JP2012502414A - 放射システムおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図5
Description
ここで、λは、使用される放射の波長であり、NAPSは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数である。k1は、レイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、3つの方法:露光波長λを短くすること、開口数NAPSを大きくすること、またはk1の値を小さくすること、によって達成することができると言える。
ここで、Pmagneticは圧力、Vはガスの体積、γは断熱係数、そしてEpulseはパルスのエネルギーである。例えば、1Tおよび0.1Jパルスに対して、含まれる泡の大きさは約1.5mmであろう。この大きさの10倍大きい泡にも効力があり、これは、なお有用な磁場が30分の1であってよい(そして必ずしも超伝導性磁石ではない)ことを意味する。
Claims (51)
- 放射ビームを生成する放射システムであって、
放射およびデブリを放出するプラズマを生成する放射源と、
集光された放射を放射ビーム放出開口に誘導する放射コレクタと、
磁場強度の勾配を有する磁場を発生させて前記プラズマを前記放射コレクタから離して誘導する磁場ジェネレータと、を含む、放射システム。 - 前記磁場は、前記プラズマと前記コレクタとの間の位置での方が前記プラズマの他の側でよりも強い、請求項1に記載の放射システム。
- 前記磁場ジェネレータは、少なくとも成分を有する前記プラズマを前記放射コレクタの中心光軸に平行な方向に誘導するように構成される、請求項1または2に記載の放射システム。
- 前記放射コレクタは、前記放射源によって生成された前記放射を集光する反射面を含み、前記磁場ジェネレータは、前記デブリを前記反射面から離して誘導するように構成される、請求項1、2、または3に記載の放射システム。
- 前記プラズマを含む体積部にガスを供給するガス供給部をさらに含む、請求項1、2、3または4に記載の放射システム。
- 前記ガスは、水素および/または重水素および/またはヘリウムを含む、請求項5に記載の放射システム。
- 前記ガスは、水素または重水素から実質的に成る、請求項5または6に記載の放射システム。
- 前記ガス供給部は、前記体積部のガスが10Paより大きい圧力を有するようにガスを供給するように構成される、請求項5、6、または7に記載の放射システム。
- 前記体積部の前記ガスは、30Paより大きい圧力を有する、請求項8に記載の放射システム。
- 前記ガス供給部および磁場ジェネレータは、前記デブリの中性粒子を前記コレクタから離して誘導する磁気ポンプとして機能する、請求項5〜9のいずれかに記載の放射システム。
- 前記ガス供給部は、前記磁場内の荷電イオンの形態をとるデブリを減速させて前記デブリが前記磁気ポンプによって除去されるように構成される、請求項10に記載の放射システム。
- 前記放射は、極端紫外線を含む、請求項1〜11のいずれかに記載の放射システム。
- 前記放射源は、レーザ生成プラズマ源である、請求項1〜12のいずれかに記載の放射システム。
- 前記放射源は、燃料の小滴に誘導されたレーザビームを提供するレーザ源を含む、請求項13に記載の放射システム。
- 前記燃料はSnである、請求項14に記載の放射システム。
- 前記磁場は、前記プラズマが前記放射コレクタのコンポーネントと接触するのを実質的に防止するように構成される、請求項1〜15のいずれかに記載の放射システム。
- 前記磁場ジェネレータは、前記磁場を発生させる複数のコイルを含む、請求項1〜16のいずれかに記載の放射システム。
- 前記磁場ジェネレータは、前記コイル間の強磁性材料をさらに含み、前記強磁性材料は、前記磁場内に勾配を生成するように構成および配置される、請求項17に記載の放射システム。
- 前記磁場ジェネレータは、前記プラズマと前記コレクタとの間での方が前記プラズマの他の側でよりも前記磁場が強くなるようにするための強磁性チューブを含む、請求項1〜18のいずれかに記載の放射システム。
- 前記強磁性チューブを冷却する冷却システムをさらに含む、請求項19に記載の放射システム。
- 放射源および放射コレクタを含む放射システム内のデブリを抑制する方法であって、
放射およびデブリを放出するプラズマを生成することと、
前記放射コレクタを使用して前記放射を集光することと、
前記放射システム内に磁場勾配を生成して前記プラズマを前記放射コレクタから離して誘導することと、を含む、方法。 - 前記磁場は、前記プラズマと前記コレクタとの間の位置での方が前記プラズマの他の側でよりも強い、請求項21に記載の方法。
- 前記磁場ジェネレータは、少なくとも成分を有する前記プラズマを前記放射コレクタの中心光軸に平行な方向に誘導する、請求項21または22に記載の方法。
- 発生したデブリ粒子と相互作用するガスを供給することをさらに含む、請求項21、22または23に記載の方法。
- 前記ガスは、水素および/または重水素および/またはヘリウムを含む、請求項24に記載の方法。
- 前記ガスは、水素および/または重水素および/またはヘリウムから実質的に成る、請求項24または25に記載の方法。
- 磁場強度の変化は強磁性材料によって発生する、請求項21〜26のいずれかに記載の方法。
- 前記強磁性材料を冷却することをさらに含む、請求項27に記載の方法。
