.
一般に、位相差Ｒｅの絶対値は、複屈折の大小を表す指標である。アクリル系熱可塑性樹脂の複屈折は、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂など）を用いた場合の複屈折に対して十分に小さく、光学材料として低複屈折やゼロ複屈折を要求される用途に好適である。 In general, the absolute value of the phase difference Re is an index representing the magnitude of birefringence. The birefringence of the acrylic thermoplastic resin is sufficiently small compared to the birefringence when the existing resin (for example, PMMA, PC, triacetyl cellulose resin, cyclic olefin resin, etc.) is used. Suitable for applications requiring zero birefringence.
一方、面内方向の位相差Ｒｅの絶対値が３０ｎｍを超える場合、屈折率異方性が高いことを意味し、光学材料として低複屈折やゼロ複屈折を要求される用途には使用できないことがある。また、光学材料（例えば、フィルム、シートなど）の機械的強度を向上させるために延伸加工をする場合があるが、延伸加工後の面内方向の位相差の絶対値が３０ｎｍを超える場合は、光学材料として低複屈折やゼロ複屈折材料が得られたことにはならない。 On the other hand, when the absolute value of the in-plane phase difference Re exceeds 30 nm, it means that the refractive index anisotropy is high, and it cannot be used for applications requiring low birefringence or zero birefringence as an optical material. There is. Moreover, in order to improve the mechanical strength of an optical material (for example, a film, a sheet, etc.), it may be stretched, but when the absolute value of the retardation in the in-plane direction after the stretching process exceeds 30 nm, No low birefringence or zero birefringence material is obtained as an optical material.
（ｉｉｉ）厚み方向の位相差Ｒｔｈ
アクリル系熱可塑性樹脂は、フィルム成形した場合の厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が、３０ｎｍ以下であることが好ましい。ここで位相差Ｒｔｈは、フィルムとして測定した値を１００μｍ厚に換算して求めた値である。
(Iii) Thickness direction retardation Rth
The acrylic thermoplastic resin preferably has an absolute value of the retardation Rth in the thickness direction of 30 nm or less when formed into a film. Here, the retardation Rth is a value obtained by converting a value measured as a film into a thickness of 100 μm.
位相差Ｒｔｈの絶対値は、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１１ｎｍ以下であることが特に好ましい。 The absolute value of the phase difference Rth is more preferably 20 nm or less, further preferably 15 nm or less, and particularly preferably 11 nm or less.
この厚み方向の位相差Ｒｔｈは、光学材料、特に光学フィルムとしたとき、該光学フィルムを組み込んだ表示装置の視野角特性と相関する指標である。具体的には、厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が小さいほど視野角特性は良好であり、見る角度による表示色の色調変化、コントラストの低下が小さい。 The retardation Rth in the thickness direction is an index that correlates with the viewing angle characteristics of a display device incorporating the optical film when an optical material, particularly an optical film is used. More specifically, the smaller the absolute value of the thickness direction retardation Rth, the better the viewing angle characteristics, and the smaller the change in the color tone of the display color depending on the viewing angle and the lower the contrast.
アクリル系熱可塑性樹脂は、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂など）を用いた場合と比較して、光学フィルムとしたときの厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が非常に小さいという特徴を有する。 The acrylic thermoplastic resin is an absolute value of the retardation Rth in the thickness direction when used as an optical film, compared to the case where an existing resin (for example, PMMA, PC, triacetyl cellulose resin, cyclic olefin resin, etc.) is used. Is very small.
（ｉｖ）全光線透過率
アクリル系熱可塑性樹脂は、フィルム成形した場合の全光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。ここで全光線透過率は、１００μｍ厚に換算して求めた値である。全光線透過率が８５％未満であると、透明性が低下し、高い透明性を要求される用途に使用できないことがある。
(Iv) Total light transmittance The acrylic thermoplastic resin preferably has a total light transmittance of 85% or more, more preferably 88% or more, and more preferably 90% or more when film-formed. Further preferred. Here, the total light transmittance is a value obtained by converting to a thickness of 100 μm. When the total light transmittance is less than 85%, the transparency is lowered, and it may not be used for applications requiring high transparency.
以上のとおり、アクリル系熱可塑性樹脂は、光弾性係数Ｃが十分に小さく（近似的にはゼロ）、また延伸加工の有無に関わらず、光学フィルムとして面内方向の位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値がいずれも小さい（近似的にはゼロ）ことで特徴付けられ、従来公知の樹脂では達成できない光学的に完全な等方性を実現することができる。さらに、アクリル系熱可塑性樹脂は、高い耐熱性をも同時に達成することができる。 As described above, the acrylic thermoplastic resin has a sufficiently small photoelastic coefficient C (approximately zero), and an in-plane retardation Re and thickness direction as an optical film regardless of the presence or absence of stretching. The absolute value of the phase difference Rth is all small (approximately zero), and optically complete isotropic property that cannot be achieved by a conventionally known resin can be realized. Furthermore, the acrylic thermoplastic resin can simultaneously achieve high heat resistance.
［アクリル系熱可塑性樹脂の製造方法］
本実施形態のアクリル系熱可塑性樹脂は、第一の単量体、第二の単量体及び第三の単量体を含む単量体群を重合することにより得ることができる。アクリル系熱可塑性樹脂を得る手法として、例えば、キャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、リビングラジカル重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、通常、触媒の脱灰がないラジカル重合が選択される。
[Method for producing acrylic thermoplastic resin]
The acrylic thermoplastic resin of this embodiment can be obtained by polymerizing a monomer group including a first monomer, a second monomer, and a third monomer. As a technique for obtaining an acrylic thermoplastic resin, for example, commonly used polymerization methods such as cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, living radical polymerization, anionic polymerization, etc. can be used. Usually, radical polymerization without catalyst deashing is selected.
アクリル系熱可塑性樹脂を光学材料用途として用いるには、微小な異物や不純物の混入をできるだけ避けることが好ましく、この観点からアクリル系熱可塑性樹脂の重合方法には懸濁剤や乳化剤を用いないラジカルキャスト重合やラジカル溶液重合を用いることが望ましい。 In order to use an acrylic thermoplastic resin as an optical material, it is preferable to avoid the inclusion of minute foreign matters and impurities as much as possible. From this point of view, a radical that does not use a suspending agent or an emulsifier is used in the polymerization method of the acrylic thermoplastic resin. It is desirable to use cast polymerization or radical solution polymerization.
また、重合形式として、例えば、バッチ重合法、連続重合法のいずれも用いることができる。重合操作が簡単という観点からは、バッチ重合法が望ましく、より均一組成の重合物を得るという観点では、連続重合法を用いることが望ましい。 Moreover, as a polymerization form, any of a batch polymerization method and a continuous polymerization method can be used, for example. The batch polymerization method is desirable from the viewpoint of simple polymerization operation, and the continuous polymerization method is desirably used from the viewpoint of obtaining a polymer having a more uniform composition.
重合反応時の温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合等に応じて適宜調整できるが、例えば、重合温度が０〜１６０℃、重合時間が０．５〜２４時間であり、好ましくは、重合温度が８０〜１６０℃、重合時間が１〜８時間である。 The temperature and polymerization time at the time of the polymerization reaction can be appropriately adjusted according to the type and ratio of the monomer used, for example, the polymerization temperature is 0 to 160 ° C., the polymerization time is 0.5 to 24 hours, Preferably, the polymerization temperature is 80 to 160 ° C. and the polymerization time is 1 to 8 hours.
ラジカル重合反応時には、必要に応じて重合開始剤を添加する。重合開始剤としては、重合温度に応じて一般的なラジカル重合開始剤を使用することができ、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート等のアゾ化合物を挙げることができる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用して用いてもよい。 At the time of radical polymerization reaction, a polymerization initiator is added as necessary. As the polymerization initiator, a general radical polymerization initiator can be used depending on the polymerization temperature. For example, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, Organic peroxides such as benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate; 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 1,1′-azobis Examples include azo compounds such as (cyclohexanecarbonitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは０．００５〜５質量％の範囲で用いられる。 The amount of the polymerization initiator used may be appropriately set according to the combination of the monomers and reaction conditions, and is not particularly limited, but is preferably used in the range of 0.005 to 5% by mass.
重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用され、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸２−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が挙げられる。これらの分子量調節剤は、重合度が所望の範囲内に制御されるように添加される。 As the molecular weight regulator used as necessary in the polymerization reaction, any one used in general radical polymerization may be used. Can be mentioned. These molecular weight regulators are added so that the degree of polymerization is controlled within a desired range.
ラジカル溶液重合の場合の重合溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合温度、取扱いの容易さ、及び、樹脂と溶媒との分離除去の容易性より、沸点が５０〜２００℃である溶媒が好ましい。 Examples of the polymerization solvent in the case of radical solution polymerization include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and ethylbenzene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and ether solvents such as tetrahydrofuran. These solvents may be used alone or in combination of two or more. A solvent having a boiling point of 50 to 200 ° C. is preferable in view of polymerization temperature, ease of handling, and ease of separation and removal of the resin and the solvent.
ラジカル溶液重合では、重合液濃度（樹脂分の濃度）として１０〜９５質量％で実施することが望ましい。１０質量％以上であれば、分子量と分子量分布の調整が容易である。９５質量％以下であれば、高分子量の重合体を得ることができる。また、重合中の除熱の観点から、反応液の粘度を適切にするために７５質量％以下とすることがより好ましく、６０質量％以下とすることが更に好ましい。 In radical solution polymerization, it is desirable that the polymerization solution concentration (concentration of resin) be 10 to 95% by mass. If it is 10 mass% or more, adjustment of molecular weight and molecular weight distribution is easy. If it is 95 mass% or less, a high molecular weight polymer can be obtained. Further, from the viewpoint of heat removal during polymerization, in order to make the viscosity of the reaction solution appropriate, it is more preferably 75% by mass or less, and further preferably 60% by mass or less.
また、重合反応液の粘度を適切に保つという観点からは、重合中に重合溶媒を適宜添加することができる。反応液の粘度を適切に保つことで、除熱を制御し、反応液中の副反応を抑制することが容易となる。特に、粘度が上昇する重合反応後半においては重合溶媒を適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが更に好ましい。 Further, from the viewpoint of appropriately maintaining the viscosity of the polymerization reaction solution, a polymerization solvent can be appropriately added during the polymerization. By appropriately maintaining the viscosity of the reaction solution, it is easy to control heat removal and suppress side reactions in the reaction solution. In particular, in the latter half of the polymerization reaction in which the viscosity increases, it is more preferable to add a polymerization solvent as appropriate and control it to be 50% by mass or less.
溶液重合で得られたアクリル系熱可塑性樹脂は、溶液をそのまま用いて溶液キャスト法で光学等方性偏光膜保護フィルムとする場合以外では、溶媒や残存単量体と分離する必要がある。分離する方法は、溶液を加熱したり減圧したりして溶媒や残存単量体を揮発させる脱揮処理や、樹脂の貧溶媒中に入れて溶媒や残存単量体を抽出除去する方法等、公知の方法を用いることができる。 The acrylic thermoplastic resin obtained by solution polymerization needs to be separated from the solvent and the remaining monomer, except when the solution is used as it is to form an optically isotropic polarizing film protective film by a solution casting method. Separation methods include devolatilization treatment that volatilizes the solvent and residual monomer by heating or depressurizing the solution, extraction and removal of the solvent and residual monomer in a poor solvent of the resin, etc. A known method can be used.
本実施形態において、アクリル系熱可塑性樹脂は、光学材料として精密な光学用途である偏光板に供されるものであることから混入する異物数は、少ないほど好ましい。異物数を減少させる方法としては、重合反応工程、脱揮処理工程、及び成形工程において、重合溶液又は溶融液を、例えば、濾過精度１．５〜１５μｍのリーフディスク型ポリマーフィルター等で濾過する方法等が挙げられる。 In this embodiment, since the acrylic thermoplastic resin is used for a polarizing plate that is a precise optical application as an optical material, the smaller the number of foreign matters mixed in, the better. As a method of reducing the number of foreign substances, a method of filtering a polymerization solution or a melt with, for example, a leaf disk polymer filter having a filtration accuracy of 1.5 to 15 μm in a polymerization reaction step, a devolatilization treatment step, and a molding step Etc.
本実施形態においては、最終的な光学等方性偏光膜保護フィルムへの影響が出ない範囲内で、アクリル系熱可塑性樹脂に熱安定剤、紫外線吸収剤、光学等方性樹脂以外の樹脂を加えることができる。加える方法は公知の方法であれば特段の制限はない。例えば、重合時に添加する方法、重合後の溶液に添加する方法、樹脂に溶融混練等をして添加する方法、また、これらを組み合わせによる方法等によって添加することができる。 In the present embodiment, a resin other than the thermal stabilizer, the ultraviolet absorber, and the optical isotropic resin is added to the acrylic thermoplastic resin within a range that does not affect the final optically isotropic polarizing film protective film. Can be added. The adding method is not particularly limited as long as it is a known method. For example, it can be added by a method of adding at the time of polymerization, a method of adding to the solution after polymerization, a method of adding the resin by melt kneading or the like, or a method of combining these.
［アクリル系熱可塑性樹脂の成形］
本実施形態のアクリル系熱可塑性樹脂をフィルム状又はシート状に成形することで、光学等方性支持板に加工することができる。成形方法としては、溶融熱プレス法、溶融熱プレス法と熱溶融延伸法との組み合わせ、溶融押出法、溶融押出法と熱溶融延伸法との組み合わせ、射出成形法、射出成形法と熱溶融延伸法との組み合わせ、溶媒キャスト法、溶媒キャスト法と熱溶融延伸法との組み合わせ等を用いることができる。生産性の観点からは、溶融押出成形法が、光学性能の点からは溶融熱プレス成形法が好ましい。
[Molding of acrylic thermoplastic resin]
By molding the acrylic thermoplastic resin of the present embodiment into a film or sheet, it can be processed into an optically isotropic support plate. Molding methods include melt hot press method, combination of melt hot press method and hot melt stretching method, melt extrusion method, combination of melt extrusion method and hot melt stretching method, injection molding method, injection molding method and hot melt stretching method. A combination with a method, a solvent cast method, a combination of a solvent cast method and a hot melt stretching method, or the like can be used. From the viewpoint of productivity, the melt extrusion molding method is preferable, and from the viewpoint of optical performance, the melt hot press molding method is preferable.
