JP2012519216A - ジルコニウムおよびハフニウムで同時ドープされたニトリドシリケート - Google Patents

ジルコニウムおよびハフニウムで同時ドープされたニトリドシリケート Download PDF

Info

Publication number
JP2012519216A
JP2012519216A JP2011551427A JP2011551427A JP2012519216A JP 2012519216 A JP2012519216 A JP 2012519216A JP 2011551427 A JP2011551427 A JP 2011551427A JP 2011551427 A JP2011551427 A JP 2011551427A JP 2012519216 A JP2012519216 A JP 2012519216A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
doped
compound
europium
hafnium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011551427A
Other languages
English (en)
Inventor
ヴィンクラー,ホルガー
ペトリー,ラルフ
フォスグレーネ,ティム
ユステル,トーマス
ウーリッヒ,ドミニク
ドゥツァク,ダヌータ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Publication of JP2012519216A publication Critical patent/JP2012519216A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/0615Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with transition metals other than titanium, zirconium or hafnium
    • C01B21/062Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with transition metals other than titanium, zirconium or hafnium with chromium, molybdenum or tungsten
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/584Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62645Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
    • C04B35/62675Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering characterised by the treatment temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/59Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/77Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
    • C09K11/7728Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing europium
    • C09K11/77347Silicon Nitrides or Silicon Oxynitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/77Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
    • C09K11/7783Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing two or more rare earth metals one of which being europium
    • C09K11/77927Silicon Nitrides or Silicon Oxynitrides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50Solid solutions
    • C01P2002/52Solid solutions containing elements as dopants
    • C01P2002/54Solid solutions containing elements as dopants one element only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/84Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3201Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3201Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3203Lithium oxide or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3208Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3213Strontium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3215Barium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3229Cerium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3244Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/38Non-oxide ceramic constituents or additives
    • C04B2235/3852Nitrides, e.g. oxynitrides, carbonitrides, oxycarbonitrides, lithium nitride, magnesium nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/38Non-oxide ceramic constituents or additives
    • C04B2235/3852Nitrides, e.g. oxynitrides, carbonitrides, oxycarbonitrides, lithium nitride, magnesium nitride
    • C04B2235/3873Silicon nitrides, e.g. silicon carbonitride, silicon oxynitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/44Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
    • C04B2235/444Halide containing anions, e.g. bromide, iodate, chlorite
    • C04B2235/445Fluoride containing anions, e.g. fluosilicate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/658Atmosphere during thermal treatment
    • C04B2235/6582Hydrogen containing atmosphere
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/32257Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic the layer connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48257Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/49105Connecting at different heights
    • H01L2224/49107Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/85909Post-treatment of the connector or wire bonding area
    • H01L2224/8592Applying permanent coating, e.g. protective coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

本発明は、式(I) Ma2-y(Ca,Sr,Ba)1-x-ySi5-zMezN8:EuxCey (I)、式中Ma=Li、Naおよび/またはK、Me=Hf4+および/またはZr4+、x=0.0015〜0.20およびy=0〜0.15、z<4である、で表される化合物、これらの化合物の製造方法ならびに、蛍光体およびLEDからの青色または近紫外線発光を変換するための変換蛍光物質としての使用に関する。

