JP2012504324A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012504324A5
JP2012504324A5 JP2011528238A JP2011528238A JP2012504324A5 JP 2012504324 A5 JP2012504324 A5 JP 2012504324A5 JP 2011528238 A JP2011528238 A JP 2011528238A JP 2011528238 A JP2011528238 A JP 2011528238A JP 2012504324 A5 JP2012504324 A5 JP 2012504324A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
light source
pupil plane
primary light
system pupil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011528238A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012504324A (ja
JP5475785B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from EP08017088A external-priority patent/EP2169464A1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2012504324A publication Critical patent/JP2012504324A/ja
Publication of JP2012504324A5 publication Critical patent/JP2012504324A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5475785B2 publication Critical patent/JP5475785B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (1)

  1. マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明システムであって、
    a)一次光源(30)と、
    b)システム瞳面(70)と、
    c)ミラーアレイ(46)であって、
    i)前記一次光源(30)と前記システム瞳面(70)との間に配置され、
    ii)複数のアダプティブミラー素子(Mij)を含み、該ミラー素子(Mij)はそれぞれ、
    ミラー支持体(100)及び反射性コーティング(102)を含むと共に、
    前記一次光源(30)により生成される光(34)を前記システム瞳面(70)に向けるように構成される、
    ミラーアレイ(46)と、
    を備え、前記ミラー素子(Mij)は、異なる熱膨張係数を有し互いに取り付け固定される構造(100、102)を含み、
    該照明システム(12)は、前記ミラー素子(Mij)の形状を個別に変えるために前記構造内の温度分布を可変に変更するように構成される温度制御デバイス(90)を備える、照明システム。
JP2011528238A 2008-09-29 2009-09-23 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム Active JP5475785B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08017088.9 2008-09-29
EP08017088A EP2169464A1 (en) 2008-09-29 2008-09-29 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
PCT/EP2009/006856 WO2010034472A1 (en) 2008-09-29 2009-09-23 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012504324A JP2012504324A (ja) 2012-02-16
JP2012504324A5 true JP2012504324A5 (ja) 2012-11-01
JP5475785B2 JP5475785B2 (ja) 2014-04-16

Family

ID=40673627

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011528238A Active JP5475785B2 (ja) 2008-09-29 2009-09-23 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム

Country Status (6)

Country Link
US (2) US8797507B2 (ja)
EP (1) EP2169464A1 (ja)
JP (1) JP5475785B2 (ja)
KR (1) KR101704069B1 (ja)
TW (1) TWI464542B (ja)
WO (1) WO2010034472A1 (ja)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2169464A1 (en) * 2008-09-29 2010-03-31 Carl Zeiss SMT AG Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102010025222A1 (de) * 2010-06-23 2011-12-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerbare Spiegelanordnung, optisches System mit einer steuerbaren Spiegelanordnung und Verfahren zur Ansteuerung einer steuerbaren Spiegelanordnung
KR102002269B1 (ko) * 2010-07-30 2019-07-19 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 Euv 노광 장치
WO2012034571A1 (en) * 2010-09-14 2012-03-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102010061950A1 (de) * 2010-11-25 2012-05-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren sowie Anordnung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Spiegels in einem optischen System
DE102011005778A1 (de) 2011-03-18 2012-09-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element
DE102011005840A1 (de) * 2011-03-21 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerbare Mehrfachspiegelanordnung, optisches System mit einer steuerbaren Mehrfachspiegelanordnung sowie Verfahren zum Betreiben einer steuerbaren Mehrfachspiegelanordnung
WO2012169090A1 (ja) * 2011-06-06 2012-12-13 株式会社ニコン 照明方法、照明光学装置、及び露光装置
DE102011104543A1 (de) * 2011-06-18 2012-12-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Projektion einer Maske
FR2996016B1 (fr) * 2012-09-25 2014-09-19 Sagem Defense Securite Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions
KR102089310B1 (ko) * 2013-01-25 2020-03-16 엘지디스플레이 주식회사 마스크리스 노광장치
DE102013204316B4 (de) * 2013-03-13 2015-07-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsanordnung
US9854226B2 (en) * 2014-12-22 2017-12-26 Google Inc. Illuminator for camera system having three dimensional time-of-flight capture with movable mirror element
JP6643466B2 (ja) * 2015-09-23 2020-02-12 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を動作させる方法およびそのような装置の照明システム
US10845706B2 (en) * 2017-04-12 2020-11-24 Asml Netherlands B.V. Mirror array
DE102017221420A1 (de) 2017-11-29 2018-11-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv-beleuchtungssystem und verfahren zum erzeugen einer beleuchtungsstrahlung
DE102018123328B4 (de) * 2018-09-21 2022-09-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems
KR102678312B1 (ko) * 2018-10-18 2024-06-25 삼성전자주식회사 Euv 노광 장치와 노광 방법, 및 그 노광 방법을 포함한 반도체 소자 제조 방법
EP4261580A1 (en) * 2022-04-14 2023-10-18 Airbus Defence and Space GmbH Apparatus and method for altering an optical surface of a mirror
DE102023208980A1 (de) 2023-09-15 2024-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh MEMS-Mikrospiegeleinheit und Facettenspiegel