一般的に溶融押出成形法では、アクリル系熱可塑性樹脂は供給装置を用いて押出機に供給、加熱下にあるスクリューの回転により溶融され、押出機から送り出され、加熱された流路を通して、口金、所謂、Ｔ台等のダイより押出される。このときアクリル系熱可塑性樹脂を押出す際のダイ温度は、組成物の熱分解を抑制するために、溶融物が固化しない範囲で低く設定することが望ましく、概ね２００〜３００℃であることが好ましく、この範囲でできるだけ低く設定することが好ましい。 In general, in the melt extrusion molding method, an acrylic thermoplastic resin is supplied to an extruder using a supply device, melted by rotation of a screw under heating, sent out from the extruder, and passed through a heated flow path to form a die. It is extruded from a die such as a so-called T table. At this time, the die temperature at the time of extruding the acrylic thermoplastic resin is desirably set to be low within a range in which the melt does not solidify in order to suppress thermal decomposition of the composition, and is approximately 200 to 300 ° C. It is preferable to set as low as possible within this range.
ダイより溶融状態で押出されたアクリル系熱可塑性樹脂は、ダイ直下、又はダイ側方に設置された鏡面状の冷却ロール、鏡面状の冷却ベルト等の各種冷却支持体にキャストされることで冷却固化、その後に巻き取りロールで巻きとられる。この際、Ｔダイより溶融押出された樹脂が自然放熱で固化する前に転写することが好ましく、ダイと冷却ロール又は冷却ベルト等の支持体の距離を１〜３００ｍｍ程度にすることが一般的である。この範囲であれば、押出歪を少なくして製品間の光学的、機械的なムラの原因である歪のバラツキを減少させることが容易になる。 The acrylic thermoplastic resin extruded in a molten state from the die is cooled by being cast on various cooling supports such as a mirror-like cooling roll and a mirror-like cooling belt installed directly under the die or on the side of the die. Solidified and then wound up by a take-up roll. At this time, it is preferable to transfer the resin melt-extruded from the T die before solidifying by natural heat dissipation, and the distance between the die and a support such as a cooling roll or a cooling belt is generally about 1 to 300 mm. is there. If it is this range, it will become easy to reduce extrusion distortion and to reduce the variation of the distortion which causes the optical and mechanical nonuniformity between products.
冷却ロール、冷却ベルト等の支持体の構成や温度は、厚みによって好ましい構成、範囲が異なる。３００μｍ以上の厚みの板状に製造する場合は、製品の厚みに応じた間隔をもつ二本一対の冷却ロールや冷却ベルトに挟んで、押し出されたアクリル系熱可塑性樹脂の両面から表面を同時に転写、固化することが好ましい。こうすることにより表面が平坦、且つ、平滑な光学等方性支持板を得ることが容易となり、厚み精度の高い板状成形を容易に製造することができる。また二本一組の冷却ロールや冷却ベルトに挟む直前に溶融樹脂の液溜り、所謂、バンクを設けることも必要においてできる。また、この厚み範囲の厚みにおいては冷却ロールや冷却ベルトの温度は１２０〜２００℃が好ましい。 The structure and temperature of the support such as the cooling roll and the cooling belt vary depending on the thickness. When manufacturing into a plate with a thickness of 300 μm or more, the surface is transferred simultaneously from both sides of the extruded acrylic thermoplastic resin, sandwiched between two pairs of cooling rolls and cooling belts with an interval according to the thickness of the product. It is preferable to solidify. By doing so, it becomes easy to obtain an optical isotropic support plate having a flat surface and a smooth surface, and plate-shaped molding with high thickness accuracy can be easily produced. It is also possible to provide a so-called bank of a molten resin pool immediately before being sandwiched between a pair of cooling rolls or a cooling belt. Moreover, in the thickness of this thickness range, the temperature of a cooling roll and a cooling belt has preferable 120-200 degreeC.
一方、５０μｍ以下の厚みのシートを製造する場合は、一本の冷却ロールや冷却ベルト上に転写して冷却固化することが好まし。この構成で、厚みムラが少なく、表面が平坦かつ平滑な光学等方性支持板を得ることが容易となる。この際の冷却ロールや冷却ベルトの温度は３０〜２００℃が好ましい。 On the other hand, when manufacturing a sheet having a thickness of 50 μm or less, it is preferable to transfer and solidify by cooling onto a single cooling roll or cooling belt. With this configuration, it becomes easy to obtain an optical isotropic support plate with little thickness unevenness and a flat and smooth surface. The temperature of the cooling roll and the cooling belt at this time is preferably 30 to 200 ° C.
［光学等方性支持板］
本実施形態における光学等方性支持板は、上記アクリル系熱可塑性樹脂を成形してなる板状の形態を有した成形物である。光学等方性支持板は、偏光板と一体化して、インナータッチパネル用途に供することができる。
[Optical isotropic support plate]
The optically isotropic support plate in the present embodiment is a molded product having a plate-like shape formed by molding the acrylic thermoplastic resin. The optically isotropic support plate can be integrated with the polarizing plate and used for inner touch panel applications.
本実施形態の光学等方性支持板は、光弾性係数（Ｃ）が−３．０×１０−１２〜＋３．０×１０−１２Ｐａ−１以下であるアクリル系熱可塑性樹脂からなることが望ましい。本発明における光弾性係数（Ｃ）とは外力σを加えると歪Ｓの大きさと向きが変化する物体に偏光を加えた際に観察される位相差をＲとしたとき、Ｒ＝（Ｃ）×σで記される物理係数である。光弾性係数（Ｃ）は個々の透明物質に固有の値である。光弾性係数Ｃは、その絶対値が、より好ましくは、２．０×１０−１２Ｐａ−１以下であり、さらに好ましくは１．０×１０−１２Ｐａ−１以下である。この範囲内であれば、新たな外力による歪の発生が少なく、偏光板一体型インナータッチパネル用途において、ペンタッチ等の外力を受けた場合での画像の色ずれ等が発生しない。 The optically isotropic support plate of the present embodiment is made of an acrylic thermoplastic resin having a photoelastic coefficient (C) of −3.0 × 10 −12 to + 3.0 × 10 −12 Pa −1 or less. desirable. In the present invention, the photoelastic coefficient (C) is R = (C) × where R is the phase difference observed when polarized light is applied to an object whose magnitude and direction of the strain S change when an external force σ is applied. It is a physical coefficient denoted by σ. The photoelastic coefficient (C) is a value specific to each transparent material. The absolute value of the photoelastic coefficient C is more preferably 2.0 × 10 −12 Pa −1 or less, and further preferably 1.0 × 10 −12 Pa −1 or less. Within this range, the occurrence of distortion due to a new external force is small, and color misalignment of an image does not occur when an external force such as a pen touch is applied in a polarizing plate integrated inner touch panel application.
本実施形態の光学等方性支持板における面内方向の位相差（Ｒｅ）、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）とは、光学等方性支持板の面内及び厚み方向に生じる、成形時の残留応力による歪み、成形後に加えられる外部応力による生じる歪みのいずれか、又は両方を原因とする位相差である。面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値が３０ｎｍ以下であり、かつ厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値が３０ｎｍ以下であれば、偏光板に挟まれた光学等方性支持板で偏光が乱れることなくコントラストが良好な画像を得ることができる。より好ましくはＲｅ、Ｒｔｈともに２５ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下が望ましい。 In-plane direction retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) in the optical isotropic support plate of the present embodiment are generated in the in-plane and thickness direction of the optical isotropic support plate. The phase difference is caused by either or both of distortion caused by residual stress and distortion caused by external stress applied after molding. If the absolute value of the in-plane retardation (Re) is 30 nm or less and the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) is 30 nm or less, the optical isotropic support plate sandwiched between the polarizing plates An image with good contrast can be obtained without disturbing the polarization. More preferably, both Re and Rth are 25 nm or less, and more preferably 20 nm or less.
本発明の光学等方性支持板は、フィルム成形した場合の延伸倍率（Ｓ）と、その延伸倍率での１００μｍ厚み換算複屈折（Δｎ（Ｓ））との最小二乗法近似直線関係式（ａ）における傾きαが、−０．３０×１０−５≦α≦＋０．３０×１０−５の範囲にあるアクリル系熱可塑性樹脂からなることが望ましい。この範囲内にあるとき、光学特方性支持板の強度を上げる目的で、光学等方性支持板を延伸加工処理を施しても、延伸後の光学等方性支持板の発現する複屈折を小さいままに保つことが可能となる。 The optically isotropic support plate of the present invention has a least square method approximate linear relational expression (a) between a stretching ratio (S) when film-forming and a 100 μm-thickness converted birefringence (Δn (S)) at the stretching ratio (a ) Is preferably made of an acrylic thermoplastic resin in the range of −0.30 × 10 −5 ≦ α ≦ + 0.30 × 10 −5 . When it is within this range, even if the optical isotropic support plate is subjected to a drawing process for the purpose of increasing the strength of the optical isotropic support plate, the birefringence expressed by the optical isotropic support plate after stretching is exhibited. It can be kept small.
本発明の光学等方性支持板は、ガラス転移温度が１３０℃以上であるアクリル系熱可塑性樹脂からなることが望ましい。１３０℃以上であれば、近年の液晶ディスプレイ用フィルム成形体として必要十分な耐熱性を有しているばかりか、車載用等の高度な耐久性が要求される用途においても、好適に用いることができる。Ｔｇは、好ましくは１３５℃以上であり、より好ましくは１４０℃以上である。一方、Ｔｇの上限としては、１８０℃であることが好ましい。 The optically isotropic support plate of the present invention is preferably made of an acrylic thermoplastic resin having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher. If it is 130 ° C. or higher, it not only has sufficient heat resistance as a film molded product for liquid crystal displays in recent years, but also can be suitably used in applications that require high durability such as in-vehicle use. it can. Tg is preferably 135 ° C. or higher, and more preferably 140 ° C. or higher. On the other hand, the upper limit of Tg is preferably 180 ° C.
また、本発明の光学等方性支持板の表面硬度は、鉛筆硬度で３Ｈ以上の表面硬度を有することが望ましい。鉛筆硬度が３Ｈ以上あれば、タッチパネルとして使用する際の傷つき特性として十分である。より好ましくは４Ｈ以上である。一方、鉛筆硬度の上限としては、６Ｈ程度である。 The surface hardness of the optically isotropic support plate of the present invention is preferably 3H or more in terms of pencil hardness. A pencil hardness of 3H or more is sufficient as a scratch property when used as a touch panel. More preferably, it is 4H or more. On the other hand, the upper limit of pencil hardness is about 6H.
本発明の光学等方性支持板の厚みは、２５〜３５００μｍであることが好ましく、２５〜２０００μｍがより好ましく、２５〜１０００μｍが更に好ましく、２５〜８００μｍが特に好ましい。光学等方性支持板の厚みが２５μ以上であれば、取り扱い上の十分な剛性を有し手やペンの接触に耐えることができ、３５００μｍ以下であればディスプレイとしての十分な透明性が確保できる。 The thickness of the optically isotropic support plate of the present invention is preferably 25 to 3500 μm, more preferably 25 to 2000 μm, still more preferably 25 to 1000 μm, and particularly preferably 25 to 800 μm. If the thickness of the optically isotropic support plate is 25 μm or more, it has sufficient handling rigidity and can withstand contact with a hand or a pen, and if it is 3500 μm or less, sufficient transparency as a display can be secured. .
（光学等方性支持板の後加工）
光学等方性支持板は、必要に応じて、帯電防止処理、反射防止処理、ハードコート処理、アンカーコート処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の処理を行って、最終的な用途に用いることができる。このような表面処理を行う場合は、必要に応じて、コロナ放電やプラズマ放電による処理や、エポキシ基、イソシアナート基等を持ったプライマー剤塗布による表面処理により、密着性を高めることもできる。
(Post-processing of optical isotropic support plate)
The optically isotropic support plate is subjected to treatment such as antistatic treatment, antireflection treatment, hard coat treatment, anchor coat treatment, transparent conductive treatment, electromagnetic wave shielding treatment, gas barrier treatment, etc. Can be used. In the case of performing such a surface treatment, the adhesion can be enhanced by a treatment by corona discharge or plasma discharge or a surface treatment by application of a primer agent having an epoxy group, an isocyanate group or the like, if necessary.
（光学等方性支持板への透明導電層付与）
本実施形態の光学等方性支持板には、可視光領域において透過度を有し、かつ、導電性を有する透明導電層を施すことができる。透明導電層の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の従来公知の技術をいずれも使用できるが、膜の均一性やアンカーコート層への薄膜の密着性の観点から、スパッタリング法での薄膜形成が好ましい。また、用いる薄膜材料も特に制限されるものではなく、例えば、酸化錫を含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫等の金属酸化物のほか、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、コバルト、錫、亜鉛又はこれらの合金等が好ましく用いられる。中でも好ましいものとしては、酸化錫を含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が挙げられる。
(Applying a transparent conductive layer to an optically isotropic support plate)
The optically isotropic support plate of the present embodiment can be provided with a transparent conductive layer having transparency in the visible light region and having conductivity. As a method for forming the transparent conductive layer, any conventionally known technique such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used, but from the viewpoint of film uniformity and adhesion of the thin film to the anchor coat layer. The thin film formation by sputtering is preferred. Further, the thin film material to be used is not particularly limited, for example, in addition to metal oxides such as indium oxide containing tin oxide and tin oxide containing antimony, gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, Nickel, chromium, titanium, cobalt, tin, zinc, or alloys thereof are preferably used. Among them, indium oxide (ITO) containing tin oxide is preferable.
透明導電層の厚さは、３００〜１０００ｎｍである。３００ｎｍ以上であれば表面抵抗が、１０００Ω／□以下となる良好な導電性を有する連続被膜となる。また１００００ｎｍ以下であれば全光線透過率の著しい低下をきたすことなく透明性を維持できる。より好ましい範囲としては４００〜９００ｎｍであり、更に好ましくは５００〜８００ｎｍである。 The thickness of the transparent conductive layer is 300 to 1000 nm. If it is 300 nm or more, it will be a continuous film having good conductivity with a surface resistance of 1000 Ω / □ or less. Moreover, if it is 10,000 nm or less, transparency can be maintained without causing a significant decrease in the total light transmittance. As a more preferable range, it is 400-900 nm, More preferably, it is 500-800 nm.
［偏光板一体型インナータッチパネル用光学等方性支持板］
本実施形態の偏光板一体型インナータッチパネル用光学等方性支持板は、インナータッチパネル用光学等方性支持板と、該光学等方性支持板の少なくとも一方の面に積層された偏光板とを有する。偏光板一体型光学等方性支持板は、例えば、偏光板と光学等方性支持板とを偏光板用接着剤で貼り合わせることで作製することができる。
[Optical isotropic support plate for polarizing plate integrated inner touch panel]
The optically isotropic support plate for an inner touch panel integrated with a polarizing plate of the present embodiment includes an optical isotropic support plate for an inner touch panel and a polarizing plate laminated on at least one surface of the optical isotropic support plate. Have. The polarizing plate-integrated optical isotropic support plate can be produced, for example, by bonding a polarizing plate and an optical isotropic support plate with a polarizing plate adhesive.