Description

本発明は、Hf4+ Zr4+、Li、Naおよび/またはKで同時ドープされ(co-doped)、Euおよび/またはCe活性化を伴う2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素からなる化合物、その調製、ならびに暖白色LEDまたはいわゆるカラーオンデマンド(colour-on-demand)用途のための蛍光体およびLED変換蛍光体としてのその使用に関する。
カラーオンデマンドの概念は、1種または2種以上の蛍光体を用いたpcLED(=蛍光体により変換されたLED、phosphor converted LED)によって特定のカラーポイント(color point)を有する光を達成することを意味するものと解釈される。この概念は、例えば、例えば照明会社ロゴ、商標などのための特定のコーポレートデザインを作り出すために用いられる。
蛍光体変換LEDは、その革新可能性によって従来の人工光源(白熱灯、放電ランプなど)の代用の増加がもたらされる、重要な光技術を代表する。
半導体技術がLEDについて事実上検討し尽くされている一方、用いられている蛍光体は、改善のための余地を提供する。LED製造者は、(出力)LEDのための赤色蛍光体についての必要性を繰り返し強調している。LEDにおいて効率的かつ効果的に用いるための赤色蛍光体の必須の特性は、とりわけ、以下のものである:
610〜620nm(高CRIもしくは高CCTを有する一般的な照明)または630nm〜650nm(大きな色空間を有するLCディスプレイのためのバックライティング)の波長範囲における発光帯。
高い蛍光消光温度(TQ50>>150℃)。
酸および湿気に対する高い化学安定性。
励起LEDの発光帯のスペクトル領域における高い吸収、蛍光体から環境への発光の高い抽出および高い変換効率(QE)から生じる高い光収率。
LED製造者によって要求される上述の条件のうちいくつか、しかしすべてではない条件を満たす、多くの蛍光体材料系がある。しかし、すべての条件を満たすことによってのみ、従来の電気光源のLEDによる代替が大いに促進され、照明のために世界中で必要とされる電気エネルギーの減少がもたらされる。
赤色において蛍光を発し、原則的に青色(またはUV)LEDと組み合わせることができる、商業的に入手できる蛍光体材料は、特に以下のものである:
オルトケイ酸塩:
当該材料は、高い輝度および効率を有するが、最長の発光波長は、約610nmにおいてである。
硫化物、チオ没食子酸塩および硫セレン化物:
これらの蛍光体は、上述の波長範囲において発光することが可能である。硫黄含有材料の最大の欠点は、大気中の酸素および湿気に対するそれらの不安定性である。共に、シリコーン結合材料を通って蛍光体に拡散することによってLEDに極めて容易に進入し、それと反応し、その間に、それは分解される。さらに、低度のドーピングのみがしばしば可能であり、高い励起密度にて飽和現象がもたらされる。
窒化物およびオキシ窒化物:
共有結合性窒化物は、それらが大きなバンドギャップを有し、ここで活性化体イオンのHOMOおよびLUMOが局所化されるため、原則的に蛍光体のためのマトリックスとして用いられ得る。高い共有結合性のために、窒化物は高い電子雲拡大効果を有し、その結果希土類元素活性化体、例えばEu2+、Ce3+の励起された4f5d配置の最も低い結晶場要素のエネルギーが、低くなる。この結果、窒化物蛍光体の長波長励起およびそれからの発光がもたらされる(Krevel et al., J. Alloys Compd. 1998, 268, 272を参照)。
窒化ケイ素は、特に、両方の系がSiX四面体(X=O、N)から構成されるため、オキソシリコン(oxosilicon)化合物との密接な関係を示す。しかし、より高度な縮合のために、窒化ケイ素は、オキソシリコン化合物より高い化学安定性を有する(Xie et al., Sci. Tech. Adv. Mater. 2007,8, 588を参照)。
特に、窒化ケイ素は、活性化体イオン、例えばEu2+およびCe3+でドープするのに適し、ここで励起状態にある少なくとも1個の電子は、結晶場(5sおよび5d)の作用によって遮蔽されない。そのような活性化体は、環境に高度に依存した分光学的特性(対称性、共有結合性、配位、場の強度、結合距離、格子部位の大きさ)を有する。窒素(N3−)の高い形式電荷の結果、酸素(O2−)のより低い形式電荷とは対照的に、上述の活性化体が、類似したSi−O材料における場合よりも、窒化ケイ素における5d軌道の大きい結晶場***を受け、5d軌道のエネルギー中心が、低いエネルギーにシフトすることがもたらされる。活性化体の励起および発光帯は、したがって、スペクトル的な赤方偏移を示す。さらに、窒化ケイ素の、オキソシリコン化合物のものと比較して安定であり、かつ堅い格子の結果、Stokesシフトが低減することがもたらされ、その結果、温度消光が、より高い温度のみにて発生し、変換効率が向上する。
公表されるべき最初の窒化ケイ素蛍光体系は、CaSiN:Eu2+であった(Lim et al. SPIE Vol. 3241, 1997, Photoluminescence of CaSiN2:Euを参照)。この蛍光体は、それが、これらの波長範囲において励起した際に約630nmにて発光を示すため、青色およびUV発光LEDのためのコンバーターとして適する。
EP 1153101およびEP 1238041には、組成(Ca,Sr,Ba)2−xSi:Euを有するいわゆる「2−5−8」窒化ケイ素が記載されている。これらの蛍光体を、近紫外スペクトル領域から青色スペクトル領域まで励起することができ、これは、化学組成に依存してオレンジ色から濃い赤色まで発光することができる。
したがって、本発明の目的は、上述の2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素を、これらの化合物が一層より高い光効率を達成するように改変することにある。
驚くべきことに、(Ca,Sr,Ba)2−xSi:Eu蛍光体の変換効率の経済的に重要なさらなる向上のための要求を、4価および/または1価のカチオンでの同時ドーピング(co-doping)を行う場合に満たすことができることが見出された。
図1は、450nmの励起波長におけるCa1.98Si:Eu0.02および同時ドープされた蛍光体の発光スペクトルを示す。 図2は、より良好な区別のための図1からの詳細な拡大を示す。 図3は、450nmの励起波長におけるSr1.98Si:Eu0.02および同時ドープされた蛍光体の発光スペクトルを示す。 図4は、450nmの励起波長における本発明のBa1.98Si:Eu0.02および同時ドープされた蛍光体の発光スペクトルを示す。 図5は、発光スペクトルのより良好な区別のための、図4からの詳細な拡大を示す。 図6は、a)同時ドープされていない蛍光体、b)0.1%のZrで同時ドープされたCa1.98Si:Eu0.02、c)0.1%のHfで同時ドープされたCa1.98Si:Eu0.02のX線粉末回折パターンを示す。 図7は、a)同時ドープされていない蛍光体、b)0.1%のZrで同時ドープされたSr1.98Si:Eu0.02、c)0.1%のHfで同時ドープされたSr1.98Si:Eu0.02のX線粉末回折パターンを示す。 図8は、a)同時ドープされていない蛍光体、b)0.1%のZrで同時ドープされたBa1.98Si:Eu0.02、c)0.1%のHfで同時ドープされたBa1.98Si:Eu0.02のX線粉末回折パターンを示す。 図9は、蛍光体含有コーティングを有する発光ダイオードの描図を示す。 図10は、白色光のための光源(LED)としての役割を果たすInGaNタイプのCOB(チップオンボード(chip on board))パッケージを示す(1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;7=ボード)。 図11は、白色光のための光源(LED)としての役割を果たすInGaNタイプのCOB(チップオンボード)パッケージを示す(1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;7=ボード)。 図12は、白色光のための光源(LED)としての役割を果たすパッケージを示す(1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=反射体を有する凹部中の変換蛍光体)。 図13は、パッケージを示し、ここで1=ケーシング;2=電気的接続;4=半導体チップであり、レンズの下方の凹部は、本発明の変換蛍光体で完全に満たされている。 図14は、SMDパッケージ(表面実装型パッケージ)を示し、ここで1=ケーシング;2、3=電気的接続;4=変換層である。 図15は、T5パッケージを示し、ここで1=変換蛍光体;2=チップ;3、4=電気的接続;5=透明な樹脂を有するレンズである。 図16は、発光ダイオードの描図を示し、ここで1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;5=ボンドワイヤであり、ここで蛍光体は、バインダー中に最上部の球体として適用されている。 図17は、発光ダイオードの描図を示し、ここで1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;5=ボンドワイヤであり、ここで蛍光体は、バインダー中に分散した薄層として塗布されている。 図18は、原則的にUS-B 6,700,322からすでに知られている、他の用途の例を示す。
したがって、本発明は、ユウロピウムおよび/またはセリウムドーピングを有し、さらにハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウムを同時ドーパントとして含む、2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素型の化合物に関する。
「2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素」(「2−5−8窒化物」または「2−5−8アルカリ土類金属ニトリドシリケート(nitridosilicate)」としても知られている)は、組成物MSi:Eu2+を意味するものと解釈され、ここでMは、アルカリ土類金属または複数種のアルカリ土類金属の混合物を表す。
好ましくは、式I
Ma2-y(Ca,Sr,Ba)1-x-ySi5-zMezN8:EuxCey (I)
式中、
Ma=Li、Naおよび/またはK、
Me=Hf4+および/またはZr4+
x=0.0015〜0.20、
y=0〜0.15
および
z<4である、
で表される化合物である。
z値(同時ドーパントMeの原子濃度を意味する)が<1である場合が好ましく、より好ましくは<0.1、最も好ましくは0.0002〜0.02である。
x=0.005〜0.19およびy=0〜0.08である場合が、好ましい。
本発明の式Iで表される化合物または蛍光体の、同一の組成であるが同時ドーパントHfおよび/またはZrを有しないものと比較しての大きい輝度を、当業者に知られている理論によって、活性化体イオンの励起状態の寿命に対して影響を及ぼすこれらのイオンによって説明することができる:そのような蛍光体の励起された電子は、比較的短い時間の後に蛍光の発光を伴って基底状態に戻る。即ちこれらの電子は、より多くの励起および緩和プロセスを同一の時間間隔において行うことができる(S. Shionoya, W. M. Yen, Phosphor Handbook, CRC Press, New York, 1999, ISBN 0-8493-7560-6を参照)。
