JP2013008680A - グラフェンを含む導電性薄膜および透明導電膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のある態様においては、1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜10Aと、1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜10Bと、第1および第2のグラフェン膜の間に挟まれている挿入膜12とを含む超格子構造100を備える導電性薄膜1000が提供される。また、同様の構成の透明導電膜も提供される。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態においては、グラフェン膜を含む導電性薄膜または透明導電膜を形成する実施態様について説明する。
次に、本発明の第1実施形態として説明した導電性薄膜を作製した実施例1〜4について説明する。必要に応じ、第1実施形態に含まれない比較例についても説明し、各図面の符号を参照する。また、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することかできる。したがって、本発明の範囲は以下の具体例に限定されるものではない。
実施例1は、本実施形態の導電性薄膜において、図1および2に示した導電性薄膜1000、1100および1200と類似の構成の導電性薄膜を有するサンプルを作製し電気的性質を測定したものである。実施例1に用いた導電性薄膜においては、導電性薄膜1000、1100および1200と同様に、各グラフェン膜10には、炭素原子のシートが1原子層だけ配置された。その際、挿入膜12に含める原子層数を0、1〜4、7、および10原子層と変化させて電気的性質を測定した。つまり、実施例1においては、図1〜3に明示したとおりの導電性薄膜1000、1100および1200からみると、挿入膜12に含める原子層数が異なる導電性薄膜のサンプルについても調査した。なお、挿入膜12に含める原子層数が0であるサンプルは挿入膜12それ自体を配置していないのと同じであり、本実施形態には含まれない。このため以下このサンプルを比較例1という。
次に実施例2として、図3に示した導電性薄膜1300と類似の構造の導電性薄膜を作製した。実施例2の導電性薄膜においては、超格子構造130をなす積層単位26は8単位だけ積層して形成された。各積層単位26内において、グラフェン膜10には炭素原子のシートが1原子層備えられていた。また、第1単位挿入膜14には、h−BN原子層が3原子層備えられており、第2単位挿入膜16としてはNiが採用された。第2単位挿入膜16のNiの原子層数を変更して、実施例2の各サンプルとした。
次に実施例3として、図4に示した導電性薄膜1400と類似の構造の導電性薄膜を作製した。実施例3の導電性薄膜においても積層単位28は8単位だけ積層された。各積層単位28内のグラフェン膜10における炭素原子のシートの原子層数は1とした。また、第1単位挿入膜14および第3単位挿入膜18には、それぞれh−BN原子層が2原子層備えられており、第2単位挿入膜16としては、サンプルごとに原子層数を変更して作製した。第2単位挿入膜16の金属材料としてはNiを形成した。
次に、本実施形態の導電性薄膜を透明導電膜として利用するための条件を検討した。本実施形態においては、実施例2および実施例3において観察されたように、挿入膜12(第1〜第3単位挿入膜14〜18を含む)として金属層や絶縁層が採用されても、形成される挿入膜12の構成を適切に選べば光透過率を維持することが可能であった。実際、実施例2および実施例3のサンプルにおいて、8単位積層された積層単位26および28それぞれの第2単位挿入膜16がNiを2原子層数だけ含んでいる場合には、いずれも約80%の高い透過率が得られていた。積層単位26および28のグラフェン膜10には炭素原子のシートが1原子層ずつ含まれていたため、導電性薄膜における炭素原子のシートの総数は8原子層であった。
さらに、実施例4の構成に基づいて、炭素原子のシートの総数のみに着目して、導電性薄膜を透明導電膜として採用するために好ましい構成を検討した。上述したように、1原子層の炭素原子のシート(単層グラフェン)の2.3%の吸収率は、導電性薄膜全体の透過率を決定する程度に強い吸収といえる。これに対して、挿入膜として用いられる材質が例えば絶縁材料であれば光は吸収されずに透過する。また挿入膜が金属であっても、炭素原子のシートに比べると、1原子層あたりの透過率は高い。このため、透明導電膜として採用するための透過率の基準が定まれば、炭素原子のシートの原子層の総数を特定することによって、本実施形態の導電性薄膜がその基準にあった透明導電膜として採用することが可能であるかどうかを判定することができる。
本実施形態の導電性薄膜は、いずれも、任意の基板に転写することが可能である。その工程について、導電性薄膜1100(図2(a))に基づいて説明する。まず、図2(a)に示したように、基板50の面の上に導電性薄膜1100を形成する。この際、導電性薄膜1100は、必要な積層単位数だけ形成処理を行って、必要な電気特性と用途によっては光学特性とを満たすように作製される。次に、図2(b)の紙面の上方から支持板(図示しない)を貼着する。この支持板としては、後に溶解させることが可能な可溶性樹脂基板などを採用しておく。次いで、支持板を貼着した状態で基板50をエッチングなどにより除去する。基板50が例えばNiなどの金属材料であれば、酸性のエッチャントに浸漬するなどの手法によって基板50を除去し、支持板の貼着面に導電性薄膜1100を移す。その後、導電性薄膜1100を支持するための最終的な基板に、支持板に移されている導電性薄膜1100を転写する。このためには、支持板の導電性薄膜1100が貼着された面を最終的な基板の面に押圧した後に支持板を溶解させる。この処理を用いれば、高温での加熱処理が必要ないことから、最終的な基板として低融点のプラスチック基板などを用いる場合であっても、導電性薄膜1100を形成することが可能となる。
100、110、120、130、140 超格子構造
22、22A〜22E、24、24A、24B、26、26A〜26C、28、28A、28B 積層単位