（偏光板）
本実施形態における偏光板とは、偏光膜と偏光膜を保護する偏光膜保護フィルムとを偏光板用接着剤で貼り合わせたものである。
(Polarizer)
The polarizing plate in this embodiment is obtained by bonding a polarizing film and a polarizing film protective film that protects the polarizing film with an adhesive for polarizing plate.
光学等方性支持板に偏光板を貼り合わせる方法、すなわち、光学等方性支持板と、偏光膜及び偏光膜保護フィルムとの積層方法は特に制限されず、例えば、光学等方性支持板の一表面又は偏光膜の一表面に接着剤を均一に塗布し、塗布面に他方を重ね合わせ、ロール等により貼り合わせ後、必要に応じて加熱又は露光する方法等が挙げられる The method of laminating the polarizing plate on the optical isotropic support plate, that is, the lamination method of the optical isotropic support plate, the polarizing film and the polarizing film protective film is not particularly limited, for example, the optical isotropic support plate Examples include a method in which an adhesive is uniformly applied to one surface or one surface of a polarizing film, the other is superimposed on the coated surface, and bonded with a roll or the like, and then heated or exposed as necessary.
偏光膜は、入射する光を互いに直行する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収又は分散させる働きを有する膜のことであり、その機能を有する膜であれば特に限定されず、いずれの偏光膜も用いることができる。また、その製造方法は特に限定されず、従来公知の方法を適用することができる。例えば、一軸延伸状態を保持したままのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解して製造した高次のヨウ素イオンを含む溶液に浸漬し、ヨウ素を吸着後延伸したあと、１〜５質量％のホウ酸水溶液に浴温度２０〜７０℃の温度下で浸漬して偏光膜を製造する方法や、ポリビニルアルコールフィルムを１〜５質量％のホウ酸水溶液に浴温度２０〜４０℃の温度下で浸漬し、一軸方向に３〜７倍程度延伸した後、０．０５〜５質量％の二色性染料水溶液に温度２０〜４０℃で浸漬して染料を吸着してから、８０〜１００℃で乾燥し熱固定することで偏光膜を製造する方法が挙げられる。 A polarizing film is a film that functions to divide incident light into two polarized components that are orthogonal to each other, pass only one of them, and absorb or disperse the other component. It does not specifically limit and any polarizing film can be used. Moreover, the manufacturing method is not specifically limited, A conventionally well-known method is applicable. For example, after immersing a polyvinyl alcohol film that is kept in a uniaxially stretched state in a solution containing higher-order iodine ions prepared by dissolving iodine in a potassium iodide solution, and stretching after adsorbing iodine, 1 to 5 masses A method for producing a polarizing film by immersing in an aqueous boric acid solution at a bath temperature of 20 to 70 ° C, or a polyvinyl alcohol film in an aqueous boric acid solution of 1 to 5% by weight at a bath temperature of 20 to 40 ° C. And is stretched about 3 to 7 times in a uniaxial direction, and is then immersed in a 0.05 to 5% by mass dichroic dye aqueous solution at a temperature of 20 to 40 ° C. to adsorb the dye, and then 80 to 100 ° C. And a method of producing a polarizing film by drying and heat-fixing.
偏光膜の厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０〜５０μｍであり、より好ましくは１５〜４５μｍである。偏光膜の厚みが１０μｍ以上であれば、延伸や浸漬時に破断することなしに製造が可能であり、５０μｍ以下であれば最終乾燥が容易であり、ばらつきの少ない偏光膜を得ることが可能である。 Although the thickness of a polarizing film is not specifically limited, Preferably it is 10-50 micrometers, More preferably, it is 15-45 micrometers. If the thickness of the polarizing film is 10 μm or more, it can be produced without breaking during stretching or immersion, and if it is 50 μm or less, final drying is easy and a polarizing film with little variation can be obtained. .
偏光膜は、そのまま本実施形態の偏光板の製造に用いてもよいが、本発明の光学等方性支持板や偏光膜保護フィルムとの接着を増すために接着剤層と接する面に、コロナ放電処理、プラズマ処理を施して用いることもできる。 The polarizing film may be used as it is in the production of the polarizing plate of the present embodiment, but in order to increase the adhesion with the optically isotropic support plate or the polarizing film protective film of the present invention, the surface in contact with the adhesive layer is corona. It can also be used after being subjected to discharge treatment or plasma treatment.
（偏光板用接着剤）
偏光板用接着剤とはポリビニルアルコール水溶液や、ポリビニルアルコール、ポリウレタン系樹脂及びエポキシ硬化剤の水溶液等の水系接着剤等が用いられ、偏光膜と偏光膜保護フィルムとを接着可能であり、かつ、光学等方性支持板と偏光膜とを接着させることができるものであれば特に限定されない。
(Adhesive for polarizing plate)
The polarizing plate adhesive is an aqueous polyvinyl alcohol solution, an aqueous adhesive such as an aqueous solution of polyvinyl alcohol, polyurethane resin and epoxy curing agent, and the like, and can be used to bond the polarizing film and the polarizing film protective film, and There is no particular limitation as long as the optically isotropic support plate and the polarizing film can be bonded.
偏光板用接着剤は、乾燥後の厚さが好ましくは０．０１〜５０μｍであり、より好ましくは０．０１〜３０μｍ以下であり、更に好ましくは０．０１〜３μｍ以下となるように塗布する。偏光板用接着剤の乾燥後の厚さが０．０１μｍ以上であれば必要十分な接着強度が得られ層間剥離が生じ難く、５０μｍ以下であれば必要十分な全光線透過率が得られる。 The polarizing plate adhesive is applied so that the thickness after drying is preferably 0.01 to 50 μm, more preferably 0.01 to 30 μm, and still more preferably 0.01 to 3 μm. . If the thickness of the adhesive for polarizing plate after drying is 0.01 μm or more, necessary and sufficient adhesive strength is obtained and delamination does not easily occur, and if it is 50 μm or less, necessary and sufficient total light transmittance is obtained.
偏光板用接着剤の塗布時の温度と貼り合わせ温度は、１５〜４０℃が好ましく、１５℃以上であれば必要十分な粘度を確保でき、４０℃以下であれば、貼り合わせる時間的な余裕が確保できる。接着剤として紫外線硬化性接着剤を用いた場合には、貼り合わせ後は露光処理を行い、接着剤を硬化させる。この際の露光光源は特に限定されないが、好ましくは紫外線であり、露光量は、好ましくは１〜２０００ｍＪである。 The temperature at the time of application | coating of the adhesive agent for polarizing plates, and bonding temperature are 15-40 degreeC, if it is 15 degreeC or more, required and sufficient viscosity can be ensured, and if it is 40 degrees C or less, the time allowance for bonding Can be secured. When an ultraviolet curable adhesive is used as the adhesive, an exposure process is performed after bonding to cure the adhesive. Although the exposure light source in this case is not specifically limited, Preferably it is an ultraviolet-ray and the exposure amount becomes like this. Preferably it is 1-2000 mJ.
（偏光膜用保護フィルム）
偏光膜保護フィルムとは、トリアセチルセルロース重合体、ポリカーボネート重合体、環状オレフィン系重合体、ポリエチレンテレフタレート系重合体、アクリル系重合体、又は本発明の光学等方性材料を成形してなるフィルムが一般的である。中でも、アクリル系重合体や、光学等方性材料を成形してなるフィルム又は本発明の光学等方性支持板が、耐光性と透明導電層の長期耐久性の面から好ましい。
(Protective film for polarizing film)
The polarizing film protective film is a film formed by molding a triacetyl cellulose polymer, a polycarbonate polymer, a cyclic olefin polymer, a polyethylene terephthalate polymer, an acrylic polymer, or the optically isotropic material of the present invention. It is common. Among these, an acrylic polymer, a film formed by molding an optically isotropic material, or the optically isotropic support plate of the present invention is preferable from the viewpoint of light resistance and long-term durability of the transparent conductive layer.
偏光膜保護フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０〜１００μｍであり、より好ましくは２０〜８０μｍであり、更に好ましくは２５〜４０μｍである。偏光膜保護フィルムの厚みが１０μｍ以上であれば、偏光膜の傷つき強度を十分に発現でき、１００μｍ以下であれば、必要十分な全光線透過率が維持できる。 Although the thickness of a polarizing film protective film is not specifically limited, Preferably it is 10-100 micrometers, More preferably, it is 20-80 micrometers, More preferably, it is 25-40 micrometers. If the thickness of the polarizing film protective film is 10 μm or more, the scratching strength of the polarizing film can be sufficiently expressed, and if it is 100 μm or less, the necessary and sufficient total light transmittance can be maintained.
［インナータッチパネル］
本実施形態におけるタッチパネルとは、表示と入力の二つ以上の機能を備えた機器であり、機器外部から受けた画像情報を液晶や有機ＥＬ等のディスプレイ等で表示すると共に、操作者がその表示された画面情報である絵やピクトグラム等の点又は領域に手やペンで触れることで、触れられた画面情報位置を感知し、操作者の意思を情報信号として機器外部へ出力するものをいう。特に偏光板一体型インナータッチパネルとは、液晶セルと偏光板が一体化された特殊なタッチパネルであり、液晶セルの上部に配置される偏光板の外面側に偏光板保護膜、そして、液晶セル面側に偏光板保護膜ではなく光学等方性支持板が設けられたものであり、場合によっては、光学等方性支持板のセル面側に透明導電層が設けられた構造のものをいう。
[Inner touch panel]
The touch panel in the present embodiment is a device having two or more functions of display and input, and displays image information received from the outside of the device on a display such as a liquid crystal or an organic EL, and the operator displays the information. The touched screen information position is sensed by touching a point or area such as a picture or pictogram as the screen information with a hand or a pen, and the operator's intention is output as an information signal to the outside of the device. In particular, a polarizing plate-integrated inner touch panel is a special touch panel in which a liquid crystal cell and a polarizing plate are integrated, a polarizing plate protective film on the outer surface side of the polarizing plate disposed on the top of the liquid crystal cell, and the liquid crystal cell surface. An optically isotropic support plate is provided on the side instead of a polarizing plate protective film. In some cases, a transparent conductive layer is provided on the cell surface side of the optically isotropic support plate.
タッチパネル用途において、静電投影方式とは、指先と導電膜との間での静電容量の変化を捉えて位置を検出する方式であり、電極層として透明電極によって縦横２層からなる多数のダイヤモンドモザイク状の電極パターンが基板上に配置され、指が触れると電極の静電容量の変化を縦横２つの電極列から知ることで位置を精密に判別、多点検出が可能であるものをいう。 In touch panel applications, the electrostatic projection method is a method for detecting the position by detecting the change in capacitance between the fingertip and the conductive film. A mosaic electrode pattern is arranged on a substrate, and when a finger touches it, the change in the capacitance of the electrode is known from two vertical and horizontal electrode rows, so that the position can be determined accurately and multipoint detection is possible.
タッチパネル用途において、抵抗膜方式とは、対向する２枚の抵抗膜のうち１枚に対して電圧をかけておき、指やペン等で触れた位置に応じた電圧の変化を検知する事によりアナログ量として操作した場所を検知するものをいう。 In touch panel applications, the resistive film method is an analog by applying a voltage to one of two opposing resistive films and detecting the change in voltage according to the position touched with a finger or pen. A thing that detects the place operated as a quantity.
なお、本発明の偏光板一体型光学等方性支持板を含む、液晶表示セル上の層構造例としては、下記のとおりである。左端が指やペンで入力する空気側であり、右端が液晶表示セルとなる。
［１］ 偏光膜保護フィルム／偏光膜／光学等方性支持板
［２］ 偏光膜保護フィルム／偏光膜／光学等方性支持板／アンカーコート層／透明導電層
［３］ 偏光膜保護フィルム／偏光膜／光学等方性支持板／ハードコート層／アンカーコート層／透明導電層
［４］ 光学等方性支持板／偏光膜／光学等方性支持板
［５］ 光学等方性支持板／偏光膜／光学等方性支持板／アンカーコート層／透明導電層
［６］ 光学等方性支持板／偏光膜／光学等方性支持板／ハードコート層／アンカーコート層／透明導電層
［７］ ハードコート層／偏光膜保護フィルム／偏光膜／光学等方性支持板
［８］ ハードコート層／偏光膜保護フィルム／偏光膜／光学等方性支持板／アンカーコート層／透明導電層
［９］ ハードコート層／偏光膜保護フィルム／偏光膜／光学等方性支持板／ハードコート層／アンカーコート層／透明導電層
［１０］ ハードコート層／光学等方性支持板／偏光膜／光学等方性支持板
［１１］ ハードコート層／光学等方性支持板／偏光膜／光学等方性支持板／アンカーコート層／透明導電層
［１２］ ハードコート層／光学等方性支持板／偏光膜／光学等方性支持板／ハードコート層／アンカーコート層／透明導電層
Examples of the layer structure on the liquid crystal display cell including the polarizing plate integrated optically isotropic support plate of the present invention are as follows. The left end is the air side for inputting with a finger or a pen, and the right end is a liquid crystal display cell.
[1] Polarizing film protective film / polarizing film / optical isotropic support plate [2] Polarizing film protective film / polarizing film / optical isotropic support plate / anchor coat layer / transparent conductive layer [3] Polarizing film protective film / Polarizing film / optical isotropic support plate / hard coat layer / anchor coat layer / transparent conductive layer [4] Optical isotropic support plate / polarizing film / optical isotropic support plate [5] Optical isotropic support plate / Polarizing film / optical isotropic support plate / anchor coat layer / transparent conductive layer [6] Optical isotropic support plate / polarizing film / optical isotropic support plate / hard coat layer / anchor coat layer / transparent conductive layer [7 ] Hard coat layer / polarizing film protective film / polarizing film / optical isotropic support plate [8] Hard coat layer / polarizing film protective film / polarizing film / optical isotropic support plate / anchor coat layer / transparent conductive layer [9] ] Hard coat layer / polarizing film protective film / polarizing film / light Isotropic support plate / hard coat layer / anchor coat layer / transparent conductive layer [10] hard coat layer / optical isotropic support plate / polarizing film / optical isotropic support plate [11] hard coat layer / optical isotropic Support plate / polarizing film / optical isotropic support plate / anchor coat layer / transparent conductive layer [12] hard coat layer / optical isotropic support plate / polarizing film / optical isotropic support plate / hard coat layer / anchor Coat layer / transparent conductive layer
本発明の偏光板一体型光学等方性支持板は、光学等方性支持板と偏光板とを一体化することで良好な偏光機能を有し、耐熱性、表面硬度等の特性にも優れており、長期使用においても剥離、変形、偏光度変化等が生じにくく、高い信頼性を有し、耐久性に優れている。また、偏光板に形成された透明導電層は、長期にわたって亀裂を発生せず、かつ低抵抗値を保ち、高強度で機械的耐久性に優れる。 The polarizing plate-integrated optical isotropic support plate of the present invention has a good polarizing function by integrating the optical isotropic support plate and the polarizing plate, and is excellent in characteristics such as heat resistance and surface hardness. Even during long-term use, peeling, deformation, change in polarization degree, etc. are unlikely to occur, and it has high reliability and excellent durability. In addition, the transparent conductive layer formed on the polarizing plate does not crack for a long time, maintains a low resistance value, has high strength, and is excellent in mechanical durability.