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2077572C (en) 1991-09-07 1998-08-18 Masahito Niibe Method of and apparatus for stabilizing shapes of objects, such as optical elements, as well as exposure apparatus using same and method of manufacturing semiconductr devices
DE10140208C2 (de) 2001-08-16 2003-11-06 Zeiss Carl Optische Anordnung
JP4320999B2 (ja) * 2002-02-04 2009-08-26 株式会社ニコン X線発生装置及び露光装置
JP4324957B2 (ja) 2002-05-27 2009-09-02 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置および露光方法
JPWO2004034447A1 (ja) * 2002-10-10 2006-02-09 株式会社ニコン 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法
US6996343B2 (en) * 2003-03-21 2006-02-07 Lucent Technologies Inc. Dispersion compensator
DE10317662A1 (de) 2003-04-17 2004-11-18 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschaltung
DE10327733C5 (de) 2003-06-18 2012-04-19 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Formung eines Lichtstrahls
TWI220097B (en) * 2003-07-21 2004-08-01 Avision Inc Image calibration method
US7714983B2 (en) 2003-09-12 2010-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
US7485485B2 (en) 2004-02-09 2009-02-03 Microvision, Inc. Method and apparatus for making a MEMS scanner
ATE511668T1 (de) 2004-02-17 2011-06-15 Zeiss Carl Smt Gmbh Beleuchtungssystem für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsvorrichtung
JP4864869B2 (ja) 2004-02-26 2012-02-01 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明系
US7079225B2 (en) * 2004-09-14 2006-07-18 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20100014063A1 (en) * 2005-05-31 2010-01-21 Fujifilm Corporation Image exposure apparatus
JP2007150295A (ja) * 2005-11-10 2007-06-14 Carl Zeiss Smt Ag ラスタ要素を有する光学装置、及びこの光学装置を有する照射システム
JP4778834B2 (ja) 2006-05-24 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録方法及び装置
US8052289B2 (en) * 2006-06-07 2011-11-08 Asml Netherlands B.V. Mirror array for lithography
EP1890191A1 (en) * 2006-08-14 2008-02-20 Carl Zeiss SMT AG Catadioptric projection objective with pupil mirror
DE102006039895A1 (de) 2006-08-25 2008-03-13 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Korrektur von durch Intensitätsverteilungen in optischen Systemen erzeugten Abbildungsveränderungen sowie entsprechendes optisches System
US7804603B2 (en) * 2006-10-03 2010-09-28 Asml Netherlands B.V. Measurement apparatus and method
JP5098306B2 (ja) * 2006-11-22 2012-12-12 株式会社ニコン 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法
DE102008002377A1 (de) * 2007-07-17 2009-01-22 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einem derartigen Beleuchtungssystem
WO2009026970A1 (en) * 2007-08-24 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Controllable optical element and method for operating an optical element with thermal actuators and projection exposure apparatus for semiconductor lithography
JP5351272B2 (ja) 2008-09-22 2013-11-27 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
EP2169464A1 (en) * 2008-09-29 2010-03-31 Carl Zeiss SMT AG Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012504324A5 (ja)
JP2017507358A5 (ja)
JP2013541729A5 (ja)
JP2011511435A5 (ja)
JP2016517028A5 (ja)
ATE525679T1 (de) Optischer integrator für eine beleuchtungssystem einer mikrolithographie-projektions- belichtungsvorrichtung
WO2009034109A3 (en) Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2010037453A9 (en) Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure appratus for euv microlithography
JP2007220767A5 (ja)
JP2014534643A5 (ja)
JP2013545272A5 (ja)
JP2014533441A5 (ja)
JP2011527024A5 (ja)
TW200602669A (en) Variable focal length lens comprising micromirrors with one degree of freedom translation
WO2006021540A3 (de) Optisches system, nämlich objektiv oder beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
WO2010079133A3 (de) Einzelspiegel zum aufbau eines facettenspiegels, insbesondere zum einsatz in einer projektionsbelichtungsanlage für die mikro-lithographie
JP2011502275A5 (ja)
JP5918858B2 (ja) マイクロリソグラフィ投影露光装置の光変調器及び照明系
JP2012018292A5 (ja)
SG138541A1 (en) Mirror array for lithography
JP2008529037A5 (ja)
CN107077076B (zh) 微光刻投射曝光装置的光学配置
ATE529781T1 (de) Beleuchtungssystem mit zoomobjetiv
JP2010020017A5 (ja)
JP2009105097A5 (ja)