Ce3+を用いたEu2+蛍光体の同時活性化によって、Eu2+蛍光体の好ましい特性がもたらされ、蛍光体をより効率的または安定にするのが可能になり得ることは、当業者に知られている。
さらに、これらの同時ドーパントは、それらが窒化ケイ素中に存在する所望されない酸素(これは、輝度または効率の低下およびカラーポイントの移動をもたらす)に結合することができる点で、効率を増大させる効果を有し得る。
本発明の化合物の粒径は、50nm〜30μm、好ましくは1μm〜20μm、より好ましくは2〜15μmである。
1価のイオン、例えばLi、Naおよび/またはKならびにハロゲン化物、例えばFまたはClを、好ましくは本発明の化合物の結晶格子中に組み込むことができる。これらの1価のイオンは、好ましくは蛍光体の調製中にフラックス剤として用いられ、結晶品質を向上させ、粒径および粒子形態を大まかに設定する役割を果たし、したがって蛍光体の効率を向上させる高い可能性を有する。この手順は、当業者に知られている(例えば、H.S. Kang et al. Mater. Science and Engineering B 121 (2005) 81-85を参照)。
さらに、酸素および炭素が、本発明の2−5−8窒化物の結晶格子中に、<0.2at%の含量で存在してもよい。これらの物質が、フラックス剤を用いることによる、または出発物質からの窒化物の構成成分として適することが知られている(Hintzen et al, Chem. Mater. 2005, 17, 3242-48 "Synthese von Me2Si5N8:Eu aus Me-Carbonaten" [Synthesis of Me2Si5N8:Eu from Me carbonates]またはX. Piao et al, Applied Physis Lett. 88, 161908(2006) "Characterisation and luminescence properties of Sr2Si5N8:Eu2+ phosphor for white light-emitting-diode illumination"またはR. Xie et al. Chem. Mater. 2006, 18 (23), 5578-5583 "A simple, efficient synthetic route to SrSiN:Eu-based red phosphors for white LED"を参照)。
また、2−5−8窒化物に、Mn、Mg、Be、Ni、Co、Thおよび/またはRuを同時ドープする、ここでF、OまたはCをさらに、ここで結晶格子中に組み込んでもよい、ことも、考えられる。
本発明はさらに、窒化ケイ素、ユウロピウム、セリウムならびにカルシウムおよび/またはストロンチウムおよび/またはバリウム含有出発物質を、少なくとも1種のハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有同時ドーパントと、固体拡散法によって混合し、その後熱的に後処理することによって得られる化合物に関する。
本発明はさらに、ユウロピウムおよび/またはセリウムドーピングを有する2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素型の化合物の調製のための方法であって、以下のプロセス段階:
・窒化ケイ素、ユウロピウム、セリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウム、カリウム含有材料から選択される少なくとも4種の出発物質を混合することによって、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有材料が同時ドープされた、Euおよび/またはCeがドープされた2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素化合物を調製すること、
・Hfおよび/またはZrで同時ドープされた化合物を熱的に後処理すること
を有する、前記方法に関する。
化合物の調製のための出発物質は、上述のように、窒化ケイ素(Si)、水素化カルシウム、フッ化ユウロピウムおよび/またはフッ化セリウム、ならびに少なくとも1種のHf、Zr、Li、Naおよび/またはK含有同時ドーパントからなる。好ましい窒化物、水素化物およびフッ化物に加えて、好適な出発物質はまた、他の無機および/または有機物質、例えばシアナミド、ジシアナミド、シアン化物、オキサレート、マロネート、フマレート、カーボネート、シトレート、アスコルベートおよびアセチルアセトネートである。
上述の熱的後処理(プロセス段階bを参照)には、例えばフォーミングガス(例えば90/10)、純粋な水素を有する、および/または上述の雰囲気を有する、もしくは有しないアンモニア雰囲気および/または窒素もしくはメタンと窒素との混合物中の還元条件下で、多数時間を要し、ここでこの処置をまた、超大気圧(superatmospheric pressure)にて行うことができる。か焼プロセス中の温度は、1000℃〜1800℃、好ましくは1200℃〜1650℃である。
上述のプロセスを用いることによって、本発明の化合物または蛍光体の任意の所望の外形、例えば球状粒子、薄片および構造化された材料およびセラミックスなどを作製することが可能である。これらの形状を、本発明において用語「成形体」の下で要約する。成形体は、好ましくは「蛍光体素子」である。
したがって、本発明はさらに、SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/またはYまたはそれらの混合酸化物を含むナノ粒子、ならびに/あるいはユウロピウム、セリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウムの系列からのドーパントを有する、または有しない本発明の化合物を含む粒子を担持する粗面を有する、本発明の化合物を含む、成形体に関する。
他の好ましい態様において、成形体は、構造化(例えばピラミッド形の)表面をLEDチップの反対の側に有する(WO 2008/058619, Merckを参照、それは、その全範囲において本出願の文脈中に参照によって組み込まれる)。これによって、可能な限り多くの光が、蛍光体から分離する(coupled out)ことが可能になる。
成形体上の構造化表面は、すでに構造化されている好適な材料でその後コーティングすることによって、または以降の段階において、(フォト)リソグラフィープロセス、エッチングプロセスによって、またはエネルギービームもしくは材料噴流を用いた書き込みプロセスまたは機械的力の作用によって作成される。
他の好ましい態様において、本発明の成形体は、LEDチップの反対の側に、SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはこれらの材料の組み合わせを含むナノ粒子、ならびに/あるいはMn、Mg、Be、Ni、Co、Thおよび/またはRuの系列からのドーパントを有するかまたは有しない、式Iで表される蛍光体組成を有する粒子を担持する粗面を有する。ここでの粗面は、数100nmまでの粗さを有する。被覆された表面は、内部全反射を低減するかまたは防止することができ、光が本発明の蛍光体からより良好に分離することができるという利点を有する(WO 2008/058619 (Merck)を参照。それは、その全範囲において本出願の文脈中に参照によって組み込まれる。)
本発明の成形体が、チップから外方に向く表面上に、一次放射線および/または蛍光体素子によって発せられる放射線の分離を単純化する整合された屈折率の層を有するのが、さらに好ましい。
さらに好ましい態様において、成形体は、SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはそれらの混合酸化物からなる、ならびに/あるいは活性化体ユウロピウムおよび/またはセリウムを含まない、式Iで表される化合物からなる連続的表面コーティングを有する。この表面コーティングは、コーティング材料の屈折率の好適な漸変よって、屈折率を環境と整合させるのが可能になるという利点を有する。この場合において、蛍光体の表面における光の散乱が低減され、より大きい比率の光が、蛍光体中に浸透し、そこで吸収され、変換されることができる。さらに、整合された屈折率を有する表面コーティングによって、内部全反射が低減されるため、より多くの光が蛍光体から分離することが可能になる。
さらに、蛍光体をカプセル封入しなければならない場合には、連続層は有利である。これは、蛍光体またはその一部の、水または他の材料が周囲の環境において拡散することについての感度に対抗するために必要であり得る。閉じた覆いを用いて封入するさらなる理由は、チップにおいて生じる熱からの実際の蛍光体の熱的分断である。この熱の結果、蛍光体の蛍光収率が低減し、また蛍光の色に影響し得る。最後に、このタイプのコーティングによって、蛍光体の効率を、蛍光体において生じる格子振動が環境中に伝播することを防止することによって上昇させることが可能になる。
さらに、成形体が、SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはそれらの混合酸化物から、ならびに/あるいはEu、Ce、Hf、Zr、Li、Naおよび/もしくはKの系列からのドーパントを有するかまたは有しない式Iで表される化合物からなる多孔性表面コーティングを有するのが、好ましい。これらの多孔性コーティングは、単一の層の屈折率をさらに低減させる可能性を提供する。このタイプの多孔性コーティングを、WO 03/027015に記載されている3種の慣用の方法によって製造することができ、それは、その全範囲において本出願の文脈中に参照によって組み込まれる:ガラス(例えばソーダ石灰ガラス(US 4019884を参照))のエッチング、多孔質層の適用および多孔質層とエッチングプロセスとの組み合わせ。
他の好ましい態様において、成形体は、好ましくはエポキシまたはシリコーン樹脂からなる、環境への化学的または物理的結合を促進する官能基を担持する表面を有する。これらの官能基は、例えばエポキシドおよび/またはシリコーンをベースとする結合剤の構成要素への結合を形成することが可能であるオキソ基を介して結合した、エステルまたは他の誘導体であり得る。このタイプの表面は、蛍光体の結合剤中への均一な混合が促進されるという利点を有する。さらに、蛍光体/結合剤系の流動学的特性およびまたポットライフを、したがってある程度調整することができる。混合のプロセスは、このように単純化される。この文脈における環境への物理的結合は、電荷ゆらぎまたは部分電荷を介した系間の静電相互作用を意味するものと解釈される。
LEDチップに適用される本発明の蛍光体層が、好ましくはシリコーンおよび均一な蛍光体粒子の混合物からなり、かつ、シリコーンが表面張力を有するため、この蛍光体層は、微視的レベルにて均一ではなく、または層の厚さは、完全に一定ではない。