本発明の偏光板一体型光学等方性支持板を用いてなる偏光板一体型タッチパネルは、車載用等の高度な耐久性が要求される用途においても、好適に用いることができる。 The polarizing plate-integrated touch panel using the polarizing plate-integrated optical isotropic support plate of the present invention can be suitably used in applications that require high durability such as in-vehicle use.
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。 The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment.
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the contents of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited to the following Example.
［アクリル系熱可塑性樹脂の組成解析］
重合により得られたアクリル系熱可塑性樹脂をＣＤＣｌ３に溶解し、ブルーカー株式会社製 ＤＰＸ−４００装置を用い、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ（測定温度：４０℃）測定を実施し、（ｉ）第一の構造単位、（ｉｉ）第二の構造単位、（ｉｉｉ）第三の構造単位、及び（ｉｖ）第四の構造単位の量をそれぞれ同定し、その比率から組成を確認した。
[Analysis of acrylic thermoplastic resin composition]
Acrylic thermoplastic resin obtained by polymerization was dissolved in CDCl 3 , and 1 H-NMR, 13 C-NMR (measurement temperature: 40 ° C.) measurement was carried out using a DPX-400 apparatus manufactured by Bruker, Inc. The amounts of (i) the first structural unit, (ii) the second structural unit, (iii) the third structural unit, and (iv) the fourth structural unit were identified, and the composition was confirmed from the ratio. .
［アクリル系熱可塑性樹脂のガラス転移温度測定］
重合により得られたアクリル系熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、示差走査熱量計（パーキンエルマージャパン（株）製 Ｄｉａｍｏｎｄ ＤＳＣ）を用いて、窒素ガス雰囲気下、α−アルミナをリファレンスとし、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠して、試料約１０ｍｇを常温から２００℃まで昇温速度１０℃／ｍｉｎで昇温して得られたＤＳＣ曲線から中点法で算出した。
[Measurement of glass transition temperature of acrylic thermoplastic resin]
The glass transition temperature (Tg) of the acrylic thermoplastic resin obtained by polymerization is a differential scanning calorimeter (Diamond DSC manufactured by PerkinElmer Japan Co., Ltd.), and α-alumina is used as a reference in a nitrogen gas atmosphere. Based on JIS-K-7121, it calculated by the midpoint method from the DSC curve obtained by heating about 10 mg of samples from normal temperature to 200 degreeC with the temperature increase rate of 10 degree-C / min.
［アクリル系熱可塑性樹脂の重量平均分子量測定］
重合により得られたアクリル系熱可塑性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲル浸透クロマトグラフ（東ソー（株）製 ＨＬＣ−８２２０）を用いて、溶媒はテトラヒドロフラン、設定温度４０℃で、市販の標準ＰＭＭＡ換算により求めた。
[Weight average molecular weight measurement of acrylic thermoplastic resin]
The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the acrylic thermoplastic resin obtained by polymerization were measured using a gel permeation chromatograph (HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation), the solvent being tetrahydrofuran, and the set temperature. It calculated | required by 40 degreeC by conversion of commercially available standard PMMA.
［アクリル系熱可塑性樹脂の光学特性評価］
＜アクリル系熱可塑性樹脂の光学評価用サンプルの調製＞
重合により得られたアクリル系熱可塑性樹脂を溶融真空プレス成形でフィルムとした。鉄板の上にカプトンシートを配置し、その上に１５ｃｍ正方にくり貫いた厚み１５０μｍの金枠を置き、そこにアクリル系熱可塑性樹脂をおいた。更に、カプトンシートを重ね置きし、鉄板を配置した。二枚の金板に挟んだまま、真空圧縮成形機（（株）神藤金属工業所製 ＳＦＶ−３０型）にいれ、減圧を開始し１０ｋＰａに到達した段階で、２６０℃まで２０分をかけて昇温した、その後、２６０℃で５分保持したあと、プレス圧１０ＭＰａで５分間圧縮、その後、冷却を開始、５０℃に到達した段階で真空乾燥器内を大気圧に戻し、サンプルを取り出した。次いで、サンプルを一度、カプトンシートから剥離し、再度新しいカプトンシートで挟み、窒素で満たされ、ガラス転移温度（Ｔｇ）より１０℃高い温度に保たれた乾燥器の中で８時間、保持した。
[Optical property evaluation of acrylic thermoplastic resin]
<Preparation of sample for optical evaluation of acrylic thermoplastic resin>
The acrylic thermoplastic resin obtained by polymerization was formed into a film by melt vacuum press molding. A Kapton sheet was placed on an iron plate, and a 150 μm-thick gold frame cut into a 15 cm square was placed thereon, and an acrylic thermoplastic resin was placed thereon. Furthermore, the Kapton sheet was stacked and the iron plate was arrange | positioned. Put it in a vacuum compression molding machine (SFV-30, manufactured by Shindo Metal Industry Co., Ltd.) while sandwiching it between the two metal plates, and start reducing pressure and reach 10 kPa. The temperature was raised, then held at 260 ° C. for 5 minutes, then compressed at a press pressure of 10 MPa for 5 minutes, and then cooling started. When the temperature reached 50 ° C., the inside of the vacuum dryer was returned to atmospheric pressure, and a sample was taken out. . The sample was then peeled once from the Kapton sheet, sandwiched again with a new Kapton sheet, held in a dryer filled with nitrogen and maintained at a temperature 10 ° C. above the glass transition temperature (Tg) for 8 hours.
＜アクリル系熱可塑性樹脂の光弾性係数測定＞
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ ａｎｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ １９９９， ３９， ２３４９−２３５７に詳細について記載のある複屈折測定装置を用いた。２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室内で２４時間以上養生を行ったアクリル系熱可塑性樹脂からなるフィルム（厚み約１５０μｍ、幅６ｍｍ）を用い、同様に恒温恒湿室に設置したフィルムの引張り装置（井元製作所製）にチャック間５０ｍｍになるようにフィルムを配置した。次いで、後述する複屈折測定装置（大塚電子製ＲＥＴＳ−１００）のレーザー光経路がフィルムの中心部になるようにし、歪速度５０％／分（チャック間：５０ｍｍ、チャック移動速度：５ｍｍ／分）で伸張応力をかけながら複屈折を測定した。複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）と伸張応力（σＲ）の関係から、最小二乗近似によりその直線の傾きを求め光弾性係数（ＣＲ）を計算した。計算には伸張応力が２．５ＭＰａ≦σＲ≦１０ＭＰａの間のデータを用いた。
ＣＲ＝｜Δｎ｜／σＲ
｜Δｎ｜＝｜ｎｘ−ｎｙ｜
（ＣＲ：光弾性係数、σＲ：伸張応力、｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、ｎｘ：伸張方向の屈折率、ｎｙ：伸張方向の垂直な屈折率）
<Measurement of photoelastic coefficient of acrylic thermoplastic resin>
A birefringence measuring apparatus described in detail in Polymer Engineering and Science 1999, 39, 2349-2357 was used. A film made of an acrylic thermoplastic resin (thickness: about 150 μm, width: 6 mm) that has been cured for 24 hours or more in a constant temperature and humidity chamber adjusted to 23 ° C. and a humidity of 60%, and similarly installed in the constant temperature and humidity chamber A film was placed on a tensioning apparatus (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.) so that the distance between chucks was 50 mm. Next, a laser beam path of a birefringence measuring apparatus (RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), which will be described later, is set to the center of the film, and a strain rate of 50% / min (between chucks: 50 mm, chuck moving speed: 5 mm / min). The birefringence was measured while applying an extensional stress. From the relationship between the absolute value of birefringence (| Δn |) and the extensional stress (σ R ), the slope of the straight line was obtained by least square approximation, and the photoelastic coefficient (C R ) was calculated. For the calculation, data with an extensional stress between 2.5 MPa ≦ σR ≦ 10 MPa was used.
C R = | Δn | / σ R
| Δn | = | nx−ny |
(C R : photoelastic coefficient, σ R : stretching stress, | Δn |: absolute value of birefringence, nx: refractive index in the stretching direction, ny: vertical refractive index in the stretching direction)
［光学等方性支持板の位相差測定］
＜光学等方性支持板の押出成形と測定サンプルの調製＞
二軸押出器を用い２６０℃にて溶融混練したアクリル系熱可塑性樹脂を押出速度１８０ｋｇ／ｈｒで、２５５℃に調整した幅４５ｃｍ、スリット間隔２ｍｍのＴ台より押出し、１５０℃に調整された鏡面冷却ロールで表面転写、巻き取りロールの速度を調節し１ｍｍ厚みのロール状板サンプルとして製造した。その後、ロールをほぐし、ＭＤ方向に２４ｃｍ、ＴＤ方向に２０ｃｍの長方形状になるようトムソン刃で打ち抜きサンプルを得た。更にサンプルを４ｃｍ正方形に切り取り、３０枚の測定サンプルに分割し、それぞれの４隅、都合１２０点の厚みを測定、平均することで光学等方性支持板の全体厚みを求めた。
[Optical isotropic support plate phase difference measurement]
<Extrusion of optical isotropic support plate and preparation of measurement sample>
Acrylic thermoplastic resin melt-kneaded at 260 ° C. using a twin screw extruder is extruded from a T-table with a width of 45 cm adjusted to 255 ° C. and a slit interval of 2 mm at an extrusion speed of 180 kg / hr, and a mirror surface adjusted to 150 ° C. The surface of the surface was transferred with a cooling roll and the speed of the take-up roll was adjusted to produce a 1 mm-thick roll plate sample. Thereafter, the roll was loosened, and a punched sample was obtained with a Thomson blade so as to have a rectangular shape of 24 cm in the MD direction and 20 cm in the TD direction. Further, the sample was cut into a 4 cm square, divided into 30 measurement samples, and the thickness of each of the four corners and convenient 120 points was measured and averaged to obtain the total thickness of the optically isotropic support plate.
＜複屈折の測定と厚み換算複屈折の算出＞
大塚電子製ＲＥＴＳ−１００を用いて、光学等方性支持板の複屈折を回転検光子法により測定した。複屈折の値は、波長５５０ｎｍ光の値である。複屈折（Δｎ）は、以下の式により計算した。得られた値をシートの厚さ１００μｍに換算して測定値とした。
Δｎ＝ｎｘ−ｎｙ
（Δｎ：複屈折、ｎｘ：伸張方向の屈折率、ｎｙ：伸張方向と垂直な屈折率）
<Measurement of birefringence and calculation of birefringence in terms of thickness>
The birefringence of the optically isotropic support plate was measured by the rotating analyzer method using Otsuka Electronics RETS-100. The value of birefringence is a value of light having a wavelength of 550 nm. Birefringence (Δn) was calculated by the following formula. The obtained value was converted to a sheet thickness of 100 μm to obtain a measured value.
Δn = nx−ny
(Δn: birefringence, nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction)
複屈折（Δｎ）の絶対値（｜Δｎ｜）は、以下のように求めた。
｜Δｎ｜＝｜ｎｘ−ｎｙ｜
The absolute value (| Δn |) of birefringence (Δn) was determined as follows.
| Δn | = | nx−ny |
＜面内方向の位相差Ｒｅ測定＞
２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室に設置した大塚電子（株）製ＲＥＴＳ−１００を用いて、回転検光子法により波長４００ｎｍから上８００ｎｍまでの範囲で光学等方性支持板の複屈折測定を実施した。上記の４ｃｍ角のサンプル３０枚に関し、サンプル中心部で面内位相差Ｒｅ測定を行い、次いでサンプル中心部の厚みの測定を実施、厚み１００μｍに換算された面内方向の位相差Ｒｅを求めた。次いで、絶対値に変換した後、平均をとり、更に上記で求めた全体厚みに換算しなおすことで、光学等方性支持板の面内方向の位相差Ｒｅの絶対値を求めた。
<In-plane direction phase difference Re measurement>
Using an RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. installed in a constant temperature and humidity chamber adjusted to 23 ° C. and a humidity of 60%, the optical isotropic support plate was measured in a wavelength range from 400 nm to 800 nm by a rotating analyzer method. Birefringence measurements were performed. For 30 samples of 4 cm square, the in-plane retardation Re was measured at the center of the sample, and then the thickness of the center of the sample was measured to obtain the in-plane retardation Re converted to a thickness of 100 μm. . Subsequently, after converting into an absolute value, the average was taken, and it converted into the whole thickness calculated | required above again, and the absolute value of phase difference Re of the in-plane direction of an optically isotropic support plate was calculated | required.
なお、各厚みから、１００μｍ厚みへの換算は下記の数式に基づいて行った。
複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）と位相差Ｒｅは以下の関係にある。
Ｒｅ＝｜Δｎ｜×ｄ
（｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、Ｒｅ：位相差、ｄ：サンプルの厚み）
In addition, conversion from each thickness to 100 micrometers thickness was performed based on the following numerical formula.
The absolute value of birefringence (| Δn |) and the phase difference Re have the following relationship.