1 炭素原子
2、5 原子または分子
10、10A〜10E グラフェン膜
12、12A〜12E 挿入膜
14、14A〜14C 第1単位挿入膜
16、16A〜16C 第2単位挿入膜
18、18A、18B 第3単位挿入膜
50 基板
Claims (8)
- 1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜と、
1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜と、
該第1および該第2のグラフェン膜の間に挟まれている挿入膜と
を含む超格子構造を備え、
前記挿入膜が互いに組成の異なる第1単位挿入膜と第2単位挿入膜とを含んでおり、
前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記第1単位挿入膜/前記第単位2挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜であり、
前記第1単位挿入膜と前記第2単位挿入膜との組み合わせが、それぞれ絶縁体材料と金属材料とからなる組み合わせ、または、それぞれ金属材料と絶縁体材料とからなる組み合わせのうちのいずれかである
導電性薄膜。 - 1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜と、
1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜と、
該第1および該第2のグラフェン膜の間に挟まれている挿入膜と
を含む超格子構造を備え、
前記挿入膜は、絶縁体材料からなる第1単位挿入膜と、金属材料からなる第2単位挿入膜と、絶縁体材料からなる第3単位挿入膜とを含んでおり、
前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記第1単位挿入膜/前記第2単位挿入膜/前記第3単位挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜である
導電性薄膜。 - 前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜である
請求項1または請求項2に記載の導電性薄膜。 - 1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜と、
1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜と、
該第1および該第2のグラフェン膜の間に挟まれており、絶縁体材料と金属材料とを組み合わせた挿入膜と
を含む超格子構造を備え、
前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜であり、
前記積層単位それぞれにおいて、前記挿入膜をなす原子層の層数が3であり、前記第1および前記第2のグラフェン膜をなす炭素原子のシートの原子層の層数が1である
導電性薄膜。 - 1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜と、
1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜と、
該第1および該第2のグラフェン膜の間に挟まれている挿入膜と
を含む超格子構造を備え、
前記挿入膜が互いに組成の異なる第1単位挿入膜と第2単位挿入膜とを含んでおり、
前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記第1単位挿入膜/前記第単位2挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜であり、
前記第1単位挿入膜と前記第2単位挿入膜との組み合わせが、それぞれ絶縁体材料と金属材料とからなる組み合わせ、または、それぞれ金属材料と絶縁体材料とからなる組み合わせのうちのいずれかである
透明導電膜。 - 1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜と、
1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜と、
該第1および該第2のグラフェン膜の間に挟まれている挿入膜と
を含む超格子構造を備え、
前記挿入膜は、絶縁体材料からなる第1単位挿入膜と、金属材料からなる第2単位挿入膜と、絶縁体材料からなる第3単位挿入膜とを含んでおり、
前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記第1単位挿入膜/前記第2単位挿入膜/前記第3単位挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜である
透明導電膜。 - 1原子層以上の炭素原子のシートからなる第1のグラフェン膜と、
1原子層以上の炭素原子のシートからなる第2のグラフェン膜と、
該第1および該第2のグラフェン膜の間に挟まれており、絶縁体材料と金属材料とを組み合わせた挿入膜と
を含む超格子構造を備え、
前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記挿入膜)からなる積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜であり、
前記積層単位それぞれにおいて、前記挿入膜をなす原子層の層数が3であり、前記第1および前記第2のグラフェン膜をなす炭素原子のシートの原子層の層数が1である
透明導電膜。 - 前記超格子構造は、(グラフェン膜/前記挿入膜)の構成を有する積層単位が複数積層された超格子構造であり、
前記第1および前記第2のグラフェン膜が、複数積層された前記積層単位のうち互いに隣接する二つの積層単位に属するグラフェン膜であり、
前記グラフェン膜をなす炭素原子のシートの原子層について、すべての前記積層単位について合算した数が10以下である
請求項5乃至請求項7のいずれか1項に記載の透明導電膜。
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