他の好ましい態様として、薄片形態の蛍光体を、慣用のプロセスによって、対応する金属および/または希土類塩から調製する。調製プロセスは、EP 763573およびWO2008/058620に詳細に記載されており、それは、その全範囲において本出願の文脈中に参照によって組み込まれる。これらの薄片形態の蛍光体は、例えば極めて大きいアスペクト比、原子的に平滑な表面および調整可能な厚さを有する雲母薄片、SiO薄片、Al薄片、ZrO薄片、ガラス薄片またはTiO薄片を含む、天然の、または合成的に生成した、高度に安定な担体または支持体を、蛍光体層で、水分散体または懸濁液中で沈殿反応によって被覆することによって、調製することができる。
雲母、ZrO、SiO、Al、ガラスもしくはTiOまたはそれらの混合物に加えて、薄片はまた、蛍光体材料自体からなるか、または材料から構築され得る。薄片自体が、単に蛍光体コーティングのための担体としての役割を果たす場合には、後者は、LEDからの一次放射線に対して透明であるか、または一次放射線を吸収し、このエネルギーを蛍光体層に伝達する材料からならなければならない。薄片形態の蛍光体を、樹脂(例えばシリコーンまたはエポキシ樹脂)中に分散させ、この分散体を、LEDチップに適用する。
薄片形態の蛍光体を、工業的大規模で、50nm〜約20μm、好ましくは150nm〜5μmの厚さにおいて調製することができる。ここでの直径は、50nm〜20μmである。
これらは一般的に、1:1〜400:1、特に3:1〜100:1のアスペクト比(直径対粒子の厚さの比)を有する。
薄片の大きさ(長さ×幅)は、配置に依存する。薄片はまた、特にそれらが特に小さい寸法を有する場合には、変換層内の散乱の中心として適する。
LEDチップに面する本発明の薄片形態の蛍光体の表面に、LEDチップによって発せられた一次放射線に関する反射低減作用を有するコーティングを設けることができる。この結果、一次放射線の後方散乱の低減がもたらされ、本発明の蛍光体素子中への後者の結合が促進される。
この目的のために適するのは、例えば、以下の厚さd:d=[LEDチップからの一次放射線の波長/(4*蛍光体セラミックスの屈折率)]を有しなければならない、屈折率を整合させたコーティングである。例えばGerthsen, Physik [Physics], Springer Verlag, 第18版、1995を参照。このコーティングはまた、フォトニック結晶からなっていてもよく、それはまた、特定の機能を達成するために薄片形態の蛍光体の表面を構造化することを包含する。
セラミックス素子の形態の本発明の成形体の製造は、WO 2008/017353 (Merck)に記載されているプロセスと同様にして行われ、それは、その全範囲において本出願の文脈中に参照によって組み込まれる。本明細書中での蛍光体は、対応する出発物質およびドーパントを混合し、その後当該混合物をアイソスタティックに圧縮し、均一であり、薄く、非孔質の薄片の形態での当該混合物をチップの表面に直接、またはチップからある距離にて(遠隔蛍光体概念)適用することによって調製する。それぞれの配置は、とりわけLEDデバイスの構造に依存し、当業者は、有利な配置を選択することが可能である。
蛍光体の励起および蛍光体からの発光の位置依存性変化は、したがって発生せず、それを用いて提供されたLEDが、恒常的な色の均一な光円錐を発して、高い発光力を有することをもたらす。セラミックス蛍光体素子を、工業的大規模で、例えば数100nm〜約500μmの厚さにおける薄片として製造することができる。薄片の大きさ(長さ×幅)は、配置に依存する。チップに直接適用する場合において、薄片の寸法を、好適なチップ配置(例えばフリップチップ配置)の場合においてチップ表面の約10%〜30%の特定の余分な寸法とともにチップの寸法(約100μm*100μm〜数mm)に従って、または相応に選択しなければならない。蛍光体薄片を完成したLEDの最上部上に設置する場合には、発せられた光円錐のすべては、薄片に達する。
セラミックス蛍光体素子の側面を、軽金属または貴金属、好ましくはアルミニウムまたは銀で金属化することができる。金属化は、光が蛍光体素子から横方向に出ないという効果を有する。横方向に出る光は、LEDから分離するべき光束を低減し得る。セラミックス蛍光体素子の金属化を、棒または薄片を得るためのアイソスタティックに圧縮した後のプロセス段階において行い、ここで、所望により、棒または薄片を、金属化の前に必要な大きさに切断することができる。このために、側面を、例えば硝酸銀およびグルコースの溶液で湿潤させ、その後アンモニア雰囲気に高温にて曝露する。この操作の間、銀コーティングが、例えば側面上に形成する。
あるいはまた、無電解金属化プロセスが好適である。例えば、Hollemann-Wiberg, Lehrbuch der Anorganischen Chemie [Textbook of Inorganic Chemistry], Walter de Gruyter VerlagまたはUllmanns Enzyklopaedie der chemischen Technologie [Ullmann's Encyclopaedia of Chemical Technology]を参照。
セラミックス蛍光体素子を、必要に応じて、LEDチップの支持体に、水ガラス溶液を用いて固定することができる。
他の態様において、セラミックス蛍光体素子は、LEDチップの反対の側上に構造化(例えばピラミッド形の)表面を有する。これによって、可能な限り多くの光が蛍光体素子から分離するのが可能になる。蛍光体素子上の構造化表面を、構造化されたプレスプレートを有する型を用いてアイソスタティック圧縮を行い、したがって構造を表面中にエンボス加工することによって、作成する。構造化表面は、目的が最も薄い可能な蛍光体素子または薄片を製造することにある場合に所望される。圧縮条件は、当業者に知られている(J. Kriegsmann, Technische keramische Werkstoffe [Industrial Ceramic Materials], 第4章、Deutscher Wirtschaftsdienst, 1998を参照)。用いる圧縮温度が圧縮されるべき物質の融点の2/3〜5/6であるのが、重要である。
本発明はさらに、成形体、好ましくは蛍光体素子の製造のための方法であって、以下のプロセス段階:
a)窒化ケイ素、ユウロピウム、セリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有材料から選択される少なくとも4種の出発物質を混合することによって、ハフニウムおよび/またはジルコニウム含有材料が同時ドープされた、ユウロピウムがドープされた2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素化合物を調製すること、
b)同時ドープされた化合物を熱的に後処理し、粗面を有する成形体を形成すること、
c)粗面を、SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはそれらの混合酸化物を含むナノ粒子で、あるいは本発明の化合物を含むナノ粒子で被覆すること
を有する、前記方法に関する。
さらに、本発明の蛍光体を、約250nm〜530nm、好ましくは430nm〜約500nmに及ぶ広範囲にわたり励起することができる。したがって、これらの蛍光体は、UVまたは青色発光一次光源による励起、例えばLED、または慣用の放電ランプ(例えばHgをベースとする)に適するのみならず、451nmにおける青色In3+線を利用するもののような光源にも適する。
本発明はさらに、少なくとも1つの一次光源を有する照明単位であって、発光極大(1または2以上)が、250nm〜530nm、好ましくは430nm〜約500nmの範囲内にある、前記照明単位に関する。特に好ましいのは、440〜480nmの範囲であり、ここで一次放射線は、本発明の化合物または蛍光体によって、より長い波長の放射線に部分的に、または完全に変換される。この照明単位は、好ましくは白色光を発するか、または特定のカラーポイントを有する光を発する(カラーオンデマンド原理)。本発明の照明単位の好ましい態様を、図9〜20に図示する。
本発明の照明単位の好ましい態様において、光源は、特に式InGaAlNで表され、式中0≦i、0≦j、0≦kであり、i+j+k=1である、発光性窒化インジウムアルミニウムガリウムである。
このタイプの光源の可能な形態は、当業者に知られている。それらは、種々の構造を有する発光LEDチップであり得る。
本発明の照明単位の他の好ましい態様において、光源は、ZnO、TCO(透明な導電性酸化物)、ZnSeもしくはSiCをベースとする発光配置、または有機発光配置(OLED)である。
本発明の照明単位の他の好ましい態様において、光源は、エレクトロルミネセンスおよび/またはフォトルミネセンスを示す源である。光源はさらにまた、プラズマ源または放電源であり得る。
本発明の蛍光体を、樹脂(例えばエポキシもしくはシリコーン樹脂)中に分散させるか、または好適な大きさの比率の場合には、一次光源上に直接配置するか、または用途に依存して、そこから離れて配置することができる(後者の配置はまた、「遠隔蛍光体技術」を含む)。遠隔蛍光体技術の利点は、当業者に知られており、例えば以下の刊行物中で公開されている:Japanese Journ. of Appl. Phys. Vol. 44, No. 21 (2005). L649-L651。
他の態様において、蛍光体と一次光源との間の照明単位の光結合を、光伝導配置によって達成するのが好ましい。これによって、一次光源を中央の位置に設置し、蛍光体に光伝導性デバイス、例えば光伝導性ファイバーによって光学的に結合させることが可能になる。このようにして、光スクリーンを形成するために配置され得る、照明の要請に適合し、単に1種または種々の蛍光体からなるランプ、および一次光源に結合する光伝導体を、達成することができる。このようにして、強力な一次光源を、電気的設置に好ましい位置に位置させ、光伝導体に結合した蛍光体を含むランプを、さらなる電気的配線を伴わずに、しかし代わりに単に光伝導体を取り付けることによって、任意の所望の位置に設置することが可能である。
本発明はさらに、本発明の化合物および成形体の、蛍光体または蛍光体素子としての使用に関する。
本発明はさらに、本発明の化合物の、発光ダイオードからの青色または近紫外線発光の部分的な、または完全な変換のための使用に関する。
本発明の化合物を、さらに好ましくは、青色または近紫外線発光を可視白色放射線に変換するために用いる。本発明の化合物を、さらに好ましくは、一次放射線を特定のカラーポイントに「カラーオンデマンド」概念に従って変換するために用いる。
本発明の式Iで表される化合物を、個別に、または当業者に精通されている以下の蛍光体との混合物として用いることができる:
以下の例は、本発明を例示することを意図する。しかし、それらを、いかなる方法においても限定的であると見なすべきではない。組成物において用いることができるすべての化合物または構成成分は、知られており、商業的に入手できるか、または既知の方法によって合成することができる。例において示す温度を、常に℃で示す。さらに、記載において、およびまた例において、組成物中の構成成分の添加量は常に、合計100%まで加えられることは、言うまでもない。示した百分率データは、常に示した関連性において考慮されるべきである。しかし、それらは通常、常に、示した部分的量または合計量の重量に関する。