Re = | Δn | × d
(| Δn |: absolute value of birefringence, Re: phase difference, d: thickness of sample)
また、複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）は以下に示す値である。
｜Δｎ｜＝｜ｎｘ−ｎｙ｜
（ｎｘ：延伸方向の屈折率、ｎｙ：面内で延伸方向と垂直な屈折率）
The absolute value (| Δn |) of birefringence is a value shown below.
| Δn | = | nx−ny |
(Nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction in the plane)
＜厚み方向の位相差Ｒｔｈ測定＞
２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室に設置した王子計測機器（株）製位相差測定装置（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、波長５８９ｎｍにおいて光学等方性支持板の複屈折測定を実施した。測定は４ｃｍ角のサンプル３０枚に関し、サンプル中心で厚み方向の位相差Ｒｔｈ測定を行い、次いで中心部のサンプル厚みの測定を行うことで、厚み１００μｍに換算された厚み方向の位相差Ｒｔｈを求めた。次いで、絶対値に変換した後、平均をとり、更に上記で求めた全体厚みに換算しなおすことで、光学等方性支持板の厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値を求めた。
<Thickness direction retardation Rth measurement>
Birefringence measurement of an optically isotropic support plate is performed at a wavelength of 589 nm using a phase difference measuring device (KOBRA-21ADH) manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. installed in a constant temperature and humidity chamber adjusted to 23 ° C. and a humidity of 60%. did. The measurement is performed on 30 samples of 4 cm square, and the thickness direction retardation Rth is measured at the center of the sample, and then the thickness of the sample at the center is measured to obtain the thickness direction retardation Rth converted to a thickness of 100 μm. It was. Subsequently, after converting into an absolute value, the absolute value of the phase difference Rth in the thickness direction of the optically isotropic support plate was obtained by taking an average and converting it to the total thickness obtained above.
なお、各厚みから、１００μｍ厚みへの換算は下記の数式に基づいて行った。複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）と位相差Ｒｔｈは以下の関係にある。
Ｒｔｈ＝｜Δｎ｜×ｄ
（｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、Ｒｔｈ：位相差、ｄ：サンプルの厚み）
In addition, conversion from each thickness to 100 micrometers thickness was performed based on the following numerical formula. The absolute value of birefringence (| Δn |) and the phase difference Rth have the following relationship.
Rth = | Δn | × d
(| Δn |: absolute value of birefringence, Rth: phase difference, d: thickness of sample)
また、複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）は以下に示す値である。
｜Δｎ｜＝｜（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｜
（ｎｘ：延伸方向の屈折率、ｎｙ：面内で延伸方向と垂直な屈折率、ｎｚ：面外で延伸方向と垂直な厚み方向の屈折率）
The absolute value (| Δn |) of birefringence is a value shown below.
| Δn | = | (nx + ny) / 2−nz |
(Nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index in the plane perpendicular to the stretching direction, nz: refractive index in the thickness direction out of the plane perpendicular to the stretching direction)
［光学等方性支持板における、歪みと複屈折の関係式の傾きαの測定］
光学等方性支持板（厚み約８００μｍ、幅４０ｍｍ）をインストロン社製１０ｔ引張り試験機を用いて、延伸温度（Ｔｇ＋２０）℃、延伸速度（５００ｍｍ／分）で一軸フリー延伸して延伸光学等方性支持板を成形した。延伸倍率は、１００％、２００％、及び３００％で延伸した。次いで、得られた延伸光学等方性支持板の複屈折を前述の方法で測定し、一軸延伸したときに発現する複屈折（Δｎ（Ｓ））を求めた。
[Measurement of the slope α of the relational expression between strain and birefringence in an optically isotropic support plate]
An optically isotropic support plate (thickness: about 800 μm, width: 40 mm) is stretched uniaxially at a stretching temperature (Tg + 20) ° C. and a stretching speed (500 mm / min) using an Instron 10-t tensile tester. An isotropic support plate was formed. The draw ratio was drawn at 100%, 200%, and 300%. Next, the birefringence of the obtained stretched optical isotropic support plate was measured by the above-described method, and the birefringence (Δn (S)) that was expressed when uniaxially stretched was determined.
求めた延伸光学等方性支持板の発現している複屈折（Δｎ（Ｓ））の値を、その延伸倍率（Ｓ）に対してプロットして得られる最小二乗法近似直線関係式（Ａ）より傾きαの値を求めた。傾きαの値が小さいほど複屈折（Δｎ（Ｓ））、その変化が小さいことを意味する。 Least square method approximate linear relational expression (A) obtained by plotting the obtained birefringence (Δn (S)) value of the obtained stretched optical isotropic support plate against the stretch ratio (S) Further, the value of the inclination α was obtained. It means that the smaller the value of the inclination α, the smaller the birefringence (Δn (S)) and its change.
Δｎ（Ｓ）＝α×Ｓ＋β （βは定数：無延伸時の複屈折値）・・・（Ａ）
但し、ここで複屈折とは、測定した値を１００μｍ厚に換算して求めた値である。
Δn (S) = α × S + β (β is a constant: birefringence value when not stretched) (A)
Here, the birefringence is a value obtained by converting a measured value to a thickness of 100 μm.
また、延伸倍率（Ｓ）とは、延伸前のチャック間距離をＬ０、延伸後のチャック間距離をＬ１とすると、以下の式で表される値である。 The draw ratio (S) is a value represented by the following formula, where L 0 is the distance between chucks before stretching and L 1 is the distance between chucks after stretching.
完全に光学等方性を満足する光学等方性支持板では、面内位相差Ｒｅ、厚み方向位相差Ｒｔｈともに「ゼロ」となり、大面積サンプルにおいてもその位相差にばらつきはない。 In the optically isotropic support plate that completely satisfies the optical isotropy, both the in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth are “zero”, and there is no variation in the retardation even in a large area sample.
［光学等方性支持板の表面硬度測定］
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準じて、電動鉛筆引っかき硬度試験機（株式会社安田精機製作所製）を使用し、荷重５００ｇで光学等方性支持板の鉛筆硬度を測定した。
[Measurement of surface hardness of optical isotropic support plate]
In accordance with JIS K5600-5-4, an electric pencil scratch hardness tester (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.) was used, and the pencil hardness of the optically isotropic support plate was measured at a load of 500 g.
［光学等方性支持板のコントラスト評価］
バックライト上に市販の偏光板を二枚用意し、直交状態に、空間をあけて設置した。次いで、その間に光学等方性支持板を挟み込み、光学等方性支持板を回転させ、明暗の変化を目視で評価した。回転中の全面的な明暗の変化が全くないものを「◎」、僅かに、面全体が平均的に明暗変化を生じるものを「○」、成形による残留応力由来の歪によると考えられる特異的な部分的明暗のあるものを「△」、成形による残留応力由来の歪によると考えられる特異的な部分的明暗があり、かつ、トムソン刃の打ち抜きによる残留外力が原因をみられる板周辺の明暗変化（白抜け）がみられるものを「×」とした。
[Contrast evaluation of optical isotropic support plate]
Two commercially available polarizing plates were prepared on the backlight, and installed in an orthogonal state with a space. Next, an optical isotropic support plate was sandwiched between them, the optical isotropic support plate was rotated, and the change in brightness was visually evaluated. “◎” indicates that there is no change in overall light and darkness during rotation, and “○” indicates that the entire surface produces a change in light and dark on average. “△” indicates that there is a partial light and dark, light and dark around the plate where there is a specific partial light and darkness that is thought to be due to distortion caused by residual stress due to molding, and the residual external force due to punching of the Thomson blade The case where a change (outline) was observed was taken as “x”.
［偏光膜の作製］
湯浴に浸した、５Ｌの攪拌機ガラスセパラブルフラスコに蒸留水１Ｌを加えた。次いで、セパラブルフラスコを冷却し、内部の蒸留水を４℃にした。その後、攪拌機を回転数１５０ｒｐｍで廻しながら、平均重合度１８００、ケン化度９９．９％のポリビニルアルコール（和光純薬性特級）粉体を加えた。この状態で３０分保持したあと、攪拌を続けながらセパレブルフラスコの内部温度２℃／分の速度で加熱し、内部温度が９５℃に到達した段階で攪拌機の回転数を８０ｐｒｍに落とし、３時間攪拌を続けた。餅状の未溶解のポリビニルアルコールがないことを確認したあと、９５℃に保ったまま攪拌を停止、攪拌で巻き込んだ空気の泡が抜けるのをまった。概ね泡が抜けた段階で、セパラブルフラスコにアスピレーターを接続し、僅かに減圧にすることで完全に脱泡した。
[Preparation of polarizing film]
1 L of distilled water was added to a 5 L stirrer glass separable flask immersed in a hot water bath. Next, the separable flask was cooled, and the distilled water inside was brought to 4 ° C. Thereafter, while rotating the stirrer at a rotation speed of 150 rpm, polyvinyl alcohol (Wako Pure Chemical Industries special grade) powder having an average polymerization degree of 1800 and a saponification degree of 99.9% was added. After maintaining in this state for 30 minutes, the internal temperature of the separable flask was heated at a rate of 2 ° C./min while continuing to stir, and when the internal temperature reached 95 ° C., the rotational speed of the stirrer was reduced to 80 prm for 3 hours. Stirring was continued. After confirming that there was no cocoon-like undissolved polyvinyl alcohol, stirring was stopped while maintaining the temperature at 95 ° C., and bubbles of air entrained by stirring stopped losing. At the stage where the bubbles almost disappeared, an aspirator was connected to the separable flask, and the bubbles were completely removed by slightly reducing the pressure.
平滑なガラス板（縦４５ｃｍ、横４５ｃｍ、厚み３ｍｍ）とガラス丸棒（直径２．５ｃｍ、長さ６０ｃｍ）、スコッチテープ（３Ｍ社製）を用意した。次いで、アセトンを浸したキムワイプでガラス板を良く拭きあげたあと、ガラス板の両端にスコッチテープを重ね貼りし、高さ１．３ｍｍの高さのスペーサーを設けた。スペーサーを左右にしたガラス板上の上方部分に、完全に脱泡したポリビニルアルコール溶液をゆっくりと滴下したあと、左右のスペーサーに対し垂直にガラス棒を置き、ゆっくりとガラス板下方まで引いた。次いで、ガラス板を水平台の上に置き、水平台との間に僅かに隙間ができる覆いをかぶせた上で、水分を乾燥させた。一週間後、厚さ、約８０μｍのポリビニルアルコールのフィルムを得た。 A smooth glass plate (length 45 cm, width 45 cm, thickness 3 mm), glass round bar (diameter 2.5 cm, length 60 cm), and Scotch tape (manufactured by 3M) were prepared. Next, the glass plate was thoroughly wiped with a Kimwipe dipped in acetone, and then a scotch tape was laminated on both ends of the glass plate to provide a spacer having a height of 1.3 mm. A completely defoamed polyvinyl alcohol solution was slowly dropped on the upper part of the glass plate with the spacers on the left and right, and then a glass rod was placed perpendicular to the left and right spacers and slowly pulled down to the lower side of the glass plate. Next, the glass plate was placed on a horizontal base, covered with a cover with a slight gap between it and the water was dried. One week later, a film of polyvinyl alcohol having a thickness of about 80 μm was obtained.
次いで、上記のポリビニルアルコールのフィルムを、室温下、引伸ばし治具で一軸３倍延伸をに延伸したあと、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含む水溶液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝０．０５／５／１００（質量比））に６０秒間浸漬した。次にヨウ化カリウム及びほう酸を含む６５℃の水溶液（ヨウ化カリウム／ほう酸／水＝２．５／７．５／１００（質量比））に３００秒浸漬した。３０℃の純水で２０秒水洗した後、５０℃で乾燥し、ポリビニルアルコール系偏光フィルムを得た。 Next, the above-mentioned polyvinyl alcohol film was stretched to a uniaxial three-fold stretch with a stretching jig at room temperature, and then an aqueous solution containing iodine and potassium iodide (iodine / potassium iodide / water = 0.05 / 5). / 100 (mass ratio)) for 60 seconds. Next, it was immersed in a 65 ° C. aqueous solution containing potassium iodide and boric acid (potassium iodide / boric acid / water = 2.5 / 7.5 / 100 (mass ratio)) for 300 seconds. After washing with pure water at 30 ° C. for 20 seconds, it was dried at 50 ° C. to obtain a polyvinyl alcohol polarizing film.
［偏光板用接着剤の調製］
ポリビニルアルコール系樹脂である和光純薬工業（株）製の１６３−０３０４５（分子量：２２，０００、ケン化度：８８モル％）に、水を加えて固形分濃度が７質量％の水溶液を調製した。一方、ポリウレタン系樹脂である大日本インキ化学工業（株）製のＷＬＳ−２０１（固形分濃度３５質量％）１００部に、ポリエポキシ系硬化剤である大日本インキ工業（株）製のＣＲ−５Ｌ（有効成分１００％品）５部を配合し、水で希釈して固形分濃度が２０質量％の水溶液を調製した。得られたポリウレタン系樹脂水溶液とポリビニルアルコール系樹脂水溶液とを、質量比で１：１（固形分質量比で８０：２０）の割合で混合し、固形分濃度が１５質量％の混合接着剤を調製した。
[Preparation of adhesive for polarizing plate]
Water is added to 163-030545 (molecular weight: 22,000, saponification degree: 88 mol%) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., which is a polyvinyl alcohol resin, to prepare an aqueous solution with a solid content concentration of 7% by mass. did. On the other hand, 100 parts of WLS-201 (solid content concentration 35 mass%) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, which is a polyurethane resin, is added to CR- manufactured by Dainippon Ink & Co., which is a polyepoxy curing agent. 5 parts of 5 L (100% active ingredient product) were blended and diluted with water to prepare an aqueous solution having a solid content of 20% by mass. The obtained polyurethane resin aqueous solution and polyvinyl alcohol resin aqueous solution were mixed at a mass ratio of 1: 1 (solid content mass ratio of 80:20) to obtain a mixed adhesive having a solid content concentration of 15 mass%. Prepared.
［偏光板の作製］
上記により得られた偏光膜の片面に富士フィルム社製トリアセチルセルロースフィルム（Ｆ−ＴＡＣ、厚み８０μｍ）を、調整した偏光板用接着剤を用いて接着し偏光板を作製した。
[Preparation of polarizing plate]
A polarizing plate was prepared by adhering a triacetyl cellulose film (F-TAC, thickness 80 μm) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. to one side of the polarizing film obtained as described above, using the prepared polarizing plate adhesive.