- 前記生成することは、レーザビームの少なくとも一部が燃料と衝突して前記プラズマを生成するように、前記燃料を前記放射源の位置に供給しながら前記レーザビームを前記位置に誘導することを含む、請求項21〜28のいずれかに記載の方法。
- 前記燃料はSnである、請求項29に記載の方法。
- 前記磁場を使用して前記プラズマが前記放射コレクタのコンポーネントと接触するのを実質的に防止することをさらに含む、請求項21〜30のいずれかに記載の方法。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを生成する放射システムであって、
放射およびデブリを放出するプラズマを生成する放射源と、
集光された放射を放射ビーム放出開口に誘導する放射コレクタと、
磁場勾配を生成して前記プラズマを前記放射コレクタから離して誘導するように構成された磁場ジェネレータと、を含む、放射システムと、
前記放射ビーム放出開口から前記集光された放射を受け、かつ前記集光された放射を調整して放射ビームにする照明システムと、
パターニングデバイスを支持するサポートであって、前記パターニングデバイスは前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付けされた放射ビームを形成するサポートと、
前記パターン付けされた放射ビームを基板上に投影する投影システムと、を含む、リソグラフィ装置。 - 前記磁場は、前記プラズマと前記コレクタとの間の位置での方が前記プラズマの他の側でよりも強い、請求項32に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁場ジェネレータは、少なくとも成分を有する前記プラズマを前記放射コレクタの中心光軸に平行な方向に誘導するように構成される、請求項32または33に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射コレクタは、前記放射源によって生成された前記放射を集光する反射面を含み、前記磁場ジェネレータは、前記デブリを前記反射面から離して誘導するように構成される、請求項32、33、または34に記載のリソグラフィ装置。
- 前記プラズマを含む体積部にガスを供給するガス供給部をさらに含む、請求項32、33、34または35に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガスは、水素および/または重水素および/またはヘリウムを含む、請求項36に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガスは、水素から実質的に成る、請求項35または36に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス供給部は、前記体積部のガスが10Paより大きい圧力を有するようにガスを供給するように構成される、請求項36〜38のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記体積部の前記ガスは、30Paより大きい圧力を有する、請求項39に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス供給部および磁場ジェネレータは、前記デブリの中性粒子を前記コレクタから離して誘導する磁気ポンプとして機能する、請求項36〜40のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス供給部は、前記磁場内の荷電イオンの形態をとるデブリを減速させて前記デブリが前記磁気ポンプによって除去されるように構成される、請求項41に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射は、極端紫外線を含む、請求項32〜42のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源は、レーザ生成プラズマ源である、請求項32〜42のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源は、燃料の小滴に誘導されたレーザビームを提供するレーザ源を含む、請求項44に記載のリソグラフィ装置。
- 前記燃料はSnである、請求項45に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁場は、前記プラズマが前記放射コレクタのコンポーネントと接触するのを実質的に防止するように構成される、請求項32〜46のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁場ジェネレータは、前記磁場を発生させる複数のコイルを含む、請求項32〜47のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁場ジェネレータは、前記コイル間の強磁性材料をさらに含み、前記強磁性材料は、前記磁場内に勾配を生成するように構成および配置される、請求項48に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁場ジェネレータは、前記プラズマと前記コレクタとの間での方が前記プラズマの他の側でよりも前記磁場が強くなるようにするための強磁性チューブを含む、請求項32〜49のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記強磁性材料を冷却する冷却システムをさらに含む、請求項50に記載のリソグラフィ装置。
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