1.同時ドープされたCaSi:Eu(2%および10%のEuを含む)の調製
例1a:参照蛍光体としてのCaSi:Eu(2%)の調製
2.8730gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、0.2479gのEuF(ChemPur、99.9%)および6.9356gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例1b:0.1%のHfで同時ドープされたCaSi:Eu(2%)の調製
2.4428gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、0.2477gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0151gのHfF(Alfa Aesar、99.9%)および6.9299gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例1c:0.1%のZrで同時ドープされたCaSi:Eu(2%)の調製
2.4441gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、0.2479gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0099gのZrF(Alfa Aesar、98%)および6.9335gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例1d:参照蛍光体としてのCaSi:Eu(10%)の調製
2.1342gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、1.1772gのEuF(ChemPur、99.9%)および6.5858gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例1e:0.1%のHfで同時ドープされたCaSi:Eu2+(10%)の調製:
2.1302gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、1.1762gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0143gのHfF(Alfa Aesar、99.9%)および6.5807gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例1f:0.1%のZrで同時ドープされたCaSi:Eu2+(10%)の調製
2.1312gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、1.1768gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0094gのZrF(Alfa Aesar、99.9%)および6.5839gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
2.同時ドープされたSrSi:Eu(2%のEuを含む)の調製
例2a:参照蛍光体としてのSrSi:Eu(2%)の調製
4.4164gのSr、0.1942gのEuF(ChemPur、99.9%)および5.4337gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例2b:0.1%のHfで同時ドープされたSrSi:Eu(2%)の調製
4.4100gのSr、0.1942gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0118gのHfF(Alfa Aesar、99.9%)および5.4314gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例2c:0.1%のZrで同時ドープされたSrSi:Eu(2%)の調製
4.4118gのSr、0.1942gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0078gのZrF(Alfa Aesar、99.9%)および5.4336gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
3.同時ドープされたBaSi:Eu(2%のEuを含む)の調製
例3a:参照蛍光体としてのBaSi:Eu(2%)の調製
5.4472gのBa、0.1584gのEuF(ChemPur、99.9%)および4.4305gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例3b:0.1%のHfで同時ドープされたBaSi:Eu(2%)の調製
5.4408gのBa、0.1584gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0096gのHfF(Alfa Aesar、99.9%)および4.4298gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例3c:0.1%のZrで同時ドープされたBaSi:Eu(2%)の調製
5.4426gのBa、0.1584gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0063gのZrF(Alfa Aesar、99.9%)および4.4313gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例4:0.1%のZrで同時ドープされたNaCa0.98Zr0.001Si4.999:Eu0.02(2%のEuを含む)の調製
0.81469gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、0.9288gのNaH(95%、Sigma Aldrich)、0.2479gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.0099gのZrF(Alfa Aesar、98%)および6.9335gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
例5:0.1%のZrで同時ドープされたNa1.99Ca0.97Zr0.001Si4.999:Eu0.02Ce0.01(2%のEuおよび1%のCeを含む)の調製
0.7897gのCaH(Alfa Aesar、99.8%)、0.9146gのNaH(95%、Sigma Aldrich)、0.2479gのEuF(ChemPur、99.9%)、0.1169gのCeF(ChemPur、99.9%)、0.0099gのZrF(Alfa Aesar、98%)および6.9335gのSi(UBE、99.99%)を、酸素および湿気を排除してグローブボックス中で互いに密に混合し、その後、モリブデンで内側を被覆したコランダムるつぼ中に移送する。るつぼを、次にフォーミングガス(N/H=90/10)を流した管状炉中に移送し、炉を閉鎖した後に、1400℃にて14時間か焼する。最後に、得られた焼結ケークを粉砕し、ふるい分けし、分級する。
図面の説明
本発明を、多数の作業例を参照して以下にさらに詳細に説明し、ここで:
図1は、450nmの励起波長におけるCa1.98Si:Eu0.02および同時ドープされた蛍光体の発光スペクトルを示す。ここで、
a)は、同時ドープされていない蛍光体を示し、
b)は、0.1%のZrで同時ドープされたCa1.98Si:Eu0.02を示し、
c)は、0.1%のHfで同時ドープされたCa1.98Si:Eu0.02を示す。
図2は、より良好な区別のための図1からの詳細な拡大を示す。b)およびc)の発光スペクトルは、ほぼ同一である。
図3は、450nmの励起波長におけるSr1.98Si:Eu0.02および同時ドープされた蛍光体の発光スペクトルを示す。ここで、
a)は、同時ドープされていない蛍光体を示し、
b)は、0.1%のZrで同時ドープされたSr1.98Si:Eu0.02を示し、
c)は、0.1%のHfで同時ドープされたSr1.98Si:Eu0.02を示す。
図4は、450nmの励起波長における本発明のBa1.98Si:Eu0.02および同時ドープされた蛍光体の発光スペクトルを示す。a)は、同時ドープされていない蛍光体を示し、b)は、0.1%のZrで同時ドープされたBa1.98Si:Eu0.02を示し、c)は、0.1%のHfで同時ドープされたBa1.98Si:Eu0.02を示す。
図5は、発光スペクトルのより良好な区別のための、図4からの詳細な拡大を示す。
図6は、a)同時ドープされていない蛍光体、b)0.1%のZrで同時ドープされたCa1.98Si:Eu0.02、c)0.1%のHfで同時ドープされたCa1.98Si:Eu0.02のX線粉末回折パターンを示す。
図7は、a)同時ドープされていない蛍光体、b)0.1%のZrで同時ドープされたSr1.98Si:Eu0.02、c)0.1%のHfで同時ドープされたSr1.98Si:Eu0.02のX線粉末回折パターンを示す。
図8は、a)同時ドープされていない蛍光体、b)0.1%のZrで同時ドープされたBa1.98Si:Eu0.02、c)0.1%のHfで同時ドープされたBa1.98Si:Eu0.02のX線粉末回折パターンを示す。
図9は、蛍光体含有コーティングを有する発光ダイオードの描図を示す。当該素子は、チップ状LED1を放射線源として含む。LEDは、調整フレーム2によって保持されるカップ形状の反射体中に搭載されている。チップ1は、平坦なケーブル7を介して第1の接点6に、および直接第2の電気的接点6’に接続されている。本発明の変換蛍光体を含むコーティングは、反射体カップの内部の湾曲に塗布されている。蛍光体を、互いに別個に、または混合物として用いる。(部(part)の番号のリスト:1 発光ダイオード、2 反射体、3 樹脂、4 変換蛍光体、5 拡散体、6 電極、7 平坦なケーブル)
図10は、白色光のための光源(LED)としての役割を果たすInGaNタイプのCOB(チップオンボード(chip on board))パッケージを示す(1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;7=ボード)。蛍光体は、バインダーレンズ中に分散しており、それは同時に二次光学素子を意味し、発光特性にレンズとして影響を与える。
図11は、白色光のための光源(LED)としての役割を果たすInGaNタイプのCOB(チップオンボード)パッケージを示す(1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;7=ボード)。蛍光体は、LEDチップ上に直接分布する薄いバインダー層中に位置する。透明な材料からなる二次光学素子を、その上に配置することができる。
図12は、白色光のための光源(LED)としての役割を果たすパッケージを示す(1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=反射体を有する凹部中の変換蛍光体)。変換蛍光体は、バインダー中に分散しており、混合物は、凹部を満たす。
図13は、パッケージを示し、ここで1=ケーシング;2=電気的接続;4=半導体チップであり、レンズの下方の凹部は、本発明の変換蛍光体で完全に満たされている。このパッケージは、より多い量の変換蛍光体を用いることができるという利点を有する。これはまた、遠隔蛍光体としての役割を果たすことができる。
図14は、SMDパッケージ(表面実装型パッケージ)を示し、ここで1=ケーシング;2、3=電気的接続;4=変換層である。半導体チップは、本発明の蛍光体で完全に覆われている。SMD設計は、それが小さい物理的形状を有し、したがって慣用のランプに適合するという利点を有する。
図15は、T5パッケージを示し、ここで1=変換蛍光体;2=チップ;3、4=電気的接続;5=透明な樹脂を有するレンズである。変換蛍光体は、LEDチップの背面上に位置し、それは、蛍光体が金属接続を介して冷却されるという利点を有する。
図16は、発光ダイオードの描図を示し、ここで1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;5=ボンドワイヤであり、ここで蛍光体は、バインダー中に最上部の球体として適用されている。蛍光体/バインダー層のこの形態は、二次的光学素子としての役割を果たすことができ、例えば光伝播に影響し得る。
図17は、発光ダイオードの描図を示し、ここで1=半導体チップ;2、3=電気的接続;4=変換蛍光体;5=ボンドワイヤであり、ここで蛍光体は、バインダー中に分散した薄層として塗布されている。二次的光学素子、例えばレンズとしての役割を果たす他の部品を、この層に容易に適用することができる。
図18は、原則的にUS-B 6,700,322からすでに知られている、他の用途の例を示す。本発明の蛍光体を、ここでOLEDと共に用いる。光源は、現行の有機フィルム30および透明な支持体32からなる有機発光ダイオード31である。フィルム30は、例えばPVK:PBD:クマリン(PVK、ポリ(n−ビニルカルバゾール)の省略形;PBD、2−(4−ビフェニル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールの省略形)によって作成された、特に青色の一次光を発する。発光は、本発明の蛍光体の層33から形成された被覆層によって、黄色の二次的に発せられた光に部分的に変換され、したがって白色発光が、一次的に、および二次的に発せられた光の色混合によって全体的に達成される。
OLEDは本質的に、自体公知の材料、例えばアノードとしてのITO(酸化インジウムスズの省略形)およびカソードとしての高度に反応性の金属、例えばBaまたはCaからなる2つの電極間の、発光ポリマーまたはいわゆる小分子の少なくとも1つの層からなる。正孔輸送層としての、または小分子の領域においてまた電子輸送層としてのいずれかの役割を果たす複数の層をまた、しばしば電極間で用いる。用いる発光ポリマーは、例えばポリフルオレンまたはポリスピロ材料である。