［アンカーコート層形成剤の調製］
攪拌機及び還流冷却器を備えた反応器に、Ｍｗ＝２０，０００のアルコキシ末端ポリシロキサン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、商品名：ＸＲ３１−Ｂ２７３３）６０質量部と、Ｍｗ＝４，０００のヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、商品名：ＹＦ−３８００）４０質量部と、トルエン４２質量部と、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウムのイソプロピルアルコール７５％希釈液０．２質量部とを入れて混合し、攪拌しながら８０℃で３時間脱アルコール反応を行なった。
[Preparation of anchor coat layer forming agent]
In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 60 parts by mass of alkoxy-terminated polysiloxane with Mw = 20,000 (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd., trade name: XR31-B2733) and hydroxy with Mw = 4,000 40 parts by mass of terminal polydimethylsiloxane (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd., trade name: YF-3800), 42 parts by mass of toluene, and a 75% isopropyl alcohol dilute solution of di-i-propoxyethylacetoacetate
次いで、メチルイソブチルケトン２８８質量部、メタノール７０質量部、水８０質量部及びトリエチルアミン１２質量部を添加して、６０℃で３時間加水分解・縮合反応を行なった。その後、得られた反応液をシュウ酸で中和し、水相（下層）を除去した後に、水洗と水相除去を３回実施後、溶媒を留去してＭｗ＝３０，０００の多官能ポリシロキサンを得た。この多官能ポリシロキサンにメチルイソブチルケトン１００質量部を添加し、固形分濃度５０質量％のポリシロキサン溶液（Ｉ）を得た。 Subsequently, 288 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 70 parts by mass of methanol, 80 parts by mass of water and 12 parts by mass of triethylamine were added, and a hydrolysis / condensation reaction was performed at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution obtained was neutralized with oxalic acid, and after removing the aqueous phase (lower layer), washing with water and removal of the aqueous phase were carried out three times, and then the solvent was distilled off to obtain a polyfunctional compound with Mw = 30,000. Polysiloxane was obtained. 100 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added to this polyfunctional polysiloxane to obtain a polysiloxane solution (I) having a solid concentration of 50% by mass.
粉体状の酸化ジルコニウム微粒子（一次平均粒径：２０ｎｍ）１２０質量部と、ポリシロキサン成分として上記ポリシロキサン溶液（Ｉ）１６０質量部（固形分換算で８０質量部）と、トリエチルアミン０．１質量部と、ジイソブチルケトン７２０質量部とを容器に入れ、この混合物に０．１ｍｍ径のジルコニアビーズ２０００質量部を添加して、ペイントシェーカーを用いて６時間微粒子を分散させ、固形分濃度２０質量％の金属酸化物微粒子含有ポリシロキサン組成物からなる塗布液（１）を得た。 120 parts by mass of powdery zirconium oxide fine particles (primary average particle size: 20 nm), 160 parts by mass of the polysiloxane solution (I) as a polysiloxane component (80 parts by mass in terms of solid content), and 0.1 parts by mass of triethylamine And 720 parts by mass of diisobutylketone are added to a container, 2000 parts by mass of 0.1 mm zirconia beads are added to the mixture, and fine particles are dispersed for 6 hours using a paint shaker, and the solid content concentration is 20% by mass. The coating liquid (1) which consists of a polysiloxane composition containing metal oxide fine particles was obtained.
［光学等方性支持板への透明導電膜付与方法］
大気中で５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２のエネルギーでコロナ放電処理を行い、表面を親水化処理したあと、アンカーコート層形成剤をワイヤーバーで膜厚６μｍの条件で塗工した。塗工後、１１０℃で３分間乾燥させてアンカーコート層を形成した。次いで、アンカーコート層の表面に、アルゴンガス及び酸素ガス流入下でインジウムと錫を含んだターゲットを用いて、透明導電膜をスパッタリング法により形成させた。
[Method for imparting transparent conductive film to optically isotropic support plate]
A corona discharge treatment was performed in the air with an energy of 50 W · min / m 2 to make the surface hydrophilic, and then an anchor coat layer forming agent was applied with a wire bar under a condition of a film thickness of 6 μm. After coating, it was dried at 110 ° C. for 3 minutes to form an anchor coat layer. Next, a transparent conductive film was formed on the surface of the anchor coat layer by sputtering using a target containing indium and tin under argon gas and oxygen gas inflow.
［光学等方性支持板の湿熱安定性試験方法］
光学等方性支持板上にアンカーコート層を形成、次いで、スパッタ法で酸化インジウムスズの透明導電膜（以下ＩＴＯ膜）を積層・形成後、初期表面抵抗値Ｒを測定した。温度８５℃、湿度８５％に調整した恒温恒室装置に１０００時間保存した後、試験後表面抵抗値Ｒｔを測定した。初期Ｒの値は膜の厚み等でばらつくため、評価においてはＲｔ／Ｒを指標とした。即ち、Ｒｔ／Ｒが１に近いほど劣化が少なく良好である。実際の表面抵抗測定は三菱化学株式会社製、低抵抗率計「ロレスタ−ＧＰ」を用いた。
[Method for testing wet heat stability of optical isotropic support plate]
An anchor coat layer was formed on the optically isotropic support plate, then an indium tin oxide transparent conductive film (hereinafter referred to as ITO film) was formed by sputtering, and then the initial surface resistance value R was measured. After storing for 1000 hours in a thermostatic chamber adjusted to a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, the surface resistance value Rt after the test was measured. Since the initial R value varies depending on the thickness of the film and the like, Rt / R was used as an index in the evaluation. In other words, the closer Rt / R is to 1, the better the deterioration. For the actual surface resistance measurement, a low resistivity meter “Loresta-GP” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used.
［実施例１］
アクリル系熱可塑性樹脂を以下の方法で製造した。メチルメタクリレート（和光純薬特級、以下ＭＭＡ）を減圧度０．０１ＭＰａ、４０℃で蒸留し、禁止剤を除いた。次いで、蒸留メチルメタクリレート２４．３０ｋｇ、Ｎ−フェニルマレイミド２．４０ｋｇ（和光純薬特級、以下ｐｈＭＩ）、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド（和光純薬特級、以下ｃｈＭＩ）３．３０ｋｇ、メタキシレン２０ｋｇ（和光純薬特級、以下ｍＸｙ）を計量し、５０Ｌタンクに加え、混合モノマー溶液を得た。次いで１００ｍＬ／分の速度で窒素によるバブリングを１２時間実施し、溶存酸素を除去した。混合モノマー溶液を、窒素置換した６０Ｌ反応器に加え、温度を１３０℃に上昇させた。次いで、パーブチルＯ（日本油脂）０．０６ｋｇをｍＸｙ６ｋｇに溶解させた開始剤溶液を、１ｋｇ／時間の速度で追添することで重合を実施し、８時間後おり反応器を５０℃まで冷却した。
[Example 1]
An acrylic thermoplastic resin was produced by the following method. Methyl methacrylate (Wako Pure Chemicals, hereinafter referred to as MMA) was distilled at a reduced pressure of 0.01 MPa and 40 ° C. to remove the inhibitor. Next, 24.30 kg of distilled methyl methacrylate, 2.40 kg of N-phenylmaleimide (special grade of Wako Pure Chemicals, hereinafter phMI), 3.30 kg of N-cyclohexylmaleimide (special grade of Wako Pure Chemicals, hereinafter chMI), 20 kg of metaxylene (Wako Pure Chemicals) A special grade, hereinafter mXy) was weighed and added to a 50 L tank to obtain a mixed monomer solution. Subsequently, nitrogen was bubbled at a rate of 100 mL / min for 12 hours to remove dissolved oxygen. The mixed monomer solution was added to a 60 L reactor purged with nitrogen and the temperature was raised to 130 ° C. Next, polymerization was carried out by adding an initiator solution in which 0.06 kg of perbutyl O (Japanese oil) was dissolved in 6 kg of mXy at a rate of 1 kg / hour, and the reactor was cooled to 50 ° C. after 8 hours. .
次いで、１ｍ３の反応器に５００Ｌのメタノールを加え、上記の重合溶液を５時間かけて注ぎ、ポリマーを析出させた。その後、更に２時間攪拌を実施し、減圧濾過を行った。減圧濾過後のメタノール含有重合粉体に３００Ｌのメタノールを更に注ぎ、再攪拌した。その後、減圧濾過を実施し、メタノール含有粉体を採取、０．３ｍ３のコニカル真空乾燥器にて減圧度０．０３ＭＰａ、温度８０℃条件で乾燥を実施した。乾燥後の粉体を、２５０℃条件の二軸押出機にてペレタイジングを実施し、ペレット状のアクリル系熱可塑性樹脂を得た。 Subsequently, 500 L of methanol was added to a 1 m 3 reactor, and the above polymerization solution was poured over 5 hours to precipitate a polymer. Thereafter, the mixture was further stirred for 2 hours and filtered under reduced pressure. 300 L of methanol was further poured into the methanol-containing polymer powder after filtration under reduced pressure and stirred again. Thereafter, filtration under reduced pressure was performed, and the methanol-containing powder was collected and dried in a 0.3 m 3 conical vacuum dryer under conditions of a degree of vacuum of 0.03 MPa and a temperature of 80 ° C. The powder after drying was pelletized with a twin-screw extruder at 250 ° C. to obtain a pellet-shaped acrylic thermoplastic resin.
このアクリル系熱可塑性樹脂の組成を確認したところ、ＭＭＡ、ｐｈＭＩ、ｃｈＭＩ各単量体由来の構造単位は、それぞれ、８１．３質量％、７．９質量％、１０．８質量％であった。また、Ｔｇを測定したところ、１３５℃、Ｍｗは２２．５万であった。光弾性係数は＋０．４×１０−１２Ｐａ−１であった。 When the composition of this acrylic thermoplastic resin was confirmed, the structural units derived from MMA, phMI, and chMI monomers were 81.3 mass%, 7.9 mass%, and 10.8 mass%, respectively. . Moreover, when Tg was measured, it was 135 degreeC and Mw was 225,000. The photoelastic coefficient was + 0.4 × 10 −12 Pa −1 .
光学等方性支持板は二軸押出器を用い２６０℃にて溶融混練したアクリル系熱可塑性樹脂を押出速度１８０ｋｇ／ｈｒで、２５５℃に調整した幅４５ｃｍ、スリット間隔２ｍｍのＴダイより押出し、１５０℃に調整された鏡面冷却ロールで表面転写、巻き取りロールの速度を調節し１，０００μｍ厚みのロール状板サンプルとして製造した。次いでトムソン刃でＭＤ方向に２４ｃｍ、ＴＤ方向に２０ｃｍの長方形状になるように打ち抜きサンプルを得た。 The optical isotropic support plate was extruded from a T-die having a width of 45 cm and a slit interval of 2 mm adjusted to 255 ° C. at an extrusion speed of 180 kg / hr using an acrylic thermoplastic resin melt-kneaded at 260 ° C. using a twin-screw extruder. The sample was manufactured as a roll plate sample having a thickness of 1,000 μm by adjusting the speed of the surface transfer and take-up rolls with a mirror-cooled roll adjusted to 150 ° C. Next, a punched sample was obtained with a Thomson blade so as to have a rectangular shape of 24 cm in the MD direction and 20 cm in the TD direction.
光学等方性支持板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は９ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は２６ｎｍであった。歪と複屈折の関係式の傾きαは＋０．０３×１０−５であった。 The absolute value of the retardation (Re) in the in-plane direction of the optical isotropic support plate was 9 nm, and the absolute value of the retardation (Rth) in the thickness direction was 26 nm. The slope α of the relational expression between strain and birefringence was + 0.03 × 10 −5 .
次に、光学等方性板のコントラスト評価を実施した。結果は○であった。 Next, contrast evaluation of the optical isotropic plate was performed. The result was ○.
更に、得られた光学等方性支持板に透明導電膜を形成させ、初期表面抵抗値Ｒを測定した。結果は、５００Ω／□であった。その後、湿熱安定性試験を実施し、試験後表面抵抗値Ｒｔは５１０Ω／□であった。Ｒｔ／Ｒの値は１．０２であった。 Further, a transparent conductive film was formed on the obtained optical isotropic support plate, and an initial surface resistance value R was measured. The result was 500Ω / □. Thereafter, a wet heat stability test was conducted, and the post-test surface resistance value Rt was 510Ω / □. The value of Rt / R was 1.02.
抵抗膜方式偏光板一体型インナータッチパネルを作製した。図１は、抵抗膜方式偏光板一体型インナータッチパネルを示す。まず、透明導電膜１１を付与した光学等方性支持板１２の、透明導電膜１１との反対面に、事前に調整した偏光板用接着剤を塗布し、事前に作製しておいた片面に偏光膜保護フィルム１４を貼り付けた偏光膜１３からなる偏光板の、偏光膜保護フィルム１４がある側との反対側の面を接着した。次に、偏光板保護フィルム／偏光子／偏光板保護フィルムの三層からなる市販の偏光板５を用意し、その上にインプレーンスイッチング型液晶表示素子６を重ねた。更に、ＩＴＯ透明導電膜８を付与したうえで抵抗膜方式タッチパネル用電極としてパターンを作製した光学ガラス７をＩＴＯ透明導電膜膜８が上になるように重ね合わせ、次いで、その上に、適切なスペーサー９を介在させ、前述の光学等方性支持板と一体化された偏光板を透明導電膜１１側が下になるように重ね合わせ、エポキシ接着剤１５で四隅を封止した。抵抗膜方式偏光板一体型インナータッチパネル１を、８５℃、８５％ＲＨに保たれた湿熱オーブンに入れ、１０００時間後の抵抗値（以下Ｒｐと記す）を測定したところ、５５４Ω／□の測定値を得た。
A resistive film type polarizing plate integrated inner touch panel was prepared. FIG. 1 shows an inner touch panel integrated with a resistive film type polarizing plate. First, a preliminarily prepared adhesive for polarizing plate is applied to the opposite surface of the optically
図２は、静電投影方式偏光板一体型インナータッチパネルを示す。別途、上記で作製した、偏光膜２１に偏光膜保護フィルム２２を貼り合わせ、更に、光学等方性支持板２０を貼り合わせたものに、光学等方性支持板面に偏光板接着剤を塗布した後、静電容量投影方式のＩＴＯパターン１９を作製した光学ガラス１８の上に貼り付けた。更に、ガラス板に偏光板接着剤を塗布しインプレーンスイッチング型液晶表示素子１７（反対面には偏光板保護フィルム／偏光子／偏光板保護フィルムの三層からなる市販の偏光板１６を貼合した）上に貼り付けた後、エポキシ接着剤２３で封止して、静電投影方式偏光板一体型インナータッチパネル２を作製した。また、一組２つ、作製した。本来、液晶セルのカラーフィルター側ガラスの上部に静電投影方式の電極を作製すれば、ガラスは一枚で済むが、今回は試験の都合上、前記の方法を取った。得られた静電投影方式偏光板一体型インナータッチパネル２を、８５℃、８５％ＲＨに保たれた湿熱オーブンに入れ、１０００時間後の表示品位に変化が見られるかをみたところ、特段の品位低下は見られなかった。
FIG. 2 shows an electrostatic projection type polarizing plate integrated inner touch panel. Separately, a polarizing plate adhesive is applied to the surface of the optically isotropic support plate on the
［実施例２］
スチレン（和光純薬特級、以下Ｓｔ）を減圧度０．０１ＭＰａ、５２℃で蒸留し、禁止剤を除いた。次いで、蒸留ＭＭＡ２１．０ｋｇ、ｐｈＭＩ２．１８ｋｇ（和光純薬特級）、ｃｈＭＩ５．０ｋｇ（和光純薬特級）、蒸留Ｓｔ１．７２ｋｇ（和光純薬特級）、ｍＸｙ２０ｋｇ（和光純薬特級）を混合モノマー溶液とした以外は実施例１同様に重合を実施し、ペレット状のアクリル系熱可塑性樹脂を得た。
[Example 2]
Styrene (Wako Pure Chemicals, hereinafter St) was distilled at a reduced pressure of 0.01 MPa and 52 ° C. to remove the inhibitor. Next, 21.0 kg of distilled MMA, 2.18 kg of phMI (special grade of Wako Pure Chemical), 5.0 kg of chMI (special grade of Wako Pure Chemical), 1.72 kg of distilled St (special grade of Wako Pure Chemical), 20 kg of mXy (special grade of Wako Pure Chemical) and mixed monomer solution Except that, polymerization was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a pellet-shaped acrylic thermoplastic resin.
このアクリル系熱可塑性樹脂の組成を確認したところ、ＭＭＡ、ｐｈＭＩ、ｃｈＭＩ、Ｓｔの各単量体由来の構造単位は、それぞれ、７０．２質量％、５．２質量％、１９．８質量％、４．８質量％であった。また、ガラス転移温度を測定したところ、１４１℃、重量平均分子量は１５．６万であった。光弾性係数は＋０．１×１０−１２Ｐａ−１であった。 When the composition of this acrylic thermoplastic resin was confirmed, the structural units derived from the monomers MMA, phMI, chMI, and St were 70.2% by mass, 5.2% by mass, and 19.8% by mass, respectively. It was 4.8% by mass. Moreover, when the glass transition temperature was measured, it was 141 degreeC and the weight average molecular weight was 150,000. The photoelastic coefficient was + 0.1 × 10 −12 Pa −1 .
次いで、得られたペレット状のアクリル系熱可塑性樹脂を溶融プレス成形でフィルムとした。まず、鉄板の上にカプトンシートを配置し、その上に幅３０ｃｍ、長さ４０ｃｍの長方形にくり貫いた厚み１００μｍの金枠を置き、そこに光学等方性材料をおいた、更にカプトンシートを置き鉄板を配置した。二枚の金板に挟んだまま、真空圧縮成形機（（株）神藤金属工業所製 ＳＦＶ−３０型）にいれ、減圧を開始し１０ｋＰａに到達した段階で、２６０℃まで２０分をかけて昇温した、その後、２６０℃で５分保ったあと、プレス圧１０ＭＰａで５分間圧縮、その後、冷却を開始し５０℃に到達した段階で、真空乾燥器内を大気圧にもどし、サンプルを取り出した。次いでサンプルを一度、カプトンシートから剥離し、再度カプトンシートで挟み、窒素で満たされ、ガラス転移温度より１０℃高い温度に保たれた乾燥器の中で８時間、熱を加えた。冷却後、トムソン刃で２０ｃｍ×２４ｃｍの長方形状になるように打ち抜き、厚み９４μｍの光学等方性支持板を得た。 Subsequently, the obtained pellet-shaped acrylic thermoplastic resin was formed into a film by melt press molding. First, a Kapton sheet is placed on an iron plate, and a 100 μm thick gold frame cut into a rectangle 30 cm wide and 40 cm long is placed on it, and an optically isotropic material is placed on the gold frame. A place iron plate was arranged. Put it in a vacuum compression molding machine (SFV-30, manufactured by Shindo Metal Industry Co., Ltd.) while sandwiching it between the two metal plates, and start reducing pressure and reach 10 kPa. The temperature was raised, and then kept at 260 ° C. for 5 minutes, then compressed at a press pressure of 10 MPa for 5 minutes. After that, when cooling started and the temperature reached 50 ° C., the inside of the vacuum dryer was returned to atmospheric pressure, and the sample was taken out. It was. The sample was then peeled once from the Kapton sheet, sandwiched again with the Kapton sheet, heated for 8 hours in a drier filled with nitrogen and maintained at a temperature 10 ° C. above the glass transition temperature. After cooling, a Thomson blade was punched out into a 20 cm × 24 cm rectangular shape to obtain an optically isotropic support plate having a thickness of 94 μm.
得られた光学等方性支持板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は２４ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は１６ｎｍであった。歪と複屈折の関係式の傾きαは−０．２×１０−５であった。 The obtained optical isotropic support plate had an in-plane retardation (Re) absolute value of 24 nm and a thickness direction retardation (Rth) of 16 nm. The slope α of the relational expression between strain and birefringence was −0.2 × 10 −5 .
コントラスト評価を実施した。結果は◎であった。初期表面抵抗値Ｒを測定した。結果は、４８０Ω／□であった。その後、湿熱安定性試験を実施し、試験後表面抵抗値Ｒｔは５０５Ω／□であった。Ｒｔ／Ｒの値は１．０５であった。実施例１同様に抵抗膜方式インナータッチパネルをくみ上げ、湿熱安定性試験を実施、表面抵抗値を測定したところ、Ｒｐは５９８Ω／□であった。また静電容量方式インナータッチパネルを一組２つ組上げ、耐湿熱試験後の表示品位を確認したところ、耐熱試験前後の低下はなかった。 A contrast evaluation was performed. The result was ◎. The initial surface resistance value R was measured. The result was 480Ω / □. Thereafter, a wet heat stability test was conducted, and the post-test surface resistance value Rt was 505Ω / □. The value of Rt / R was 1.05. A resistive film type inner touch panel was drawn up in the same manner as in Example 1, a wet heat stability test was conducted, and a surface resistance value was measured. As a result, Rp was 598Ω / □. Moreover, when two sets of capacitive inner touch panels were assembled and the display quality after the moisture and heat resistance test was confirmed, there was no decrease before and after the heat resistance test.
［実施例３］
ベンジルメタクリレート（和光純薬特級、以下ＢｚＭＡと記す）を減圧度０．０１ＭＰａ、５２℃で蒸留し、禁止剤を除いた。蒸留ＭＭＡ２４．０ｋｇ、ｐｈＭＩ２．４０ｋｇ（和光純薬特級）、ｃｈＭＩ３．３０ｋｇ（和光純薬特級）、蒸留ＢｚＭＡ０．３０ｋｇ（和光純薬特級）、ｍＸｙ２０ｋｇ（和光純薬特級）を混合モノマー溶液とした以外は実施例１同様に重合を実施し、ペレット状のアクリル系熱可塑性樹脂を得た。このアクリル系熱可塑性樹脂の組成を確認したところ、ＭＭＡ、ｐｈＭＩ、ｃｈＭＩ、ＢｚＭＡの各単量体由来の構造単位は、それぞれ、８０．３質量％、７．９質量％、１０．８質量％、１．０質量％であった。また、ガラス転移温度を測定したところ、１４２℃、重量平均分子量は２２．０万であった。光弾性係数は＋０．７×１０−１２Ｐａ−１であった。
[Example 3]
Benzyl methacrylate (special grade of Wako Pure Chemicals, hereinafter referred to as BzMA) was distilled at a reduced pressure of 0.01 MPa and 52 ° C. to remove the inhibitor. Distilled MMA 24.0 kg, phMI 2.40 kg (Wako Pure Chemical), chMI 3.30 kg (Wako Pure Chemical), BzMA 0.30 kg (Wako Pure Chemical),
光学等方性支持板は実施例２同様に作製した。得られた光学等方性支持板の厚みは９８μｍであった。得られた光学等方性支持板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は２ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は２ｎｍであった。歪と複屈折の関係式の傾きαは−０．０２×１０−５であった。コントラスト評価を実施した。結果は◎であった。
次いで、透明導電膜形成を実施し、初期表面抵抗値Ｒを測定した。結果は、４９０Ω／□であった。その後、湿熱安定性試験を実施し、試験後表面抵抗値Ｒｔは５１５Ω／□であった。Ｒｔ／Ｒの値は１．０５であった。実施例１同様に抵抗膜方式インナータッチパネルを組上げ、湿熱安定性試験を実施、表面抵抗値を測定したところ、Ｒｐは５８１Ω／□であった。また静電容量方式インナータッチパネルを一組２つ組上げ、耐湿熱試験前後の表示品位を確認したところ、低下はなかった。
The optical isotropic support plate was produced in the same manner as in Example 2. The thickness of the obtained optical isotropic support plate was 98 μm. The absolute value of the in-plane direction retardation (Re) of the obtained optical isotropic support plate was 2 nm, and the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) was 2 nm. The slope α of the relational expression between strain and birefringence was −0.02 × 10 −5 . A contrast evaluation was performed. The result was ◎.
Subsequently, transparent conductive film formation was implemented and the initial surface resistance value R was measured. The result was 490Ω / □. Thereafter, a wet heat stability test was conducted, and the post-test surface resistance value Rt was 515Ω / □. The value of Rt / R was 1.05. A resistance film type inner touch panel was assembled in the same manner as in Example 1, a wet heat stability test was conducted, and a surface resistance value was measured. As a result, Rp was 581Ω / □. In addition, when two sets of capacitive inner touch panels were assembled and the display quality before and after the wet heat resistance test was confirmed, there was no decrease.
［実施例４］
実施例１で得られた、厚み１、０００μｍの光学等方性板を、縦２６ｃｍ×横２６ｃｍにカッターで切断したあと、試験二軸延伸装置（東洋精機製作所）にて溶融延伸成形を実施した。延伸温度は１５０度、余熱時間５分、初期チャック間距離（縦２５ｃｍ、横２５ｃｍ）、延伸速度は縦横ともに２５ｃｍ／分にて２００％延伸を実施した。延伸後サンプルの厚みを測定したところ２４７μｍ厚みであった。実施例１同様にトムソン刃で打ち抜き光学等方性板を得た。
[Example 4]
The optically isotropic plate having a thickness of 1,000 μm obtained in Example 1 was cut into a length of 26 cm × width of 26 cm with a cutter, and then melt stretch-molded with a test biaxial stretching apparatus (Toyo Seiki Seisakusho). . Stretching was performed at a stretching temperature of 150 ° C., a preheating time of 5 minutes, an initial chuck distance (25 cm in length and 25 cm in width), and a stretching speed of 25 cm / min in both length and width. It was 247 micrometers thickness when the thickness of the sample after extending | stretching was measured. In the same manner as in Example 1, a punched optical isotropic plate was obtained with a Thomson blade.
光学等方性支持板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は３ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は６ｎｍであった。 The absolute value of the retardation (Re) in the in-plane direction of the optical isotropic support plate was 3 nm, and the absolute value of the retardation (Rth) in the thickness direction was 6 nm.
次に、光学等方性板のコントラスト評価を実施した。結果は◎であった。更に、得られた光学等方性支持板に透明導電膜を形成させ、初期表面抵抗値Ｒを測定した。結果は、５０１Ω／□であった。その後、湿熱安定性試験を実施し、試験後表面抵抗値Ｒｔは５１１Ω／□であった。Ｒｔ／Ｒの値は１．０２であった。実施例１同様に抵抗膜方式インナータッチパネルを組上げ、湿熱安定性試験を実施、表面抵抗値を測定したところ、Ｒｐは５６２Ω／□であった。また静電投影方式インナータッチパネルを一組２つ組上げ、耐湿熱試験前後の表示品位を確認したところ、低下はなかった。 Next, contrast evaluation of the optical isotropic plate was performed. The result was ◎. Further, a transparent conductive film was formed on the obtained optical isotropic support plate, and an initial surface resistance value R was measured. The result was 501Ω / □. Thereafter, a wet heat stability test was conducted, and the post-test surface resistance value Rt was 511Ω / □. The value of Rt / R was 1.02. A resistive film type inner touch panel was assembled in the same manner as in Example 1, a wet heat stability test was conducted, and the surface resistance value was measured. The Rp was 562Ω / □. In addition, two sets of electrostatic projection type inner touch panels were assembled, and the display quality before and after the wet heat resistance test was confirmed.
［比較例１］
ゼオノア４８０Ｒ（日本ゼオン社）に関して光弾性係数を測定した、＋５．０×１０−１２Ｐａ−１であった。またガラス転移温度は１３０℃であった。
[Comparative Example 1]
It was + 5.0 * 10 < -12 > Pa < -1 > which measured the photoelastic coefficient regarding ZEONOR 480R (Nippon Zeon Corporation). The glass transition temperature was 130 ° C.
成形に関しては実施例１同様に実施し、１，０００μｍの板を作製した。この板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は５０ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は５５ｎｍであった。歪と複屈折の関係式の傾きαは＋０．６０×１０−５であった。 Molding was carried out in the same manner as in Example 1 to produce a 1,000 μm plate. The absolute value of the retardation (Re) in the in-plane direction of this plate was 50 nm, and the absolute value of the retardation (Rth) in the thickness direction was 55 nm. The slope α of the relational expression between strain and birefringence was + 0.60 × 10 −5 .
コントラスト評価を実施した結果は、中心部から両端に向け歪がのこり、部分的な明暗の変化が見られた。また周辺部に関してはトムソン刃による切断時の残留応力由来の明暗が観察されたことから×とした。 As a result of the contrast evaluation, distortions remained from the center to both ends, and a partial change in brightness was observed. Further, regarding the peripheral portion, since light and darkness derived from residual stress at the time of cutting with a Thomson blade was observed, it was evaluated as x.
次いで、透明導電膜形成を実施し、初期表面抵抗値Ｒを測定した。結果は、５２３Ω／□であった。その後、湿熱安定性試験を実施し、試験後表面抵抗値Ｒｔは５５２Ω／□であった。Ｒｔ／Ｒの値は１．０６であった。実施例１同様に抵抗膜方式インナータッチパネルを組上げ、湿熱安定性試験を実施、表面抵抗値を測定したところ、Ｒｐは５７６Ω／□であった。また静電容量方式インナータッチパネルを一組２つ組上げ、耐湿熱試験前後の表示品位を確認したところ、低下はなかった。 Subsequently, transparent conductive film formation was implemented and the initial surface resistance value R was measured. The result was 523Ω / □. Thereafter, a wet heat stability test was conducted, and the post-test surface resistance value Rt was 552 Ω / □. The value of Rt / R was 1.06. A resistance film type inner touch panel was assembled in the same manner as in Example 1, a wet heat stability test was conducted, and the surface resistance value was measured. The Rp was 576Ω / □. In addition, when two sets of capacitive inner touch panels were assembled and the display quality before and after the wet heat resistance test was confirmed, there was no decrease.