Claims (18)

  1. ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウムを同時ドーパントとして付加的に含む、ユウロピウムおよび/またはセリウムドーピングを有する2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素型の化合物。
  2. 式I
    Ma2-y(Ca,Sr,Ba)1-x-ySi5-zMezN8:EuxCey (I)
    式中、
    Ma=Li、Naおよび/またはK、
    Me=Hf4+および/またはZr4+
    x=0.0015〜0.20および
    y=0〜0.15、
    z<4である、
    で表されることを特徴とする、請求項1に記載の化合物。
  3. z<1、好ましくはz<0.1、より好ましくはz=0.0002〜0.02であることを特徴とする、請求項1または2に記載の化合物。
  4. 窒化ケイ素、ユウロピウム、セリウムおよびカルシウムおよび/またはストロンチウムおよび/またはバリウム含有出発物質を、少なくとも1種のハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有同時ドーパントと、固体拡散法によって混合し、その後熱的に後処理することによって得られる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の化合物。
  5. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物の調製のための方法であって、以下のプロセス段階:
    a)窒化ケイ素、ユウロピウム、セリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有材料から選択される少なくとも4種の出発物質を混合することによって、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有材料が同時ドープされ、ユウロピウムおよび/またはセリウムがドープされた2−5−8アルカリ土類金属窒化ケイ素化合物を調製すること、
    b)同時ドープされた化合物を熱的に後処理すること
    を有する、前記方法。
  6. SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはそれらの混合酸化物を含むナノ粒子、ならびに/あるいはユウロピウム、セリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/もしくはカリウムの系列からのドーパントを有する、または有しない請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物を含む粒子を担持する粗面を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物を含む成形体。
  7. SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはそれらの混合酸化物、ならびに/あるいは活性化体ユウロピウムを有しない請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物からなる連続的表面コーティングを有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物を含む成形体。
  8. SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはそれらの混合酸化物、ならびに/あるいはユウロピウム、セリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/もしくはカリウムの系列からのドーパントを有する、または有しない請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物からなる多孔性の表面コーティングを有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物を含む成形体。
  9. 表面が、好ましくはエポキシまたはシリコーン樹脂からなる、環境への化学的または物理的結合を促進する官能基を担持することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物を含む成形体。
  10. 請求項6〜9のいずれか一項に記載の成形体の製造のための方法であって、以下のプロセス段階:
    a)窒化ケイ素、ユウロピウム、セリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ハフニウム、ジルコニウム、リチウム、ナトリウムおよび/またはカリウム含有材料から選択される少なくとも4種の出発物質を混合することによって、ハフニウムおよび/またはジルコニウム含有材料が同時ドープされ、2−5−8ユウロピウムドープアルカリ土類金属窒化ケイ素化合物を調製すること、
    b)同時ドープされた化合物を熱的に後処理し、粗面を有する成形体を形成すること、
    c)粗面を、SiO、TiO、Al、ZnO、ZrOおよび/もしくはYまたはその混合酸化物を含むナノ粒子で、あるいはドーパントを有する、または有しない請求項1〜4のいずれか一項に記載の化合物を含むナノ粒子で被覆すること
    を有する、前記方法。
  11. 発光極大が250nm〜530nm、好ましくは390nm〜480nmの範囲内にある少なくとも1つの一次光源を有し、ここでこの放射線が、請求項1〜10のいずれか一項に記載の化合物または成形体によって、より長い波長の放射線に部分的にまたは完全に変換される、照明単位。
  12. 光源が、特に式InGaAlNで表され、式中0≦i、0≦j、0≦kであり、i+j+k=1である発光性窒化インジウムアルミニウムガリウムまたはZnO、TCO(透明な導電性酸化物)、ZnSeもしくはSiCをベースとする発光化合物であることを特徴とする、請求項11に記載の照明単位。
  13. 光源が有機発光配置またはプラズマもしくは放電ランプであることを特徴とする、請求項11に記載の照明単位。
  14. 蛍光体が一次光源上に直接、および/またはそこから離れて配置されていることを特徴とする、請求項11〜13のいずれか一項に記載の照明単位。
  15. 蛍光体と一次光源との間の光結合が、光伝導配置によって達成されることを特徴とする、請求項11〜14のいずれか一項に記載の照明単位。
  16. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の少なくとも1種の化合物の、蛍光体または、発光ダイオードからの青色もしくは紫外線発光を部分的に、もしくは完全に変換するための変換蛍光体としての使用。
  17. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の少なくとも1種の化合物の、一次放射線を特定のカラーポイントに、カラーオンデマンド概念に従って変換するための変換蛍光体としての使用。
  18. 請求項6〜9のいずれか一項に記載の成形体の、蛍光体素子としての使用。
JP2011551427A 2009-02-27 2010-02-01 ジルコニウムおよびハフニウムで同時ドープされたニトリドシリケート Pending JP2012519216A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009010705.3 2009-02-27
DE102009010705A DE102009010705A1 (de) 2009-02-27 2009-02-27 Co-dotierte 2-5-8 Nitride
PCT/EP2010/000592 WO2010097157A1 (de) 2009-02-27 2010-02-01 Mit zirkonium und hafnium co-dotierte nitridosilikate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012519216A true JP2012519216A (ja) 2012-08-23

Family

ID=42062329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011551427A Pending JP2012519216A (ja) 2009-02-27 2010-02-01 ジルコニウムおよびハフニウムで同時ドープされたニトリドシリケート

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9028716B2 (ja)
EP (1) EP2401342B1 (ja)
JP (1) JP2012519216A (ja)
KR (1) KR20110126725A (ja)
CN (1) CN102333844B (ja)
DE (1) DE102009010705A1 (ja)
SG (1) SG173767A1 (ja)
TW (1) TWI464240B (ja)
WO (1) WO2010097157A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016507605A (ja) * 2012-12-21 2016-03-10 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 蛍光体
JP2017055093A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社東芝 半導体発光装置
JP2018503980A (ja) * 2014-12-24 2018-02-08 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 蛍光体変換led
JP2018109123A (ja) * 2017-01-05 2018-07-12 太平洋セメント株式会社 蛍光体の製造法

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011111293A1 (ja) * 2010-03-10 2011-09-15 パナソニック株式会社 Led封止樹脂体、led装置およびled装置の製造方法
SG185404A1 (en) * 2010-05-14 2012-12-28 Lightscape Materials Inc Carbonitride based phosphors and light emitting devices using the same
DE102010041236A1 (de) * 2010-09-23 2012-03-29 Osram Ag Optoelektronisches Halbleiterbauelement
US8329484B2 (en) * 2010-11-02 2012-12-11 Tsmc Solid State Lighting Ltd. Phosphor with Ce3+/Ce3+, Li+ doped luminescent materials
KR101772588B1 (ko) 2011-08-22 2017-09-13 한국전자통신연구원 클리어 컴파운드 에폭시로 몰딩한 mit 소자 및 그것을 포함하는 화재 감지 장치
JP6083049B2 (ja) * 2012-02-09 2017-02-22 デンカ株式会社 蛍光体及び発光装置
DE102012101920A1 (de) * 2012-03-07 2013-09-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement
US9938460B2 (en) * 2012-04-02 2018-04-10 National Taiwan University Phosphor, light emitting apparatus and method of forming phosphor
CN103375708B (zh) * 2012-04-26 2015-10-28 展晶科技(深圳)有限公司 发光二极管灯源装置
DE102012213467B4 (de) * 2012-07-31 2023-12-07 Coretronic Corporation Vorrichtung zum bereitstellen elektromagnetischer strahlung
TWI448538B (zh) 2012-10-23 2014-08-11 Ind Tech Res Inst 螢光材料與紫外光發光裝置
CN104870604A (zh) * 2012-12-21 2015-08-26 默克专利有限公司 发光物质
JP5783302B2 (ja) 2013-07-03 2015-09-24 日亜化学工業株式会社 フッ化物蛍光体及びそれを用いた発光装置並びに蛍光体の製造方法
CN104232087A (zh) * 2014-08-11 2014-12-24 北京大学工学院包头研究院 一种荧光材料及其制备方法和应用
CN104371712A (zh) * 2014-11-03 2015-02-25 天津理工大学 一种钙基氮化物红色荧光粉的常压制备方法
CN105062480B (zh) * 2015-08-21 2017-06-27 佛山市南海区联合广东新光源产业创新中心 多波长激发的高性能红色荧光粉及其制备方法
US10711192B2 (en) 2016-08-12 2020-07-14 Osram Oled Gmbh Lighting device
US10644206B2 (en) 2016-08-12 2020-05-05 Osram Oled Gmbh Lighting device
CN109642155B (zh) 2016-08-12 2023-04-07 欧司朗光电半导体有限公司 照明设备
WO2018087304A1 (de) 2016-11-11 2018-05-17 Osram Gmbh Leuchtstoff, beleuchtungsvorrichtung und verwendung einer beleuchtungsvorrichtung
DE102016121692A1 (de) * 2016-08-12 2018-02-15 Osram Gmbh Leuchtstoff und Verfahren zur Herstellung eines Leuchtstoffs
JP7050774B2 (ja) 2016-11-11 2022-04-08 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 蛍光体、照明装置および照明装置の使用
WO2019029849A1 (de) 2016-11-11 2019-02-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Dimmbare lichtquelle
TWI629339B (zh) * 2017-06-16 2018-07-11 信源陶磁股份有限公司 製備氮化物螢光體的方法
KR102359594B1 (ko) * 2017-09-19 2022-02-07 엘지디스플레이 주식회사 복합 무기 발광 재료, 발광 필름, 이를 포함하는 엘이디 패키지, 발광다이오드 및 발광장치
US10720554B2 (en) * 2017-09-20 2020-07-21 General Electric Company Green-emitting phosphors and devices thereof
DE102018205464A1 (de) 2017-11-10 2019-05-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Beleuchtungsvorrichtung und verwendung einer beleuchtungsvorrichtung
CN109370587B (zh) * 2018-09-06 2019-10-29 旭宇光电(深圳)股份有限公司 氮化物近红外荧光材料、含有氮化物近红外荧光材料的发光装置
CN110893339A (zh) * 2018-09-12 2020-03-20 华东理工大学 一种钼基耐硫甲烷化催化剂及其制备方法与应用
EP3943445A1 (en) * 2020-07-21 2022-01-26 Karlsruher Institut für Technologie Bulk materials of doped multinary nitrides and nitridosilicates, their production method and uses
CN115772403B (zh) * 2022-12-06 2023-09-29 广州医科大学 一类铬铥共掺杂蓝紫光转窄谱近红外荧光材料及其制备与应用
CN116042218A (zh) * 2023-01-19 2023-05-02 威海市泓淋电力技术股份有限公司 一种Bi3+和Pr3+共掺杂锗酸盐LiYGeO4光激励发光材料及其制备方法
CN117801820A (zh) * 2023-12-28 2024-04-02 广州珠江光电新材料有限公司 一种红色长余辉材料及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004182780A (ja) * 2002-11-29 2004-07-02 Nichia Chem Ind Ltd 窒化物蛍光体及びそれを用いた発光装置
US20070040502A1 (en) * 2004-04-20 2007-02-22 Gelcore Llc High CRI LED lamps utilizing single phosphor
WO2008017353A1 (de) * 2006-08-11 2008-02-14 Merck Patent Gmbh Led-konversionsleuchtstoffe in form von keramischen körpern
WO2008122332A1 (de) * 2007-04-04 2008-10-16 Merck Patent Gmbh Verfahren zur herstellung von leuchtstoffen bestehend aus orthosilikaten für pcleds

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4019884A (en) 1976-01-22 1977-04-26 Corning Glass Works Method for providing porous broad-band antireflective surface layers on chemically-durable borosilicate glasses
JP3242561B2 (ja) 1995-09-14 2001-12-25 メルク・ジヤパン株式会社 薄片状酸化アルミニウム、真珠光沢顔料及びその製造方法
EP1104799A1 (en) 1999-11-30 2001-06-06 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Red emitting luminescent material
US6700322B1 (en) 2000-01-27 2004-03-02 General Electric Company Light source with organic layer and photoluminescent layer
DE50210518D1 (de) 2001-09-21 2007-08-30 Merck Patent Gmbh Neuartiges hybrid-sol zur herstellung abriebfester sio 2 antireflexschichten
KR100961342B1 (ko) 2002-03-22 2010-06-04 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 질화물 형광체와 그 제조 방법 및 발광 장치
US7511411B2 (en) * 2002-11-08 2009-03-31 Nichia Corporation Light emitting device, phosphor, and method for preparing phosphor
JP3837588B2 (ja) * 2003-11-26 2006-10-25 独立行政法人物質・材料研究機構 蛍光体と蛍光体を用いた発光器具
DE10360546A1 (de) 2003-12-22 2005-07-14 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Leuchtstoff und Lichtquelle mit derartigem Leuchtstoff
US7229573B2 (en) 2004-04-20 2007-06-12 Gelcore, Llc Ce3+ and Eu2+ doped phosphors for light generation
JP5081370B2 (ja) 2004-08-31 2012-11-28 日亜化学工業株式会社 発光装置
US7579765B2 (en) 2006-10-06 2009-08-25 Nemoto & Company, Ltd. Orange-emitting phosphor
DE102006054330A1 (de) 2006-11-17 2008-05-21 Merck Patent Gmbh Leuchtstoffplättchen für LEDs aus strukturierten Folien
DE102006054331A1 (de) 2006-11-17 2008-05-21 Merck Patent Gmbh Leuchtstoffkörper basierend auf plättchenförmigen Substraten

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004182780A (ja) * 2002-11-29 2004-07-02 Nichia Chem Ind Ltd 窒化物蛍光体及びそれを用いた発光装置
US20070040502A1 (en) * 2004-04-20 2007-02-22 Gelcore Llc High CRI LED lamps utilizing single phosphor
WO2008017353A1 (de) * 2006-08-11 2008-02-14 Merck Patent Gmbh Led-konversionsleuchtstoffe in form von keramischen körpern
WO2008122332A1 (de) * 2007-04-04 2008-10-16 Merck Patent Gmbh Verfahren zur herstellung von leuchtstoffen bestehend aus orthosilikaten für pcleds

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN5012009713; LI Y Q: 'LUMINESCENCE PROPERTIES OF CE<3+>-ACTIVATED ALKALINE EARTH SILICON NITRIDE 以下備考' JOURNAL OF LUMINESCENCE V116 N1-2, 20060101, P107-116 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016507605A (ja) * 2012-12-21 2016-03-10 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 蛍光体
JP2018503980A (ja) * 2014-12-24 2018-02-08 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 蛍光体変換led
JP2017055093A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社東芝 半導体発光装置
JP2018109123A (ja) * 2017-01-05 2018-07-12 太平洋セメント株式会社 蛍光体の製造法

Also Published As

Publication number Publication date
US20110304261A1 (en) 2011-12-15
WO2010097157A1 (de) 2010-09-02
SG173767A1 (en) 2011-09-29
DE102009010705A1 (de) 2010-09-02
KR20110126725A (ko) 2011-11-23
CN102333844A (zh) 2012-01-25
TW201038718A (en) 2010-11-01
EP2401342A1 (de) 2012-01-04
TWI464240B (zh) 2014-12-11
CN102333844B (zh) 2013-07-31
US9028716B2 (en) 2015-05-12
EP2401342B1 (de) 2013-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012519216A (ja) ジルコニウムおよびハフニウムで同時ドープされたニトリドシリケート
JP5110518B2 (ja) 蛍光体とその製造方法および照明器具
TWI399422B (zh) 螢光體、其製造方法及照明器具
JP5611960B2 (ja) pcLEDのための赤方偏移を有するドープされたガーネット蛍光物質
JP5662330B2 (ja) 同時ドープされた1−1−2窒化物
TWI462991B (zh) 使用於磷光體轉換發光二極體之由經摻雜石榴石所構成之磷光體
JP4052136B2 (ja) サイアロン系酸窒化物蛍光体およびその製造方法
JP5105347B2 (ja) 蛍光体とその製造方法および発光器具
JP5190475B2 (ja) 蛍光体およびそれを用いた発光装置
US20100194263A1 (en) Method for Producing Illuminants Based on Orthosilicates for pcLEDs
US20100201250A1 (en) METHOD OF PRODUCING ILLUMINANTS CONSISTING OF ORTHOSILICATES FOR pcLEDs
JP2011037913A (ja) 蛍光体及びその製造方法、並びにそれを用いた発光装置
KR20100058597A (ko) 형광체 및 그 제조 방법, 및 그것을 이용한 발광 장치
JP2012532819A (ja) 同時ドープされたシリコン酸化窒化物
US9080104B2 (en) Mn-activated phosphors
JP2008208238A (ja) 蛍光体及びその製造方法、並びにそれを備えた照明器具と画像表示装置
JP2013508481A (ja) Sm−活性化アルミン酸塩およびホウ酸塩蛍光物質
JP2014015597A (ja) 蛍光体および発光装置
JP2010235912A (ja) 蛍光体及びその製造方法と、その蛍光体を用いた蛍光体含有組成物及び発光装置、並びに、その発光装置を用いた画像表示装置及び照明装置
JP2017518412A (ja) 変換蛍光体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130131

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140530

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140617

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140916

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140924

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20141017

RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433

Effective date: 20141017

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20141024

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20141017

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20141117

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20141125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141217

RD14 Notification of resignation of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7434

Effective date: 20150416

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150609