［比較例２］
市販のトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製、Ｆ−ＴＡＣ、８０μｍ厚み）を用意し、光弾性係数を測定した。ガラス転移温度は１４５℃。分子量の測定はサンプルが溶解せずできなかった。光弾性係数は＋１５×１０−１２Ｐａ−１であった。この板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は２ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は６６ｎｍであった。コントラスト評価を実施した結果◎であった。
[Comparative Example 2]
A commercially available triacetyl cellulose film (Fuji Film, F-TAC, 80 μm thickness) was prepared, and the photoelastic coefficient was measured. The glass transition temperature is 145 ° C. The molecular weight could not be measured because the sample did not dissolve. The photoelastic coefficient was + 15 × 10 −12 Pa −1 . The absolute value of the retardation (Re) in the in-plane direction of this plate was 2 nm, and the absolute value of the retardation (Rth) in the thickness direction was 66 nm. The result of the contrast evaluation was “◎”.
次いで、アンカーコートを付与し、透明導電膜形成 Ｒが２０１０Ω／□ 、耐湿熱試験後に部分的な剥離がみられたが、比較的良好な部位で測定低したところＲｔが３９７８であった。その後、抵抗膜方式インナータッチパネルをくみあげ、耐湿熱試験を実施したところ透明導電膜の剥離は進行し、Ｒｐは５１５０となった。また静電容量投影式タッチパネルを一組２つ組上げ、耐熱試験を実施したところ、試験前後で透明導電膜の剥離による位相差ずれを原因とする光り漏れが観察された。 Next, an anchor coat was applied, and transparent conductive film formation R was 2010 Ω / □, and partial peeling was observed after the moisture and heat resistance test. When measured at a relatively good site, Rt was 3978. Thereafter, when the resistance film type inner touch panel was picked up and a moisture and heat resistance test was carried out, peeling of the transparent conductive film proceeded, and Rp was 5150. Further, when two sets of capacitive projection type touch panels were assembled and a heat resistance test was conducted, light leakage due to phase difference due to peeling of the transparent conductive film was observed before and after the test.
［比較例３］
モノマー溶液としてＭＭＡ単独を用い実施例１同様の方法で、重合、ポリマーを回収した。光弾性係数を測定した結果−４．７×１０−１２Ｐａ−１であった。また分子量は１０．２万であった。ガラス転移温度は１２１℃であった。
[Comparative Example 3]
Polymerization and the polymer were recovered in the same manner as in Example 1 using MMA alone as the monomer solution. It was -4.7 * 10 < -12 > Pa < -1 > as a result of measuring a photoelastic coefficient. The molecular weight was 102,000. The glass transition temperature was 121 ° C.
成形に関しては実施例１同様に実施し、１０００μｍの板を作製した。この板の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は１０ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値は７ｎｍであった。歪と複屈折の関係式の傾きαは−０．３×１０−５であった。この板のコントラスト評価を実施した結果は△であった。 Molding was carried out in the same manner as in Example 1 to produce a 1000 μm plate. The absolute value of the retardation (Re) in the in-plane direction of this plate was 10 nm, and the absolute value of the retardation (Rth) in the thickness direction was 7 nm. The slope α of the relational expression between strain and birefringence was −0.3 × 10 −5 . The result of evaluating the contrast of this plate was Δ.
次いで、アンカーコートを付与し、乾燥工程に移行した段階で板が変形し、その後の透明導電膜形成ができなかったことから、初期表面抵抗値やタッチパネルの組上げ等は実施しなかった。 Next, an anchor coat was applied, and the plate was deformed at the stage of shifting to the drying process, and subsequent transparent conductive film formation could not be performed. Therefore, initial surface resistance values, touch panel assembly, etc. were not performed.
実施例１、２、３、４、比較例１、２、３に関して、下記表１に特性をまとめた。 Tables 1 below summarize the characteristics of Examples 1, 2, 3, and 4 and Comparative Examples 1, 2, and 3.
実施例１、２、３、４と比較例３とを比べることで耐熱性が十分にあり、透明導電膜を形成可能であることが判る。 By comparing Examples 1, 2, 3, 4 and Comparative Example 3, it can be seen that the heat resistance is sufficient and a transparent conductive film can be formed.
実施例１、２、３、４と比較例２とを比べることで無機密着性と湿熱時の安定性に優れることが判る。 By comparing Examples 1, 2, 3, 4 and Comparative Example 2, it can be seen that the inorganic adhesiveness and the stability during wet heat are excellent.
また、実施例１、２、３、４と比較例１、２、３とを比べることで光学特性（低複屈折性）が優れることが判る。特に光学等方性支持板としては、ＭＭＡ、ｐｈＭＩ、ｃｈＭＩの三元系組成が優れることが判る。 Moreover, it turns out that an optical characteristic (low birefringence) is excellent by comparing Example 1, 2, 3, 4 and Comparative Examples 1, 2, and 3. FIG. In particular, as an optically isotropic support plate, it can be seen that the ternary composition of MMA, phMI, and chMI is excellent.
本発明の光学等方性支持板は、耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ高度な光学等方性（低複屈折性）を有しているため、インナータッチパネル用途向けの板状実装材料として好適である。また、少なくともその片面に偏光板を積層して得られる偏光板一体型インナータッチパネルは、インナータッチパネルの表示特性のさらなる改善や、薄型化・軽量化等の要求に対し有効である。本発明のインナータッチパネルは、インナープレーンスイッチング（ＩＰＳ）液晶やフリンジフィールドスイッチング（ＦＦＳ）液晶等の縦電界型ではない液晶表示素子を用いるインナー型タッチパネル用途に対し特に好適である。 The optical isotropic support plate of the present invention has heat resistance, inorganic adhesion, wet heat stability, and high optical isotropy (low birefringence), so that it is suitable for inner touch panel applications. It is suitable as a plate-shaped mounting material. In addition, a polarizing plate-integrated inner touch panel obtained by laminating a polarizing plate on at least one surface thereof is effective for demands such as further improvement in display characteristics of the inner touch panel and reduction in thickness and weight. The inner touch panel of the present invention is particularly suitable for an inner touch panel application using a liquid crystal display element that is not a vertical electric field type, such as an inner plane switching (IPS) liquid crystal or a fringe field switching (FFS) liquid crystal.
１…抵抗膜方式偏光板一体型インナータッチパネル、２…静電投影方式偏光板一体型インナータッチパネル、５，１６…偏光板、６，１７…インプレーンスイッチング型液晶表示素子、７，１８…光学ガラス、８…ＩＴＯ透明導電膜、９…スペーサー、１１…透明導電膜、１２，２０…光学等方性支持板、１３，２１…偏光膜、１４，２２…偏光膜保護フィルム、１５，２３…エポキシ接着剤、１９…ＩＴＯパターン。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Resistance film type polarizing plate integrated inner touch panel, 2 ... Electrostatic projection type polarizing plate integrated inner touch panel, 5, 16 ... Polarizing plate, 6, 17 ... In-plane switching type liquid crystal display element, 7, 18 ...
Claims (17)
前記アクリル系熱可塑性樹脂が、その総量基準で、５０〜９５質量％の前記第一の構造単位と、０．１〜２０質量％の前記第二の構造単位と、０．１〜４９．９質量％の前記第三の構造単位とを有する、光学等方性支持板。
［式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］
［式中、Ｒ２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］
［式中、Ｒ５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］ Acrylic thermoplastic having a first structural unit represented by the following formula (1), a second structural unit represented by the following formula (2), and a third structural unit represented by the following formula (3) Formed from resin,
The acrylic thermoplastic resin is, based on the total amount, 50 to 95% by mass of the first structural unit, 0.1 to 20% by mass of the second structural unit, and 0.1 to 49.9. An optically isotropic support plate comprising the third structural unit in mass%.
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or And an aryl group having 6 to 14 carbon atoms and having at least one substituent selected from the following group A.
Group A: a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. ]
[Wherein, R 2 represents an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms having at least one substituent selected from the following group B: R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms.
Group B: a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an arylalkyl group having 7 to 14 carbon atoms. ]
[Wherein, R 5 represents a hydrogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or at least one substituent having at least one substituent selected from the following group C. R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms.
Group C: a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. ]
前記Ｒ２が、フェニル基又は前記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有するフェニル基であり、
前記Ｒ５が、シクロヘキシル基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学等方性支持板。 R 1 is a methyl group or a benzyl group,
R 2 is a phenyl group or a phenyl group having at least one substituent selected from the group B;
The optically isotropic support plate according to claim 1, wherein R 5 is a cyclohexyl group.
Δｎ（Ｓ）＝α×Ｓ＋β （ａ）
−０．３０×１０−５≦α≦０．３０×１０−５ （ｂ）
［式中、βは定数であり、無延伸時の複屈折を示す。］ The acrylic thermoplastic resin has a slope in the least squares approximate linear relationship (a) between the stretch ratio (S) when film-molded and the 100 μm-thickness converted birefringence (Δn (S)) at the stretch ratio. The optically isotropic support plate according to any one of claims 1 to 7, wherein the value of α is a resin satisfying the following formula (b).
Δn (S) = α × S + β (a)
−0.30 × 10 −5 ≦ α ≦ 0.30 × 10 −5 (b)
[In the formula, β is a constant and indicates birefringence when not stretched. ]
該光学等方性支持板の少なくとも一方の面に積層された偏光板と、
を有する、偏光板一体型インナータッチパネル用光学等方性支持板。 An optical isotropic support plate for an inner touch panel according to claim 12,
A polarizing plate laminated on at least one surface of the optically isotropic support plate;
An optically isotropic support plate for an inner touch panel integrated with a polarizing plate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011147325A JP5965593B2 (en) | 2011-07-01 | 2011-07-01 | Optical isotropic support plate and inner touch panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011147325A JP5965593B2 (en) | 2011-07-01 | 2011-07-01 | Optical isotropic support plate and inner touch panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013014659A true JP2013014659A (en) | 2013-01-24 |
| JP5965593B2 JP5965593B2 (en) | 2016-08-10 |
Family
ID=47687640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011147325A Active JP5965593B2 (en) | 2011-07-01 | 2011-07-01 | Optical isotropic support plate and inner touch panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5965593B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5706040B2 (en) * | 2012-11-22 | 2015-04-22 | 学校法人慶應義塾 | Acrylic copolymer, optical film, polarizing plate and liquid crystal display device |
| JP2015108737A (en) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | 住友化学株式会社 | Polarizer having fewer bubble detects |
| JP5860985B1 (en) * | 2014-04-03 | 2016-02-16 | 住友化学株式会社 | Polarizing plate and liquid crystal panel |
| WO2020013203A1 (en) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 旭化成株式会社 | Methacrylic resin, moulded article, optical component or automotive component |
| US10800875B2 (en) | 2018-03-27 | 2020-10-13 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Methacrylic resin and production method, molded article, and optical or automotive component of same |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06242301A (en) * | 1993-02-16 | 1994-09-02 | Kuraray Co Ltd | Optical element |
| JPH0991753A (en) * | 1995-07-14 | 1997-04-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Optical type information recording medium |
| JP2001294722A (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-23 | Nippon Shokubai Co Ltd | Transparent, heat-resistant, thermoplastic resin composition |
| JP2006308682A (en) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Yasuhiro Koike | Non-birefringent optical plastic material and optical member |
| JP2010024338A (en) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Optical film |
-
2011
- 2011-07-01 JP JP2011147325A patent/JP5965593B2/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06242301A (en) * | 1993-02-16 | 1994-09-02 | Kuraray Co Ltd | Optical element |
| JPH0991753A (en) * | 1995-07-14 | 1997-04-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Optical type information recording medium |
| JP2001294722A (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-23 | Nippon Shokubai Co Ltd | Transparent, heat-resistant, thermoplastic resin composition |
| JP2006308682A (en) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Yasuhiro Koike | Non-birefringent optical plastic material and optical member |
| JP2010024338A (en) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Optical film |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5706040B2 (en) * | 2012-11-22 | 2015-04-22 | 学校法人慶應義塾 | Acrylic copolymer, optical film, polarizing plate and liquid crystal display device |
| JP2015108737A (en) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | 住友化学株式会社 | Polarizer having fewer bubble detects |
| WO2015083650A1 (en) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | 住友化学株式会社 | Polarizer with few air bubble defects |
| CN105793746A (en) * | 2013-12-05 | 2016-07-20 | 住友化学株式会社 | Polarizer with few air bubble defects |
| JP5860985B1 (en) * | 2014-04-03 | 2016-02-16 | 住友化学株式会社 | Polarizing plate and liquid crystal panel |
| JP2016048361A (en) * | 2014-04-03 | 2016-04-07 | 住友化学株式会社 | Polarizing plate and liquid crystal panel |
| US10800875B2 (en) | 2018-03-27 | 2020-10-13 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Methacrylic resin and production method, molded article, and optical or automotive component of same |
| WO2020013203A1 (en) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 旭化成株式会社 | Methacrylic resin, moulded article, optical component or automotive component |
| US11603441B2 (en) | 2018-07-13 | 2023-03-14 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Methacrylic resin, shaped article, and optical component or automotive part |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5965593B2 (en) | 2016-08-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5972921B2 (en) | Optical film and manufacturing method thereof | |
| KR101065200B1 (en) | Optical film, protection film for polarizer, polarizing plate fabricated therefrom, and display device employing thereof | |
| JP5965745B2 (en) | Optically isotropic polarizing film protective film and polarizing plate | |
| JP5550152B2 (en) | Optical film and manufacturing method thereof | |
| JP5245109B2 (en) | Optical film | |
| KR101115217B1 (en) | Optical films and method for fabricating the same | |
| CN103403090B (en) | Resin combination and the blooming using this resin combination to be formed | |
| JP6077242B2 (en) | Polarizing plate and manufacturing method thereof | |
| JP5965593B2 (en) | Optical isotropic support plate and inner touch panel | |
| KR102091095B1 (en) | Laminates and liquid crystal displays | |
| TW201307072A (en) | Hard-coating film and touch panel | |
| JP5965621B2 (en) | Optical film and manufacturing method thereof | |
| JP2013019957A (en) | Polarization light transmitting optical component and optical projection device | |
| CN101802061A (en) | Optical film and method of manufacturing the same | |
| JP5343360B2 (en) | Optical compensation film | |
| JP4733276B2 (en) | Method for producing optical film | |
| JP2008179813A (en) | Planar thermoplastic resin molded article | |
| KR20210140738A (en) | Polarizing film, image display panel, and image display device having an adhesive layer | |
| JP2013016312A (en) | Conductive substrate | |
| JP5965612B2 (en) | Optical film and manufacturing method thereof | |
| JP2009052025A (en) | Thermoplastic resin film, optical film, and polarization plate | |
| JP4985219B2 (en) | Optical compensation film | |
| JP2009292961A (en) | Acrylic thermoplastic resin film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140624 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150512 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150701 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160119 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160229 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160229 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20160405 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160415 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160628 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160704 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5965593 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |